DE3539572A1

DE3539572A1 - Verfahren zum herstellen einer dunkel-matrix

Info

Publication number: DE3539572A1
Application number: DE19853539572
Authority: DE
Inventors: Kanagaratnam Anandasivam; Herbert Muescher; Rolf Griessmayr; Hermann Dr Widmann; Irene Kienle
Original assignee: Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Current assignee: Thales Electron Devices GmbH
Priority date: 1985-11-08
Filing date: 1985-11-08
Publication date: 1987-05-14
Also published as: DE3539572C2

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.

Zur Erhöhung des Kontrastes von Leuchtschirmbildern von Farbbildkathodenstrahlröhren ist es bekannt, vor Auf bringen der einzelnen Leuchtstoffelemente eine soge nannte Dunkel-Matrix auf den aus Glas bestehenden Leuchtschirmträger aufzubringen. Diese Dunkel-Matrix besteht aus einer möglichst dunklen und lichtabsor bierenden Schicht, die die einzelnen Leuchtstoffelemen te, z. B. Punkte oder Streifen, des Farbbild-Leucht schirmes umranden.

Bekannte Verfahren zur Herstellung einer solchen Dun kel-Matrix bestehen darin, zunächst eine gleichmäßige Schicht, z. B. aus Graphit, aufzubringen und dann mittels eines Positiv- oder Negativ-Photo-Ätzverfahrens entsprechend zu strukturieren. Es ist weiterhin vorge schlagen worden, das Material für eine solche Dunkel- Matrix durch Aufdampfen aufzubringen.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Herstellungsverfahren der eingangs genannten Art anzugeben, das die Herstellung genauer strukturierbarer Dunkel-Matrixschichten gestattet.

Diese Aufgabe wird durch die im Kennzeichen des Pa tentanspruches 1 angegebenen Merkmale gelöst.

Das beschriebene Verfahren, das zwei aufeinanderliegen de Schichten der Dunkel-Matrix vorsieht, besitzt den Vorteil, daß die Körperfarbe und die Transparenz dieser Matrix in einfacher Weise verändert werden können. Die Körperfarbe läßt sich besonders durch Variation der Dicke der Metalloxidschicht verändern. Das Aufdampfen der Metallschichten garantiert insbesondere bei Verwen dung von Chromoxid bzw. Chrom eine gute Haftfestigkeit der Schicht und eine gute und präzise Ätzbarkeit der Schicht. Ein weiterer Vorteil bei Anwendung des Posi tiv-Photoätzverfahrens besteht darin, daß im Vergleich zu den Maskenöffnungen kleinere Rasteröffnungen erhal ten werden können.

Anhand des nachfolgend näher beschriebenen Verfahrens wird ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel angegeben.

Auf die gut gereinigte Glasoberfläche des Leuchtschirm trägers wird im Vakuum zunächst eine Metalloxidschicht in einer Dicke von etwa 600 Angströmeinheiten aufge bracht. Diese Schicht besteht bevorzugt aus Chromoxid. Es hat sich jedoch auch als vorteilhaft erwiesen, eine Mischschicht aus Chromoxid und Nickeloxid aufzubringen. Ggf. wurden auch gute Ergebnisse mit einer Nickeloxid schicht erzielt.

Auf diese Oxidschicht wird nun ebenfalls im Vakuum eine Metallschicht aufgedampft, deren Dicke größer ist als die Dicke der darunterliegenden Metalloxidschicht. Als Metall hat sich besonders gut Chrom bewährt, das bevor zugt in einer Dicke von etwa 1000 bis 2000 Angströmein heiten aufgebracht wird. Eine solche Doppelschicht besitzt zum einen den Eindruck einer sehr dunklen Schicht und ist durch ein Photo-Ätzverfahren genügend genau ätzbar.

Zur Durchführung des Photo-Ätzverfahrens wird auf die aufgebrachte zweischichtige Metalloxid-Metallschicht eine Photo-Resistschicht aufgebracht, die dann durch eine Schattenmaske, oder wie im Falle von Flachbild schirmen, durch eine Rastervorlage von außen, z. B. mit UV-Licht belichtet wird. Durch die Belichtung kann erreicht werden, daß die Schicht an den belichteten Stellen gegenüber einem Lösungsmittel löslich gemacht wird (Positiv-Verfahren). Nach Entfernen der belichte ten Stellen der Photo-Resistschicht können die freige legten Teile der Metalloxid-Metallschicht herausgeätzt werden, so daß die Matrixschicht in der gewünschten Konfiguration zurückbleibt. Das Positivverfahren hat sich besonders deshalb bewährt, weil es möglich ist, Öffnungen in der Matrixschicht herzustellen, die etwa 10 bis 20 % kleiner sind als die Öffnungen in der Schattenmaske, durch welche hindurch belichtet wurde.

Claims

1. Verfahren zum Herstellen einer Dunkel-Matrix auf dem Leuchtschirmträger einer Farbbildkathodenstrahlröh re mit Schattenmaske, bei dem eine gleichförmige Schicht des Matrixmaterials aufgebracht und dann nach einem Photo-Ätzverfahren entsprechend den aufzubringen den Leuchtstoffelementen strukturiert wird, dadurch gekennzeichnet, daß als Matrixmaterial zunächst eine Metalloxidschicht und darauf eine Metallschicht durch Aufdampfen aufgebracht wird und dann durch Photoätzung strukturiert wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Metalloxidschicht eine Chromoxid- und/oder Nickeloxidschicht aufgedampft wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Metallschicht eine Chromschicht aufgedampft wird.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Metallschicht größer ist als die Dicke der Metalloxidschicht.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Strukturierung bei Anwendung einer Belichtung durch die Schattenmaske hindurch nach einem Positivverfahren vorgenommen wird.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Metalloxidschicht in einer Dicke von 400 bis 800, insbesondere 500 bis 700 Ang strömeinheiten aufgebracht wird.

7. Verfahrennach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallschicht in einer Dicke von 600 bis 3000, insbesondere 1000 bis 2000 Angström einheiten aufgebracht wird.