DE3102015C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3102015C2 DE3102015C2 DE3102015A DE3102015A DE3102015C2 DE 3102015 C2 DE3102015 C2 DE 3102015C2 DE 3102015 A DE3102015 A DE 3102015A DE 3102015 A DE3102015 A DE 3102015A DE 3102015 C2 DE3102015 C2 DE 3102015C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- coating
- weight
- copper powder
- anthracene
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 59
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 59
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 21
- RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N anthranilic acid Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(O)=O RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 16
- 239000012799 electrically-conductive coating Substances 0.000 claims description 13
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 11
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 10
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 10
- NXYLTUWDTBZQGX-UHFFFAOYSA-N ctk8h6630 Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(N=C4C=CC=5C(C4=N4)=CC6=CC=CC=C6C=5)=C4C=CC3=CC2=C1 NXYLTUWDTBZQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 5
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011872 intimate mixture Substances 0.000 claims 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- CCFAKBRKTKVJPO-UHFFFAOYSA-N 1-anthroic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C(=O)O)=CC=CC3=CC2=C1 CCFAKBRKTKVJPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CUHDKWXSCRPNQZ-UHFFFAOYSA-L [Cu++].[O-]C(=O)c1cccc2cc3ccccc3cc12.[O-]C(=O)c1cccc2cc3ccccc3cc12 Chemical compound [Cu++].[O-]C(=O)c1cccc2cc3ccccc3cc12.[O-]C(=O)c1cccc2cc3ccccc3cc12 CUHDKWXSCRPNQZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- LZGCHNNAWUTUOV-UHFFFAOYSA-N anthracene copper Chemical compound [Cu].C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12 LZGCHNNAWUTUOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
- H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/24—Electrically-conducting paints
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
- H05K1/095—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks for polymer thick films, i.e. having a permanent organic polymeric binder
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein elektrisch leitendes Beschichtungsmaterial
gemäß dem Anspruch 1, die
Verwendung eines solchen Beschichtungsmaterials
zur Herstellung von Leiterbahnen auf einer Leiterplatte,
sowie ein Verfahren zur Herstellung von Leiterbahnen auf
einer Leiterplatte.
Bisher hat es den elektrolytischen Kupferbelag und
die Silberbeschichtung gegeben, die normal als ein Leiter
für elektrischen Strom oder elektronische Schaltkreise benutzt
werden. Der elektrolytische Kupferbelag wird weitgehend
als etwas benutzt, das haftend mit der Phenolharzschichtplatte
oder der Epoxyharzschichtplatte verbunden ist,
um über dieser eine Verkupferung zu bilden. Um eine solche
verkupferte Harzschichtplatte als eine elektrische Schaltung
verwenden zu können, ist es zunächst notwendig, den Schaltungsteil
mit der Antioxidationstusche zu schützen und dann
die Platte mit Eisenchlorid zu ätzen. Der Kupferbelag wird
dann außer an den geschützten Schaltungsteilen zersetzt und
die Antioxidationstusche wird entfernt, um die Schaltung
freizulegen.
Die Ätzmethode erfordert jedoch eine große Kupfermenge,
da der Kupferbelag zunächst auf der gesamten Oberfläche
der Harzschichtplatte (1 m×1 m) gebunden werden muß,
und die Fertigung der Schaltung erfordert viele Verfahrensschritte
und ist zeitaufwendig aufgrund des Aufbringens der
Antioxidationstusche an den Schaltungsteilen, des Zersetzens
des Kupferbelags außer an den Schaltungsteilen und des Entfernens
der Antioxidationstusche. Demzufolge wird eine solche
Fertigung einer gedruckten Schaltung kostspielig.
Was das Verfahren betrifft, eine gesinterte Schaltung
durch Verwendung einer elektrisch leitfähigen Beschichtung
wie einer Silber- oder Palladiumbeschichtung, usw., aufzubauen,
so ist ein solches Verfahren wegen der hohen Preise dieser
Metalle sehr teuer, und es ist aus Kostengründen fast nicht
möglich, ein solches Material für gewöhnliche elektronische
Geräte zu verwenden.
Es kann in Erwägung gezogen werden, eine elektrisch
leitende Beschichtung wie eine Mischung eines Kupferpulvers
und Kunstharzes einzusetzen, um die oben erwähnten Probleme
im Stand der Technik zu lösen. Gemäß diesem Verfahren ist
eine Erwärmung notwendig, um die aufgebrachte Beschichtung zu
festigen. Das Kupferpulver in der Beschichtung wird allerdings
durch die Erwärmung oxidiert und es erzeugt einen hohen Widerstand
gegen den elektrischen Strom. Gleichzeitig wird die Wirkung
der Lötung beeinträchtigt. Das genannte Verfahren ist in
der japanischen Patentveröffentlichung 51-93 394 beschrieben,
es hat wegen der aufgeführten Nachteile aber niemals Eingang
in die Praxis gefunden.
Die DE-OS 26 14 840.3 beschreibt eine elektrisch
leitende Harzmasse und ein Verfahren zu ihrer Herstellung.
Als Harz wird ein Phenolharz eingesetzt, das als seine eine
Komponente Formaldehyd enthält. Die Harzmasse enthält weiterhin
teilchenförmiges, mit Oxid beschichtetes Kupfer. Beim
thermischen Härten des Harzes wird der Oxidfilm durch freiwerdenden
Formaldehyd reduziert oder komplexiert.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein elektrisch
leitendes Beschichtungsmaterial bereitzustellen, das bei
niedrigen Gestehungskosten eine wesentlich verbesserte elektrische
Leitfähigkeit besitzt. Ein weiteres Ziel der vorliegenden
Erfindung ist die kostengünstige Fertigung von
Leiterplatten mit diesem Beschichtungsmaterial.
Die gestellte Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch
ein elektrisch leitendes Beschichtungsmateril gemäß Anspruch 1,
durch die Verwendung dieses Materials gemäß Anspruch 3,
sowie durch ein Verfahren gemäß Anspruch 4. Eine Weiterbildung
des Beschichtungsmaterials ist in einem Unteranspruch
beschrieben.
Das elektrisch leitende Beschichtungsmaterial enthält
nach der Erfindung neben vorbestimmten Mengen von Kupferpulver
und Kunstharzen eine vorbestimmte Menge zumindest eines Beimittels,
ausgewählt aus der Gruppe Anthracen oder
einem Anthracenbildner, Anthranilsäure und Anthrazin.
Aufgrund dieses Beimittels werden Oxidationsschichten um die
Kupferpulverteilchen abgebaut, um einen metallischen Kontakt
und damit geringen elektrischen Widerstand zu gewährleisten.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand beigefügter
Tabellen und Diagramme näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine Gegenüberstellung von Beschichtungsmaterialien gemäß
der Erfindung und anderen untersuchten Beschichtungsmaterialien;
Fig. 2 in Diagrammform die Anzeige der elektrischen Widerstandswerte
der in Fig. 1 aufgelisteten Beschichtungsmaterialien;
Fig. 3 eine Draufsicht eines Musters einer Leiterbahn zur Ermittlung
der Ergebnisse von Fig. 2;
Fig. 4 ein Diagramm zur Darstellung der weitgehenden Feuchtigkeitsunempfindlichkeit
des in Fig. 1 zuerst aufgeführten
Beschichtungsmaterials gemäß der Erfindung (Muster
Nr. 7);
Fig. 5 eine Draufsicht eines Musters zur Ermittlung der Testergebnisse
von Fig. 4;
Fig. 6 ein Diagramm zur Darstellung der Veränderung des elektrischen
Widerstands über die Temperatur bei dem in Fig. 1
zuerst aufgeführten Beschichtungsmaterial gemäß der
Erfindung (Muster Nr. 7); und
Fig. 7 ein Diagramm zur Darstellung des Zusammenhangs zwischen
der Menge des Beimittels und dem elektrischen Widerstand
bei dem erfindungsgemäßen Beschichtungsmaterial.
Damit die elektrisch leitende Beschichtung, wie sie
bei Leiterplatten Verwendung findet, für die Praxis tauglich
ist, ist es erforderlich, daß der durch die Beschichtung gebildete
Film einen elektrischen Widerstand von etwa 1×10-³ Ω cm
aufweist und eine weitgehende Unempfindlichkeit gegen
Feuchtigkeitseinflüsse besitzt, d. h. eine Eigenschaft minimaler
Zerstörung im Laufe der Zeit in einer Atmosphäre hoher Feuchtigkeit.
Außerdem wird eine Temperatureigenschaft gefordert,
die sich mit der einer üblichen elektrisch leitenden Silberbeschichtung
bezüglich Beständigkeit gegen Temperaturen sowohl niedriger als
auch höher der Normaltemperatur 20°C messen kann.
Wird einfach mit Phenolharz vermischtes Kupferpulver
aufgetragen, erhitzt und getrocknet, so wird das Kupferpulver
aufgrund der Erhitzung oxidiert und es erreicht einen elektrischen
Widerstand von 1×10³ Ω cm oder mehr.
Die elektrische Leitfähigkeit einer elektrisch leitenden
Beschichtung wird im allgemeinen durch einen Leitungsweg
über die Anlageflächen zwischen den in der Beschichtung enthaltenen
Metallpulverkörnern bestimmt. Da allerdings die Metallpulverkörner
immer an den Außenflächen von oxidierten Substanzen
bedeckt sind, die einen extrem hohen elektrischen Widerstand
der Beschichtung bewirken, eignet sich, wie allgemein
bekannt, solch eine Beschichtung nicht für den praktischen
Einsatz. Silber verhält sich etwas anders, da ein so edles
Metall nicht wesentlich von den oxidierten Substanzen begleitet
ist und damit keinen Anlaß zur Steigerung des elektrischen
Widerstands gibt. Die anderen Metalle wie Kupferpulver
oder Pulver anderer nach der Erfindung verwendbarer unedler
Metalle erzeugen, wie gut bekannt, sofort bei Berührung mit
der Luft einen Film oxidierter Substanzen an den Außenflächen
der Pulverkörner. Es ist deshalb dringlich, den elektrischen
Widerstand an den Kontaktflächen zwischen den Kupferpulverkörnern
der elektrisch leitenden Beschichtung zu vermindern.
Insbesondere ist es notwendig, die oxidierten Substanzen im
Laufe der Erzeugung des elektrisch leitenden Films abzubauen,
um so den Leitungsweg über die Anlagefläche der Metallatome
zu bilden. Zur Erreichung dieses Ziels ist es notwendig, die
oxidierten Substanzen auf den Kupferpulverkörnern auf irgend
welche Weise zu beseitigen. Weiterhin wird es notwendig, daß
nach dem Aufbau des elektrischen Leitungswegs von normalen
Kupferpulver ohne die oxidierten Substanzen das Kupferpulver daran
gehindert wird, wieder im Laufe der Wärmebehandlung oder aufgrund
des Einflusses äußeren Sauerstoffs im Laufe des tatsächlichen
Einsatzes einen hohen elektrischen Widerstand aufzubauen.
Die Erfüllung der oben erwähnten ersten und zweiten
Erfordernissen ist somit der Schlüssel dazu, die elektrisch leitende
Beschichtung für die praktische Verwendung geeignet zu
machen. Insbesondere war es das wesentliche Problem der vorliegenden
Erfindung, ein besonderes Beimittel zu finden und
dessen Menge zu bestimmen, die der Mischung des Kupferpulvers
mit dem Kunstharz zuzusetzen war.
Mit der vorliegenden Erfindung gelang es nach vielen
langjährigen Studien und Experimenten ein solches Beimittel
aufzufinden und die Zugabemenge zu bestimmen, um eine neue
elektrisch leitende Beschichtung zu erhalten, welche den üblichen
Kupferbelag und die elektrisch leitende Silberbeschichtung
ersetzen kann.
Die Erfindung wurde praktisch erprobt mit einer
elektrisch leitenden Beschichtung aus Kupferpulver.
Als Beimittel zeigen Anthracen oder Anthracenbildner
eine ausgezeichnete Wirkung, insbesondere
Anthracen (C₁₄H₁₀) und Anthracencarbonsäure (C₁₄H₉COOH).
An nächster Stelle haben auch Anthrazin
(C₂₈H₁₆N₂) und Anthranilsäure (C₆H₄(NH₂) (COOH)) eine sehr gute
Wirkung gezeigt. Andererseits ist Benzoesäure
(C₆H₅×COOH) schon nicht mehr geeignet, da es einen elektrischen
Widerstandswert 1×10-² Ω cm ergibt, der größer ist
als der von Anthracen oder der Anthracenbildner.
Die Erfindung umfaßt im wesentlichen die Mischung in
flüssiger Form von 70 bis 85 Gewichtsprozent Kupferpulver,
15 bis 30 Gewichtsprozent von zumindest einem Kunstharz ausgewählt
aus der Gruppe der Phenolharze, Epoxyharze, Polyesterharze
und Xylolharze, sowie von einer geringen Menge, vorzugsweise
0,23 bis 1,6 Gewichtsprozent Anthracen oder
Anthracenbildner, Anthranilsäure oder Anthrazin als Beimittel.
Zur Herstellung einer gedruckten Schaltung ist es genügend,
dieses Beschichtungsmaterial auf eine Isolierplatte
aus Phenolharz oder dergleichen nur im Bereich der Schaltungsteile
abgeschirmt aufzutragen und dann es bei einer Temperatur
von 150°C für etwa 4 Stunden zu erhitzen.
Während der Wärmebehandlung zersetzt das Anthracen,
beispielsweise als Beimittel beigegeben, die Mischung von
oxidiertem Kupfer und anderer um das Kupferpulver anhaftender
Materialien in ein Material von im wesentlichen gleicher
Natur wie das gleichzeitig vorhandene Harz. Dieses Ereignis
erhöht sie elektrische Leitfähigkeit und zusätzlich bewirkt
die Mischung aus dem Beimittel und Kupfer, zersetzt mit dem
Harz, eine Verminderung der Eindringrate von Wasser und Sauerstoff
durch das Harz. Der Antioxidationseffekt, der durch das
Anthracen oder die Anthracenbildner, durch Anthranilsäure oder durch
Anthrazin am Kupferpulver hervorgerufen wird, ist wie folgt:
Beispielsweise reagiert die Anthracencarbonsäure (C₁₄H₉COOH)
mit dem um das Kupferpulver vorhandenen oder gebildeten
oxidierten Kupfer nach der chemischen Formel
CuO + 2C₁₄H₉COOH → (C₁₄H₉COO)₂Cu + H₂O
und erzeugt das Anthracencarbonsäure-Kupfersalz. Aufgrund der
chemischen Reaktion in dem aufgetragenen Film, der durch das
gleichzeitig vorhandene Harz von der äußeren Atmosphäre abgeschnitten
ist, wird das Kupferpulver an seinen Außenflächen
von den oxidierten Substanzen befreit, so daß die freigelegten
Metalloberflächen in Anlage aneinander kommen, um einen gewünschten
elektrischen Leitungsweg minimalen elektrischen
Widerstands zu erzeugen.
Auf der anderen Seite wird das in der chemischen
Reaktion erzeugte Anthracencarbonsäure-Kupfersalz geschmolzen
und gleichmäßig in dem vorhandenen umgebenden Phenolharz,
Epoxyharz, Polyesterharz oder Xylolharz verteilt, und es hat
keinen gegenteiligen Einfluß auf die Bildung eines abschirmenden
Films aufgrund von dessen Aushärtreaktion mit Bezug auf
die Kontaktanordnung der Kupferpulverkörner. Überdies hat
der grundsätzlich mit dem Harz vermischte Kupfer-Anthracen (oder
Anthracenbildner)-Verbund die Wirkung, die Wasser-
und Sauerstoffeindringrate des Harzes zu senken und dadurch
den Widerstand gegen Feuchtigkeit und Sauerstoff beträchtlich
zu erhöhen.
Experimentell wurde nachgewiesen, daß die effektivste
Menge des zuzugebenden Beimittels im Bereich von 0,23 bis
1,6 Gewichtsprozent liegt, wie in Fig. 7 gezeigt ist.
In Fig. 7 sind die zugegebenen Mengen an Anthracen
oder Anthracenbildner längs der Horizontalachse und
die elektrischen Widerstandswerte (Ω cm) der Beschichtung
mit einer Filmdicke von 40 µm längs der Vertikalachse aufgetragen.
Gemäß diesen Experimenten behält die Beschichtung
einen konstant niedrigen elektrischen Widerstand 1×10-³ Ω cm,
was als äußerst günstig anzusehen ist, im Falle der Zugabe
von Anthracen oder Anthracenbildner im Bereich von
0,23 bis 1,6 Gewichtsprozent. Liegt die Zugabe des Beimittels
bei 0,2 Gewichtsprozent, so neigt die Beschichtung einen
elektrischen Widerstand von 1,3×10-³ Ω cm, während im
Falle der Zugabe des Beimittels in der Größenordnung von
5 Gewichtsprozent die Beschichtung den elektrischen Widerstandswert
2×10-³ Ω cm zeigt. Es versteht sich, daß diese
Zugabemengen des Beimittels noch innerhalb des zulässigen
Bereichs für die praktische Benutzung der Beschichtung liegen.
Man sieht andererseits, daß die Beschichtung eine starke Erhöhung
des elektrischen Widerstands zeigt, wenn die Zugabemenge
des Beimittels niedriger als 0,2 Gewichtsprozent ist.
In der Tat zeigt die Beschichtung den elektrischen Widerstandswert
1×10-² Ω cm, wenn die Zugabemenge des Beimittels bei
0,1 Gewichtsprozent liegt, welcher Wert für den praktischen
Einsatz der Beschichtung ungeeignet ist. In gleicher Weise
zeigt die Beschichtung eine starke Erhöhung des elektrischen
Widerstands bei einer Zugabemenge des Beimittels von mehr als
5 Gewichtsprozent, und dieser elektrische Widerstand liegt
bei 1×10-² Ω cm bei einer Zugabemenge des Beimittels von
8 Gewichtsprozent, welcher Wert ebenfalls für den praktischen
Einsatz der Beschichtung ungeeignet ist. Die angeführten Ergebnisse
sind die gleichen für die anderen Beimittel wie
Anthranilsäure und Anthrazin.
Als Grund, daß die oben erwähnten kritischen Werte
sich experimentell ergeben haben, kann die folgende Erklärung
herangezogen werden. Wie erwähnt ist im Zusammenhang mit dem
Funktionsmechanismus im Fall der als Beimittel verwendeten
Anthracencarbonsäure, entsteht eine theoretische chemische Menge
zwischen dem Beimittel
und den oxidierten Substanzen, wenn im Laufe der
Reaktion des Beimittels mit den um die Außenflächen der
Kupferpulverkörner anhaftenden oxidierten Substanzen diese
oxidierten Substanzen von dem Kupferpulver gelöst und entfernt
werden. Es ist deshalb möglich, vollständig die
Oxidation des Kupferpulvers während dessen Behandlung in
der Luft zu verhindern, auch wenn das Kupferpulver von Natur
aus relativ zögernd oxidiert. Die Tatsache, daß eine Minimalmenge
des Beimittels (etwa 0,2 Gewichtsprozent) benötigt wird,
zeigt, daß eine Mindestmenge oxidierter Substanzen in der
Mischung des Kupferpulvers und des Harzes vorliegt. In gleicher
Weise zeigt die Tatsache, daß aus den Experimenten eine
Maximalmenge für das Beimittel (etwa 5 Gewichtsprozent) herausgefunden
wurde, daß eine übermäßige Zugabe des Beimittels einen
gegenteiligen Einfluß bewirkt, der z. B. die Eigenschaft des
gleichzeitig vorhandenen Harzes beeinträchtigt und die elektrische
Leitfähigkeit der Beschichtung senkt.
Aufgrund des oben erwähnten Aufbaus der elektrisch leitenden
Beschichtung liegt der elektrische Widerstandswert z. B.
im Fall der Filmdicke von 40 µm der gedruckten Schaltung bei
etwa 1×10-³ Ω cm, was überraschend ist, ist dieser Wert
doch 1/1 000 000 des Widerstandswerts einer Beschichtung ohne
ein Beimittel, wie in Fig. 1 und 2 dargestellt. Was die Widerstandsfähigkeit
gegen Feuchtigkeit betrifft, so erhöht sich
der elektrische Widerstand zunächst leicht, bleibt dann aber
unverändert nach etwa 504 Stunden. Folglich tritt keine Veränderung
oder Zerstörung im Laufe der Zeit ein, wie Fig. 4 erkennen
läßt.
Was die Widerstandsfähigkeit gegen Temperatureinflüsse betrifft,
so ist die Änderungsrate des elektrischen Widerstands
äußerst günstig und liegt bei etwa 1/2 von derjenigen einer
elektrisch leitenden Silberbeschichtung bei Temperaturen unterhalb
der Normaltemperatur und sie hat fast gleich mit jener bei
Temperaturen über die Normaltemperatur. Wie Fig. 6 zeigt, kann
sich die erfindungsgemäße Beschichtung mit der Silberbeschichtung
in dem praktisch benutzten Temperaturbereich bis etwa
60°C messen.
Wie aus der obigen Beschreibung des Aufbaus und der
Wirkungsweise der Erfindung hervorgeht, liefert die vorliegende
Erfindung ein ausgezeichnetes elektrisch leitendes Beschichtungsmaterial,
das sich in hohem Maße für den praktischen
Einsatz eignet, anstelle des üblichen elektrolytischen
Kupferbelags und dessen Ätzung sowie des Silberbelags. Überdies
bringt die Erfindung den Vorteil, daß die Herstellung
gedruckter Schaltungen leichter wird, Material eingespart
wird und damit die Fertigungskosten gesenkt werden. Die vorliegende
Erfindung kann somit als industriell epochemachend
bezeichnet werden.
Mit Bezug zu Fig. 1, die Ausführungen der Erfindung im
Vergleich mit anderen untersuchten Mustern zeigt, seien folgende
Erklärungen gegeben:
Das Muster Nr. 1 ist eine Mischung von 80 g Kupferpulver mit
20 g Harz ohne irgendein Beimittel. Die Beschichtung wird mit
einer Schablone auf eine Isolierplatte aus Phenolharz mit
einer Filmdicke von 40 µm aufgemalt und dann über 4 Stunden
bei einer Temperatur von 150°C erhitzt. Der elektrische Widerstand
der gedruckten Schaltung von 1 cm Länge und 1 cm Breite
ist 1×10-³ Ω cm, wie in Fig. 1 bis 3 gezeigt. Das Muster
Nr. 2 wurde unter denselben Bedingungen wie jenen des Musters
Nr. 1 untersucht, lediglich 1 g Ameisensäure wurde als Beimittel
zugegeben. Der elektrische Widerstand lag bei 1×10 Ω cm.
Das Muster Nr. 3 enthielt 1 g Oxalsäure als Beimittel und es
wurde ein elektrischer Widerstand von 1×10 Ω cm gemessen.
Das Muster Nr. 4 enthielt 1 g Adipinsäure als Beimittel, woraus
sich ein elektrischer Widerstand von 1 Ω cm ergab. Dem
Muster Nr. 5 war 1 g Buttersäure als Beimittel zugegeben und
der elektrische Widerstand wurde mit 1 Ω cm gemessen. Das
Muster Nr. 6 enthielt 1 g Benzoesäure als Beimittel und der
elektrischen Widerstand lag bei 1×10-² Ω cm, welcher Wert
immer noch nicht für die Praxis geeignet ist.
Das Muster Nr. 7 fällt als erstes unter die Erfindung
und es enthielt, wie gezeigt, 1 g Anthracen als Beimittel und
der elektrische Widerstand sank auf 1×10-³ Ω cm. Das
Muster Nr. 8 ist eine andere Ausführung der Erfindung und es
enthielt 1 g Anthracencarbonsäure als Beimittel. Der elektrische
Widerstand lag bei 1×10-³ Ω cm. Das Muster Nr. 9
ist eine weitere Ausführung der Erfindung und enthielt 1 g
Anthranilsäure als Beimittel, was den elektrischen Widerstand
von 1×10-³ Ω cm ergab. Das Muster Nr. 10 ist noch eine
weitere Ausführung der Erfindung mit einer Zugabe von 1 g
Anthrazin als Beimittel. Der gemessene elektrische Widerstand
war 1×10-³ Ω cm.
Fig. 4 zeigt die Widerstandsfähigkeit gegen Feuchtigkeit
einer gedruckten Schaltung, hergestellt mit dem Beschichtungsmaterial
nach dem ersten Muster der Erfindung. Die Ergebnisse
wurden aufgrund eines Versuchs ermittelt, bei dem
die erfindungsgemäße Beschichtung auf eine Isolierharzplatte
von 3 cm Länge und 1 cm Breite aufgemalt war. Die beiden Enden
der Platte waren gemäß Fig. 5 durch Silberpole abgedeckt und
das Muster wurde bei einer Temperatur von 42°C±2° einer
relativen Feuchtigkeit von 90 bis 95% ausgesetzt, um die Veränderung
des elektrischen Widerstands der Beschichtung im Verlauf
der Zeit zu messen. Als Ergebnis wurde gemessen, wie in
Fig. 4 gezeigt, daß der elektrische Widerstand während der
ersten 72 Stunden bei etwa 0,05 Ω lag, nach 216 Stunden auf
0,0595 Ω angestiegen war, nach 360 Stunden 0,06 Ω betrug,
nach 504 Stunden 0,0605 Ω betrug und dann im nachfolgenden Zeitverlauf
unverändert blieb. Die erfindungsgemäße Beschichtung
hat sich somit als äußerst widerstandsfähig gegen Feuchtigkeit
unter solch harten Bedingungen erwiesen. Das Versuchsergebnis
ist das gleiche bei allen anderen Ausführungen der Erfindung.
Fig. 6 zeigt die Widerstandsfähigkeit gegen Temperatur
des ersten Musters der Erfindung, gemessen bei einer Raumtemperatur
nach dem von Japanese Industrial Standards (JIS)
vorgeschriebenen Verfahren. Der elektrische Widerstand der
gedruckten Schaltung der Beschichtung zeigt, wie durch die
durchgehende Linie dargestellt, einen gewünschten Veränderungseffekt
unterhalb der Temperatur 20°C, der 1/2 desjenigen der
elektrisch leitenden Silberbeschichtung ist, der durch gestrichelte
Linie angedeutet ist. Selbst bei Temperaturen
oberhalb 20°C ist der elektrische Widerstand der Beschichtung
dermaßen günstig, daß es sich mit dem der Silberbeschichtung
messen kann. Insbesondere in der Umgebung von 60°C, welche
die obere Grenze normal auftretender Temperaturen ist, bei
denen die Beschichtung in der Praxis benutzt wird, ist der
Veränderungseffekt der Beschichtung fast gleich demjenigen der
Silberbeschichtung. In diesem Zusammenhang zeigt die strichpunktierte
Linie in Fig. 6 die Veränderung des elektrischen
Widerstands einer Kohlebeschichtung.
Bei den erfindungsgemäßen Mustern ist nur Phenolharz als
Kunstharz angegeben. Es hat sich jedoch gezeigt, daß dieselbe
Wirkung mit anderen Harzarten wie Epoxyharz, Polyesterharz
und Xylolharz erhalten wird.
Die Zugabemenge von Anthracen oder Anthracenbildner
liegt, wie in Fig. 7 gezeigt, vorzugsweise bei etwa
0,23 bis 1,6 Gewichtsprozent. Es hat sich jedoch herausgestellt,
daß die zulässige Zugabemenge des Beimittels für praktische Bedürfnisse
etwa 0,2 bis 5 Gewichtsprozent betragen darf. Es versteht
sich, daß im wesentlichen dasselbe gilt mit Bezug auf
Anthranilsäure und Anthrazin.
Claims (4)
1. Elektrisch leitendes Beschichtungsmaterial, enthaltend ein
inniges Gemisch aus Kupferpulver und zumindest einem Kunstharz,
gekennzeichnet durch einen Gehalt von
70 bis 85 Gew.-% Kupferpulver,
15 bis 30 Gew.-% zumindest eines Kunstharzes, ausgewählt aus der Gruppe Phenolharz, Epoxyharze, Polyesterharze und Xylolharze, und
0,2 bis 5 Gew.-% zumindest eines Beimittels, ausgewählt aus der Gruppe Anthracen oder Anthracenbildner, Anthranilsäure und Anthrazin.
gekennzeichnet durch einen Gehalt von
70 bis 85 Gew.-% Kupferpulver,
15 bis 30 Gew.-% zumindest eines Kunstharzes, ausgewählt aus der Gruppe Phenolharz, Epoxyharze, Polyesterharze und Xylolharze, und
0,2 bis 5 Gew.-% zumindest eines Beimittels, ausgewählt aus der Gruppe Anthracen oder Anthracenbildner, Anthranilsäure und Anthrazin.
2. Beschichtungsmaterial nach Anspruch 1, gekennzeichnet
durch einen Gehalt des Beimittels von 0,23 bis 1,6 Gew.-%.
3. Verwendung des Beschichtungsmaterials nach einem der Ansprüche
1 oder 2 zur Herstellung von Leiterbahnen auf einer
Leiterplatte.
4. Verfahren zur Herstellung von Leiterbahnen auf einer
Leiterplatte durch thermisches Härten eines auf der Leiterplatte
aufgebrachten Beschichtungsmaterials, enthaltend
ein Gemisch aus Kupferpulver und zumindest einem Kunstharz,
wobei Oxidationsschichten auf dem Kupferpulver während des
Härtens abgebaut werden,
dadurch gekennzeichnet, daß die besagte Mischung
enthält:
70 bis 85 Gew.-% Kupferpulver,
15 bis 30 Gew.-% zumindest eines Kunstharzes, ausgewählt aus der Gruppe Phenolharze, Polyesterharze und Xylolharze, und
0,2 bis 5 Gew.-% zumindest eines Beimittels zur Entfernung der besagten Oxidationsschichten, ausgewählt aus der Gruppe Anthracen oder Anthracenbildner, Anthranilsäure oder Anthrazin.
70 bis 85 Gew.-% Kupferpulver,
15 bis 30 Gew.-% zumindest eines Kunstharzes, ausgewählt aus der Gruppe Phenolharze, Polyesterharze und Xylolharze, und
0,2 bis 5 Gew.-% zumindest eines Beimittels zur Entfernung der besagten Oxidationsschichten, ausgewählt aus der Gruppe Anthracen oder Anthracenbildner, Anthranilsäure oder Anthrazin.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP660980A JPS56103260A (en) | 1980-01-22 | 1980-01-22 | Conductive paint containing copper powder |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3102015A1 DE3102015A1 (de) | 1981-12-10 |
| DE3102015C2 true DE3102015C2 (de) | 1991-06-20 |
Family
ID=11643087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19813102015 Granted DE3102015A1 (de) | 1980-01-22 | 1981-01-22 | Elektrisch leitendes beschichtungsmaterial und leiterplatte unter verwendung eines solchen beschichtungsmaterials |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4353816A (de) |
| JP (1) | JPS56103260A (de) |
| DE (1) | DE3102015A1 (de) |
| FR (1) | FR2474045A1 (de) |
| GB (1) | GB2068976B (de) |
| NL (1) | NL191351C (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10065540A1 (de) * | 2000-12-28 | 2002-03-28 | Infineon Technologies Ag | Leiterbahn und Verfahren zur Herstellung |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4434084A (en) | 1981-09-23 | 1984-02-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Base metal conductor cathode coating for tantalum capacitors |
| US4603162A (en) * | 1983-06-17 | 1986-07-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Radiation curable resin, paint or ink vehicle composition comprising said resin and magnetic recording medium or resistor element using said resin |
| JPS604552A (ja) * | 1983-06-23 | 1985-01-11 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 導電性組成物 |
| US4535012A (en) * | 1983-09-30 | 1985-08-13 | Electro Materials Corp. Of America | Fast curing solderable conductor |
| EP0144849B1 (de) * | 1983-11-30 | 1987-09-09 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Elektrisch leitfähige Zusammensetzung |
| US4548879A (en) * | 1984-05-21 | 1985-10-22 | Rohm And Haas Company | Solderable polymer thick films |
| EP0170063B1 (de) * | 1984-07-31 | 1988-08-24 | Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. | Leitfähige Beschichtungszusammensetzung vom Kupfertyp |
| JPS61159793A (ja) * | 1984-12-31 | 1986-07-19 | 株式会社 アサヒ化学研究所 | 基板に導電回路を形成する方法 |
| JPS6276600A (ja) * | 1985-09-29 | 1987-04-08 | 株式会社 アサヒ化学研究所 | 基板に導電回路を形成する方法 |
| US4724040A (en) * | 1986-01-14 | 1988-02-09 | Asahi Chemical Research Laboratory Co., Ltd. | Method for producing electric circuits on a base boad |
| US4735676A (en) * | 1986-01-14 | 1988-04-05 | Asahi Chemical Research Laboratory Co., Ltd. | Method for forming electric circuits on a base board |
| US4837050A (en) * | 1986-09-30 | 1989-06-06 | Asahi Chemical Research Laboratory Co., Ltd. | Method for producing electrically conductive circuits on a base board |
| JPH01214100A (ja) * | 1988-02-21 | 1989-08-28 | Asahi Chem Res Lab Ltd | 電磁波シールド回路及びその製造方法 |
| US4999135A (en) * | 1989-04-17 | 1991-03-12 | Hiroshi Matsuda | Rust-proof sealing composition |
| US4975221A (en) * | 1989-05-12 | 1990-12-04 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | High purity epoxy formulations for use as die attach adhesives |
| US5376403A (en) * | 1990-02-09 | 1994-12-27 | Capote; Miguel A. | Electrically conductive compositions and methods for the preparation and use thereof |
| US5853622A (en) * | 1990-02-09 | 1998-12-29 | Ormet Corporation | Transient liquid phase sintering conductive adhesives |
| DE69417684T2 (de) | 1993-10-29 | 1999-09-09 | Dai-Ichi Kogyo Seiyaku Co. | Leitfähige Pastenzusammensetzung zum Füllen von Kontaktlöchern, Leiterplatte unter Anwendung dieser leifähigen Paste und Verfahren zur Herstellung |
| WO2002047856A2 (en) * | 2000-12-15 | 2002-06-20 | Omg Americas, Inc. | Irregular shaped copper particles and methods of use |
| US8999200B2 (en) * | 2002-07-23 | 2015-04-07 | Sabic Global Technologies B.V. | Conductive thermoplastic composites and methods of making |
| US20060108567A1 (en) * | 2002-07-23 | 2006-05-25 | Charati Sanjay G | Conductive poly (arylene ether) compositions and methods of making the same |
| EP1837383B1 (de) * | 2006-03-06 | 2008-06-04 | Umicore AG & Co. KG | Zusammensetzung zur Befestigung von Hochleistungshalbleiter |
| EP2191482B1 (de) | 2007-09-13 | 2017-03-08 | Henkel AG & Co. KGaA | Elektrisch leitfähige zusammensetzung |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2564823A (en) * | 1948-02-27 | 1951-08-21 | Oneida Ltd | Electropolish interrupter |
| US3412043A (en) * | 1966-08-05 | 1968-11-19 | Dexter Corp | Electrically conductive resinous compositions |
| US3983075A (en) * | 1974-06-21 | 1976-09-28 | Kennecott Copper Corporation | Copper filled conductive epoxy |
| DE2614840A1 (de) * | 1976-04-06 | 1977-10-20 | Electro Kinetic Systems Inc | Elektrisch leitfaehige harzmassen und verfahren zu ihrer herstellung |
| US4247594A (en) * | 1979-04-30 | 1981-01-27 | Marshall & Pike Enterprises Inc. | Electrically conductive resinous composition |
-
1980
- 1980-01-22 JP JP660980A patent/JPS56103260A/ja active Granted
-
1981
- 1981-01-19 US US06/226,098 patent/US4353816A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-01-21 FR FR8101086A patent/FR2474045A1/fr active Granted
- 1981-01-21 NL NL8100286A patent/NL191351C/xx not_active IP Right Cessation
- 1981-01-22 GB GB8101972A patent/GB2068976B/en not_active Expired
- 1981-01-22 DE DE19813102015 patent/DE3102015A1/de active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10065540A1 (de) * | 2000-12-28 | 2002-03-28 | Infineon Technologies Ag | Leiterbahn und Verfahren zur Herstellung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2068976B (en) | 1984-02-29 |
| US4353816A (en) | 1982-10-12 |
| JPS56103260A (en) | 1981-08-18 |
| FR2474045B1 (de) | 1983-12-30 |
| NL191351B (nl) | 1995-01-02 |
| FR2474045A1 (fr) | 1981-07-24 |
| NL191351C (nl) | 1995-06-01 |
| NL8100286A (nl) | 1981-08-17 |
| JPS6136796B2 (de) | 1986-08-20 |
| DE3102015A1 (de) | 1981-12-10 |
| GB2068976A (en) | 1981-08-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3102015C2 (de) | ||
| EP1614771B1 (de) | Zinnbeschichtete Leiterplatten mit geringer Neigung zur Whiskerbildung | |
| DE69016156T2 (de) | Pastenmischung auf der Basis von Kupfer. | |
| DE3782522T2 (de) | Leitfaehige kupferpastenzusammensetzung. | |
| DE3150880A1 (de) | "leitende paste und verfahren zu ihrer herstellung" | |
| DE3751323T2 (de) | Gedruckte Leiterplatten eingerichtet zur Verhinderung elektromagnetischer Interferenz. | |
| DE10297325T5 (de) | Spannungsveränderliches Trägermaterial | |
| DE3111396A1 (de) | Leitende paste | |
| DE3700910C2 (de) | ||
| DE3217480A1 (de) | Leitfaehige paste | |
| DE60118853T2 (de) | Leitfähiges Bindemittel und Verpackungsstruktur daraus | |
| DE69921893T2 (de) | Leitfähige Pastenzusammensetzung zum Füllen | |
| DE69022668T2 (de) | Elektronische Verbindungen, Verfahren zur Bildung von Endverbindern dafür und Paste zur Ausbildung derselben. | |
| DE3317912A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer leitfaehigen pigmentbeschichteten oberflaeche | |
| DE3631632C2 (de) | ||
| DE3700912C2 (de) | ||
| DE3436024C2 (de) | ||
| DE1465087A1 (de) | Herstellung von Widerstaenden | |
| DE3530736C2 (de) | ||
| DE1282184C2 (de) | Schutzrohrankerkontakt | |
| EP0818061B1 (de) | Verfahren zur erzeugung elektrisch leitfähiger verbindungsstrukturen | |
| DE3613594C3 (de) | Verwendung eines Kupferlegierungs-Leitermaterials für gegen Abblättern beständige Lötanschlüsse einer Halbleitervorrichtung | |
| DE3403556A1 (de) | Isolierter elektrischer leiter und ein verfahren fuer seine vorbereitung | |
| DE2628350A1 (de) | Verfahren zur metallophobierung von gegenstaenden, insbesondere von isolierstoffen fuer gedruckte schaltungen | |
| DE69028790T2 (de) | Festelektrolytkondensator und Verfahren zu seiner Herstellung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8181 | Inventor (new situation) |
Free format text: IWASA, YAMAHIRO, HACHIOJI, TOKIO/TOKYO, JP |
|
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |