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DE3430752A1 - Belichtungsvorrichtung - Google Patents

Belichtungsvorrichtung

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Publication number
DE3430752A1
DE3430752A1 DE19843430752 DE3430752A DE3430752A1 DE 3430752 A1 DE3430752 A1 DE 3430752A1 DE 19843430752 DE19843430752 DE 19843430752 DE 3430752 A DE3430752 A DE 3430752A DE 3430752 A1 DE3430752 A1 DE 3430752A1
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DE
Germany
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lighting
original
light
exposure device
mask
Prior art date
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DE19843430752
Other languages
English (en)
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DE3430752C2 (de
Inventor
Toshio Tokio/Tokyo Matsuki
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Publication of DE3430752C2 publication Critical patent/DE3430752C2/de
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70066Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich allgemein auf eine Belichtungsvorrichtung zur Herstellung halbleitender Schaltvorrichtungen, insbesondere auf eine Projektionsbelichtungsvorrichtung mit einer Einrichtung zur Überwachung des Belichtungsbereichs .
Halbleitervorrichtungen wie integrierte Schaltkreise (IC), in hohem Ausmaß integrierte Schaltkreise (LSI) und in sehr hohem Ausmaß integrierte Schaltkreise (VLSI) sind in immer größerem Ausmaß integriert worden und ihre Schaltungsmasken sind mehr und mehr miniaturisiert worden. Entsprechend dieser Entwicklung muß die Weite der Gitterstriche der Schaltungsmaske sehr klein sein, d.h., in einem Bereich von 1 bis 1,5 Mikron. Um die höhere Integration der Halbleitervorrichtungen und die weitere Miniaturisierung der Schaltungsmasken zu erzielen, ist eine Belichtungsvorrichtung erforderlich, die während des Belichtungsvorgangs ein sehr feines Muster, dessen Gitter-Weite im Bereich von 1 bis 1,5 Mikron liegt, übertragen oder drucken kann und bei der die Justierung derart durchgeführt werden kann, daß eine
Dresdner Bunk (München) Kto. 3939 844
Bayer. Vereinsbank (München) KIo. 5OB 941
Postscheck (München) KIo. 670-43-004
genaue Justierung der Muster während mehrerer Belichtungsschritte mit einer Justiergenauigkeit möglich ist, die viel größer ist als die Belichtungsgenauigkeit, um so das ρ- Auftreten von Fehlern in den übertragenen Mustervorlagen zu vermeiden.
Zur Erfüllung dieser Anforderung wurde schon eine Belichtungsvorrichtung vom Verkleinerungsprojektionstyp, genannt Schrittfortschaltgerät, entwickelt, bei dem die Originalvorlage, beispielsweise eine Gitterscheibe oder Maske, mit einem oder mehreren auf ihr ausgebildeten Schaltungsmasken in verkleinertem Maßstab auf ein Aufnahmeelement, beispielsweise ein Substrat projiziert wird, wobei die Projektionsbelichtung mittels eines Repetiervorgangs wieder-15
holt wird, um eine Vielzahl Gittermuster auf die gesamte Oberfläche des Substrats zu reproduzieren.
Während die Musterübertragung selbst bei der Projektionsbelichtungsanlage nach dem Repetierverfahren befriedigend ist, verbleibt ein weiteres Problem. Dieses läßt sich wie folgt beschreiben:
Im allgemeinen ist der Flächenbereich des Originals oder
Gittermusters, der außerhalb der Schaltungsmaske liegt, 25
mit einer Schicht Chrom oder ähnlichen Materials bedeckt, die durch Vakuumbedampfung oder dergleichen hergestellt ist, um so zu verhindern, daß die Belichtungsstrahlen diesen Bereich durchqueren. Wenn diese Abdeckung jedoch Fehler wie beispielsweise kleine Löcher aufweist oder aus ir-30
gendeinem anderen Grund beschädigt ist, durchqueren die Belichtungsstrahlen solche Löcher oder beschädigten Abschnitte. Die so durchgelassenen Strahlen mischen sich mit dem Schaltmusterprojektionslicht bei der Strahlaufnahme zur Belichtung, oder sie.fallen auf dem Substratbereich ein, auf das die Schaltungsmaske projiziert wurde, oder
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während des vorhergehenden oder darauf folgenden Belichtungsstrahls projiziert werden sollte. Diese Belichtungsstrahlfehler resultieren in beträchlichen Defekten in g übertragenen Schaltungsmasken und müssen deshalb vermieden werden.
Es könnte in Betracht gezogen werden, eine mit einer Öffnung versehene Lichtauffangscheibe anzuwenden, die den ,Q Belichtungs- oder Ausleuchtungsabschnitt einschränkt, um den oben beschriebenen Belichtungsstrahlendurchgang zu vermeiden oder auszuschalten. Dies wird in den Figuren 1 und 2 der beiliegenden Zeichnung dargestellt. Die in Fig. 1 oder 2 dargestellte Belichtungsvorrichtung ist vom Verkleinerungsprojektionstyp und weist eine Bühne 3 zur Hai-
terung einer Gitterplatte 2 auf, auf der eine Schaltungsmaske 2a ausgebildet ist. Die Vorrichtung hat weiterhin eine Projektionslinse 4 zur Projektion der Schaltungsmaske 2a von der Gitterscheibe 2 auf ein Substrat 5.
In Figur 1 ist die Lichtauffangscheibe mit dem Referenzzeichen 1 bezeichnet und oberhalb der Gitterscheibe 2 angeordnet, um zu verhindern, daß Belichtungsstrahlen in einem Flächenbereich der Gitterscheibe 2 einfallen, der außerhalb des Flächenbereichs der Schaltungsmaske 2a liegt. Es
ist notwendig, daß die Lichtauffangscheibe 1 durch einen Abstand 1 von der Gitterscheibe 2 getrennt ist, um eine Beschädigung der auf der Gitterscheibe 2 ausgebildeten Schaltungsmaske 2a zu vermeiden.
Andererseits ist in Fig. 2 die Lichtauffangscheibe, die ebenfalls mit 1 bezeichnet ist, unterhalb der Gitterscheibe 2 angeordnet, um jeden Belichtungsstrahl, der die Gitterscheibe 2 außerhalb des Bereichs der Schaltungsmaske 2a
durchquert, abzuschneiden. Die Lichtauffangscheibe in Fig. 35
2 ist ebenfalls durch einen Abstand b von der Gitterschei-
be 2 getrennt, um eine Beschädigung der Schaltungsmaske 2a zu vermeiden.
p- Mit dieser Anordnung ist die Vermeidung des oben beschriebenen Belichtungsstrahlendurchgangs jedoch noch nicht ausreichend.
Bei der Anordnung nach Fig. 1 ist das von einer nicht darin gestellten Beleuchtungsquelle erzeugte Belichtungslicht etwa konvergent; deshalb muß die mit 1a bezeichnete, die Öffnung bildende Kante der Lichtauffangscheibe 1 um einen Abstand c radial auswärts des Außenrands des Bereichs mit der Schaltungsmaske 2a angeordnet sein, um so jede auf der
Öffnung beruhende Finsternis oder Schattierung der Beiich-ι ο
tungsstrahlen in den Außenabschnitten des Bereichs mit der Schaltungsmaske 2a zu vermeiden. Tatsächlich verläuft jedoch ein Teil der von der Beleuchtungsquelle ausgesendeten Lichtstrahlen hinter der die Öffnung bildenden Kante 1a und kann einen Bereich der Gitterscheibe 2 erreichen, der außerhalb des Bereichs mit der Schaltungsmaske 2a liegt, um diesen zu beleuchten. Auch bei der Anordnung nach Fig. 2 ist die Lichtauffangscheibe 1 im Abstand zur Gitterscheibe 2 angeordnet, und weiterhin ist die die Öffnung __ bildende Kante 1a der Lichtauffangscheibe um einen Abstand d radial außerhalb des Gitterscheibenbereichs mit der Schaltungsmaske 2a anzuordnen, um so jede Abfinsterung oder Abschattung des auf die Projektionslinse 4 eintreffenden Belichtungslichts zu vermeiden. Deshalb können einige
Strahlen, die durch den außerhalb der Schaltungsmaske 2a 30
liegenden Bereich der Gitterscheibe 2 treten, nicht wirksam blockiert werden.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Belichtungsvorrichtung zu schaffen, die die oben beschrie-■ ' ■
benen Probleme ausschaltet und bei der der Beleuchtungsab-
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schnitt in eine Stellung gesteuert oder reguliert wird, in der er genau deckungsgleich mit oder angepaßt an eine Fläche ist, auf der das zu übertragende Muster ausgebildet g ist, um so eine genaue Beleuchtung des Maskenbereichs zu gewährleisten. Die Lichtauffangelemente dieser Belichtungsvorrichtung müssen in der Lage sein, den Lichtdurchgang durch irgendwelche, im um die Schaltungsmaske angeordneten Außenbereich einer Gitterscheibe oder Maske ausgebildete in Löcher zu vermeiden. Der Beleuchtungsbereich der Belichtungsvorrichtung soll entsprechend den Abmessungen des zu belichtenden Abschnitts veränderlich sein. Dabei soll auch eine unregelmäßige Form des Belichtungsabschnitts möglich sein. Bei einer Gitterscheibe oder Maske mit einer Schaltungsmaske und einem Prüfungsmuster muß die Vorrichtung in der Lage sein, ausschließlich die Belichtung des Prüfungsmusters zu blockieren. Eine genaue Beleuchtung des Belichtungsabschnitts muß auch dann möglich sein, wenn eine Gitterscheibe oder ein Substrat unter einer gewissen rotatio-
nalen Abweichung orientiert ist. Eine genaue Beleuchtung 20
des Belichtungsabschnitts soll auch bei verschiedenen Gitterscheiben oder Masken verschiedener Dicke möglich sein.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich r aus der folgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung. Es zeigen:
Fig. 1 und 2 Beispiele für optische Anordnungen bei Belichtungsvorrichtungen mit Lichtauffangelementen;
Fig. 3 eine Darstellung einer optischen Anordnung bei einem erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiel einer Belichtungsvorrichtung;
Fig. 4 eine schematische Draufsicht auf das in Fig. 3 dargestellte Lichtauffangelement;
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Fig. 5 eine Draufsicht auf die in Fig. 3 dargestellte Gitterscheibe ;
g Fig. 6 eine perspektivische Darstellung des in Fig. 3 dargestellten Lichtauffangelements;
Fig. 7A und 7B schematische Draufsichten abgeänderter Ausf ührungsbeisp.iele des Lichtauf fangelements .
Die Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf die in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiele beschrieben.
In Fig. 3 ist eine Belichtungsvorrichtung vom Verkleinerungsprojektionstyp, genannt Schrittvorschaltvorrichtung, dargestellt, das eine Strahlungsenergieerzeugungsanlage, beispielsweise eine Beleuchtungsanlage, zur Zuteilung von Strahlungsenergie auf ein Original, beispielsweise eine Gitterscheibe 22 mit einer Schaltungsmaske 22a auf der Unterseite, aufweist. Wenn es auch in dieser Figur nicht deutlich dargestellt ist, wird die Gitterscheibe 22 durch einen Gitterscheibenhalter ähnlich dem in Fig. 1 und 2 gehalten. Eine Verkleinerungsprojektionslinse 4 ist unterhalb der Gitterscheibe 22 angeordnet, um die Schaltungsmaske 22a der Gitterscheibe 22 auf ein strahlungsempfindliches Aufnahmeelement, beispielsweise ein Substrat 5, zu übertragen. Das Substrat 5. wird durch eine Bühne 6 gehalten, die für Repetierbewegungen eingerichtet ist.
Die Beleuchtungsanlage beinhaltet eine Lichtquelle 11, bei-3U
spielsweise eine Höchstspannungsquecksilberleuchte, und einen Ellipsoidspiegel 12, der neben der Lichtquelle 11 angeordnet ist, um die von der Lichtquelle ausgesendeten Lichtstrahlen wirksam zu sammeln. Die Vorrichtung beinhaltet weiterhin, längs des. optischen Weges, einen Kaltlicht-3o
spiegel 13, der dazu dient, die Mehrzahl der Infrarot-
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strahlen durchzulassen und die Ultraviolettstrahlen zu reflektieren; einen Integrator 14, der dazu dient, die Verteilungscharakteristika des Lichtstrahls zu vergleichmäßigen; einen Reflektor 15; eine Kondensorlinse 16; einen weiteren Reflektor 17; eine Lichtauffangvorrichtung 18; eine weitere Kondensorlinse 19; einen weiteren Reflektor 20; eine Kollimationslinse 21. Die Reflektoren 15, 17 und 20 dienen dazu, die optische Achse rechtwinklig abzulenken, um so die Beleuchtungsanlage kompakt zu halten. Die Kondensorlinse 16 dient dazu, den Lichtstrahl aus der Lichtquelle 11 konvergent zu machen, um so gleichmäßiges Beleuchtungslicht auf die Lichtauffangvorrichtung 18 zu richten, die genauer unter Bezugnahme auf Fig. 6 beschrieben w i rd.
Fig. 6 ist eine perspektivische Darstellung der einem Ausführungsbeispiel der Erfindung entsprechenden Lichtauffangvorrichtung 18. Die Lichtauffangvorrichtung 18, die am besten aus Fig. 3 ersichtlich ist, ist derart angeordnet,
daß die Auffangfläche A in Bezug auf die Linsen 19 und 21 mit der Maskenfläche B der Gitterscheibe 22 optisch konjugiert. Um Deckungsgleichheit bezüglich der Drehrichtung mit dem Substrat 5 zu erreichen, das unterhalb der Gitterscheibe 22 angeordnet ist, kann die Lichtauffangvorrichtung 18 in die durch den Doppelpfeil θ in Fig. 4 angezeigten Richtungen mit der Drehung.der Gitterscheibe 22 mittels eines Antriebsmechanismus 23 gedreht werden. Die Lichtauffangvorrichtung 18 ist ebenfalls derart angeordnet, daß sie längs der optischen Achse durch den Antriebsmechanismus beweglich ist. Mit dieser Anordnung kann eine genaue konjugierte Beziehung zwischen der Auffangfläche A der Lichtauffangvorrichtung 18 und der Maskenfläche der Gitterscheibe aufrechterhalten werden, selbst wenn die Gitterscheibe durch eine andere ersetzt wird, die mit einem transparenten Glasabschnitt unterschiedlicher Dicke und damit unter-
schiedlicher Brechkraft versehen ist.
Die Lichtauffangvorrichtung 18 in Fig. 6 beinhaltet eine Grundplatte 30, auf der vier Motorsätze 31 angeordnet sind, sowie Verstellschrauben 32, Mutterelemente 33 und Lichtauffangscheiben 34. Jede Schraube 32 ist über eine den Motoren 31 zugehörige Schraube an einem Motor 31 befestigt, um durch diesen dadurch drehend angetrieben zu werden. Jedes Mutterelement 33 ist mittels eines zugehörigen Mutterelements der Motoren 31 durch Drehung eines den Schrauben 32 zugeordneten Mutterelements in einer Richtung beweglich. Jede Lichtauffangscheibe 34 hat einen Schneidenabschnitt 34a und ist auf einem zugehörigen Mutterelement 33 befestigt Die Schneidenabschnitte 34a der vier Lichtauffangscheiben 34 wirken zusammen, um ein rechtwinkliges Fenster oder eine rechtwinklige Öffnung 35 zu definieren. Auf diese Art und Weise definiert die Ebene mit der Öffnung 35 die Lichtebene A der Lichtauffangvorrichtung 18, wie in Fig. 3 dargestellt·
Bei einer solcherart angeordneten Belichtungsvorrichtung wird der von der Lichtquelle 11 ausgesendete Lichtstrahl durch die optischen Elemente 12 bis 17 reflektiert und gebrochen; er beleuchtet die Lichtauffangvorrichtung i8 gleichförmig. Ein Teil des auf die Lichtauffangvorrichtung 18 einfallenden Lichtstrahls wird durch die vier Lichtauffangscheiben 34 aufgefangen; der durch die Öffnung 35 verlaufende Lichtstrahl beleuchtet die Maskenfläche B der Gitterscheibe 22, wie in Fig. 3 dargestellt. Da die Lichtauffangebene A der Lichtauffangvorrichtung 18 und die Maskenfläche B der Gitterscheibe 22 in optisch konjugierter Beziehung zueinander stehen, wird der Rand der rechteckigen Öffnung 35 der Lichtauffangvorrichtung 18 klar und scharf auf die Maskenfläche B projiziert oder abgebildet, wie durch die gestrichelte Linie in Fig. 5 dargestellt, so daß
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der Abschnitt der Gitterscheibe 22, der außerhalb des Schaltungsmusterabschnitts 22a angeordnet ist, vollständig gegen das Beleuchtungslicht abgeschirmt ist.
Wie vorstehend geschrieben, ist die Lichtauffangvorrichtung 18 zum Zwecke der Deckungsgleichheit bezüglich der Drehrichtung mit der Schaltungsmaske 22a der Gitterscheibe 22 in den Richtungen θ (Fig. 4) drehbar; sie ist ebenfalls in Richtung der optischen Achse (Fig. 3) beweglich, um die oben erwähnte optisch konjugierte Beziehung aufrechtzuerhalten, wenn die Gitterscheibe durch eine andere mit unterschiedlicher Dicke, d.h. mit unterschiedlicher Brechkraft, ersetzt wird. Weiterhin kann der Bereich und die Stellung der Öffnung 35 der Lichtauffangvorrichtung 18 in Orthogonalrichtung zur optischen Achse geändert werden, indem eine oder mehrere der Lichtauffangscheiben 34 bewegt werden. Die Bewegung jeder Lichtauffangscheibe 34 kann unabhängig erreicht werden, und zwar mittels einer Drehung eines zugeordneten Motors 31, der Drehung einer zugeordneten, mit der Welle des Motors 31 verbundenen Verstellschraube 32 und der in eine Richtung laufenden Bewegung eines zugeordneten Mutterelements 33, die als Reaktion auf ein Signal durchgeführt werden, das von einer elektro-
._ nischen Verarbeitungseinheit (nicht dargestellt) der Be-25
1ichtungsvorrichtung in Übereinstimmung mit der Größe der Gitterscheibe gesendet wird. Auf diese Art und Weise kann die Bewegung und die Einstellung der vier Lichtauffangscheiben 34 unabhängig doch simultan durchgeführt werden,
um die Beleuchtung der Gitterscheibe 22 zu gewährleisten, 30
wobei der Beleuchtungsabschnitt genau mit dem Schaltungsmusterabschnitt 22a der Gitterscheibe 22 übereinstimmt.
Erfindungsgemäß können Größe, Form und Stellung des Beleuchtungsabschnitts bzw. des Lichtauffangabschnitts der 35
Gitterscheibe innerhalb des Bereichs des tatsächlichen
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Beleuchtungsabschnitts der Beleuchtungsanlage aufgrund von von der elektronischen Verarbeitungseinheit ausgesendeten Signalen unbegrenzt eingestellt werden.
Außerdem kann, einem anderen Aspekt der Erfindung entsprechend, eine Gitterscheibe mit einem unregelmäßigen oder nicht rechtwinkligen Schaltungsmaskenabschnitt korrekt beleuchtet werden. Beispiele sind in den Fig. 7A und 7B dar-
_ gestellt. In Fig. 7A sind zwei Lichtauffangscheiben 34b mit rechtwinkligen Aussparungen anstelle zweier der vier Lichtauffangscheiben 34 in Gebrauch, um die Lichtauffangvorrichtung 18 zu bilden, wodurch eine Lichtdurchgangsöffnung 35b gebildet wird. Andererseits ist in Fig. 7B eine zusätzliche
Lichtauffangscheibe 34c in Anwendung, die gemeinsam mit den 15
vier Lichtauffangscheiben 34 eine ebenfalls mit 35b bezeichnete öffnung definiert. So können Schaltungsmaskenabschnitte verschiedener Formen korrekt beleuchtet werden.
Es ist leicht verständlich, daß die Erfindung in einer wei-
teren Ausführungsform eine wahlweise Belichtung einer Gitterscheibe mit einer Schaltungsmaske und einer Testmaske erlaubt. Genauer gesagt, die Schaltungsmaske kann wahlweise belichtet werden, während die Testmaske vom Belichtungslicht in der Weise wie vorher beschrieben abgeschirmt ist;
andererseits kann die Testmaske belichtet werden, während die Schaltungsmaske vom Belichtungslicht abgeschirmt ist.
Erfindungsgemäß ist, wie bisher beschrieben, ein Lichtauffangelement mit einer scharfen Schneide in einer Ebene
*
angeordnet, die optisch mit der Maskenfläche einer Gitterscheibe konjugiert, wodurch die Kante des Liehtauffangelements mittels einer Linseneinheit sehr scharf auf der Maskenfläche der Gitterscheibe abgebildet wird. Das führt dazu, daß der Abschnitt der Gitterscheibe, der außerhalb des
*
Maskenbereichs liegt, wirksam und vollständig gegen das
Beleuchtungslicht abgeschirmt wird.
Obwohl die Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnung anhand einiger bevorzugter Ausführungsbeispiele dargestellt und erläutert wurde, versteht es sich, daß sie dadurch nicht beschränkt werden soll. Dem Fachmann sind zahlreiche Abwandlungen, Weglassungen und Änderungen hinsichtlich der Form und der Einzelheiten der beschriebenen Ausführungsformen möglich, ohne den Rahmen der Erfindung zu verlassen. Der Schutzumfang soll daher nicht durch eine der möglicherweise zufälligen Einzelheiten der beschriebenen Ausführungsbeispiele begrenzt sein. Beispielsweise ist die Erfindung nicht auf eine Belichtungsvorrichtung des Verkleinerungsprojektionstyps beschränkt, sondern sie ist bei jeder Belichtungsvorrichtung vom Kontaktbelichtungstyp, vom Abstandsbelichtungstyp und vom Vergrößerungsprojektionsbelichtungstyp anwendbar.
Eine Belichtungsvorrichtung dient dazu, ein Substrat mit einer auf einer Gitterscheibe ausgebildeten Schaltungsmaske zu belichten. Die Belichtungsvorrichtung beinhaltet eine Gitterscheibenbühne zur Halterung der Gitterscheibe, eine Substratbühne zur Halterung des Substrats, eine optische Projektionsanlage zur Projektion der Abbildung der Schaltungsmaske auf das Substrat, eine Beleuchtungsanlage zur Ausleuchtung der Gitterscheibe, wobei die Beleuchtungsanlage eine Lichtquelle zur Erzeugung eines Beleuchtungslichtstrahls und optische Elemente zur Leitung des Beleuchtungslichtstrahls längs des Beleuchtungslichtwegs aufweist, 3U
und eine Blende, die im Beleuchtungslichtpfad an einer Stelle angeordnet ist, die, bezogen auf die optischen Elemente, mit einer Ebene optisch konjugiert, in der die Schaltungsmaske angeordnet ist, um einen Teil des Beleuchtungslichts so abzuschneiden, daß der Abschnitt der Gitterscheibe, der ;
nicht zur Maskenübertragung benutzt wird, gegen das Beleuch-
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tungslicht abgeschirmt ist, ohne daß irgendein Element in Berührung oder in der Nähe der Gitterscheibe angeordnet ist.
- Leerseite -

Claims (10)

  1. TeDTKE - BüHLING - KiNNE - GrüPE 5KKbK B* fc
    Pellmann - Grams * Struif Dii-chem'^Buwing
    Dipl.-Ing. R. Kinne Dipl.-Ing. R Grupe Dipl.-Ing. B. Pellmann Dipl.-Ing. K. Grams 3430752 Dipl.-Chem. Dr. B. Struif
    Bavariaring 4, Postfach 20 2< 8000 München 2
    Tel.: 089-53 96 Telex: 5-24 845 tipat Telecopier: 0 39-537377 cable: Germaniapatent Münc
    21. August 19S4 DE 4202
    Patentansprüche
    1 . Belichtungsvorrichtung zur Belichtung eines Aufnahmeelements mit einer auf einem Original ausgebildeten Maske, gekennzeichnet durch ein erstes Halteelement (3) zur Halterung des Originals (22), ein zweites Halteelement (6) zur Halterung des Aufnahmeelements (5), ein Beleuchtungselement mit einer Strahlungsenergiequelle (11) zur Bestrahlung des Originals (22) mit der Strahlungsenergie, wobei das Beleuchtungselement einen Beleuchtungspfad definiert, und ein Auffangelement (18), das in dem Beleuchtungspfad an einer Stelle angeordnet ist, die optisch mit einer Ebene konjugiert, in der auf dem Original (22) die Maske (22a) angeordnet ist, wobei das Auffangelement (18) einen Teil der vom Beleuchtungselement erzeugten Strahlungsenergie abschneidet.
  2. 2. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Auffangelement (18) eine Vielzahl Blendscheiben (34) aufweist, die in einer Richtung orthogonal zum Beleuchtungspfad beweglich sind.
    G/25
    Dresdner Bank (München) KIo. 3939 844 Bayer. Vereinsbank (München) Kto. 508 941 Postscheck (München) Kto. 670-43-804
  3. 3. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
    gekennzeichnet, daß jede Blendscheibe (34) mit einer Schneidenkante (34a) versehen ist.
  4. 4. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
    gekennzeichnet, daß zwei gegenüberliegende Scheiben der Blendscheiben (34b) jeweils mit einer rechteckförmigen Aussparung versehen sind.
  5. 5. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
    gekennzeichnet, daß die Blendscheiben (34) unabhängig voneinander beweglich sind.
  6. 6. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Auffangelement (18) in Rotationsrichtung entsprechend der Rotationsabweichung des Originals (22) einstellbar ist.
  7. 7. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch 20
    gekennzeichnet, daß das Auffangelement (18) in Richtung des Beleuchtungspfads entsprechend der Dicke des Originals (22) einstellbar ist.
  8. 8. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin ein optisches Projektionssystem aufweist, das dazu dient, die Abbildung der Maske (22a) des Originals (22) auf das Aufnahmeelement (5) zu projizieren.
  9. 9. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 8, dadurch
    gekennzeichnet, daß das optische Projektionssystem eine Verkleinerungsprojektionslinse (4) aufweist.
  10. 10. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch 3& ;
    gekennzeichnet, daß das Beleuchtungselement einen Kolli-
    mator (21) aufweist, der zwischen dem Original (22) und dem Auffangelement (18) angeordnet ist.
DE19843430752 1983-08-23 1984-08-21 Belichtungsvorrichtung Granted DE3430752A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

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