DE3600442A1

DE3600442A1 - Photopolymerisierbare masse

Info

Publication number: DE3600442A1
Application number: DE19863600442
Authority: DE
Inventors: Junichi Yokosuka Kanagawa Onodera; Shigeru Yamato Kanagawa Otawa; Hiroyuki Fujisawa Kanagawa Tohda
Original assignee: Photopoly Ohka Co Ltd Kanagawa; Photopoly Ohka Co Ltd
Current assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date: 1985-01-19
Filing date: 1986-01-09
Publication date: 1986-07-24
Also published as: JPS61166541A; US4741987A; JPH0456976B2; DE3600442C2

Description

Beschreibung

Die Erfindung betrifft eine photopolymerisierbare Masse bzw. Zusammensetzung, die einen extrem stabilen Resistfilm mit einer ausgezeichneten Haftung an einer Kupferoberfläche bilden kann und völlig frei von dem Effekt der Veränderung durch Alterung nach dem Aufbringen in Form einer Schicht oder Auflaminieren ist.

Eine Platte mit einer gedruckten Schaltung (P-WB) wird hergestellt, indem man eine photopolymerisierbare Masse bzw. Zusammensetzung in Form einer Lösung als Schicht aufbringt oder die lichtempfindliche Schicht als Resistfilm auflaminiert auf die Kupferoberfläche einer mit Kupfer laminierten Platte, mit aktinischem Licht bildmäßig belichtet, mit einem Lösungsmittel oder einer wäßrigen alkalischen Lösung ein Bild entwickelt unter Erzeugung eines Resistbildes auf einem Kupfersubstrat und danach <äen durch das Resistbild nicht geschützten Bereich der Kupferoberfläche einer selektiven Ätzung oder Metallplattierung unterwirft. Wenn die Haftung des Resistfilms an dem Kupfersubstrat unzureichend ist, dringt in diesem Falle die Ätzlösung oder die Plattierungslösung zwischen dem Kupfersubstrat und dem Resistfilm ein, wodurch das Resistmaterial von dem Kupfersubstrat getrennt oder abgehoben wird, was zu einer Abblätterung des Resistmaterial durch Ätzung, zu einer Plattenintrusion und dgl. führt. Dadurch werden die Bildlinien oder die Bilder unscharf, ' so daß nicht die gewünschte Schaltung erhalten werden kann. Die vorliegende Erfindung betrifft nun eine neue photopolymerisierbare Masse bzw. Zusammensetzung, sie betrifft insbesondere eine photopolymerisierbare Masse bzw. Zusammensetzung, die ein Resistbild mit einer ausgezeichneten Haftung an der Kupferoberfläche einer mit Kupfer laminierten Platte bilden kann, wie sie für die Herstellung von Platten mit gedruckter Schaltung (PWB)

360QU2

verwendet wird, und die mit einer schwach alkalischen wäßrigen Lösung entwickelt werden kann.

Zur Verbesserung der Haftung des Resistmaterial an der Kupferoberflache wurde bereits früher über ein Verfahren der Zugabe der nachstehend angegebenen Verbindung zu einer photopolymerisierbaren Masse bzw. Zusammensetzung berichtet:

1) Benzotriazol, Benzoimidazol, Benzothiazol und dgl. (vgl. japanische Patentpublikation 24035/1983);

2) Imidazol, Thiazol, Tetrazol, Triazol und dgl. (vgl. JP-OS 48752/1984);

3) Diphenylthiocarbazon (vgl. JP-OS 67845/1981);

4) Carbothiosäureamidderivat (vgl. JP-OS 113 432/1984); 5) Monoazaindol und sein Derivat (vgl. JP-OS 46642/1984);

6) Rhodanine (vgl. JP-OS 125 725/1984);

7) Tetrazol und seine Derivate (vgl. JP-OS 125 726/1984);

8) Lophin (vgl. JP-OS 125 727/1984);

9) Theophyllin (vgl. JP-OS 125 728/1984);

10) 2-substituiertes4,6-Dithiol-s-triazinderivat (vgl. JP-OS 152 439/1984).

Die Zugabe dieser Verbindungen bringt jedoch das Problem mit sich, daß die Haftung nicht ausreichend ist oder der Resistfilm mit Kupfer reagiert als Folge der Änderung durch Alterung nach dem Aufbringen in Form einer Schicht oder nach dem Auflaminieren unter Bildung eines monomolekularen Filmes an der Grenzfläche. Dieser übt einen unerwünschten Effekt auf die nachfolgende Stufe/ beispielsweise die Defekt-Ätzung in dem Ätzverfahren aus oder es tritt eine unzureichende Ablösungsfestigkeit zwischen dem plattierten Kupfer und dem Resistmaterial in dem Plattierungsverfahren auf.

Λ 35 Ein Ziel der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine photcpolyrnerisierbare Masse bzw. Zusammensetzung zu schaffen, die einen extrem stabilen Resistfilm mit einer

ausgezeichneten Haftung an der Kupferoberfläche bilden kann, der völlig frei von dem Effekt der Änderung durch Alterung nach dem Aufbringen in Form einer Schicht oder nach dem Auflaminieren ist.
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Gegenstand der Erfindung ist eine photopolymerisierbare Masse bzw. Zusammensetzung/ die dadurch gekennzeichnet ist, daß sie umfaßt:

a) ein thermoplastisches organisches Polymeres, b) eine nicht-gasförmige ethylenisch ungesättigte Verbindung, die mindestens zwei endständige ethylenische Gruppen aufweist, die durch photoinitiierte Additionspolymerisation ein Polymeres bilden können,

c) einen durch aktinische Strahlung aktivierbaren Additionspolymerisationsinitiator und

d) eine Benzotriazolcarbonsäure der Formel

^v i> N

worin R ein Wasserstoffatom, ein Alkalimetallatom oder eine aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis Kohlenstoffatomen bedeutet.

Thermoplastisches organisches Polymeres (a)

Bei der erfindungsgemäßen Komponente (a) handelt es sich um ein thermoplastisches organisches Polymeres. Obgleich

QQ verschiedene Arten von natürlichen oder synthetischen Harzen verwendet werden können, ist ein lineares Vinylcopolymeres vom Standpunkt der Kompatibilität (Verträglichkeit) mit anderen Komponenten, der Haftung an der Oberfläche des Substrats, auf das es aufgebracht werden soll,

gg und dgl. aus betrachtet bevorzugt. Als copolymerisierbarer Bestandteil können verschiedene Arten von Viny!monomeren verwendet werden und zu geeigneten Beispielen dafür ge-

hören Methylmethacrylat, Butylmethacrylat, Ethylacifylat, Styrol,U-Methylstyrol, Vinyltoluol, 2-Hydroxyehtylmethacrylat, 2-Hydroxypropylacrylat, Acrylsäure, Methacrylsäure, Glycidylmethacrylat, t-Butylaminoethylmethacrylat, 2,3-Dibromopropylmethacrylat, S-Chloro-Z-hydroxypropylrneth-¹ acrylat, Tetrahydrofurfurylmethacrylat, Tribromopheriylacrylat, Acrylamid, Acrylnitril, Butadien und dgl. Zur Herstellung einer photopolymerisierbaren Masse bzw. Zusammensetzung, die in einer wäßrigen alkalischen Lösung ohne Verwendung eines organischen Lösungsmittels entwickelt werden kann, müssen jedoch entweder Acrylsäure und/oder Methacrylsäure, bei der es sich um eine ungesättigte aliphatische Carbonsäure handelt, als copolymerisierbarer Bestandteil eingearbeitet werden. Außerdem ist es bevorzugt, die Säurezahl des Polymeren auf einen Wert innerhalb des Bereiches von 30 bis 130 einzustellen.

Der Gehalt an dem thermoplastischen organischen Polymeren in der photopolymerisierbaren Masse bzw. Zusammensetzung beträgt vorzugsweise 10 bis 85 Gew.-%, vom Standpunkt der Filmbildungseigenschaften und der Lichthärtungs- bzw. Lichtvernetzungseigenschaften aus betrachtet.

Nicht-gasfrömige, ethylenisch ungesättigte Verbindung (b)

Bei der erfindungsgemäßen Komponente (b) handelt es sich um eine nicht-gasförmige, ethylenisch ungesättigte Verbindung, die mindestens zwei endständige ethylenische Gruppen aufweist, die durch photoinitiierte Additionspolymerisation ein Polymeres bilden können. Zu Beispielen dafür gehören Acrylsäureester, Methacrylsäureester, Acrylamid, Methacrylamid, eine Allylverbindung, eine Vinylätherverbindung und eine Vinylesterverbindung. Der Acrylsäureester und der Methacrylsäureester stellen Ester eines Polyhydroxyalkohols mit Acryl- oder Methacrylsäure dar. Der Polyhydroxyalkohol umfaßt Ethylenglykol, Polyethylenglykol, Propylenglykol, Polypropylenglykol, Neopentylglykol, Trimethylol-

propan, Pentaerythrit, Butandiol und Trimethylolethan.

Das Acrylamid und das Methacrylamid umfassen Methylenbisacrylamid, Methylenbismethacrylamid, Ethylendiaminbisacrylamid, Ethylendiaminbismethacrylamid, Hexamethylendiaminbisacrylamid und Hexamethylendiaminbismethacrylamid.

Bei der AlIy!verbindung handelt es sich um einen Diallylester von Phthalsäure, Adipinsäure und Malonsäure.

Bei der Vinylatherverbindung handelt es sich um einen Vinyläther des obengenannten Polyhydroxyalkohols und die Vinylesterverbindung kann beispielsweise umfassen Divinylsuccinat, Divinyladipat und Divinylphthalat.

Der Gehalt an der nicht-gasförmigen, ethylenisch ungesättigten Verbindung in der photopolymerisierbaren Masse bzw. Zusammensetzung beträgt vorzugsweise 10 bis 85 Gew.-%, ebenfalls vom Standpunkt der Filmbildungseigenschäften und der Lichthärtungs- bzw. Lichtvernetzungseigenschaften aus betrachtet.

Photopolymerisationsinitiator (c)

Die erfindungsgemäße Komponente (c) ist ein Additionspolymerisationsinitiator zur Initiierung der Polymerisation der obengenannten ungesättigten Verbindung (b) durch Bestrahlung mit aktinischem Licht und er kann beispielsweise umfassen Anthrachinon und Anthrachinonderivate, wie

OQ z.B. 2-Methylanthrachinon und 2-Ethylanthrachinon; Benzoin und Benzoinderivate, wie Benzoinmethyläther und Benzoinethyläther; Benzophenon, Phenanthrenchinon und 4,4'-Bis(dimethylamine)benzophenon. Diese Photopolymerisationsinitiatoren können entweder allein oder in Kombinationen

_QC von zwei oder mehr davon verwendet werden.

Der Photopolymerisationsinitiator ist in der erfindungsge-

·.-■ ---9- --■ ■ ■-'--"· 36004A2 mäßen photopolymerisierbaren Masse bzw. Zusammensetzung vorzugsweise in einer Menge von 1 bis 15 Gew.-% enthalten.

Benzotriazolcarbonsäure (d)

Bei der erfindungsgemäßen Komponente (d) handelt es sich um eine Benzotriazolcarbonsäure der allgemeinen Formeli

10

HO-C-J- υ

-N

worin R ein Wasserstoffatom, ein Alkalimetallatom oder eine aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen bedeutet. Eine Mischung aus 4-Benzotriazolcarbonsäure und 5-Benzotriazolcarbonsäure ist im Handel erhältlich unter dem Handelsnamen "Carboxybenzotriazole" (ein Produkt, hergestellt von der Firma The Sherwin-Williams Company), das als solches verwendet werden kann, auf das die Erfindung jedoch nicht beschränkt

Der Gehalt der erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Masse bzw. Zusammensetzung an Benzotriazolcarbonsäure beträgt vorzugsweise 0,005 bis 5 Gew.-% und insbesondere 0,05 bis 3 Gew.-%.

Hilfsbestandteil

30

Zusätzlich zu den obengenannten Komponenten können der photopolymerisierbaren Masse bzw. Zusammensetzung als Sekundärbestandteile gemäß der vorliegenden Erfindung ein thermischer Polymerisationsinhibitor, ein Farbstoff, ein Pigment, ein Mittel zur Verbesserung des Beschich'-tungsvermögens, ein Flammverzögerungsmittel, Flammverzögerungshilfsmittel und dgl. zugesetzt werden und

diese Zusätze können in der gleichen Weise wie in konventionellen photopolymerisierbaren Massen bzw. Zusammensetzungen ausgewählt werden.

Anwendungsverfahren

■ Die jeweiligen Bestandteile in der erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Masse bzw. Zusammensetzung werden verwendet, während sie aufgelöst und in ein geeignetes Lösungsmittel eingemischt sind. Zu typischen Beispielen für geeignete Lösungsmittel gehören Methylethylketon, Ethylacetat, Toluol, Methylenchlorid und Trichlorethan, ohne daß die Erfindung jedoch darauf beschränkt ist.

Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Masse bzw. Zusammensetzung wird in Form einer Lösung, gelöst in einem Lösungsmittel, wie vorstehend beschrieben, direkt in Form einer Schicht auf ein Substrat, wie z.B. eine mit Kupfer laminierte Platte, aufgebracht und getrocknet unter Bildung eines Resistfilms oder die obengenannte Lösung wird in Form einer Schicht auf einen Polyesterfilm als Träger aufgebracht und getrocknet zur Bildung eines Resistfilms und der Resistfilm wird durch Erhitzen auf die mit Kupfer laminierte Platte auflaminiert. Dann wird der Resistfilm einer bildmäßigen Belichtung mit aktinischem Licht unterworfen, es wird eine Entwicklung durchgeführt zur Erzeugung eines Resistbildes auf dem Substrat und der von dem Resistfilm nicht geschützte Bereich der Kupferoberfläche wird einer Ätzung oder Metallplattierung unterworfen, wodurch eine Platte mit einer gedruckten Schaltung (PWB) erzeugt wird.

Für die Entwicklerlösung wird ein organisches Lösungsmittel, wie z.B. 1,1,1-Trichloroethan, eine wäßrige alkalische Lösung oder eine wäßrige Lösung eines organischen Lösungsmittels verwendet.

Die Beschichtungs-, Laminierungs-, bildmäßigen Belichtungs-, Entwicklungs-, Ätz- und Metallplattierungsarbeitsgänge können unter Anwendung üblicher Verfahren durchge-* führt werden.

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\ Vorteile der Erfindung

Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Masse bzw. Zusammensetzung weist (bei ihrer Verwendung zur direkten Aufbringung in Form einer Schicht als eine Lösung Oder durch Auflaminieren als ein Resistfilm auf die Kupferoberfläche) eine ausgezeichnete Haftung des Resistfilms an der Kupferoberfläche auf und sie ist auch stabil mit einer extrem geringen Änderung durch Alterung nach dem Auflaminieren. Daher ruft sie keine Trennung oder kein Abheben des Resistfilms von der Kupferoberflache in der nachfolgenden Ätz- oder Plattierungsstufe hervor, was zu einem Abblättern des Resistfilms oder zu einer Intrusion der Plattierung führt. Daher kann eine zufriedenstellende Platte mit einer gedruckten Schaltung (PWB) hergestellt werden zur Verbesserung der Qualität und Be- bzw. Verar· beitbarkeit zur Herstellung der Platte mit einer gedruckten Schaltung durch Verwendung der erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Masse bzw. Zusammensetzung.

Da die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Masse bzw. Zusammensetzung in der Entwicklungsstufe unter Verwendung einer wäßrigen alkalischen Lösung ohne ein organisches Lösungsmittel entwickelt werden kann, ist sie sicher im Hinblick auf die Toxizität und die Entflammbarkeit und dadurch können die Kosten für die Herstellung von Platten mit gedruckten Schaltungen herabgesetzt werden.

Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele naher erläutert, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein.

Beispiele 1 bis 5, Vergleichsbeispiel 1

Methylmethacrylat/Methacrylsäure/-Hydroxypropylmethacrylat (Gewichts— verhältnis 65/15/20)-Copolymer (durchschnittliches Molekulargewicht

etwa 50 000) 100 g

Trimethylolpropantriacrylat 15 g

Tetraethylenglykoldiacrylat 20 g Benzophenon 5 g

_ Michlers Keton 0,6 g

Kristallviolett 0,1 g

Methylethylketon 30 0 g

Sechs Chargen der vorstehend angegebenen Zusammensetzungen wurden unter Anwendung der vorstehenden Formulierung Io

hergestellt und es wurde "Carboxybenzotriazole" (ein Produkt, hergestellt von der Firma The Sherwin-Williams Company) als Benzotriazolcarbonsäure zu fünf Chargen in einer Menge von 0,05 g, 0,1 g, 0,5 g, 1,0 gbzw. 3 g zugegeben, während eine Charge ohne einen solchen Zusatz als Vergleichs-20

charge verwendet wurde.

Jede Charge wurde in Form einer Schicht auf einen 25 um dicken Polyethylenterephthalatfilm aufgebracht und getrocknet, wobei man einen 30 um dicken Resistfilm er- A O

hielt. Dann wurde jeder Resistfilm auf eine gesäuberte, mit Kupfer laminierte Platte für eine gedruckte Schaltung auflaminiert unter Verwendung einer Laminiervorrichtung bei einer Temperatur von 103³C, einem Druck von

2,0 kg/cm², einer Geschwindigkeit von 8,1 m/min und einer 30

Plattenoberflächentemperatur von 23⁰C. Dann wurde mit aktinischer Strahlung mit 90 mJ/cm² belichtet unter Verwendung einer Superhochdruck-Quecksilberlampe, Modell HMW-201B (3 kW), hergestellt von der Firma Oak Company, mittels einer Photomaske und der Polyethylenterephthalatfilm wurde abgezogen und verworfen, wobei das belichtete Resistmaterial an der Kupferoberfläche haften blieb.

Die Platte wurde dann entwickelt unter Verwendung einer Sprühentwicklungsvorrichtung in einer 2 %igen wäßrigen" Lösung von Natriumcarbonat bei 32⁰C für 80 s und dann wurde sie mit Wasser gewaschen und getrocknet. Jede der so erhaltenen Platten wurde einem Adhäsionstest unterzogen in bezug auf (A) "den Grad der Ablösung beim schnellen Abziehen eines Klebestreifens, der auf den auf der Kupferoberfläche verbliebenen Resistfilm aufgeklebt worden war", und (B) "den Grad der Ablösung beim schnellen Abziehen des Klebestreifens, der nach dem Eintauchen des auf der Kupferoberfläche verbliebenen Films in eine 42-%ige wJLßrige Lösung von Borfluorwasserstoffsäure bei 25⁰C aufgeklebt worden war". Wie aus den Ergebnissen der nachstehenden Tabelle IV hervorgeht, wies die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Masse bzw. Zusammensetzung viel bessere Adhäsionseigenschaften auf als die photopolymerisierbare Masse bzw. Zusammensetzung gemäß Stand der Technik.

Tabelle I (1)

Zugabemenge von Carboxy- Adhäsionstest benzotriazol (A)

5 Vergleichsbeispiel 1

Beispiel 1 Beispiel 2 Beispiel 3 Beispiel 4 Beispiel 5

0,05 ε ο,ι s o,5 g l.o g

3,0 g

X O

ο ο ο ο

Tabelle I (2)

Adhäsionstest B

c 30-minütiges 60-minütiges 90-minütiges

Eintauchen Eintauchen Eintauchen

Vergleichs-

beispiel 1 χ χ χ

Beispiel 1 ο ο Α

Beispiel 2 ο ο ο

Beispiel 3 ο ' ο ο

■ Beispiel 4 ο ο ο

Beispiel 5 ο ο ο

Beschreibung der Symbole:
x : vollständige Ablösung

Δ : teilweise Ablösung des Resistmaterial

O : überhaupt keine Ablösung

Beispiel 6, Vergleichsbeispiele 2 und 3

Nach dem gleichen Verfahren wie in den Beispielen 1 bis ^⁰ wurden Massen bzw. Zusammensetzungen hergestellt für die Herstellung von Substraten für gedruckte Schaltungen. In diesem Falle wurde "Carboxybenzotriazole" in einer Menge von 0,5 g zugegeben und Benzotriazol und Diphenylthiocarbazon wurden in den Vergleichsbeispielen jeweils in einer Menge von 0,5 g zugegeben. Die auf diese Weise erhaltenen Substrate wurden bei einer Raumtemperatur von 25⁰C gehalten und es wurde die Änderung durch Altern untersucht in bezug auf die Reaktion zwischen dem Resistfilm und der Kupferoberfläche nach 1, 3, 7 und 10 Tagen. ^5 z_ur Bestimmung der Änderung durch Alterung wurde die durch Abziehen des Resistfilms von jeder der Proben frei-

gelegte Kupferoberfläche 60 s lang in eine 2 %ige wäßrige Ammcniumpersulfatlösung eingetaucht und die Probe, deren Kupferoberfläche rosafarben wurde (weiches Ätzen), wurde als "zufriedenstellend" bewertet. Wie aus den Ergebnissen der folgenden Tabelle II hervorgeht, wies die erfindungsgemäSe Masse bzw. Zusammensetzung eine viel höhere Stabilität auf als die konventionellen Massen bzw. Zusammensetzungen .

10	nach	1	Tag	Tabelle II	. Beispiel 6	Vergleichs beispiel 2	Vergleichs- beisoiel 3.
	nach	3	Tagen	•Carboxybenzo triasol	Benzotria- zol-	Diphehylthio carbazon
	nach	7	Tagen	O	Δ	O
15	nach	10	Tagen	O	X	X
			O	X	X
			Δ	X	X

Beschreibung der Symbole:
ο : zufriedenstellend

Δ : mäßig

x : nicht bestanden

Die Erfindung wurde zwar vorstehend unter Bezugnahme auf spezifische bevorzugte Ausführungsformen näher erläutert/ es ist jedoch für den Fachmann selbstverständlich, daß sie darauf keineswegs beschränkt ist, sondern daß diese in vielfacher Hinsicht abgeändert und modifiziert werden können, ohne daß dadurch der Rahmen der vorliegenden Erfindung verlassen wird.

Claims

Patentansprüche

1. Photopolymerisierbare Masse (Zusammensetzung), dadurch gekennzeichnet , daß sie umfaßt

a) ein thermoplastisches organisches Polymeres,

b) eine nicht-gasförmige, ethylenisch ungesättigte Verbindung, die mindestens zwei endständige ethylenische Gruppen aufweist, die durch photoinitiierte Additionspolyinerisation ein Polymeres bilden können,

c) einen durch aktinische Strahlung aktivierbaren Additionspolyraerisationsinitiator und

d) eine Benzotriazolcarbonsäure der allgemeinen Formel

worin R ein Wasserstoffatom, ein Alkalimetallatom oder eine aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoff atcr.en bedeutet.

A3ar-s:ra:3e 3- D-3GCO M_rcrer =0 Teierc" ..CSS: 652565 ■ Teie'a/ 22C2: -15*225 Te:ex: S5S1 2^T3 soza

Patentanwalt Dr.-lng.'Dipi.-'ig. A. Sei Patentanwalt Dia-ing. Chr. Zapf Patentanwalt Dr-'ng. Dipl.-ing. W Hasse

2. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie umfaßt:

a) 10 bis 85 Gew.-% des thermoplastischen organischen Polymeren,

b) 10 bis 85 Gew.-% der ethylenisch ungesättigten Verbindung,

c) 1 bis 15 Gew.-% des Photopolymerisationsinitiators und

d) 0,00 5 bis 5 Gew.-% der Benzotriazolcarbonsäure.

3. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem thermoplastischen organischen Polymeren um ein lineares Vinylcopolymere s handelt.

4. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem linearen Vinylcopolymere η um ein Copolymeres von Verbindungen handelt, die

■» ausgewählt werden aus der Gruppe, die besteht aus Methyl-

methacrylat, Butylmethacrylat, Ethylacrylat, Styrol, ot-"* Methyl styrol, Vinyl toluol, 2-Hydroxyethylmethacrylat,

2-Hydroxypropylacrylat, Acrylsäure, Methacrylsäure, GIycidylmethacrylat, t-Butylaminoethylmethacrylat, 2,3-Dibromopropylmethacrylat, 3-Chloro-2-hydroxypropylmethacrylat, Tetrahydrofurfurylmethacrylat, Tribromophenylacrylat, Acrylamid, Acrylnitril und Butadien. 25

5. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß das lineare Vinylcopolymere in einer wäßrigen alkalischen Lösung löslich ist.

6. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das in einer wäßrigen alkalischen Lösung lösliche lineare Vinylcopolymere eine Säurezahl von 30 bis 130 aufweist.

7. Photopolymerisierbare Masse nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei der

Benzotriazolcarbonsäure um eine Mischung von 4--Benzotriazolcarbonsäure und 5-Benzotriazolcarbonsäure handelt.