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DE3400012C2 - - Google Patents

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Publication number
DE3400012C2
DE3400012C2 DE3400012A DE3400012A DE3400012C2 DE 3400012 C2 DE3400012 C2 DE 3400012C2 DE 3400012 A DE3400012 A DE 3400012A DE 3400012 A DE3400012 A DE 3400012A DE 3400012 C2 DE3400012 C2 DE 3400012C2
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DE
Germany
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metal
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pin
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DE3400012A
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Anthony J. Cook Ill. Us Montalbano
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Stimsonite Corp
Original Assignee
Amerace Corp
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Publication date
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    • B44DECORATIVE ARTS
    • B44BMACHINES, APPARATUS OR TOOLS FOR ARTISTIC WORK, e.g. FOR SCULPTURING, GUILLOCHING, CARVING, BRANDING, INLAYING
    • B44B5/00Machines or apparatus for embossing decorations or marks, e.g. embossing coins
    • B44B5/02Dies; Accessories
    • B44B5/026Dies
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    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft einen Stift gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 ein Verfahren zu seiner Herstellung sowie ein Verfahren zum Herstellen von Galvanoformwerkzeugen, wie sie z. B. für die Herstellung von Rückstrahlfolien und anderen reflektierenden Strahlern eingesetzt werden.
Bei der Herstellung von Rückstrahlfolien werden sehr genaue Muster aus Tetraederelementen benötigt, die wesentlich kleiner sind als bei üblichen Pflastermarkierungen oder Kfz-Reflektoren. Für größere Reflektoren können die Glaskörper unmittelbar an einer Gruppe von Stiften geformt werden, oder es ist auch möglich, eine Gruppe von Stiften dazu zu verwenden, einen galvanoplastischen Formeinsatz herzustellen. Die mechanische Bearbeitung der Oberflächen der relativ großen Stifte ist einfach, so daß dazu gewöhnliche Werkzeuge und bekannte Ver­ fahren angewendet werden können. Üblicherweise wird dabei jeweils ein Stift dazu benützt, ein einzelnes Tetraeder oder ein sonstiges optisches Element zu bilden.
Die Forderung nach sehr kleinen präzisen Tetraedern für die Verwendung für Rückstrahlfolien (z. B. 0,15 mm Kanten­ länge) setzt voraus, daß mit sehr hoher Genauigkeit graviert wird. Bisher werden bei der Herstellung von Werkzeugen für Rückstrahlfolien relativ große Aluminiumblöcke graviert, die dann als Urmatrize dienen, welche vervielfacht wird. Die große Zahl von Rillen, die in das harte Stift­ material einzugravieren sind, hat zur Folge, daß das teuere Diamantschneidwerkzeug schnell abnutzt und ausgetauscht werden muß. Jedes Austauschen des Schneidelementes während des Gravurvorgangs kann gegenüber den bereits eingravier­ ten Linien oder Rillen zu einer Fehlausrichtung führen oder Anlaß zu Unregelmäßigkeiten in der Gestalt der Linien, in den Abmessungen, der Tiefe oder der ebenen Gestaltung der Oberflächen geben, die durch die Gravurlinien herge­ stellt werden. Es ist zwar möglich, eine Anordnung von Tetra­ ederelementen aus einem Block relativ weichen Materials zu schneiden, doch ist es nicht möglich, mit hoher Genauig­ keit unterschiedliche optische Muster in einem einzigen Block zu erzeugen. Versuche, Mehrformmuster unterschiedlicher Elemente herzustellen, führen dazu, daß Schwierigkeiten während der Galvanisierung auftreten, weil es schwierig ist, mehrere dünne Stifte zusammenzuhalten. Zwar treten bei sehr exakten Stahlstiften kaum Grate auf, die sich während des Galvanisierens in den Zwischenräumen zwischen den Stiften bilden, was besonders dann wichtig ist, wenn das auf diese Weise hergestellte Werkzeug für Prägevorgänge an Plastikfolien verwendet wird, die nur 0,08 mm dick sind; doch lassen sich derartige Stahlstifte wegen ihrer Härte nicht mehr wirtschaftlich gravieren.
Ein mehrere zusammengesetzte Stifte enthaltendes Formwerk­ zeug zur Herstellung von Tetraeder-Rückstrahlern ist aus der US-PS 34 17 959 bekannt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen für ein Werkzeug zum Herstellen von Gegenständen mit optisch kriti­ schen Mustern, insbesondere der erwähnten Rückstrahlfolien geeigneten Stift zu schaffen, der einerseits die erforderliche Festigkeit hat und andererseits das Eingravieren des Musters mit der erforderlichen Präzision erleichtert.
Diese Aufgabe wird durch die in den Ansprüchen 1 bzw. 10 gekennzeichnete Erfindung gelöst.
Die hier beschriebenen, aus zwei Metallen bestehenden, Stifte ermöglichen beträchtliche Variationen hinsichtlich des Musters, und zwar nicht nur bei Rückstrahlfolien und sonstigen optischen, z. B. linsenartigen Elementen, sondern es können auch nach Maß ge­ arbeitete Gestaltungen mit sich vielfach wiederholenden optischen Mustern oder Umrissen oder mit mehreren verschie­ denen Ausrichtungen der einzelnen Muster geschaffen werden, wie es auch möglich ist, Anordnungen mit Elementen unter­ schiedlicher Größe zusammenzustellen. Die Möglichkeit, eine ununterbrochene Anordnung in kleinere Elemente aufzuteilen, läßt es zu, daß Unregelmäßigkeiten im Muster, die derzeit bereits bei sehr kleinen Unregelmäßigkeiten während des Gravie­ rens bei großen, nicht unterbrochenen Mustern sichtbar werden, unterteilt werden und damit optisch verschwinden.
Mit der Erfindung werden die Schwierigkeiten beseitigt, die bei den bisher üblichen Stiften und ihrer Verwendung zur Herstellung galvanoplastischer Formeinsätze für die Fabrika­ tion von Rückstrahlfolien mit präzisen Tetraederelementen auftraten. Mit den hier beschriebenen Stiften können Werkzeuge zum Prägen und Gießformen auch anderer Glaskörperelemente von kleinen Abmessungen und mit verschiedensten Mustern ge­ schaffen werden, während die Probleme beim Gravieren klein gehalten werden. Die Stifte können mit verschieden gravier­ ten Mustern zu einem einzigen optischen Körper zusammenge­ setzt werden einschließlich solcher mit sich mehrfach wieder­ holenden optischen Mustern. Die Möglichkeit, relativ kleine Stifte zu verwenden, auf denen wiederum eine große Zahl von optischen Elementen an einem Ende eingraviert ist, und diese Stifte oder Reihen davon dann gegeneinander zu verdrehen oder zu versetzen, läßt es zu, Abweichungen von geraden Linien, die während des Gravierens auftreten, mehrfach zu unterbrechen. Solche ausgedehnten, jedoch unbedeutenden Fehler in den in großen Teilen gravierten Linien sind für einen Beobachter sehr deutlich zu erfassen, auch wenn die Abweichungen nur Bruch­ teile von Millimetern betragen. Verwendet man jedoch sehr kleine Stifte und verschiebt man diese ein wenig gegeneinander, so können derartige Abweichungen verdeckt werden, so daß der ästhetische Eindruck des fertigen Teils nicht leidet.
Für die Herstellung von Rückstrahlfolien haben die hier be­ schriebenen Metallstifte vorzugsweise einen viereckigen Querschnitt von etwa 4 mm Kantenlänge, wobei auf der Ober­ fläche jedes Stiftes 600 bis 1400 Tetraederelemente herausgraviert sind. Derartig kleine Tetraederelemente haben für die Herstellung von Rückstrahlern für Automobile den Vorteil, daß sie sowohl ein Profilieren als auch eine bestimm­ te Winkelausrichtung der Tetraederachsen bezüglich des Rück­ strahlkörperelementes ermöglichen, wobei nur geringe Stift­ verschiebung erforderlich ist und sehr dünne Rückstrahlfolien geschaffen werden können, was Materialeinsparung bedeutet und erweiterte äußere Gestaltungsmöglichkeiten zuläßt.
Die bimetallischen Stifte für die Herstellung von Werk­ zeugen zur Erzeugung von Rückstrahlfolien mit optischer Qualität können Tetraederelemente auf ihrer Stirnfläche tragen, deren Achsen gegenüber den Stiftachsen geneigt sind, wobei auf jeder Stirnfläche zwischen 600 bis 1400 Tetraederelemente angeordnet sind, und benachbarte Stift­ elemente können dann um jeweils 90° zueinander verdreht werden, was zu einer vielfältigen Orientierung und Verbes­ serung der Eintrittswinkelcharakteristik der Rückstrahlfolien führt.
An bevorzugten Ausführungsbeispielen wird die Erfindung näher erläutert. In der Zeichnung zeigt
Fig. 1 die Stirnfläche eines nach dem Prinzip der Erfindung hergestellten Metallstiftes;
Fig. 2 das Oberende des Metallstiftes nach Fig. 1 in vertikaler Schnitt­ darstellung; und
Fig. 3-11 eine diagrammartige Wiedergabe der Schrittfolge bei der Herstellung eines Metallstiftes gemäß der Er­ findung und der Zusammenstellung mehrerer derartiger Metallstifte, um daraus ein Werkzeug für die Her­ stellung einer galvanoplastischen Form zu bilden.
Die Zeichnung zeigt die verschiedenen Aspekte der Erfindung bei der Herstellung eines Metallstiftes, der das Grund­ element darstellt, mit dem ein Werkzeug gebildet wird, das zur Herstellung äußerst genauer galvanoplastischer For­ men dient, die als Formeinsätze bei der Produktion von opti­ schen Teilen verwendet werden, z. B. für Rückstrahlfolien.
Ein runder Stab 60 aus geeignetem Metall, etwa magneti­ sierbarem rostfreiem Stahl mit einem Härtewert von Rc 45-50 dient zur Herstellung eines Stiftrohlings und weist einen Durchmesser von 5,6-6,6 mm und eine Länge von 45 mm auf. Die Endabschnitte 62 und 64 (Fig. 3) können ab­ geschliffen sein, damit sichergestellt ist, daß sie zur Längs­ achse senkrecht stehen.
Die freiliegende Fläche 66, die dadurch entsteht, daß der Endabschnitt 62 entfernt worden ist, wird dann aufgerauht, wie bei 68 gezeigt, damit eine bessere Haftung gegenüber einem weicheren Material entsteht, das sehr genau graviert werden kann. Bevorzugtes Material dafür ist Kupfer, das re­ lativ einfach zu gravieren ist, jedoch während der anschließ­ enden Operationsgänge seine Festigkeit und Dauerhaftigkeit behält. Ein Kupferaufsatz 70 wird dann fest mit der End­ fläche 66 des Stabes 60 verbunden. Bei einer bevorzugten Konstruktion wird der Kupferaufsatz 70 durch Plattieren des Stabes 60 gebildet. Der Aufsatz 70 kann aber auch auf dem Stab 60 durch Vakuumablagerung hervorgerufen werden. Statt eines Aufbaus des Kupferaufsatzes 70 auf der Endflä­ che 66 des Stabes 60 kann der Aufsatz 70 mit den gewünsch­ ten Abmessungen auch unmittelbar durch Schweißen, Hartlö­ ten, Kaltschweißen oder dergleichen aufgebracht werden. Die Stärke des Kupferaufsatzes 70 beträgt vorzugsweise zwischen 0,75 und 2,5 mm, insbesondere etwa 1,3 mm. Der befestigte Kupferaufsatz 70 kann dann so beschliffen werden, daß der gesamte Metallstift 72 die genaue Länge von annähernd 37 bis 42 mm hat.
Weil man zylindrische Metallstifte 72 nicht zu Gruppen zusammenfassen kann, ohne daß zwischen benachbarten Stiften Lücken entstehen, müssen die zylindrischen Stifte 72 zu Polygonen geformt werden, die das lückenlose Aneinanderset­ zen der Stifte ermöglichen. Die Stifte erhalten deshalb ei­ nen Querschnitt in Form eines Rechtecks, eines Dreiecks, eines Quadrates oder eines Sechsecks, nachfolgend allgemein als regelmäßiges Polygon bezeichnet. Bei dem bevorzugten Ausführungsbeispiel werden die zylindrischen Metallstifte 72 maschinell bearbeitet und zu rechteckigen Metallstiften 74 (Fig. 3) von etwa 4,1 × 4,2 mm beschliffen. Die Stirnflä­ che 76 eines jeden Stiftes 74 wird vollkommen glatt und eben und die Kanten werden rechtwinklig gemacht, so daß mehrere Stifte 74 ohne Unterbrechung aneinandergesetzt werden können und zwischen benachbarten Stiften keine Lücke entsteht. Die Magnetisierbarkeit des unteren Endes der Stifte 74 ist insofern wichtig, als dieser Teil der Stifte dazu bei­ trägt, daß sie während der maschinellen Bearbeitung zu dem gewünschten Polygonquerschnitt gut gehalten werden können.
Eine Gruppe bearbeiteter Stifte 74, die andeutungsweise für eine größere Zahl derartiger Stifte steht, wird dann in eine einstellbare Halterung 82 (Fig. 4) eingesetzt, die auf einer Grundplatte 84 ruht. Die Halterung 82 besitzt zwei feste Wände 86, 87, die einen L-förmigen Raum 88 (Fig. 5) bilden, in den die Gruppe von Stiften 74 hineingeordnet wer­ den kann. Zwei weitere verstellbare Wände 90 und 96 schlie­ ßen den offenen Raum 88. Die Wand 90 läßt sich gegenüber den festen Wänden 86 und 87 mit Hilfe gewöhnlicher Füh­ rungsspindeln 94 verstellen. In gleicher Weise kann die Wand 96 gegenüber den festen Wänden 86 und 87 mit Hilfe von Führungsspindeln 98 verstellt werden. Durch das Anordnen der Stifte 74 gegen die Verbindungsstelle der beiden Schen­ kel der festen Wände 86 und 87 hin und Vorschieben oder Zurückziehen der einstellbaren Wände 90 und 96 können die zusammengeordneten Stifte 74 im wesentlichen frei von Spal­ ten oder Zwischenräumen zwischen den Stiften 74 selbst und zu den Wänden 86, 87, 90 und 96 hin zusammengespannt wer­ den. Nachdem die Stifte in der Halterung 82 festgespannt sind, wird die Halterung mit einem Epoxidharz oder einem aushärtbaren Polyester überdeckt, dessen Härte und maschi­ nelle Bearbeitbarkeit annähernd gleich den entsprechenden Eigenschaften der rechtwinkligen Kupferabschnitte 78 sind. Das Epoxid oder der aushärtbare Polyester (nachfolgend als Füller bezeichnet) kann aus einer Kanne 100 aufgegossen werden, und überschüssiges Material wird von den Endflächen der Kupferabschnitte 78, die über die Wände 86, 87, 90 und 96 überstehen, entfernt.
Wenn der Füller ausgehärtet ist, werden die Grundplatte 84 und die Halterung 82 gegenüber einer Graviervorrichtung aus­ gerichtet, die allgemein mit 102 bezeichnet ist. Mit dieser Graviervorrichtung 102 sollen in die freiliegenden Flächen 76 der Kupferabschnitte 78 eines jeden Stiftes 74 zahlreiche Rillen eingraviert werden. Sollen die Stifte zur Herstel­ lung von Tetraederreflektorelementen dienen, die nicht ge­ kippt sind, dann werden drei Guppen paralleler Rillen in die Flächen eingeschnitten, die jeweils um 120° zueinander gedreht verlaufen; es entstehen dann Tetraeder oder Pyrami­ den, die über die tiefsten Stellen der Rillen hervorstehen.
Die Schneid- oder Graviervorrichtung 102, die schematisch dargestellt ist, weist eine Motor- und Positioniervorrich­ tung 103 auf und eine Schiene 106, entlang der ein Diamant­ schneidwerkzeug 108 verfahren werden kann. Es ist auch mög­ lich, das Schneidwerkzeug 108 fest anzuordnen und die Halte­ rung 82 mit den Stiften 74 gegenüber dem Schneidwerkzeug 108 zu verfahren. Die Graviervorrichtung 102 ist in Fig. 5 mit der Achse 32 der Grundplatte 84 ausgerichtet dargestellt. Eine Nut 31 wird dann in die Stirnflächen 76 der Aufsätze 70 eingraviert, deren Tiefe und Form durch die Form des Schneidwerkzeugs 108 und die Tiefe bestimmt werden, auf die das Werkzeug eingestellt ist. Fig. 5a zeigt die Stirn­ fläche eines einzigen Stiftes 74 in starker Vergrößerung, in die eine Reihe von Nuten 31 eingraviert worden ist. Um hohe Genauigkeit zu erzielen, können die Nuten in wieder­ holten Arbeitsgängen geschnitten werden, wobei zur Vertie­ fung der einzelnen Nuten bei jedem Durchgang etwas Material weggenommen wird. Jede Nut 31 kann eine Tiefe von 0,075 bis 0,165 mm haben. Die Seiten des Schneid­ werkzeugs 108, das an den Nutwänden entlang fährt, gibt diesen eine Spiegeloberfläche. Ein Schneidwerkzeug 108 mit dreiecksförmigem Schneidbereich erzeugt z. B. Nutwände 42 (Fig. 2), die schräg geneigt sind; und die drei Nuten oder Rillen bilden zusammen Muster 40 in Form von Dreikant- oder Tetraederelementen mit drei zueinander im wesentlichen senkrecht stehenden Flä­ chen, die nach bekannten optischen Prinzipien Reflexion des Lichts hervorrufen. Nach Fertigstellung jeder einzelnen Nut 31 wird das Schneidwerkzeug 108 in die nächste Schneid- oder Gravierstellung umgesetzt, die parallel zur vorherigen Nut 31 verläuft. Der Abstand zweier Nuten hängt dabei mit der Höhe der zu erzeugenden Tetraeder zusammen.
Wenn sämtliche Nuten 31 einer ersten Serie geschnitten sind, wird sämtliches noch verbliebenes Epoxid bzw. Poly­ ester entfernt, und es wird ein neuer Epoxid- oder aushärt­ barer Polyesterfüller aufgebracht, der auch in die erste Gruppe von Nuten eindringt. Hierdurch wird es möglich, die zweite Gruppe von Nuten so zu schneiden, als wäre die erste Gruppe von Nuten 31 nicht vorhanden. Eine zweite Gruppe von Nuten 37 (Fig. 6) wird dann in Richtung einer Achse 38 geschnitten, die zur Achse 31 um 120° gedreht ist. Im Anschluß daran wird wiederum der Füller entfernt und ein neuer Füller aufgebracht. In Richtung der Achse 35 wird, nachdem das Schneidwerkzeug 108 oder die Halterung 82 erneut um 120° gedreht worden sind, eine dritte Gruppe von Nuten 34 (Fig. 7) eingraviert. Sind dann sämtliche drei Gruppen von Nuten 31, 34 und 37 eingeschnitten, wird von der Halterung 82 der noch verbliebene Füller entfernt.
Nach Belieben können Form und Winkel des Schneidwerkzeugs so gewählt werden, daß die Dreikantelemente gekippt sind. Angenommen, die Achse des Dreikantelementes ist so gewählt, daß sie zu den drei Flächen als Trisektor verläuft, dann ist diese Achse gegenüber der Längsachse des Stiftes 74 um einen bestimmten Winkel geneigt. Wenn die Stifte mit derart geneigten Achsen der Dreikantelemente hergestellt werden, können mit dem fertigen Werkzeug Teile geformt oder geprägt werden, die besondere Eintritts- oder Rich­ tungswinkelcharakteristiken haben. Mit mehreren derartigen geneigten Stiften und auch mit unterschiedlichen Stiften, die nicht geneigt sind oder sonstige andere Gestaltungen aufweisen, lassen sich dann wiederkehrende optische Muster zusammenstellen, die besondere Richtungs- und Eintrittswin­ kelcharakteristiken haben. Die Anordnung von quadratischen Stiften mit einzelnen Tetraederelementen auf ihren Enden, um damit besondere Winkelorientierungscharakteristiken zu erzielen, ist bekannt. Der Vorteil jedoch bei der Verwen­ dung von vielen relativ kleinen Stiften gemäß der Erfin­ dung mit sehr vielen kleinen Dreikantkörpern auf jedem Stift ist der, daß bei der kleinen Zahl vorhersehbarer Sichtab­ stände, bei der Reflektorfolien oder dergleichen verwendet werden, wie z. B. ca. 13 m vor einem Autofahrer, der Ein­ fallswinkel nur etwa 1 min beträgt. Bei solch einer Distanz sind deshalb alle sonst erkennbaren Unterschiede zwischen den einzelnen Stiften für den Beobachter praktisch nicht sichtbar, und die Reflektorfolie erscheint dann vollkommen gleichmäßig und hat ein gleichmäßig leuchtendes Erschei­ nungsbild. Nach Belieben können Stifte benachbarter Reihen auch zueinander versetzt angeordnet sein, um ein gleich­ mäßiges Muster zu erzeugen oder eine ausgedehnte Fehlstelle oder Abweichung, die beim Gravieren entstanden ist, aufzu­ heben oder zu zerlegen, auch wenn derartige Abweichungen relativ klein in ihren Abmessungen sind.
Eine Gruppe von Stiften 74 mit den gewünschten optischen Flächen wird dann in eine Galvanoformhalterung 110 (Fig. 8 bis 10) in einem bestimmten Muster oder mit den gewünsch­ ten Umrissen eingesetzt. Eine einzige, einteilige Wand 114 wird auf eine Grundplatte 112 aufgesetzt, um die Stifte 74 zusammenzuhalten. Zwischenräume zwischen den Stiften 74 und der Wand 114 werden dann mit einem leitfähigen Material ausgefüllt, etwa mit Lot oder Silberdraht und dergleichen. Dieses leitfähige Material sollte zugleich zwischen den Stiften 74 und der Wand 114 gut abdichten und wenigstens in solchem Maße leitfähig wie die Stifte 74 sein, aber auch voll­ ständig entfernt werden können, so daß die Stifte 74 wieder­ verwendbar sind. Über die Halterung 110 wird dann eine Ab­ deckung 116 gesetzt, so daß nur die Tetraeder- oder Dreikant­ erhebungen der Muster 40 über die Abdeckung 116 hervorstehen. Die ge­ samte Anordnung der Halterung 110, der Abdeckung 116 und der Stifte 74 wird dann in einen Galvanisiertank 118 ein­ gesetzt, in dem auf galvanoplastischem Wege von den als Ma­ trize dienenden Stiften 74 in bekannter Weise ein Negativ abgenommen wird. Bei Bedarf können Abschirmungen verwendet werden, um Teile der Halterung oder Abdeckung zu schützen oder die Galvanisierungsstärke bezüglich einzelner Teile der Stifte zu steuern.

Claims (16)

1. Metallischer Stift für ein Werkzeug zum Herstellen von Gegenständen mit optischer Qualität, insbesondere für ein Galvanoformwerkzeug, mit einem ersten Abschnitt aus einem Metall hoher Festigkeit, und mit einem optischen Muster in einem der Stiftenden, dadurch gekennzeichnet, daß am einen Ende des ersten Abschnitts ein zweiter Abschnitt (78) aus einem leicht bearbeitbaren Metall von geringerer Festigkeit als der des ersten Abschnitts fest angebracht ist, in dessen Ende das optische Muster (40) eingraviert ist.
2. Stift nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch polygonalen Querschnitt.
3. Stift nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge­ kennzeichnet, daß der erste Metallabschnitt aus rostfreiem Stahl besteht.
4. Stift nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch ge­ kennzeichnet, daß der zweite Metallabschnitt (78) aus Kupfer besteht.
5. Stift nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Metallabschnitt aus magnetischem oder magnetisierbarem Edelstahl besteht.
6. Stift nach Anspruch 5, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der zweite Metallabschnitt (78) durch Plattierung oder Galvanisierung auf den ersten Metallabschnitt aufgebracht ist.
7. Stift nach Anspruch 2, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Polygon regelmäßig ist.
8. Stift nach Anspruch 7, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Polygonkantenlänge höchstens 4,3 mm beträgt.
9. Stift nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Muster (40) aus einer Anordnung von 600 bis 1400 eingravierten Tetra­ ederelementen besteht.
10. Verfahren zur Herstellung eines bimetallischen Stiftes nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß zunächst ein Stiftrohling aus dem Metall hoher Festigkeit hergestellt wird und daß dann mit einem der beiden Enden dieses Rohlings ein Aufsatz aus dem zweiten Metall durch Plattieren, Galvanisieren, Schweißen, Hartlöten oder Vakuum­ ablagerung verbunden wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekenn­ zeichnet, daß ein Abschnitt am Ende des Stiftrohlings vor der Verbindung mit dem Aufsatz entfernt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Stiftrohling und der Aufsatz zunächst Kreisquerschnitt haben und beide auf einen Polygonalquerschnitt bearbeitet werden.
13. Verfahren zum Herstellen eines Galvanoformwerkzeugs unter Verwendung von metallischen Stiften nach einem der Ansprüche 1-9, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Metallstifte mit regelmäßigem Polygonquerschnitt in eine Halterung eingesetzt werden, ohne daß Lücken zwischen benachbarten Stiften oder zwischen den Stiften und der Halterung entstehen; und daß dann das optische Muster eingraviert wird.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß in benach­ barten Bimetallstiften unterschiedliche optische Muster aus­ gebildet werden.
15. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß benach­ barte Stifte gegeneinander verdreht angeordnet werden.
16. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß benach­ barte Stifte gegeneinander in Form einer gestaffelten Stift­ anordnung versetzt werden.
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GB (1) GB2133325B (de)

Families Citing this family (81)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4478769A (en) * 1982-09-30 1984-10-23 Amerace Corporation Method for forming an embossing tool with an optically precise pattern
US4938563A (en) * 1986-11-21 1990-07-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company High efficiency cube corner retroflective material
US20030170426A1 (en) * 1995-12-01 2003-09-11 W. Scott Thielman Cellular retroreflective sheeting
US6015214A (en) 1996-05-30 2000-01-18 Stimsonite Corporation Retroreflective articles having microcubes, and tools and methods for forming microcubes
US6036322A (en) * 1997-12-01 2000-03-14 Reflexite Corporation Multi-orientation retroreflective structure
US6375776B1 (en) 2000-01-24 2002-04-23 Avery Dennison Corporation Method for forming multi-layer laminates with microstructures
US20020149107A1 (en) * 2001-02-02 2002-10-17 Avery Dennison Corporation Method of making a flexible substrate containing self-assembling microstructures
US6856086B2 (en) * 2001-06-25 2005-02-15 Avery Dennison Corporation Hybrid display device
US6727970B2 (en) 2001-06-25 2004-04-27 Avery Dennison Corporation Method of making a hybrid display device having a rigid substrate and a flexible substrate
US20030206256A1 (en) * 2002-05-06 2003-11-06 Drain Kieran F. Display device with backlight
US6811815B2 (en) 2002-06-14 2004-11-02 Avery Dennison Corporation Method for roll-to-roll deposition of optically transparent and high conductivity metallic thin films
US6902280B2 (en) * 2002-12-17 2005-06-07 Avery Dennison Corporation Tri-level cube corner ruling
DE10354203A1 (de) * 2003-11-20 2005-06-23 Siteco Beleuchtungstechnik Gmbh Verfahren zum Herstellen eines Formwerkzeugs für die Herstellung eines optischen Bauteils
US8465639B2 (en) * 2008-04-09 2013-06-18 Orafol Americas Inc. Pin based method of precision diamond turning to make prismatic mold and sheeting
US11792538B2 (en) 2008-05-20 2023-10-17 Adeia Imaging Llc Capturing and processing of images including occlusions focused on an image sensor by a lens stack array
US8866920B2 (en) 2008-05-20 2014-10-21 Pelican Imaging Corporation Capturing and processing of images using monolithic camera array with heterogeneous imagers
CN102037717B (zh) 2008-05-20 2013-11-06 派力肯成像公司 使用具有异构成像器的单片相机阵列的图像拍摄和图像处理
WO2011063347A2 (en) 2009-11-20 2011-05-26 Pelican Imaging Corporation Capturing and processing of images using monolithic camera array with heterogeneous imagers
JP2013522681A (ja) * 2010-03-17 2013-06-13 ペリカン イメージング コーポレーション 結像レンズアレイのマスタを作製する方法
EP2569935B1 (de) 2010-05-12 2016-12-28 Pelican Imaging Corporation Architekturen für bildgebungsarrays und array-kameras
US8878950B2 (en) 2010-12-14 2014-11-04 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for synthesizing high resolution images using super-resolution processes
JP2014519741A (ja) 2011-05-11 2014-08-14 ペリカン イメージング コーポレイション アレイカメラ画像データを伝送および受信するためのシステムおよび方法
US20130265459A1 (en) 2011-06-28 2013-10-10 Pelican Imaging Corporation Optical arrangements for use with an array camera
JP2014521117A (ja) 2011-06-28 2014-08-25 ペリカン イメージング コーポレイション アレイカメラで使用するための光学配列
WO2013043751A1 (en) 2011-09-19 2013-03-28 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for controlling aliasing in images captured by an array camera for use in super resolution processing using pixel apertures
EP2761534B1 (de) 2011-09-28 2020-11-18 FotoNation Limited Systeme zur kodierung von lichtfeldbilddateien
WO2013126578A1 (en) 2012-02-21 2013-08-29 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for the manipulation of captured light field image data
US9210392B2 (en) 2012-05-01 2015-12-08 Pelican Imaging Coporation Camera modules patterned with pi filter groups
WO2014005123A1 (en) 2012-06-28 2014-01-03 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for detecting defective camera arrays, optic arrays, and sensors
US20140002674A1 (en) 2012-06-30 2014-01-02 Pelican Imaging Corporation Systems and Methods for Manufacturing Camera Modules Using Active Alignment of Lens Stack Arrays and Sensors
EP4567495A3 (de) 2012-08-21 2025-09-10 Adeia Imaging LLC Procédé pour détection de profondeur dans des images capturées à l'aide de caméras en réseau
EP2888698A4 (de) 2012-08-23 2016-06-29 Pelican Imaging Corp Eigenschaftsbasierte hochauflösende bewegungsschätzung aus mit einer arrayquelle aufgenommenen niedrigauflösenden bildern
US9214013B2 (en) 2012-09-14 2015-12-15 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for correcting user identified artifacts in light field images
WO2014052974A2 (en) 2012-09-28 2014-04-03 Pelican Imaging Corporation Generating images from light fields utilizing virtual viewpoints
WO2014078443A1 (en) 2012-11-13 2014-05-22 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for array camera focal plane control
US9462164B2 (en) 2013-02-21 2016-10-04 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for generating compressed light field representation data using captured light fields, array geometry, and parallax information
US9374512B2 (en) 2013-02-24 2016-06-21 Pelican Imaging Corporation Thin form factor computational array cameras and modular array cameras
US9638883B1 (en) 2013-03-04 2017-05-02 Fotonation Cayman Limited Passive alignment of array camera modules constructed from lens stack arrays and sensors based upon alignment information obtained during manufacture of array camera modules using an active alignment process
US9917998B2 (en) 2013-03-08 2018-03-13 Fotonation Cayman Limited Systems and methods for measuring scene information while capturing images using array cameras
US8866912B2 (en) 2013-03-10 2014-10-21 Pelican Imaging Corporation System and methods for calibration of an array camera using a single captured image
US9521416B1 (en) 2013-03-11 2016-12-13 Kip Peli P1 Lp Systems and methods for image data compression
WO2014164550A2 (en) 2013-03-13 2014-10-09 Pelican Imaging Corporation System and methods for calibration of an array camera
US9106784B2 (en) 2013-03-13 2015-08-11 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for controlling aliasing in images captured by an array camera for use in super-resolution processing
US9519972B2 (en) 2013-03-13 2016-12-13 Kip Peli P1 Lp Systems and methods for synthesizing images from image data captured by an array camera using restricted depth of field depth maps in which depth estimation precision varies
US9888194B2 (en) 2013-03-13 2018-02-06 Fotonation Cayman Limited Array camera architecture implementing quantum film image sensors
US9578259B2 (en) 2013-03-14 2017-02-21 Fotonation Cayman Limited Systems and methods for reducing motion blur in images or video in ultra low light with array cameras
US9100586B2 (en) 2013-03-14 2015-08-04 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for photometric normalization in array cameras
US9497429B2 (en) 2013-03-15 2016-11-15 Pelican Imaging Corporation Extended color processing on pelican array cameras
US9497370B2 (en) 2013-03-15 2016-11-15 Pelican Imaging Corporation Array camera architecture implementing quantum dot color filters
US10122993B2 (en) 2013-03-15 2018-11-06 Fotonation Limited Autofocus system for a conventional camera that uses depth information from an array camera
US9445003B1 (en) 2013-03-15 2016-09-13 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for synthesizing high resolution images using image deconvolution based on motion and depth information
WO2014145856A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for stereo imaging with camera arrays
US9633442B2 (en) 2013-03-15 2017-04-25 Fotonation Cayman Limited Array cameras including an array camera module augmented with a separate camera
US9898856B2 (en) 2013-09-27 2018-02-20 Fotonation Cayman Limited Systems and methods for depth-assisted perspective distortion correction
US9185276B2 (en) 2013-11-07 2015-11-10 Pelican Imaging Corporation Methods of manufacturing array camera modules incorporating independently aligned lens stacks
WO2015074078A1 (en) 2013-11-18 2015-05-21 Pelican Imaging Corporation Estimating depth from projected texture using camera arrays
WO2015081279A1 (en) 2013-11-26 2015-06-04 Pelican Imaging Corporation Array camera configurations incorporating multiple constituent array cameras
WO2015134996A1 (en) 2014-03-07 2015-09-11 Pelican Imaging Corporation System and methods for depth regularization and semiautomatic interactive matting using rgb-d images
US9247117B2 (en) 2014-04-07 2016-01-26 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for correcting for warpage of a sensor array in an array camera module by introducing warpage into a focal plane of a lens stack array
US9521319B2 (en) 2014-06-18 2016-12-13 Pelican Imaging Corporation Array cameras and array camera modules including spectral filters disposed outside of a constituent image sensor
CN107077743B (zh) 2014-09-29 2021-03-23 快图有限公司 用于阵列相机的动态校准的系统和方法
US9942474B2 (en) 2015-04-17 2018-04-10 Fotonation Cayman Limited Systems and methods for performing high speed video capture and depth estimation using array cameras
US10482618B2 (en) 2017-08-21 2019-11-19 Fotonation Limited Systems and methods for hybrid depth regularization
KR102646521B1 (ko) 2019-09-17 2024-03-21 인트린식 이노베이션 엘엘씨 편광 큐를 이용한 표면 모델링 시스템 및 방법
CN114746717A (zh) 2019-10-07 2022-07-12 波士顿偏振测定公司 利用偏振进行表面法线感测的系统和方法
US11302012B2 (en) 2019-11-30 2022-04-12 Boston Polarimetrics, Inc. Systems and methods for transparent object segmentation using polarization cues
KR20220132620A (ko) 2020-01-29 2022-09-30 인트린식 이노베이션 엘엘씨 물체 포즈 검출 및 측정 시스템들을 특성화하기 위한 시스템들 및 방법들
JP7542070B2 (ja) 2020-01-30 2024-08-29 イントリンジック イノベーション エルエルシー 偏光画像を含む異なる撮像モダリティで統計モデルを訓練するためのデータを合成するためのシステムおよび方法
US11953700B2 (en) 2020-05-27 2024-04-09 Intrinsic Innovation Llc Multi-aperture polarization optical systems using beam splitters
WO2022097458A1 (ja) * 2020-11-03 2022-05-12 ナルックス株式会社 成形型、成形型の板部材及び成形型の製造方法
US12020455B2 (en) 2021-03-10 2024-06-25 Intrinsic Innovation Llc Systems and methods for high dynamic range image reconstruction
US12069227B2 (en) 2021-03-10 2024-08-20 Intrinsic Innovation Llc Multi-modal and multi-spectral stereo camera arrays
US11954886B2 (en) 2021-04-15 2024-04-09 Intrinsic Innovation Llc Systems and methods for six-degree of freedom pose estimation of deformable objects
US11290658B1 (en) 2021-04-15 2022-03-29 Boston Polarimetrics, Inc. Systems and methods for camera exposure control
US12067746B2 (en) 2021-05-07 2024-08-20 Intrinsic Innovation Llc Systems and methods for using computer vision to pick up small objects
US12175741B2 (en) 2021-06-22 2024-12-24 Intrinsic Innovation Llc Systems and methods for a vision guided end effector
US12340538B2 (en) 2021-06-25 2025-06-24 Intrinsic Innovation Llc Systems and methods for generating and using visual datasets for training computer vision models
US12172310B2 (en) 2021-06-29 2024-12-24 Intrinsic Innovation Llc Systems and methods for picking objects using 3-D geometry and segmentation
US11689813B2 (en) 2021-07-01 2023-06-27 Intrinsic Innovation Llc Systems and methods for high dynamic range imaging using crossed polarizers
US12293535B2 (en) 2021-08-03 2025-05-06 Intrinsic Innovation Llc Systems and methods for training pose estimators in computer vision
CN114653876B (zh) * 2022-03-02 2024-11-26 南阳永光科技有限公司 一种球模基体制作工艺

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3417959A (en) * 1966-11-14 1968-12-24 Minnesota Mining & Mfg Die for forming retro-reflective article
US3926402A (en) * 1973-04-24 1975-12-16 Amerace Corp Pin having nonaligned cube axis and pin axis and bundle of such pins
US3957616A (en) * 1973-09-24 1976-05-18 General Motors Corporation Reflex reflector
US4073568A (en) * 1975-11-26 1978-02-14 Ferro Corporation Retroreflector units with three mutually perpendicular surfaces defining a trihedral angle of a rectangular parallelepiped

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0378211B2 (de) 1991-12-13
DE8400009U1 (de) 1984-05-24
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GB2133325A (en) 1984-07-25
US4460449A (en) 1984-07-17
GB2133325B (en) 1986-01-15
DE3400012A1 (de) 1984-07-26
JPS59192201A (ja) 1984-10-31

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