DE3823089A1 - Pyrolytisch beschichtetes flachglas und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents
Pyrolytisch beschichtetes flachglas und verfahren zu seiner herstellungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Erzeugnis aus
pyrolytisch beschichtetem Flachglas und ein Verfahren zur
Herstellung eines pyrolytisch beschichteten Flachglases.
Pyrolytisch beschichtetes Glas als solches ist bekannt und
wird weit verbreitet für verschiedene Zwecke verwendet.
Beispielsweise werden transparente pyrolytische
Beschichtungen häufig auf Glasscheiben angebracht, die für
Verglasungszwecke verwendet werden, um dessen
Übermittlungseigenschaften für elektromagnetische Strahlung
zu modifizieren, beispielsweise zur Erhöhung des
Reflexionsvermögens für Sonnenstrahlen oder um das
Emissionsvermögen für langwellige (über 3 µm)
Infrarotstrahlung zu verringern. Elektrisch leitfähige
pyrolytische Beschichtungen können auf Glas unter anderem
als Teile von elektrischen Stromkreisen zu Kontroll- und
anderen Zwecken und als Widerstandsheizelemente aufgebracht
werden. Leitfähige pyrolytische Beschichtungen können auf
Glasgegenständen verschiedener Arten auch zur Verhinderung
des Aufbaus statischer elektrischer Ladungen angewendet
werden.
Die Gegenwart von Natriumionen kann die Trübungsbildung in
dem beschichteten Produkt fördern. Dies ist insbesondere für
transparente Erzeugnisse, die für Verglasungszwecke
verwendet werden, von Nachteil.
Zur Bewältigung dieses Problems der Trübung in pyrolytisch
gebildeten Beschichtungen wurden eine Reihe von Lösungen
vorgeschlagen. Eine besteht darin, das Problem insgesamt
durch Verwendung eines Glases aus einer speziellen wenig
Alkali enthaltenden Zusammensetzung zu vermeiden. Dies kann
für bestimmte Erzeugnisse angemessen sein, führt aber zu
einer beachtenswerten Kostensteigerung des Glases. Ein
weiterer Vorschlag sieht vor, eine natriumundurchlässige
Beschichtung aus Siliciumdioxid auf herkömmliches
Natronkalkglas aufzubringen; dies ist aber ebenfalls sehr
teuer. Es ist auch bekannt, Glas einer
Säureextraktionsbehandlung zur Entalkalisierung der
Oberflächenschichten des Glases zu unterwerfen, was mit
geringeren Kosten verbunden ist. So schlägt beispielsweise
die GB-PS 7 05 934 (Pittsburgh Plate Glass Company) vor, eine
transparente elektrisch leitfähige Beschichtung auf eine
Glasscheibe aufzubringen, deren Oberfläche einen geringen
Natriumgehalt aufweist und stellt fest, daß diese Oberfläche
durch eine Unterschicht aus Siliciumdioxid oder durch
Behandlung mit einem säuren- oder basenaustauschenden Mittel
erhalten werden kann. Außer der Beschichtung mit
Siliciumdioxid wurden verschiedene Behandlungen gezeigt:
Beschichtung des Glases mit einem Kaolinschlicker und
Erhitzen auf 524°C; Behandlung mit Schwefeldioxid bei 650°C;
Erhitzen auf 615°C und Besprühen mit einer 25%igen
wäßrigen HCl; 6stündiges Kochen in Wasser; Kochen in einer
4%igen wäßrigen Kupfer-I-chloridlösung; Erhitzen auf 627°C
und Beschichten mit einer Mischung aus 1800 g Ethylsilikat,
1800 g Ethanol, 180 g Wasser und 18 g 1%iger HCl; und
Kochen in verschiedenen anderen Säure- und Salzlösungen.
Solche Behandlungen können zur Verringerung der Trübung
wirksam sein, die sich an der
Beschichtungs/Glaszwischenschicht während der pyrolytischen
Bildung des Überzugs bilden kann.
Dennoch geht ein großer Teil des Nutzens einer solchen
Säureextraktion oder Basenaustauschbehandlung verloren, wenn
eine pyrolytische Beschichtung anschließend auf das Glas
aufgebracht wird. Für eine nützliche Beschichtungsausbeute
eines pyrolytischen Beschichtungsverfahrens muß das Glas
eine Temperatur von über 400°C und manchmal sogar 600°C
aufweisen. Es ist zu berücksichtigen, daß das
Beschichtungsverfahren selbst einige Zeit in Anspruch nimmt
und daß ebenfalls viele Glassorten gegenüber einem
Hitzeschock hochempfindlich sind, so daß nicht zu schnell
erwärmt oder abgekühlt werden kann. Die Verweilzeit des
Glases bei hohen Temperaturen im Verlaufe einer
pyrolytischen Beschichtungsbehandlung ist somit
beträchtlich. Bei solch hohen Temperaturen verläuft die
Ionendiffusion innerhalb des Glasnetzwerks sehr schnell: die
Alkaliionen neigen zur Wanderung an die Oberflächen des
behandelten Glases, um ein Gleichgewicht hinsichtlich der
Ionenverteilung durch die gesamte Dicke des Glases
aufrechtzuerhalten, mit dem Ergebnis, daß der Nutzen einer
solchen Behandlung merklich reduziert wird. Tatsächlich wird
in der GB-PS 7 05 934 die Wirkung eines solchen
Beschichtungsverfahrens durch einige min langes Erhitzen des
behandelten Glases auf 627°C und Abkühlen des Glases
simuliert. Das Glas wird dann 2 h lang bei einer nicht
genannten Temperatur in Wasser eingetaucht und es ist
festzustellen, daß etwa 1 bis 4 mg Natriumoxid aus dem Glas
pro m² Oberflächenschicht extrahiert wurden. Das diesem
Stand der Technik entsprechende Erzeugnis hat nicht
notwendigerweise eine derart entalkalisierte Oberfläche, daß
es jeder weiteren noch auszuführenden Behandlung widersteht.
Es ist bekannt, daß die Gegenwart von Natriumionen im Glas,
wie sie beispielsweise in einem herkömmlichen Natronkalkglas
auch nach einer Säureextraktionsbehandlung auftreten,
manchmal eine nicht ausreichende Haftung der pyrolytischen
Beschichtung bewirken und daß weiterhin die
Alterungseigenschaften des beschichteten Erzeugnisses nicht
so gut sind wie sie sein könnten, insbesondere wenn das
beschichtete Erzeugnis weiteren schweren Bedingungen, wie
einer reduzierenden Hochtemperaturatmosphäre oder einem
Glimmentladungsverfahren unterzogen wird.
Selbstverständlich erwartet man von solchen Beschichtungen,
daß sie eine hohe mechanische und chemische Stabilität
gegenüber Altern und weiteren ggfs. noch vorzunehmenden
Herstellungsstufen aufweisen, so daß die besondere durch die
Beschichtung verliehene Eigenschaft so lange wie möglich
erhalten bleibt. Die Beschichtungsstabilität ist besonders
bei relativ teuren Erzeugnissen wichtig, wie bei
Erzeugnissen, bei denen eine weitere Beschichtung auf die
pyrolytisch gebildete Beschichtung aufgebracht wird. Es ist
beispielsweise bekannt, verschiedene elektrische
Stromkreiskomponenten durch Aufbringen geeigneter
Überzugsschichten auf eine Glasscheibe herzustellen. Die
Bildung einer solchen weiteren Überzugsschicht kann die
darunter liegende pyrolytische Überzugsschicht recht
extremen Bedingungen aussetzen, beispielsweise verlangt die
Bildung einer solchen Schicht eine
Hochtemperatur-Glimmentladungstechnik oder erfordert zuvor
eine rigorose Reinigung. Die pyrolytische Beschichtung muß
ebenfalls in bestimmten Fällen in der Lage sein, der
Einwirkung von agressiven Atmosphären während ihrer
Gebrauchsdauer, beispielsweise wenn sie als Elektrode in
einer Plasmaentladungsanzeige verwendet wird, zu widerstehen.
Überraschenderweise gelang es nun, ein Erzeugnis aus
pyrolytisch beschichtetem Flachglas bereitzustellen, bei dem
die verbesserte mechanische und chemische Stabilität der
Beschichtung durch Entalkalisierung des Glases erreicht
werden kann und es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
ein solches Erzeugnis bereitzustellen.
Erfindungsgemäß wird ein Erzeugnis aus einer pyrolytisch
beschichteten Glasscheibe bereitgestellt, welches sich
dadurch auszeichnet, daß das Glas Natrium enthält und derart
entalkalisiert worden ist, daß es im pyrolytisch
beschichteten Zustand eine 1 µm dicke Oberflächenschicht
aufweist, die verglichen mit einer sofort darunter liegenden
Schicht der gleichen Dicke, in einer Menge von wenigstens 5 mg
Na⁺ pro m² an Natrium verarmt ist.
Die Natriumionenkonzentration in verschiedenen Tiefen der
Oberflächenschicht des Glases kann in bekannter Weise durch
eine Protonenbeschußtechnik analysiert werden, der die
Umsetzung von ²³Na zu ²⁰Ne unter Entwicklung eines
Alphateilchen zugrunde liegt. Bei der Darstellung von
Protonen und Resonanzenergien sowie der
Alphateilchenemission ist es möglich, die
Natriumionenkonzentration in verschiedenen Tiefen unter der
Oberfläche mit einer Auflösung von 15 nm abzuleiten und die
Ergebnisse können als graphische Darstellungen mit einem
stufenförmigen Verlauf, der die mittlere
Natriumionenkonzentration der aufeinanderfolgenden dünnen
Schichten gegen die Tiefe dieser Schicht unterhalb der
Oberfläche darstellt, aufgezeichnet werden. Aus den so
abgeleiteten Informationen ist es dann einfach, die
Differenz des Natriumionengehalts zwischen einer
Oberflächenschicht von 1 µm Dicke und einer sofort
darunter liegenden Schicht der gleichen Dicke zu berechnen.
Selbstverständlich ist die Natriumverarmung in der
Oberflächenschicht des Glases nicht gleichmäßig über die
Dicke dieser Schicht verteilt. Im allgemeinen wird die
geringste Natriumionenkonzentration an der Oberfläche des
Glases vorliegen und diese Konzentration nähert sich
asymptotisch einem maximalen Wert, welcher bei einer Tiefe
von einigen Hundert Nanometern erreicht wird. So kann
beispielsweise das Glas in einer Tiefe von 500 nm im
wesentlichen den gleichen Natriumionengehalt wie in größeren
Tiefen aufweisen.
In einem solchen Falle beruht die gesamte notwendige
Natriumionenverarmung von wenigstens 5 mg pro m² auf der
Verarmung der ersten 500 nm der Glasdicke.
Die stufenförmige Linie der graphischen Darstellung der
Natriumionenkonzentration gegen die Tiefe unter der
Oberfläche des Glases kann derart geglättet werden, daß sich
für jede bestimmte Tiefe eine Nennkonzentration ergibt. Zu
einigen Zwecken reicht es aus, sich auf die
Natriumionenkonzentration bei einer gegebenen Tiefe in
Prozentangaben des Natriumgehalts des Glases vor irgendeiner
Entalkalisierungsbehandlung zu beziehen. Tatsächlich kann
für die meisten praktischen Zwecke angenommen werden, daß
der Natriumgehalt in Tiefen über 1 µm im wesentlichen von
der Entalkalisierungsbehandlung unbeeinflußt bleibt und kann
somit als Bezugsgröße für eine Natriumkonzentration von 100%
dienen, welche bei einem typischen Natronkalkglas einen
Natriumgehalt von (etwa) 12 bis 14 Gew.-% des Glases,
berechnet als Na₂O, entspricht.
Das erfindungsgemäße Erzeugnis hat verschiedene Vorteile
infolge des Vorhandenseins relativ geringer Anteile an
Natriumionen an der Oberfläche des Glases. Als Ergebnis
dieser auf ein Glas einer gegebenen Basiszusammensetzung
angewendeten Beschichtungstechnik zeigt sich tendenziell
eine bessere Haftung der Beschichtung und bessere
Alterungseigenschaften des beschichteten Erzeugnisses als
sonst, sogar dann, wenn die Beschichtung extremen
Bedingungen wie einer reduzierenden
Hochtemperatur-Atmosphäre oder einem
Glimmentladungsverfahren, wie oben beschrieben, ausgesetzt
ist. Ein verringerter Natriumionenanteil an der Oberfläche
des Glases führt auch zu einer Verringerung der Trübung im
beschichteten Erzeugnis und ist insbesondere vorteilhaft für
transparente für Verglasungszwecke zu verwendende
Erzeugnisse. In vielen
Fällen wurde gefunden, daß für ein gegebenes Gewicht des auf
der Oberfläche des Glases abgelagerten
Beschichtungsmaterials - wenn die Beschichtung auf das
entalkalisierte Glas erfindungsgemäß aufgebracht wird - die
Beschichtung dünner ist, beispielsweise bis zu etwa 10%
dünner als wenn sie auf herkömmliches Natronkalkglas
aufgebracht wird. Die Beschichtung ist deshalb dichter und
dies unterstützt die mechanische und chemische Festigkeit.
Es wurde ebenfalls gefunden, daß die Beschichtung dazu
neigt, eine geringere Menge Natriumionen zu enthalten und
damit werden auch die Alterungseigenschaften der
Beschichtung verbessert. Die durch die Erfindung
vermittelten Vorteile sind um so größer je weiter die
Natriumionenverarmung an der Oberfläche des Glases getrieben
wird. Es ist dementsprechend zu bevorzugen, die
Oberflächenschicht bezüglich der Natriumionen in einer Menge
von wenigstens 10 mg/m² zu verarmen.
Aus ähnlichen Gründen ist es vorteilhaft, daß die
Natriumionenkonzentration an der Oberfläche des Glases
weniger als 80% und vorzugsweise weniger als 50% der
Natriumionenkonzentration in einer Tiefe von 1 µm beträgt.
Es wurde bereits erwähnt, daß ein erfindungsgemäßes
Erzeugnis in seiner Beschichtung eine geringere Menge
Natriumionen aufweist als eine Beschichtung des gleichen
Gewichts aus einem auf ein herkömmliches Natronkalkglas
abgeschiedenes Beschichtungsmaterial. Bei der Bildung einer
Beschichtung auf Glas einer gegebenen
Oberflächenzusammensetzung aus gegebenen Ausgangsmaterialien
ist es üblich, daß bei einer dickeren Beschichtung eine
längere Behandlungszeit des Glases bei erhöhten Temperaturen
erforderlich ist und somit die Möglichkeit für Natriumionen,
in die Beschichtung zu wandern, erhöht ist. Es erscheint
deshalb angemessen,
im allgemeinen Angaben Bezug auf den Natriumgehalt eines
gegebenen Beschichtungsvolumen statt auf eine gegebene
Beschichtungsfläche zu nehmen. Beispielsweise enthalten
pyrolytisch gebildete Zinnoxidbeschichtungen auf
herkömmlichem unbehandelten Natronkalkglas typischerweise
etwa 20 mg Natriumionen pro cm³ Beschichtungsvolumen. In
einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
enthält die pyrolytische Beschichtung nicht mehr als 10 mg/cm³
Natriumionen in der Beschichtung. Ein so geringer
Natriumionengehalt führt zu einer verbesserten
Widerstandsfähigkeit gegenüber chemischen Einflüssen und
verringert das Risiko, daß Natriumionen in eine nachfolgend
aufgebrachte Beschichtung wandern und schädigende Effekte in
diesem Überzug bewirken.
Die Erfindung ist von besonderem Wert in Ausführungen, in
denen eine solche pyrolytische Beschichtung mit wenigstens
einer weiteren Überzugsschicht versehen ist.
Entalkalisiertes Natronkalkglas ist von besonderem
kommerziellen Nutzen.
Jede Entalkalisierungsbehandlung eines Natrium enthaltenden
Glases führt zur Bildung eines entsprechenden Natriumsalzes
auf der Oberfläche des Glases, das beispielsweise durch
Waschen entfernt werden muß, so daß die Beschichtung auf die
gereinigte Glasoberfläche aufgebracht werden kann. Es ist
überraschend, daß die Ergebnisse einer
Entalkalisierungsbehandlung nicht vollständig verloren
gehen, wenn das Glas nach der Entalkalisierung und dem
Waschen wieder auf Temperaturen, die für die pyrolytische
Beschichtung notwendig sind, erhitzt wird. Typische an sich
bekannte pyrolytische Beschichtungsverfahren werden bei
Temperaturen im Bereich
von 500 bis 600°C durchgeführt und bei solchen Temperaturen
ist eine schnelle Ionenwanderung zu erwarten, so daß sich
das Gleichgewicht hinsichtlich des Natriumionengehalts sehr
schnell einstellen würde. Es wurde aber gefunden, daß die
Verarmung an Natriumionen auch dann erhalten werden kann,
wenn sich Temperaturbehandlungen, wie sie gewöhnlich für die
pyrolytische Beschichtung von beispielsweise Glasscheiben
angewandt werden, anschließen.
Es wird angenommen, daß die Herstellung des neuen und
vorteilhaften entalkalisierten und pyrolytisch beschichteten
Flachglases, wie oben beschrieben, wenigstens teilweise
einem neuen Verfahren, welches Gegenstand der Erfindung ist,
zu verdanken ist. Demzufolge ist es eine weitere Aufgabe der
vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung eines
pyrolytisch beschichteten Flachglases bereitzustellen,
welches die Entalkalisierungsbehandlung mit der
pyrolytischen Beschichtungsbehandlung kombiniert und der
Beschichtung verbesserte mechanische und chemische
Stabilität verleiht.
Erfindungsgemäß wird also auch ein Verfahren zur Herstellung
eines pyrolytisch beschichteten Flachglases bereitgestellt,
welches dadurch gekennzeichnet ist, daß man vor der
pyrolytischen Beschichtung das Glas einer
Entalkalisierungsbehandlung in einer sauren Atmosphäre
derart unterzieht, daß in der erhaltenen entalkalisierten
und beschichteten Scheibe eine Oberflächenschicht des Glases
von 1 µm Dicke, verglichen mit einer sofort darunter
liegenden Schicht der gleichen Dicke in einer Menge von
wenigstens 5 mg Na⁺ pro m² an Natrium verarmt ist.
Ein solches Verfahren verleiht der Beschichtung verbesserte
mechanische und chemische Stabilität.
Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform der
Erfindung wird bei der Entalkalisierungsbehandlung das Glas
einer ein saures Gas enthaltenden Atmosphäre mit einer
Temperatur von über 200°C ausgesetzt und dieser Atmosphäre
eine Zeitspanne ausgesetzt, während welcher oder wenigstens
an deren Ende, seine Temperatur unterhalb 350°C liegt,
worauf das entalkalisierte Glas gewaschen, wieder erhitzt
und bei einer Temperatur von wenigstens 400°C mit einem
Beschichtungsvorläufermaterial in Kontakt gebracht wird,
welches pyrolytisch im Kontakt mit dem Glas reagiert und
eine darauf haftende pyrolytische Beschichtung bildet.
Es ist überraschend, daß eine solche Kombination von
Behandlungen die Beschichtungsqualität fördert. Es wurde
festgestellt, daß die zum Abschluß einer herkömmlichen
Entalkalisierungsbehandlung einen relativ geringen
Alkaliionengehalt aufweisende Oberflächenschicht nur einige
Hundert Nanometer dick sein kann, wobei in einer Tiefe von
500 nm die Zusammensetzung des Glases im wesentlichen durch
die Entalkalisierungsbehandlung unbeeinflußt sein kann.
Viele bekannte pyrolytische Beschichtungsverfahren verlangen
zur befriedigenden Durchführung der Beschichtungsreaktionen
bei der Kontaktierung des Glases mit dem
Beschichtungsvorläufermaterial eine Glastemperatur von bis
zu 600°C. Es wäre normalerweise zu erwarten, daß das
Wiedererhitzen des Glases auf die für solche pyrolytische
Beschichtungsverfahren notwendige Temperatur die
Wanderungsgeschwindigkeit der Ionen innerhalb des Glases bis
zu einem solchen Ausmaß erhöht, daß das Ionengleichgewicht
durch das Glas ziemlich schnell erreicht wird und dabei die
Wirkungen der Entalkalisierungsbehandlung aufgehoben werden,
insbesondere dann, wenn man bedenkt, wie gering der durch
diese Behandlung beeinflußte Teil des Glases ist. Dennoch
führt die Anwendung der Erfindung zur Bildung von
Beschichtungen einer hohen mechanischen und chemischen
Stabilität und fördert insbesondere die Widerstandsfähigkeit
gegenüber der Verschlechterung einer solchen Beschichtung,
verglichen mit einer entsprechenden auf ein unbehandeltes
Glas aufgebrachten Beschichtung, wenn das beschichtete Glas
einer weiteren Herstellungsstufe wie einem
Hochtemperaturbeschichtungsverfahren unterworfen wird.
Weiterhin wird das Auftreten von Trübungen in einer solchen
Beschichtung unterdrückt.
Ein solches Verfahren ist insbesondere zur Herstellung eines
zuvor beschriebenen erfindungsgemäßen Erzeugnisses geeignet.
Natürlich muß für qualitativ hochwertige Überzüge die zu
beschichtende Oberfläche sauber sein, so daß die
Alkalisalze, die sich während der
Entalkalisierungsbehandlung auf der Oberfläche des Glases
bilden, abgewaschen werden müssen. Wasser ist die
geeignetste Waschflüssigkeit.
Der Gegenstand der vorliegenden Erfindung kann in
vorteilhafter Weise mit dem Gegenstand des Patentes
(Patentanmeld. P 37 41 031.8) der Anmelderin kombiniert
werden.
Demgemäß wird in bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung
das Glas stufenweise entalkalisiert, wobei in einer Stufe
die Entalkalisierung durch Kontaktierung mit einem sauren
Gas eines Entalkalisierungsmediums wenigstens 1 h lang bei
einer Glastemperatur über 400°C erfolgt und in einer
anschließenden Stufe das so entalkalisierte Glas weiter
durch Kontaktierung mit einem sauren Gas eines
Entalkalisierungsmediums wenigstens 3 min lang bei einer
Glastemperatur von wenigstens 50°C unter der Temperatur oder
der minimalen Temperatur des Glases während der ersten
Stufe, so daß die Temperatur zwischen 400°C und 250°C liegt,
behandelt wird.
Ein solches Verfahren kann einfach durchgeführt werden, um
vor einer pyrolytischen Beschichtungsbehandlung ein
Zwischenprodukt über wenigstens einen Teil der
Glasoberfläche zu erhalten, wobei die Tiefe, bei der
Natriumionenkonzentration 90% der maximalen
Natriumionenkonzentration des Glases beträgt, wenigstens die
zweifache Tiefe ist, bei der die Natriumionenkonzentration
50% dieser maximalen Konzentration beträgt, und die
Natriumionenkonzentration in einer Tiefe von 50 nm bei nicht
mehr als 50% dieser maximalen Konzentration liegt.
Tatsächlich steigt bei bekannten Entalkalisierungsverfahren
die Natriumionenkonzentration mit der Tiefe in nahezu
linearer Weise von einem angenommenen Natriumgehalt von null
an der Oberfläche bis eine Tiefe mit 90%
Natriumionenkonzentration erreicht wird, wobei sich
anschließend der Graph asymptotisch einer
Natriumionenkonzentration von 100% nähert. Tatsächlich sind
bei nach bekannten Verfahren entalkalisierten Gläsern Werte
für die Tiefe der 50% Natriumionenkonzentration typisch,
die das 0,51- bis 0,54fache der Tiefe der 90%
Natriumionenkonzentration sind, und der Verlauf der Kurven
der Natriumionenkonzentration gegen die Tiefe ist bei
solchen bekannten Gläsern im wesentlichen gleich.
Der sich daraus ergebende entalkalisierte Zustand der
Glasoberfläche ist insofern instabil als die Natriumionen
dazu neigen, aus der Tiefe des Glases in die Oberfläche zur
Wiederherstellung einer gleichmäßigen Ionenverteilung zu
wandern, welche dem Ionengleichgewicht in der Gesamtheit des
Glases nahekommt. Verschiedene Faktoren beeinflussen die für
die nahezu vollständige Wiederherstellung eines solchen
Gleichgewichts benötigte Zeit, wobei zu den wichtigsten die
Glastemperatur und das Ausmaß der Natriumionenverarmung in
der Oberflächenschicht des Glases zählen. Ein gegebenes
Ausmaß der Oberflächenentalkalisierung kann als Tiefe
ausgedrückt werden, bei der die Natriumionenkonzentration
einen Wert von beispielsweise 50% aufweist. Weil bereits
bekannte entalkalisierte Gläser ähnliche Ionenverteilungen
besitzen, wie aus den Graphen ihrer
Natriumionenkonzentration gegen die Tiefe deutlich wird,
geht der Nutzen dieser Oberflächenentalkalisierung ebenfalls
in einer ähnlichen Zeitdauer verloren, natürlich
vorausgesetzt, daß diese bekannten Gläser unter
entsprechenden Bedingungen gelagert und behandelt werden.
Wird Glas gemäß den bevorzugten Ausführungsformen der
vorliegenden Erfindung entalkalisiert, bleiben die Vorzüge
der Entalkalisierung eine längere Zeit erhalten als dies bei
bereits bekanntem entalkalisierten Flachglas der gleichen
Grundzusammensetzung der Fall ist, die bis zu der gleichen
Tiefe der 50% Natriumionenkonzentration entalkalisiert und
bei entsprechenden Bedingungen gehalten werden. Dieser
bessere Erhalt der Vorteile der Entalkalisierung wird der
größeren Tiefe, bis zu der das Glas hinsichtlich der
Alkaliionen verarmt ist, zugeschrieben. Für eine gegebene
Tiefe der 50% Natriumionenkonzentration ist die Tiefe der
90% Natriumionenkonzentration, bei der eine
Natriumionenverarmung von 10% vorliegt, größer als sie
bisher erreicht worden ist. Dies führt wiederum zu einer
Verlängerung der für die Ionenwanderung benötigten mittleren
Zeit bis zur Einstellung einer Alkaliionenverteilung nahe
der Oberfläche, die der Gleichgewichtsverteilung nahekommt.
Weil weiterhin eine größere Entfernung zwischen der Tiefe
der 50%- und der Tiefe der 90% Natriumionenkonzentration
liegt, verläuft der mittlere Ionenverteilungsgradient
zwischen diesen Tiefen flacher in einem Glas gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform der Erfindung als in einem
bereits bekannten entalkalisierten Glas und aufgrund dieses
flacheren Gradienten ist die Neigung zur Ionenwanderung
selbst verringert. Dies bedeutet nicht nur, daß der mittlere
Wanderungsweg länger sondern auch, daß die mittlere
Wanderungsgeschwindigkeit geringer ist.
Die Temperatur des Glases ist ein wichtiger Faktor bei der
Entalkalisierungsbehandlung. Bei Temperaturen oberhalb von
650°C kann das Glas so durch das saure Gas angegriffen
werden, daß seine optische Qualität und seine Oberfläche
leicht verschlechtert werden können. Ist die optische
Qualität des Erzeugnisses wichtig, erweist es sich deshalb
als wünschenswert, das Glas bei niedrigeren Temperaturen zu
entalkalisieren, und wird insbesondere eine hohe optische
Qualität verlangt, sollte das Glas dem sauren Gas nicht bei
einer Glastemperatur von über 500°C ausgesetzt werden.
Das Ausmaß der Entalkalisierung hängt unter anderem von der
Temperatur des Glases bei der Behandlung mit dem sauren Gas
ab. Hohe Temperaturen fördern eine schnelle Entfernung von
Ionen aus der Oberfläche des Glases, begünstigen
gleichermaßen aber die schnelle Wanderung von Ionen aus dem
Inneren des Glases in seine Oberflächenschicht, da die
Alkaliionenverteilung im Glas nach dem Gleichgewicht strebt.
Bei niedrigeren Temperaturen wird die Ionenwanderung im Glas
verringert und dementsprechend wandern die Alkaliionen aus
dem Inneren des Glases nicht so schnell in die
Oberflächenschicht des Glases. In den bevorzugtesten
Ausführungsformen der Erfindung wird das Glas dieser sauren
Atmosphäre eine Zeitdauer ausgesetzt, an deren Ende die
Temperatur des Glases unterhalb von 300°C liegt. Dabei wird
die Entalkalisierung der Glasoberfläche begünstigt, da bei
solchen Temperaturen die aus solchen Oberflächenschichten
entfernten Alkaliionen nicht leicht oder zu schnell durch
Ionen ersetzt werden, die aus dem Inneren des Glases wandern.
In einigen bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung wird
das Glas dieser sauren Atmosphäre nur ausgesetzt, wenn die
Temperatur des Glases unterhalb von 350°C liegt. Die
Durchführung der Entalkalisierungsbehandlung bei solchen
Temperaturen ermöglicht eine gute Verringerung des
Alkaliionengehalts in der Oberflächenschicht des Glases und
ist von besonderem wirtschaftlichen Nutzen bei Verfahren, in
denen das Glas für eine solche Entalkalisierung
wiedererhitzt wird. In diesen Ausführungsformen ist es
bevorzugt, das Glas der sauren Atmosphäre nur auszusetzen
wenn die Glastemperatur unterhalb von 300°C liegt. Die
Anwendung dieses Merkmals erlaubt weitere Einsparungen an
für die Wiedererhitzung erforderlichem Brennstoff.
Gemäß weiteren bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung
liegt die Glastemperatur zwischen 400 und 500°C während
eines Teils der Zeit, in der es der sauren Atmosphäre
ausgesetzt ist. Bei diesen Temperaturen während eines Teils
der Entalkalisierungsbehandlung zu arbeiten ermöglicht eine
schnelle Extraktion von Alkaliionen aus dem Glas. Dies hat
jedoch den Nachteil eines erhöhten Brennstoffverbrauchs in
solchen Fällen, in denen das Glas zur Behandlung
wiedererhitzt werden muß und somit ist der Einsatz dieses
Merkmals von besonderem Nutzen, wenn das Glas infolge
anderer Herstellungsbehandlungen noch heiß ist.
Es wird bevorzugt, das Glas über einen Temperaturbereich von
wenigstens 60°C abkühlen zu lassen, während es im
wesentlichen kontinuierlich der sauren Atmosphäre ausgesetzt
ist. Bei der Abkühlung des Glases verringert sich die
Ionenwanderung im Glas und demzufolge wandern die
Alkaliionen aus dem Inneren des Glases nicht so schnell in
die Oberflächenschichten des Glases. Da diese
Oberflächenschichten der sauren Atmosphäre während des
Abkühlens ausgesetzt sind, werden Alkaliionen weiterhin aus
den Oberflächenschichten des Glases entfernt, so daß diese
entalkalisiert bleiben.
Vorteilhafterweise bleibt die Temperatur des Glases
wenigstens während 20% der Behandlungszeit in der sauren
Atmosphäre unterhalb von 350°C. Dies ist ebenfalls zur
Verringerung der Wiederbesetzung der entalkalisierten
Oberflächenschichten des Glases mit aus dem Inneren des
Glases herauswandernden Alkaliionen nützlich.
Zur Förderung einer gleichmäßigen
Entalkalisierungsbehandlung zirkuliert die saure Atmosphäre
vorzugsweise im Kontakt mit dem Glas.
In erfindungsgemäß bevorzugten Ausführungsformen wird das
Glas chargenweise entalkalisiert.
Erfindungsgemäß können eine Reihe von sauren Gasen verwendet
werden. Zu diesen Gasen zählt HCl. Die Vewendung von
Chlorwasserstoffgas bringt im allgemeinen jedoch ernsthafte
Handhabungsprobleme mit sich und veranlaßt in der
Behandlungskammer schwere Erosion. Ein bevorzugtes saures
Gas enthält deshalb Schwefeltrioxid. Schwefeltrioxid selbst ist nicht
leicht zu handhaben, es hat aber den Vorteil, daß
es in situ erzeugt werden kann. Vorzugsweise wird
Schwefeldioxid in die Atmosphäre eingeführt, indem man
Schwefeldioxid über einen Oxidationskatalysator unter
oxidierenden Bedingungen leitet. Schwefeldioxid ist relativ
weniger schädlich als das Trioxid. Vanadiumpentoxid ist ein
sehr geeigneter Katalysator zur Förderung der Oxidation von
Schwefeldioxid und seine Verwendung für diesen Zweck wird
bevorzugt. Tatsächlich scheinen während der Oxidation des
Schwefeldioxids folgende Reaktionen abzulaufen
V₂O₅ + SO₂ → V₂O₄ + SO₃, und
2 (V₂O₄) + O₂ → 2 (V₂O₅).
2 (V₂O₄) + O₂ → 2 (V₂O₅).
Es ist offensichtlich, daß bei einem kontinuierlichen
Verfahren ohne Erneuerung des Katalysators die zweite
Reaktion ebenso schnell wie die erste verlaufen muß. Die
Geschwindigkeit der zweiten Reaktion wird gefördert, wenn
die Reaktion bei erhöhten Temperaturen in einem
Sauerstoffüberschuß stattfindet.
Vorteilhafterweise wird Schwefeldioxid deshalb so über
diesen Oxidationskatalysator geleitet, daß die Oxidation bei
einer Temperatur von wenigstens 400°C stattfindet. Dadurch
wird die Oxidation des Schwefeldioxids gefördert und
ermöglicht tatsächlich, daß 90% oder mehr Schwefeldioxid zu
Schwefeltrioxid umgesetzt werden. Es wird weiterhin
bevorzugt, daß Schwefeldioxid über den Oxidationskatalysator
in einer Mischung mit einem Überschuß an Luft geleitet wird,
wobei die Luft in wenigstens der dreifachen Menge (und
vorzugsweise wenigstens der fünffachen Menge), die zur
vollständigen Oxidation des Schwefeldioxids stöchiometrisch
erforderlich ist, vorliegt. Die Verwendung eines solchen
Überschusses an Luft als Trägergas fördert nicht nur die
Oxidation sondern ergibt ebenfalls eine bessere und
gleichmäßigere Verteilung des Schwefeldioxids in der
Atmosphäre, in der die Entalkalisierungsbehandlung
stattfindet.
Wird Glas durch Schwefeltrioxid angegriffen, bildet sich auf
der Oberfläche des Glases ein dünner Natriumsulfatbelag
(Sulfatblüte). Ist die Reaktion mit dem Glas zu stark, kann
dies zu einer ungleichmäßigen Oberflächenbehandlung führen
und somit Anlaß zu Oberflächendefekten im Glas geben.
Weiterhin bildet die Sulfatblüte selbst eine Barriere gegen
weitere Reaktion des Glases mit dem Schwefeltrioxid.
Vorteilhafterwesie enthält das saure Gas eine organische
Fluorverbidnung, die sich unter Freisetzung von Fluoridionen
bei der Glastemperatur in dem Bereich, wo es eingebracht
wird, zersetzt. Dadurch wird die Bildung des Sulfatbelages
behindert.
Viele an sich bekannte pyrolytische Beschichtungsverfahren
können zur Ausführung der vorliegenden Erfindung verwendet
werden, nämlich solche Verfahren, die sich Reaktanten in der
Gasphase bedienen oder solche, bei denen eine
tröpfchenförmige Beschichtungsvorläuferlösung auf das Glas
aufgesprüht wird. Die Erfindung ist zur Herstellung von
Glaserzeugnissen geeignet, die pyrolytische Beschichtungen
verschiedenster Materialien tragen. Die Erfindung ist
insbesondere geeignet zur Herstellung hochqualitativer
dauerhafter Beschichtungen aus Metalloxid und es ist
demzufolge bevorzugt, daß das Beschichtungsvorläufermaterial
unter Bildung einer Metalloxidbeschichtung reagiert, wobei
eine Reaktion des Beschichtungsvorläufermaterials unter
Bildung einer Zinnoxid enthaltenden Beschichtung besonders
vorteilhaft ist. Es zeigte sich, daß die Anwendung der
vorliegenden Erfindung einen besonderen Nutzen im
Zusammenhang mit der Herstellung von mit Zinnoxid
beschichteten Produkten ergibt. Zinnoxidbeschichtungen
werden häufig als Grundüberzugsschicht in transparenten
elektronischen Komponenten, die eine Vielzahl von
Überzugsschichten enthalten, benutzt. Die erhaltene
Beschichtung ist auch dann dauerhaft, wenn extreme
Bedingungen, wie sie dem Aufbringen einer weiteren
Beschichtung angetroffen werden, auftreten. Es wurde
weiterhin gefunden, daß das erfindungsgemäße Verfahren zu
einer Verringerung der Trübungsbildung in einer
Zinnoxidbeschichtung neigt, was insbesondere bei
Beschichtungen von transparenten elektronischen Mitteln und
in beschichteten für Verglasungszwecke bestimmten
Glaserzeugnissen wichtig ist.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren pyrolytisch
beschichtetes Glas kann als unabhängiges Endprodukt, als
Gegenstand, der in gewünschter Weise zuzuschneiden und zu
rahmen ist oder als Zwischenprodukt betrachtet werden,
welches weiteren Herstellungsstufen unterworfen wird, wie
beispielsweise in einigen bevorzugten
Ausfühungsformen der Erfindung vorgesehen ist, daß das Glas
und das leitfähige Beschichtungsmaterial transparent sind
und daß eine weitere Überzugsschicht auf der leitfähigen
Beschichtung gebildet wird.
Die Erfindung erstreckt sich auf nach dem hier dargestellten
Verfahren pyrolytisch beschichtetes Glas.
Die Erfindung wird anhand der beigefügten Zeichnungen näher
erläutert:
Fig. 1 zeigt eine Entalkalisierungskammer zur
Entalkalisierung von Glasscheiben und
Fig. 2 zeigt eine Beschichtungskammer zur Beschichtung von
Glasscheiben.
Fig. 1 erläutert eine Vorrichtung zur chargenweisen
Entalkalisierung von Glasscheiben. In Fig. 1 werden
vorgeschnittene Glasscheiben 1 durch auf Trägern 3 montierte
Zangen 2 in der Behandlungskammer 4 gehalten. Die Kammer 4
ist mit einer Vielzahl von Heizstrahlern 5 zur Kontrolle der
Temperatur und mit Leitungen 6 zur Einbringung des sauren
Gases wie SO₂ oder SO₃ versehen.
Fig. 2 erläutert eine Beschichtungsvorrichtung zum
Beschichten von Glasscheiben. Nach Fig. 2 werden
Glasscheiben 1 durch Zangen 2 gehalten, die zur Bewegung
entlang eines Trägers 3 in Form einer Schiene zum Transport
durch einen Beschickungstunnel 7 vorbei an einer eine oder
mehrere Düsen 8 enthaltenden Sprühzone zum Sprühen des
Beschichtungsmaterials auf die passierenden Scheiben
angebracht sind. Wie gezeigt, kann eine Mehrzahl
von feststehenden Düsen verwendet werden, wenn sie so
angeordnet sind, daß sich eine gleichförmige Bedeckung der
passierenden Scheiben ergibt oder es können eine oder
mehrere vertikal hin- und herfahrende Düsen verwendet
werden. Eine solche Beschichtungsvorrichtung ist bekannt und
bedarf keiner näheren Erläuterung.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung.
In einem speziellen praktischen Beispiel wurden Glasscheiben
in die Kammer 4 eingeführt und auf 220°C erhitzt während
SO₂ oder SO₃ eingeleitet wurde. Die Temperatur der
Scheiben wurde auf 285°C erhöht und die Scheiben bei dieser
Temperatur etwa 70 min gehalten und anschließend auf 220°C
abkühlen gelassen und bei dieser Temperatur aus der sauren
Atmosphäre der Behandlungskammer entfernt. Die Scheiben
wurden weiter abkühlen gelassen und dann vorsichtig zur
Entfernung von Alkalisulfatabscheidungen gewaschen. Zur
Erleichterung der Handhabung des sauren Gases weist
vorzugsweise jede Zuführleitung für saures Gas einen
Katalysator für die in situ-Oxidation von Schwefeldioxid
auf. Ferner weist vorzugsweise jede derartige Leitung
Heizvorrichtungen auf, so daß die darin herrschende
Temperatur bei einem Wert von mindestens 400°C gehalten
werden kann, um eine solche Oxidation zu fördern. Nach dem
Waschen werden die Scheiben mit einer pyrolytisch gebildeten
Beschichtung, wie beispielsweise unter Bezugnahme auf Fig.
2 beschrieben, versehen.
Gemäß einem speziellen Beispiel wurden Glasscheiben durch
Tunnel 7 mit einer Geschwindigkeit von 60 cm/min zur
Beschichtung mit einer fluordotierten SnO₂-Beschichtung
von 240 m Dicke und einem Widerstand von 19 Ohm pro Quadrat
durch Besprühung mit einer Lösung von SnCl₄ · 5 H₂O und
Trifluoressigsäure in Dimethylformamid
versehen. In einem zweiten Beispiel wurde die Beschichtung
in der gleichen Weise gebildet jedoch bis zu einer Dicke von
400 nm und mit einem Widerstand von 12 Ohm pro Quadrat (zur
Messung vgl. DE-OS 28 33 234).
Die Heizvorrichtungen (nicht gezeigt) wurden in Tunnel 7
aufwärts von der gezeigten Beschichtungsstation angeordnet
und so eingestellt, daß die Temperatur der Scheiben im Laufe
von etwa 10 min von Raumtemperatur auf etwa 580°C erhöht
wurde. Die Temperatur in der Atmosphäre vor den Düsen 8
betrug 460°C, wohingegen das Glas in die Sprühzone mit einer
Temperatur von 580°C eintrat.
Die beschichteten Scheiben wurden dann entlang Tunnel 7
weitergeführt und auf Raumtemperatur im Verlauf von etwa 10 min
abkühlen gelassen.
Ein solches Verfahren führt zu Beschichtungen mit einer
äußerst gleichförmigen Struktur, die insbesondere gute
mechanische und chemische Stabilität aufweisen. Das so
entalkalisierte und pyrolytisch beschichtete Glas wurde dann
zwei Tests unterworfen, einem Trübungstest und einem
Auslaugungstest. Die Ergebnisse wurden mit denen von
Glasmustern verglichen, die die gleiche Zusammensetzung
aufwiesen und in gleicher Weise beschichtet, aber zuvor
nicht entalkalisiert waren.
Der Trübungstest bestand darin, das Glas einer zyklischen
Temperaturänderung von 45 auf 55°C und zurück auf 45°C mit
24 Zyklen pro Tag in einer Atmosphäre mit einer relativen
Feuchtigkeit von 99% zu unterwerfen. Das herkömmlich
beschichtete Natronkalkglas zeigte Irisieren nach 2 bis 3
Tagen. Die Probe aus beschichtetem entalkalisiertem Glas
zeigte kein Irisieren bis zu einem Zeitpunkt nach Ablauf von
6 Tagen.
Im Auslaugtest wurden die beschichteten Glasproben 30 min in
Wasser mit einer Temperatur von 86°C eingetaucht und das
Wasser sodann auf seinen Natriumgehalt analysiert. Es wurde
gefunden, daß aus dem herkömmlich beschichteten Glas mehr
als 5 mg Natrium pro m² Oberfläche extrahiert wurden. Aus
dem entalkalisiert beschichteten Glas wurden weniger als 2,7 mg
Natrium pro m² Oberfläche extrahiert.
Die Alkaliionenverteilung in den Oberflächenschichten des
erhaltenen entalkalisierten und beschichteten
Glaserzeugnisses wurde mittels einer bekannten Technik
gemessen, gemäß welcher die Glasoberfläche mit Protonen
beschossen wird. Die auf diese Weise in verschiedenen Tiefen
gemessene Natriumionenkonzentration wird als Prozentgehalt
der maximalen Natriumionenkonzentration des Glases, und dies
ist tatsächlich die Konzentration in einer Tiefe von 1 µm
unter der Glasoberfläche, umgerechnet. Daraus ist es
einfach, die Natriumionenverarmung in der Oberflächenschicht
von 1 µm Dicke zu berechnen. Sie beträgt 13 mg Na⁺ pro
m².
Tatsächlich wurden diese Ergebnisse mit der unbeschichteten
Seite des Glases erhalten, es wird aber angenommen, daß die
Ergebnisse bei einer beschichteten Seite wenig verschieden
wären, da abgesehen von irgendeinem zusätzlichen Kühlen der
beschichteten Seite während der tatsächlichen Bildung der
Beschichtung beide Seiten der Scheibe im wesentlichen der
gleichen Temperaturbehandlung ausgesetzt sind.
Für die gebildete Beschichtung wurde ein Natriumionengehalt
von 12 mg/cm³ gemessen.
Gemäß einer Abänderung des Beispiels 1 wurden die
Glasscheiben einer anderen Beschichtungsbehandlung
ausgesetzt, bei der die Scheiben auf eine Temperatur von
520°C wiedererhitzt, mit einem ersen Gasstrom, der
Zinntetrachloriddampf in Stickstoff als Schleppmittel bei
450°C enthielt, und mit einem zweiten Gasstrom, der Luft,
Wasserdampf und Fluorwasserstoffsäure ebenfalls bei einer
Temperatur und 450°C zur Bildung einer fluordotierten
Zinnoxidbeschichtung enthielt, kontaktiert und anschließend
gekühlt wurden. Die gesamte Erhitzungs- und Abkühlungszeit
entsprach etwa der in Beispiel 1 genannten.
Nach dem Abkühlen der beschichteten Scheiben wurden sie wie
zuvor beschrieben getestet und die Ergebnisse entsprachen im
wesentlichen denen des Beispiels 1.
Gemäß einer Abänderung dieses Beispiels wurde ein
fluorhaltiges Gas, nämlich Difluorethan oder Tetrafluorethan
mit dem durch die Einlaßleitung 6 eingespeisten
Schwefeldioxid in einer Menge von 10 Vol.-% vermischt. Jedes
dieser Gase zersetzte sich unter Freisetzung von
Fluoridionen, die zur Verringerung des Sulfatbelags auf den
Oberflächen der Scheiben führen.
Gemäß einer Abänderung der in Beispiel 1 beschriebenen
Entalkalisierungsbehandlung wurden die Glasscheiben in die
Behandlungskammer 4 eingebracht, auf eine maximale
Temperatur von 400°C erhitzt und SO₃ wurde in die Kammer
eingeleitet, als das Glas diese Temperatur erreicht hatte.
Die Scheiben wurden bei dieser Temperatur von 400°C 5 min
lang gehalten und dann wurde die Temperatur abfallen
gelassen bis nach weiteren 10 min eine Temperatur von 300°C
erreicht war. Dann wurden sie aus der sauren Atmosphäre
innerhalb der Behandlungskammer nach insgesamt 20 min
Kontakt mit dieser Atmosphäre entfernt, als ihre Temperatur
250°C betrug.
Dieses Verfahren ergab ebenfalls gute Ergebnisse.
Nach der in Beispiel 1 beschriebenen Beschichtung und
anschließendem Kühlen wurden die entalkalisierten Scheiben
wie zuvor getestet und die Ergebnisse sind nachfolgend
dargestellt:
Na⁺ Verarmung in der Oberfläche10 mg/m²
Trübungstestmehr als 5 Tage
Auslaugungstestetwa 2,6 mg/m²
Natriumionengehalt der Beschichtung15 mg/cm³
2 mm dicke Scheiben aus gezogenem Natronkalkglas mit einem
Alkaligehalt von 12 bis 14%, berechnet als Gew.-%
Natriumoxid, wurden in die Behandlungskammer 4 eingebracht,
die auf eine Temperatur von 490°C erhitzt wurde. Eine
Mischung aus Schwefeldioxid und einem stöchiometrischen
Überschuß Luft wurde durch die Gaseinlaßöffnungen
zirkuliert. Das Glas wurde mit einer Geschwindigkeit von
15°C/min abkühlen gelassen und als das Glas auf 370°C
abgekühlt war, wurde die Geschwindigkeit, mit der
Schwefeldioxid in die Kammer 1 eingespeist wurde, auf
zwischen 40 und 50 l/h in zwischen 1000 und 2000 l/h Luft
erhöht. Das Glas wurde weiter auf 320°C abkühlen glassen
als die Geschwindigkeit der Einspeisung von Schwefeldioxid
auf zwischen 70 und 80 l/h Schwefeldioxid in einem Überschuß
Luft erhöht wurde. Jedes Einlaßrohr enthielt
Vanadiumpentoxid als Katalysator zur Förderung der Oxidation
des Schwefeldioxids. Die Zuleitungen wurden auf eine
Temperatur über 400°C erwärmt, so daß in jeder Zuleitung
über 90% des Schwefeldioxids oxidiert wurden. Die Scheiben
wurden in der Kammer mehr als 10 min einer sauren Atmosphäre
ausgesetzt.
Das so entalkalisierte Glas wurde dann abgekühlt, gewaschen
und wie zuvor, vor der Beschichtung, getestet. Die
Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle 4a dargestellt.
unbeschichtetes Glas
Na⁺ Verarmung in der Oberfläche29 mg/m²
Konzentration bei einer Tiefe von 25 nm20%
Tiefe bei 50% Konzentration 78 nm
Tiefe bei 80% Konzentration145 nm
Tiefe bei 90% Konzentration250 nm
90% Tiefe : 50% Tiefe-Verhältnis3,20
90% Tiefe : 80% Tiefe-Verhältnis1,72
Trübungstest17 Tage
Auslaugungstest0,3 mg/m²
Die Scheiben wurden dann durch das in Beispiel 1
beschriebene Verfahren beschichtet und wie zuvor getestet.
Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle 4b dargestellt.
beschichtetes Glas (Bsp. 4)
Na⁺ Verarmung in der Oberfläche17 mg/m²
Trübungstest10Tage
Auslaugungstest1 mg/m²
Natriumionenkonzentration der Beschichtung6 mg/cm³
Gemäß einer Abänderung der Entalkalisierungsbehandlung aus
Beispiel 1 wurden die Scheiben bei einer Temperatur von
204°C gehalten und 90 min lang mit einer sauren Atmosphäre
kontaktiert. Es ergab sich ebenfalls eine befriedigende
Entalkalisierung, wie durch die in der folgenden Tabelle
gezeigten Ergebnisse für ein nach Beispiel 1 beschichtetes
Glas zeigt.
beschichtetes Glas
Na⁺ Verarmung in der Oberfläche10 mg/m²
Trübungstest5 Tage
Auslaugungstestetwa 3 mg/m²
Natriumionenkonzentration der Beschichtung14 mg/cm³
Claims (27)
1. Flachglas enthaltend eine pyrolytisch beschichtete
Glasscheibe, dadurch gekennzeichnet, daß das Glas Natrium
enthält und derart entalkalisiert worden ist, daß es im
pyrolytisch beschichteten Zustand eine 1 µm dicke
Oberflächenschicht aufweist, die verglichen mit einer
sofort darunter liegenden Schicht der gleichen Dicke bis
zu einer Menge von wenigstens 5 mg Na⁺ pro m² an
Natrium verarmt ist.
2. Flachglas nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
diese Oberflächenschicht bis zu einer Menge von
wenigstens 10 mg/m² an Natriumionen verarmt ist.
3. Flachglas nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Natriumionenkonzentration des Glases an seiner
Oberfläche weniger als 80% der Natriumionenkonzentration
in einer Tiefe von 1 µm ist.
4. Flachglas nach Anspuch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
die Natriumionenkonzentration des Glases an seiner
Oberfläche weniger als 50% der Natriumionenkonzentration
in einer Tiefe von 1 µm ist.
5. Flachglas nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die pyrolytische Beschichtung
nicht mehr Natriumionen als 10 mg/cm³ Beschichtung
enthält.
6. Flachglas nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die pyrolytische Beschichtung
mit wenigstens einer weiteren Überzugsschicht versehen
ist.
7. Flachglas nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Glas entalkalisiertes
Natronkalkglas ist.
8. Verfahren zur Herstellung von pyrolytisch beschichtetem
Flachglas, dadurch gekennzeichnet, daß man vor der
pyrolytischen Beschichtung das Glas einer
Entalkalisierungsbehandlung in einer sauren Atmosphäre
derart unterzieht, daß in der erhaltenen entalkalisierten
und beschichteten Scheibe eine Oberflächenschicht des
Glases von 1 µm Dicke, verglichen mit einer sofort
darunter liegenden Schicht der gleichen Dicke, in einer
Menge von wenigstens 5 mg Na⁺ pro m² an Natrium
verarmt ist.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß
man bei der Entalkalisierungsbehandlung das Glas einer
ein saures Gas enthaltenden Atmosphäre mit einer
Temperatur von über 200°C aussetzt und es dieser
Atmosphäre eine Zeitspanne aussetzt, während welcher
oder wenigstens an deren Ende, seine Temperatur
unterhalb 350°C liegt, worauf das entalkalisierte Glas
gewaschen, wieder erhitzt und bei einer Temperatur von
wenigstens 400°C mit einem
Beschichtungsvorläufermaterial kontaktiert wird, welches
pyrolytisch im Kontakt mit dem Glas reagiert und eine
darauf haftende pyrolytische Beschichtung bildet.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch
gekennzeichnet, daß man das Glas in Stufen
entalkalisiert, wobei in einer ersten Stufe das Glas mit
einem sauren Gas des Entalkalisierungsmediums 1 min lang
bei einer Glastemperatur von über 400°C kontaktiert wird
und in einer nachfolgenden Stufe das so entalkalisierte
Glas mit einem sauren Gas des Entalkalisierungsmediums
wenigstens 3 min lang bei einer Glastemperatur von
wenigstens 50°C unter der Temperatur oder der
Minimaltemperatur des Glases während Stufe 1, nämlich
zwischen 250° und 400°C, kontaktiert wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, daß man das Glas eine Zeitspanne der
sauren Atmosphäre aussetzt an deren Ende die Temperatur
des Glases unterhalb von 300°C liegt.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß man das Glas der sauren Atmosphäre
nur aussetzt während die Temperatur des Glases unter
350°C liegt.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß
man das Glas der sauren Atmosphäre nur aussetzt während
die Temperatur des Glases unterhalb 300°C liegt.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß man die Temperatur des Glases
während eines Teils der Behandlungszeit in der sauren
Atmosphäre auf 400 bis 500°C einstellt.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß man das Glas innerhalb eines
Temperaturbereichs von wenigstens 60°C abkühlen läßt,
während es im wesentlichen dauernd der sauren Atmosphäre
ausgesetzt ist.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 15, dadurch
gekennzeichnet, daß man die Temperatur des Glases für
wenigstens 20% der Behandlungszeit in der sauren
Atmosphäre auf unter 350°C einstellt.
17. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 16, dadurch
gekennzeichnet, daß man die saure Atmosphäre
kontinuierlich im Kontakt mit dem Glas zirkulieren läßt.
18. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 17, dadurch
gekennzeichnet, daß die saure Atmosphäre Schwefeltrioxid
enthält.
19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß
Schwefeltrioxid dadurch in die Atmosphäre eingeführt
wird, daß man Schwefeldioxid unter oxidierenden
Bedingungen über einen die Oxidation begünstigenden
Katalysator (nachfolgend Oxidationskatalysator genannt)
leitet.
20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß
man als Katalysator Vanadiumpentoxid verwendet.
21. Verfahren nach Anspruch 19 oder 20, dadurch
gekennzeichnet, daß Schwefeldioxid über den
Oxidationskatalysator derart geführt wird, daß die
Oxidation bei einer Temperatur von wenigstens 400°C
stattfindet.
22. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 21, dadurch
gekennzeichnet, daß man das Schwefeldioxid über den
Oxidationskatalysator in einer Mischung mit einem
Überschuß an Luft leitet, wobei die Luft in wenigstens
der dreifachen der zur vollständigen Oxidation des
Schwefeldioxids stöchiometrisch notwendigen Menge
vorliegt.
23. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 22, dadurch
gekennzeichnet, daß man dem sauren Gas eine organische
Fluorverbindung zusetzt, die sich unter Freisetzung von
Fluoridionen zersetzt.
24. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 23, dadurch
gekennzeichnet, daß man das Glas pyrolytisch mit einer
leitfähigen Metalloxidschicht beschichtet.
25. Verfahren nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß
das Beschichtungsvorläufermaterial unter Bildung einer
Zinnoxidschicht reagiert.
26. Verfahren nach Anspruch 24 oder 25, dadurch
gekennzeichnet, daß das Glas und die leitfähige
Beschichtung transparent sind und eine weitere
Überzugsschicht auf der leitfähigen Beschichtung
gebildet wird.
27. Pyrolytisch beschichtetes Glas erhältlich durch das
Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 26.
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