DE3140086A1 - "optische trenneinrichtung mit einem fizeau'schen-keil in reflexion" - Google Patents
"optische trenneinrichtung mit einem fizeau'schen-keil in reflexion"Info
- Publication number
- DE3140086A1 DE3140086A1 DE19813140086 DE3140086A DE3140086A1 DE 3140086 A1 DE3140086 A1 DE 3140086A1 DE 19813140086 DE19813140086 DE 19813140086 DE 3140086 A DE3140086 A DE 3140086A DE 3140086 A1 DE3140086 A1 DE 3140086A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- wedge
- fizeau
- optical
- laser
- laser cavity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 43
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims description 10
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 10
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004438 eyesight Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000001307 laser spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 238000004091 panning Methods 0.000 description 1
- 238000009304 pastoral farming Methods 0.000 description 1
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 1
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000021 stimulant Substances 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
- G01J3/26—Generating the spectrum; Monochromators using multiple reflection, e.g. Fabry-Perot interferometer, variable interference filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/04—Prisms
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
- H01S3/0811—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
- H01S3/082—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors defining a plurality of resonators, e.g. for mode selection or suppression
- H01S3/0823—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors defining a plurality of resonators, e.g. for mode selection or suppression incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection
- H01S3/0826—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors defining a plurality of resonators, e.g. for mode selection or suppression incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection using a diffraction grating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
- H01S3/083—Ring lasers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
* - Λ β
Optische Trenneinrichtung mit einem Fizeau'schen-Keil in Reflexion
Die Erfindung betrifft das Gebiet der Optik und ganz be™
sonders optische, selektive Mittel, die.insbesondere das Einstellen von Lasern erlauben=
Als optische,selektive Elemente kennt man beispielsweise
Beugungsgitter sowie Fabry-Perot-Etalons» Meistens ist
es notwendig, diese mit ergänzenden Vorrichtungen zu verwenden,
die ihre Ausmaße vergrößern» Auf dem Gebiet der Laser mit veränderbarer Einstellung werden häufig folgende
Auswahleinrichtungen verwandt:
Beugungsgitter großer Abmessung und Spiegel; Beugungsgitter (in Littrow-Anordnung) und eine Übertragungsoptik
wie das sogenannte Teleskop (Vergrößerung des Bündeldurchmessers);
Vereinigung eines Beugungsgitters und eines Pabry-Perot-■
Vereinigung zweier Pabry-Perot-Etalons,
Die derart erhaltenen, ziemlich großen Hohlraumlaser
weisen häufig zahlasLche, unterschiedliche Moden auf,
was bei gewissen Anwendungen störend ist»
Die Erfindung will ein optisches,selektives Bauelement
schaffen, welches gleichzeitig ein Reflektor ist und daher insbesondere erlaubt, kürzere Hohlraumlaser zu
schaffen.
Ein optisches, unter dem Namen "3?izeauf scher-Eeil"
"bekanntes Element weist zwei Oberflächen auf, die eine teilweise Reflexion haben und mit einem zunehmend veränderbaren
(zumindest örtlich) Abstand angeordnet sind.
In der Praxis handelt es sich im allgemeinen im zwei ebene Oberflächen, die zwischen sich einen kleinen Winkel
bilden.
Bisher wurde ein solcher Keil mit Oberflächen mittleren
Reflexionsvermögens und mit Lichttransmission verwandt.
Erstaunlicherweise wurde beobachtet, daß, wenn man zwei reflektierende Oberflächen mit höherem Reflexionsvermögen
und geringer Absorption auswählt, ein optisches, selektives Element erhält; dieses reflektiert einerseits in eine gewisse
Richtung ein schmales Wellenlängenband und reflektiert
andererseits die übrigen, einfallenden, das schmale Band einschließenden Wellenlängen in einer anderen Richtung,
welche die übliche Reflexionsrichtung an einem Spiegel ist.
Die zwei reflektierten Bündelteile können dann voneinander getrennt verwandt werden.
Obgleich dieses Phänomen von dem Anmelder unter gewissen
Bedingungen für Reflexionsvermögen zwischen 0,6 und 0,9 beobachtet worden ist, wird tatsächlich bevorzugt, daß
das Reflexionsvermögen größer als 0,9 ist»Sehr gute Ergebnisse
wurden mit Reflexionsvermögen in der Nähe von 0,99 erhalten.
Nach der Erfindung wird auch eine optische Vorrichtung vorgeschlagen, welche wenigstens einen IPizeau1 schen-Köil
aufweist, wie er vorhergehend definiert worden ist. Im allgemeinen umfaßt eine solche optische Vorrichtung
unter anderem Mittel, um ein Lichtbündel auf eine der Oberflächen des Fizeau'schen-Keils zu lenken,, Wie vorher-
■ :·"··" '■■' "■ 3H00.86
gehend angegeben, kann dieser einerseits ein schmales
Wellenlängenband in eine gewisse Richtung und andererseits
den übrigen Teil der Wellenlängen, welche dieses schmale Band einschließen, in eine andere Sichtung reflektieren,
welche die übrige ReflexLonsrichtung an einem Spiegel ist. Perner sind ebenfalls Mittel vorgesehen,
die einen der beiden reflektierten Teile des Bündels verwenden.
Vorzugsweise ist das auf den Pizeau'schen-Keil auftreffende
Bündel divergent.
Bei einer bedeutenden Anwendung der Erfindung bildet der
Fizeau'sche-Keil eine der reflektierenden Wände eines
Laserhohlraums.
Diese Anwendung betrifft unter anderem Farb-Laser und
andere Laser mit großer Bandbreite oder einstellbare Laser, die die Laser mit farbiger Mitte, die Laser aus
Heodyme-Glas, Rubinlaser sowie Halbleiter-Lasero Die
Bandbreite dieser Laser überdeckt im allgemeinen einige Angström an Wellenlängen.
Bei einer Ausfuhrungsform ist eine Lochblende zwischen
2^ dem Fizeau1 schen-Keil und dem Bereich des Lichtverstärkers
angeordnet.
Bei einer Anwendung ist der Fizeau'sche-Keil so ausgebildet,
daß er direkt oder indirekt (beispielsweise ein Spiegel) die Gesamtheit der einfallenden Wellenlängen
bis auf das schmale Wellenlängenband,, welches er selektiv reflektiert, längs der optischen Achse des Laserhohlraums
zurückschickt. Man erhält dann einen Breitband-Laser mit
einem einstellbaren Loch.
35
35
ff %
Bei einer anderen, häufigeren Anwendung ist der Fizeau1
sche-Keil so ausgebildet, daß er das schmale Wellenlängenband,
welches selektiv reflektiert wird, längs
der optischen Achse.des Laserhohlraums zurückschickt.
Man erhält dann einen Laser mit einem einstellbaren, schmalen Band. Bei einem besonderen Einfallswinkel schickt
der 3?iz eau 'sche-Keil den gewollten Teil des reflektierten
Bündels direkt von sich längs der optischen Achse des Laserhohlraums zurück. Der so ausgebildete Laser ist besonders
kurz.
Wenn es sich um einen Laser mit einem schmalen Band handelt, kann der Fizeau1 sche-Keil auch als Austrittsspiegel für
den Laserhohlraum dienen. Ein vorteilhafter Laserhohlraum wird so auf einer Seite durch einen Pizeau1 sehen - Keil
und auf der anderen durch ein Beugungsgitter begrenzt, welches eine kleine Größe haben kann.
TJm noch die Seite der Einzelmoden des Lasers zu verbessern,
in dem die hauptsächlichen, benachbarten Ordnungen der erwünschten Ordnung entfernt werden, kann man in den
Laserhohlraum einen anderen Fizeau1schen-Keil einbringen,
der in Transmissionsrichtung in dem Strahlengang des Laserbündels angeordnet ist, und/oder einen anderen Fiz-2^
eau1 sehen Keil, der als reflektierende Wand in dem Laser-Hohlraum
vorgesehen wird.
Mit einem oder mehreren Fizeau'sehen Keilen ist es nach
der Erfindung möglich, einen Einglaser zu schaffen, der
durch einfache Verschiebung des oder der Keile abgestimmt werden kann. Solche Ringlaser verbessern auch
das Einzel-Moden-Yerhalten, indem die räumliche Sättigung
in der Umgebung des Lichtverstärkers ausgeschlossen wird.
Eine andere, "besonders bemerkenswerte .Anwendung der Erfindung
betrifft Laser mit zwei getrennt voneinander einstellbaren Wellenlängen.
Man geht hier von einem Laser mit einem schmalen Band
mit einer optischen Trennung mittels Pizeau0schen-Keils
aus. Es ist ferner ein zweites Element, welches eine optische Trenneinrichtung bildet, vorgesehen und so ausgebildet,
daß es die anderen Wellenlängen als das schmale, selektiv,längs der optischen Achse durch den Pizeau"sehen
Keil reflektierte Band empfängt. Diese zweite, optische Trenneinrichtung schickt ihrerseits ein anderes schmales
Wellenlängenband längs der optischen Achse des Laserhohlraums zurück, was ermöglicht, den Laserhohlraum getrennt
1^ auf die zwei unterschiedlichen Wellenlängen abzustimmenο
Die zweite, optische Trenneinrichtung kann auch auf einem Beugungsgitter oder als Abänderung auf einem Pizeau'schen-Keil,
der mit Reflexion verwandt wird, basieren» Im letztgenannten
Pail kann man einen anderen Bereich des ersten Pizeau1sehen Keils verwenden.
Allgemein gesprochen kann der als optisches Trennelement vorgeschlagene Pizeau'sehe Keil bei den meisten bekannten
Anwendungen in optischen, brechenden Systemen eingesetzt werden und beispielsweise Beugungsgitter ersetzen»
Der Erfindungsgegenstand wird im folgenden anhand von
Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen
näher erläutert. Es zeigen:
Pig. 1A einen Pleck eines von einem Pizeau"schen-Keil
reflektierten Bündels,
Pig. "IB und zwei andere von einem Pizeau8schen-Keil
1C reflektierte Plecke mit seitlichen Interferenzsstreifen,
6 40
I"ig. 2A eine schematische Darstellung der Intensitäts-'
verteilung in einem Lichtbündel,
Pig. 2B schematisch das ausgehend von einem solchen
Bündel von einem Fizeau1schen-Keil reflektierte
Licht für eine Resonanzwellenlänge,
Fig. 20 schematisch den Strahlengang des Lichtes im
Inneren des Fizeau'schen-Keils,
10
Fig. 2D das durch den Fizeau'schen-Keil hindurchgegangene
Licht,
Fig. 3A die Wechselwirkung eines divergierenden, mit
zwei Wellenlängen einfallenden Bündels mit
einem Fizeau1schen-Keil,
Fig. 3B die Flecken der entsprechenden Bündel,
und 3C
20
20
Fig. 4- ein erstes Ausführungsheispiel eines Lasers
mit Fizeau1schem-Keil nach der Erfindung,
Fig. 5 eine Abänderung, hei der die selektive Eeflexion
in der Sinfausrichtung stattfindet,
Fig. 6A drei unterschiedliche Beispiele von Laserbis
60 emissionsspektren als Funktion des Einfallswinkels
auf den Fizeau1sehen Keil, 30
Fig. 7-A- eine andere Anwendung der Erfindung bei einem
Laser, bei dem ein Fizeau'scher-Keil in Reflexion
und ein anderer in Transmission verwandt wird, um die hauptsächlichen Ordnungen
der Interferenzstreifen zu trennen,
Pig. ?Β eine Abänderung einer solchen Trennung von
Ordnungen der Interferenzstreifen, wobei zwei
Pizeau'sche-Keile in Reflexion verwandt werden,
S"ig. 8 die gemeinsame Verwendung eines Pizeau"sehen»
Eeils und eines Beugungsgitters bei einem Laser,
Pig. 9 einen mittels eines Pizeau'schen-Keils einstell·
baren Einglaser,
Pig. ΊΟ einen Laser mit zwei unabhängig voneinander
einstellbaren Wellenlängen, was durch Pizeau1 sche-Keile vorgenommen wird.
Pig. 11 eine Abänderung in genauere Darstellung-
Pig. 12 einen Laser mit zweU Wellenlängenjwobei jedoch
ein und derselbe Piz'eau' sche-Keil die Trennung für jede der Wellenlängen erlaubt,
und
Pig. 13 verschiedene, zulässige Einstellungen bei
dem Laser mit zwei Wellenlängen gemäß Pig»
. ' Es ist bekannt * daß ein Pizeau'scher-Eeil durch zwei
Oberflächen begrenzt werden kann, die teilweise reflektierend sind und eine veränderlich zunehmende Beabstandung
aufweisen. Im allgemeinen handelt es sich um zwei ebene Oberflächen, die zwischen sich einen kleinen
Winkel bilden (typischerweise einige Milliradian)ο
Zur Ausgestaltung der Erfindung können solche Oberflächen
materiell auf eine der folgenden Weisen festgelegt werden:
•V':..:' ■·'■ ■'.- 3H0086
er 41
Ein Prisma mit einem kleinen öffnungswinkel, dessen beide
Flächen mit einem reflektierenden Überzug versehen sind; (das Prisma kann aus Festigkeitsgründen von einem dünnen
Plättchen getragen werden, mit dem es einstückig ausgebildet ist);
zwei Plättchen, die jeweils beschichtet sind und fest
zueinander unter einem gewählten Winkel gehalten werden; ein Füllmittel mit einem geeigneten Brechungsindex kann
hier zwischen die zwei dünnen Plättchen eingebracht werden. 10
Es wurde festgestellt, daß die Fizeau8schen-Keile unter
Reflexion interessante Möglichkeiten bezüglich einer
Trennung bieten, vorausgesetzt, daß das Reflexionsvermögen der reflektierenden Oberflächen groß ist und daß
ihr Absortpionsvermögen klein ist.
Man beaufschlagt einen Fizeau1 schen-Keil mit einem Laserlichtbündel
geringer Breite, dessen Wellenlänge man verändert. Für den größten Teil der Wellenlängen erhält man
einen isflektierten Laserlichtfleck, in der Form, wie es
in Fig. 1A dargestellt ist. Für gewisse Wellenlängen beobachtet man bei dem reflektierten Laserlichtfleck auf
der Oberfläche des Keils oder nahe bei dieser .Interferenzstreifen,
welche Streifen gleicher Breite genannt ,werden
und die außerhalb des hauptsächlichen Fleckes auf der der Kante des Keils gegenüberliegenden Seite Vorliegen (Fig.
1B und 1C- zwischen diesen beiden Figuren wurde die Wellenlänge
derart geändert, daß die sekundären Interferenzstreifen
um ein halbes Interwall zwischen den Interferenz-30
streifen verschoben sind). Genauergesagt betrug der Winkel des Fizeau1 schen-Keils hier OL = 3 x 10"-5 Radian, sein
Reflexionsvermögen R = 0,99 und seine Dicke an der Reflexionsstelle
betrug e = 20 Jim. Der Fleckdurchmesser
.far 700 ^m, die Divergenz des Lasers 2 5= 10 Milliradian;
der Einfallswinkel auf den Fizeaugschen~Keil war & = 5°*
Es wurde ebenfalls festgestellt, daß die Wellenlängen A0?
bei denen diese sekundären Interferenzstreifen auftraten,
sehr genau der Beziehung gehorchen:
k . ^X0 - 2-e.cos θ
worin k eine ganze Zahl bezüglich der Reflexionsordnung ist.
Die Intensität des einfallenden Lichtes ist schematisch in lig* 2A dargestellt. Das Aussehen der Seflexionsinterferenzstreif
en ist schematisch in der Figo 2B dargestellt,
wo man sieht, daß die Intensität des ersten, reflektierten Streifens mit derjenigen des unmittelbar reflektierten
(ohne Interferenz) Bündels vergleichbar ist» Die Figo 2C
zeigt schematisch die Yielfachreflexionen, die im Inneren
des Fizeau'schen-Keils auftreten. Schließlich zeigt die
Pig. 2D die Intensität des durch ihn hindurchgegangenen Lichtes.
Es wurde ferner festgestellt, daß das von dem Pizeaü"
schen-Keil reflektierte Lichtbündel etwas divergierender
als das einfallende Lichtbündel aufgrund der Vielfachreflexion
geworden ist, die in dem Keil auftritto Im
Inneren dieses Divergenzbereiches hängt die Richtung, in der ein sekundärer, vorgegebener Interferenzstreifen erscheint,
von der Wellenlänge ab» Anders ausgedrückt, bedeutet dies, daß ein Fizeau'scher-Keil eine Winkeldispersion
hervorruft, wie es die S1Ig0, 1B und 10 zeigen,
die für zwei unterschiedliche und benachbarte Wellenlängen erhalten wurden.
3U0086
Innerhalb eines Abtastbereiches der Wellenlänge von 0,3nm.
verschieben sich die Interferenzstreifen, wobei sie vom
Inneren des Hauptfleckes zu dessen unmittelbarer Nachbarschaft
wandern.
Die Interferenzstreifen wurden auf einem 3»7 ^ von dem
Keil entfernt angeordneten Schirm an dem reflektierten
Laserlichtbündel beobachtet (die Divergenz des einfallenden Laserlichtbündels beträgt 2 ο = 6 m rad9 der
Einfallswinkel θ = 3°) -Eine Verschiebung der Wellenlänge
von 0,085 nm stellt sich als ein Abstand von 5 ram
auf dem Schirm dar. Die äquivalente Wihkeldispersion ist daher 0,016 rad/nm. Ähnliche Beobachtungen wurden
gleichzeitig mit einem mit 2 nsec-Impulsen gepulsten
Laser und einem Farblaser mit ununterbrochener Wellenlänge gemacht.
Andere, vergleichbare Beobachtungen sind schematisch in den Figuren 3A bis 3C dargestellt. In der Mg. 3A
bezeichnet I die Intensität eines divergenten, einfallenden
Laserlichtbündels. Diese Intensität ist für zwei unterschiedliche Wellenlängen Ä1 und λ2 die gleiche,
welche das Laserlichtbündel enthält»
j<ür die Wellenlänge X1, welche nahe der "Resonanz"
bei dem Fizeau1schen-Keil (kÄ1 ^ 2e-cos Θ) ist, tritt
eine große Winkeldispersion des reflektierten Lichtbündels auf (Fig. 3B). Mehrere Intensitätsspitzensekundäre
-Interferenzstreifen- erscheinen, wobei gewisse
von ihnen außerhalb des auftreffenden Fleckes des Laserlichtstrahlenbündels
liegen. Das erste Maximum kann die übrigen in bezug auf die Intensität weit übertreffen.
Es scheint, daß die Form der Interferenzstreifen nicht
nur von den mit dem Fizeau1 schen-Keil selbst zusammenhängenden
Parametern ((X, E, e, 9) abhängt, sondern auch
• "" ':'""' '·-"" ·:· 3 H0086
yr 45
von dem Querprofil der Intensität des einfallenden Laserlichtstrahlenbündels.
Aufgrund der Divergenz des reflektierten Laserlichtbündels;
welche im wesentlichen mit derjenigen des einfallenden Lichtbündels zusammenhängt, erscheinen die sich auf dem
Fizeau'schen-Keil befindenden Interferensstreifen "verstärkt" und sind ohne weiteres mit dem unbewaffneten
Auge in einem Abstand von mehreren Metern von dem Keil sichtbar.
Im folgenden wird die Anwendung dieser intensiven, von.
dem Fizeau1schen-Keil reflektierten Interferenzstreifen
beschrieben, um eine selektive und in einem Laserhohlraum einstellbare Rückwirkung zu erzielen»
In der Figur 4- bezeichnet das Bezugszeichen KL einen
(in Richtung des Lasers) halbdurchlässigen Spiegel, weichereines der Enden eines Laserhohlraums abschließt«
Dieser enthält in einem Gefäß eine Farbsubstanz COL, die
optische gepumpt werden kann. Die Anregungsmittel für das Gefäß mit dem Farbmittel sind nicht dargestellt»
Auf der in bezug auf das Gefäß COL mit dem Farbmittel gegenüberliegende!Seite des Spiegels M^ ist ein Fizeau°
scher-Keil CF angeordnet, der die Achse des Laserhohlraums
in P schneidet.
Es ergibt sich eine divergierende Verteilung der reflektierten Energie, welche schematisch durch die Flecken
(rjvp^ Tj») dargestellt ist, deren Umfangslinien denjenigen
der Fig. 1B, 10 oder 3B ähneln. Sin total reflektierender
Spiegel MU ist angeordnet, um das reflektierte Lichtbündel
auf den Fizeau1schen-Keil zurückzuwerfen»
In der Stellung A des Spiegels Mp wird der Hauptfleck
TP nach P auf den Fizeau'schen-Keil und damit in den Laserhohlraum zurückgeworfen„ Der Laser arbeitet mithin
mit einem "breiten Band, welches diejenigen Wellenlängen
umfaßt, die nicht der ungefähren Beziehung k-ylQ - 2e'cos θ
gehorchen. ]?ür letztere erscheint ein Loch in dem "breiten
Band. Die Lage des oder der Locher in dem Spektrum kann durch Verschieben des Fizeau1 schen-Keils in seiner Ebene
eingestellt werden.
Wenn man statt den Spiegel EU senkrecht zur Richtung TA
des ohne Interferenz reflektierten Laserlichtstrahls .
einzustellen, diesen senkrecht zur Richtung PB des ersten, intensiven Reflexionsinterferenzstrexfen TF einstellt
(welcher genau einer Wellenlänge AQ entspricht), so legt
man die Emission des Lasers auf diese Wellenlänge fest, welche ebenfalls durch Verschieben des Fizeau1 schen-Keils
wie vorhergehend eingestellt werden kann. Indem man etwas
den Winkel des Spiegels Mp ändert, kann man von der
Winkeldispersion bezüglich der Wellenlänge um A profitieren,
welche vorhergehend beschrieben worden ist.
Es wurde auch festgestellt, daß für einen besonderen Wert
des Einfallswinkels θ auf dem Keil dieser einen selektiven
Reflexionskoeffizienten in bezug auf die Frequenz in Einfallsrichtung
aufweist. Bei einem Keil, wie er vorhergehend angegeben worden ist, liegt dieser Einfallswinkel
in der Größenordnung von Milliradian. Wenn man diese Beobachtung
ausnutzt, so erhält man einen sehr kurzen Hohlraum, wie es Fig. 5 zeigt. Der Fizeau1sche-Keil CF
wirft den ersten, intensiven Interferenzstreifen TP auf
die Achse des Laserhohlraums zurück, die durch.das Ge-
OQ ·
faß COL mit dem Farbmittel und den halbdurchlässigen
Spiegel ML-. (dessen rückwärtige Fläche vorzugsweise leicht
geneigt ist) verlauft» Vorteilhafterweise steigert man noch das Trennungsvermögen indem man eine oder mehrere Blenden
auf beiden Seiten des Gefäßes mit dem Farbmittel anordnet. 35
3U0086
Ein jFizeau'scher-Keil wurde mittels zweier dünner Glasplättchen
mit einer Dicke von 10 mm und einem Durchmesser
von 40 mm gebildet. Diese Plättchen wurden mit einer mehrfach-dielektrischen Beschichtung versehen,
was einen Reflexionskoeffizienten R = 0,99 ergab=, Solche
Plättchen können insbesondere von der optischen Abteilung der französischen Gesellschaft MATRA erhalten werden»
Diese Plättchen waren durch eine Luftschicht mit einer
10
Dicke von e = 20 ^m voneinander getrennt» Die vertikale
Einstellung des Keilendes wurde durch Beobachtung der Fizeau'schen-Interferenzstreifen erhaltene Der Streifenabstand
wurde auf 10 mm festgelegt, was einen Winkel
DC β 3.10~^ rad bei λ = 0,6 um entspricht» Der verwandte
'
Laserhohlraum, der gemäß 3?ig. 5 angeordnet war9 hatte
eine Länge von 8 cm. Das Gefäß mit dem JFarbmittel bot
eine Strecke von 10 mm, welche von dem fokussierten Strahlenbündel eines Stickstofflasers gepumpt wurde,
welcher Impulse von 2 ns mit einer !Frequenz von 10 Hz
20
lieferte. Der Austrittsspiegel ÜL bestand aus einer nicht
beschichteten Platte mit einem Winkel von 4° zwischen der Eintritts- und der Austrittsfläche» Zwei Blenden von
0,3 inm wurden auf beiden Seiten des Gefäßes angeordnet„
Das Laserausgangsspektrum wurde mit einem Doppelmono-25
chromator SPEZ 1400 beobachtet, welcher mit einem optischen
Vielkanalanalysator ausgerüstet war= Die Energie
am Ausgang wurde mit einem Joulemeter EK 3232 (LPG) gemessen.
Durch Einstellen des Keils und des Austrittsspiegels,
um eine maximale Laserenergie zu erhalten, erhält maa
eine Emission mit einem breiten Band, welches sich über 5 um erstreckt, wobei ein schmales Loch auftritt, wie
g5 es die !Fig. 5 zeigt. Die Divergenz des Laserstrahlenbündels
betrug ungefähr 6 mracJL Wenn man die Gesamtheit
3H008-6
des Keils um 3nu?ad verschwenkt, gelangt man von einer
Breitband-Emission zu einer Emission mit einem schmalen Streifen (Pig. 6C). Bei einem dazwischenliegenden Winkel
von 1,5 mrad (I1Xg. 6B) erhält man eine Kombination des
breiten Bandes, des schmalen Loches und der Spitze des schmalen Streifens. Bei der besten bei einem Verschwenken
um + 5 mrad (Fig. 60) erhaltenen spektralen Einengung
war die Intensität des breiten Bandes um zwei Millionstel der Intensität der Spitzenlinie kleiner.
Bei der Verwendung von Blenden mit 0,5 mm wird mehr als
50% der Energie des gesamten Bandes (1Ou J) auf eine
Streifenbreite von 0,1 nm verdichtet. Bei Blenden von 0,3 mm kann die Streifenbreite bis auf 0,01 nm (gemessen
mit einem Fabry-Perot- Etalon von 4- mm) verringert
werden, und der Gewinn an EnergLeverdx cht ung bleibt bei ungefähr 10%.
Die veränderbare Einstellung dieses Streifens (schmales Band) auf mehr als 10 jam (mithin mehr als die Breite des
gesamten Bandes) konnte durch Verschieben des Keils erreicht werden. Bei dem verwandten Keilwinkel setzt sich
eine Verschiebung um 1 um in eine Verschiebung von
-4-8. 10 nm bei der Wellenlänge des Streifens um. Bei
dem verwandten IPi ζ eau1 sehen - Keil (nützlicher Durch-2^
messer von 30 mm) erstreckt sich die mögliche Einstellbreite
über 24- nm.
Ueben dem Vorteil, kürzere Laserhohlräume zu ermöglichen
und infolgedessen einen besseren Einzel-Moden-Betrieb, bietet der Fizeau1sche-Keil noch einen anderen Vorteil.
Man erhält ohne weiteres eine Ansprechzeit unterhalb einer Hanosekunde, (die Ansprechzeit ist definiert durch
7? = T/1 n __ » worin T die mittlere Hin- und Rücklauf zeit
E
in dem Keil bedeutet. Man erreicht bis Z - 15 ps für
H = 0,99. Man erreicht somit eine sehr leistungsfähige,
spektrale Verdichtung und diese selbst mit sehr kurzen
Pumpimpulsen, wie sie beispielsweise bei einem Stickstofflaser auftreten.
Aufgrund der Tatsache, daß der Übergang von der Emission
mit breitem Band zu derjenigen mit einer schmalen Spitze sehr einfach und mit einer großen Reproduzierbarkeit
erfolgt, ist die Einrichtung nach der Erfindung für das Gebiet der Fotolumineszenz und für Torrichtungen bei der
Laser-Spektroskopie interessant. 51Ur sich selbst gesehen,
kann das breite Laserspektrum mit schmalem, einstellbarem Loch zur selektiven Anregung atomarer oder mole-
kularer Stoffe mit Absorption in einem schmalen Streifen
verwandt werden.
Im folgenden werden verschiedene andere besondere Anwendungen
des Fizeau'schen-Keils bei Lasern beschrieben» 20
In der Pig. 7A sind ein Austrittsspiegel· M^ und ein Gefäß
COL mit einem Farbmittel gezeigt, welches durch nicht dargestellte Mittel erregt werden kann. Auf der linken
Seite in dieser Figur ist das Ende des Laserhohlraums durch den Fizeau'schen-Keil CF,- begrenzt» Vor diesem
jedoch ist.ein zweiter Fizeau'scher-Keil CFp angeordnet,
welcher im Durchlicht bzw. in Transmission arbeitet» Mit α und OC1 sind die Winkel der Keile CF1 bzw* CF2
und mit e und e1 ihre Dicken auf der Höhe des Laser-
3^ lichtbündels bezeichnet. Die Verwendung des zweiten
Keils CFp erlaubt, benachbarte Hauptordnungen bei der Einstellfrequenz auszuschließen, da gilt j3 = j3s «.
«?c a:
Die frequenzmäßige Einstellung wird automatisch gegenseitig
durch gemeinsame Verschiebung der zwei Keile aufrechterhalten.
'"" "'' 3U0086
Die Fig. 7B zeigt ein anderes Beispiel der Trennung von
Ordnungen in einem Laserhohlraum, wobei dieses Mal zwei
Fizeau'sche-Keile mit Reflexion verwandt werden. Einer
CF,, "bleibt links, während der andere CPo ä.en Spiegel EL
auf der rechten Seite des Laserhohlraums ersetzt. Das
Gefäß COL mit dem Farbmittel ist zwischen beiden angeordnet. Das reflektierte Bündel wird durch einen total
reflektierenden Spiegel KR herausgeführt. Wenn einmal die Abstimmbedingungen vorliegen, kann das Gefäß senkrecht
zur optischen Achse des Hohlraums verschoben werden, was die automatische Einstellung der beiden Fizeau1 sehen—
Keile sicherstellt (wenn ja = _e' ) ·
cc φ
Unter gewissen Bedingungen kann der Spiegel MR wegge-IB
lassen werden. Tatsächlich wurde festgestellt, daß der
Fizeau1sche-Keil auch anstelle des Austrittsspiegels
des Laserhohlraums treten kann, wenn dieser mit einem schmalen Streifen arbeitet.
Diese Möglichkeit ist in der Fig. 8 angewandt, wo der Laserhohlraum (mit dem Farbmittel COL) einerseits durch
ein Beugungsgitter in Littrow-Anordnung (mit HL bezeichnet) und andererseits durch einen Fizeau1 schen-Keil CFS begrenzt
ist. Dieser wird vorzugsweise ziemlich dick gewählt, um sehr schmale Streifen zu ergeben, die als
Ergebnis hiervon wiederum sehr nahe beieinander liegen. Das Trennungsvermögen des Gitters erlaubt, einen dieser
Streifen zu isolieren. Diese Ausbildung ist insbesondere wegen seiner einfachen Anordnung interessant, welche lediglich
ein Gitter mit sehr kleinen Abmessungen benötigt.
In der Fig. 9 ist nun eine andere Abwandlung dargestellt, die darauf abzielt, ganz besonders den Einzel-Moden-Betrieb
des Lasers bei einem Laser mit Ringanordnung zu unterstützen.
rr a*
3H0086
Der Einglaser ist hier durch einen Keil CF, einen Austrittsspiegel
It| und durch einen weiteren, halbdurchlässigen
Spiegel M2 festgelegt, hinter dem ein total reflektierender
Spiegel ME folgt. Das Gefäß mit dem Farbmittel ist zxfischen
ü| und CF angeordnet, wobei seine Anregungsmittel nicht
dargestellt sind. Eine Verschiebung des Fizeau'sehen.
Keils C1F in seiner Ebene erlaubt, die Laserfrequenz einzustellen.
Ein solcher Einglaser mit einer Eichtung schließt die Probleme aus, welche mit der Eaumsättigung
in dem Verstärkungsmittel zusammenhängen und erleichtert dadurch, einen Einzel-Moden-Betrieb zu erhalten» Selbstverständlich
kann man auch dort mehrere Fizeau"sehe Keile
als Spiegel statt eines einzigen verwenden«,
Im folgenden werden andere Laser mit Fizsau^chen-Keilen
beschrieben, die getrennt auf zwei unterschiedliche Wellenlängen abgestimmt werden können»
Eine erste Ausbildung ist in Fig. 10 dargestellt= Der
Eohlraum arbeitet zwischen dem Austrittsspiegel M^ und
dem Keil CF^ bei der Wellenlänge /\1 (gerade verlaufender
Strahlengang durch das Farbmitte lge"faß)» Entsprechend den
vorher bezüglich der Fizeau1 schen-Keile gemachten Darlegungen
werden andere Wellenlängen durch CFx, unter
einem unterschiedlichen Winkel reflektiert«. Ein total reflektierender Spiegel MEP, der ein Loch zum Durchgang
des zwischen Mx. und CFx, gerade verlaufenden Strahlenbündels aufweist, schickt die anderen Wellenlängen auf
einen zweiten Fizeau'sehen-Keil CF0, welcher selektiv
' 2>
eine Wellenlänge λ 2 in Eichtung auf MSP und CF^ zurückwirft, damit sie schließlich auf der optischen Achse
zwischen CFx. und Mx, zurückkehrt«, Man sieht, daß die
Verschiebung von CFxJ in seiner Ebene A-j abstimmt,
während diejenige von CF0 λ « abstimmt. Es wird darauf
c. c.
hingewiesen, daß für ^2 der Fizeau'sche-Keil CF^ ein
" \ft : ""■■-:-. 3U0086·
Spiegel mit einen Reflexionsgrad von 99% ist, ein Reflexionsgrad,
der unmöglich durch "bekannte Verfahren
erreicht wird, um einen Laser mit zwei getrennt voneinander einstellbaren Wellenlängen herzustellen.
Die Fig. 11 stellt allgemeiner die Ausbildung der Pig. 10 dar, wobei der zweite Fizeau'sche-Keil CEp durch
einen zweiten, selektiven Reflektor von irgendeiner
Art, wie z.B. ein Beugungsgitter ersetzt ist. 10
Es wurde im einzeln die Ausbildung des Lasers dargestellt, die bei allen vorhergehend beschriebenen Fällen angewandt
werden kann: zwischen dem Keil CFx, und dem halbdurchlässigen Austrittsspiegel KL1 (dessen Rückseite ist
um 4·° geneigt) ist ein Gefäß mit einem Farbmittel COL angeordnet, welches durch Pumpen quer durch eine geeignete
Fokussierungsoptik L, wie z.B. eine Zylinderlinse angeregt wird. Vorzugsweise ist eine Blende zwischen
dem Gefäß COL und dem Fizeau1sehen Keil CF^ angeordnet.
20
Die Wellenlänge X^ (sie wird an dem ersten sekundären
Interferenzstreifen des Keils Ci^ - Fleck TF-reflektiert)
läuft zwischen CFx, und KL hin und zurück.
Der übrige Anteil der Wellenlängen, welcher in einem .
einzigen Hauptfleck TP enthalten ist, wird unter einem kleinen Winkel abgelenkt und von dem total reflektierenden
Prisma P empfangen,um zu dem zweiten selektiven Reflektor zu gelangen, welcher nur die Wellenlänge X0 zurückschickt;
diese kehrt längs des gleichen Weges zurück, um auf die optische Achse zwischen CFx, und KL zu gelangen. Der Austrittsspiegel
KL liefert daher zwei Wellenlängen K* und
>2? ä-ie voneinander unabhängig eingestellt werden können,
eine durch Verschiebung von CFx, in seiner Ebene und die
andere durch das Spiel des zweiten, selektiven, einstell-
baren Reflektors SSR.
Hierfür ist der Fizeau1sche-Keil CP um einen kleinen
Winkel θ gegenüber dem normalen Einfallswinkel des Laser— lichtstrahlenbündels (M- - CF,,) versetzt. Der jeweils besondere
Wert von θ (einige Milliradian) entspricht dem Littrow-Einfallswinkel für das Beugungsgitter SSR0, Dieses
schickt dann in der gleichen Richtung nur eine einzige Wellenlänge Xg zurück. Man sieht, daß die Verschiebung
von CIP^ in seiner Ebene nur die "Resonanzdicke" des
Keils und damit X- verändert. Die Abstimmung durch Verschieben ist linear in bezug auf die Einheiten der
Wellenlänge.
Dieses Beispiel betrifft die Ausbildung gemäß Figo 11 „
Der Keil CXj ist in dem Hohlraum eines Lasers mit Rodamin
6G- in Ethanol angeordnet, der durch einen Stickstoff laser
von 100 kW gepumpt wird. Der Keil CJVj wird aus zwei
Spiegeln mit einem Reflexionsvermögen von 0,99 gebildet, die auf der Höhe des Strahlenbündels 20 ^im voneinander
getrennt sind und einen Winkel von ^C- 6 seko bilden»
Der Einfallswinkel des Laserstrahlenbündels (die Strecke
Mx| - CX1 = 9 cm) auf den Keil ist 9=6 mrad. Das zweite
streuende Element SSR ist ein Beugungsgitter mit 2400 Linien/mm, welches unter dem Littrow-Einfallswinkel ausgerichtet ist. (Selbstverständlich kann man zusätzliche,
optische Einrichtungen verwenden oder einen streifenden Einfall auf das Gitter). Die Blende D beträgt 0,4 mm»
Die selektive Reflexion aufgrund von Cl^ gibt einen
ersten Laserstreifen bei X^, mit einer Breite von O902 Jim
(gemessen mit einem Ifabry-Perot-Etalon von 4 mm). Dieser
Streifen kann über 9 nm durch Verschieben des Keils bewegt
werden. Drei unterschiedliche Abstimmungen von
sind in den Fig. I3A bis I3C dargestellt, wobei X~
fest ist. Wie vorhergehend wurden die Aufzeichnungen mit
' einem Monochromator SEEX, der mit einem otpischen Vielkanalanalysator
ausgerüstet war, vorgenommen. Die Streifen Χ* sind ausgehend von Punkten wiedergegeben, welche an
der Grenze des Auflösungsvermögens der Heßeinrichtung liegen (ihre Amplitude ist in der Zeichnung infolgedessen
nicht repräsentativ).
Andererseits ist die Abstimmung auf den Streifen A-, aufgrund
des Gitters SSR größer (0,5 nm) und dieser Streifen kann über 40 nm verschoben werden. Drei unterschiedliche
Abstimmungen sind in den Fig. 13D bis 133? bei festem X^
dargestellt.
Die Intensität eines jeden Streifens kann verändert werden, indem die vertikale Einstellung des Keils oder des Gitters
geändert wird. Daneben kann die Intensität des Kammes des Streifens Ax, aufgrund des Keils CF^ um mehr als eine
Größenordnung höher als diejenige des Streifens fts, aufgrund
des Gitters SSE sein. Bei einer optimalen Energieeinstellung
für die beiden Streifen (hier 581,5 und 583*0
nm) betrugen die mit einem Joulemeter BK-3232 gemessenen Energien 3»4- JiJ für A-^ und 7S8 uJ für X~. Unter Berücksichtigung
der Impulslänge, welche 1,6 ns betrug, entspricht dies einer Leistung von einigen Kilowatt.
Es wird darauf hingewiesen, daß die Energien der zwei Streifen miteinander vergleichbar sind, während der
Streifen ^ aufgrund des Keils viel schmaler als der andere
ist: dies zeigt sehr gut den Mutzen des Fizeau1 sehen Keils
als Element zum Abstimmen der feinen Streifen' (wenn man
den Fizeau'schen-Keil durch einen totalreflektierenden .
Spiegel ersetzt, ergibt sich bei einem breiten Band die Austrittsenergie des Lasers zu 30 P.J)· In der Pig. 13
*■ " - ·: "' ""' 3 14O086
ρτ as
ist ebenfalls zu erkennen, daß die zwei Streifen vollkommen
unabhängig voneinander abgestimmt werden können, obgleich für die Abstimmung eine einfache, Experimentalmechanik
verwandt wird.
5
5
Die Pig. 12 zeigt eine Abänderung der Ausbildung gemäß
der !"ig. 11. Bei dieser Abänderung dient ein einziger
IFizeau'scher-Keil CF^ dazu, die zwei Streifen unabhängig
abzustimmen: das von dem totalreflektxerenden Prisma Έ
empfangene Strahlenbündel wird durch einen totalreflektie—
renden Spiegel m auf einen zweiten Bereich J des Pizeau"
schen-Keils gelenkt, welcher etwas von dem. Bereich I
beabstandet ist, wo die selektive Reflexion für X^ er=
folgt. Die Reflexion von m nach J erfolgt in einer Richtung
parallel zu derjenigen der optischen Achse des Lasers (von I bis M^).
Um ,^ abzustimmen wird der Pizeau1sche-Keil CF^ in seiner
Ebene zusammen mit dem Spiegel m verschoben» Um "X.^ ab·=
zustimmen, bleibt der Keil CS1,, fest und der Spiegel m
wird parallel zur Vorderseite des Keils (oder der Ebene des Keils) verschoben, wobei der Spiegel mithin parallel
zu sich selbst bleibt. Mit demselben Keil wie beim Beispiel 2 wurden zwei breite Streifen von 0,02nm erhalten„
die unabhängig voneinander über mehr als 5 nm (eine Begrenzung
wegen der mechanischen Verschiebung) abgestimmt werden konnten. Man kann die beiden Streifen sehr nahe
aneinander oder selbst in Koindizidenz führen, da die zwei unterschiedlichen Dicken des Keils (bei I und J)
^Q mit zwei unterschiedlichen Ordnungen verwandt werden
können. Bei einem Keilwinkel OC= 3 · ΙΟ"'7 rad und
Xp = 0,6^m sind die aufeinanderfolgenden Fizeau" sehen Interferenzstreifen
auf dem Keil 1 cm und Wellenlängen- · mäßig (bei e = 2O7Um) um 9 nm beabstandet. .Die Leistung
ist ungefähr die gleiche bei den beiden Streifen (einige Kilowatt).
""■■■■ ------ ';-* -:· 3U0086
ar &b
Die so erhaltenen Laser mit zwei einstellbaren Wellenlängen weisen den Vorteil auf, daß sie praktisch, gesehen
ohne Verlust bei der Auftrennung des Strahlenbündels arbeiten, welche in dem Hohlraum erfolgt,.wobei, wenn
erforderlich sehr schmale Streifen vorliegen und eine große Abstimmbreite möglich ist.
Solche Laser dienen insbesondere zum Messen der Luftverschmutzung mittels LIDAR-Technik: einer der Streifen
wird ausgewählt, um durch den festzustellenden Stoff absorbiert zu werden, während der andere mit einer benachbarten
Frequenz als Bezug, für die Intensität dient.
Nachdem verschiedene,; bevorzugte Anwendungen des Fizeau1
schen-Keils bei Lasern beschrieben worden sind, werden
die folgenden Vorteile, welche erzielt werden, zusammengefaßt
: ' -
Selektive, richtungsmäßige und winkelmäßig brechende
20
Rückkehr um eine gewollte Wellenlänge herum, wobei
ein Spiegel mit großem Reflexionsvermögen für die anderen
Wellenlängen gebildet wird;
Die translatorische Verschiebung, welche dazu dient, die
gewählte Abstimm—Wellenlänge zu verändern, ändert weder
'
die Rückkehrrichtung dieser gewählten Wellenlänge noch
diejenige der anderen Wellenlängen; Keine räumliche Verformung des reflektierten Lichtbündels,
welches durch die anderen Wellenlängen gebildet wird.
Diese Vorteile ergeben, daß der Fizeau1 sche-Keil bei
vielen anderen Anwendungen dienen kann, am häufigsten als feines Bündel (wenigstens längs einer Dimension)
und vorzugsweise»bei einem-Ieieht divergenten Bündel;
■ jedoch zeigen sich diese Vorteile ohne Zweifel'am besten
ob ■
bei Lasern.
Claims (18)
1. Optische Einrichtung von der Art eines Fizeau8 schen-Eeils,
wobei zwei teilweise reflektierende Oberflächen festgelegt und mit einem fortschreitend veränderlich zunehmenden
Abstand angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet , daß das. Reflexionsvermögen einer jeden
dieser Oberflächen größer als 0,6, vorzugsweise größer
als 0,9 ist und daß ihr Absorptionsvermögen klein istο
'·'■"■·* -" ' '■■■- -'· 3H0086
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Reflexionsvermögen in der
Fähe von 0,99 liegt.
3. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet , daß Mittel (COL) vorgesehen
sind, um ein Licht strahlenbündel auf eine der Oberflächen des Fizeau1 sehen Keils (CF) zu lenken, durch
welche einerseits ein schmales Wellenlängenband selektiv in eine gewisse Richtung und andererseits der restliche,
das enge Band eingrenzende Wellenlängenbereich in eine andere Richtung reflektierbar ist, welche die übliche
Reflexionsrichtung an einem Spiegel ist, und daß Mittel
vorgesehen sind, die einen der zwei reflektierten Teile des Lichtbündels verwenden.
4-. Einrichtung nach Anspruch J, dadurch ge k e η η zeichnet
, daß das auf den Fizeau1 schen-Keil
auftreffende Bündel divergent ist.
20
20
5. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4-, dadurch
gekennzeichnet , daß der Fizeau1sche-Keil
eine der reflektierenden Wandungen eines Laserhohlraums
bildet. .
6. Einrichtung nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet , daß der Laserhohlraum eine Farb-Lichtverstärkungssubstanz
enthält.
7* Einrichtung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet , daß eine Lochblende (D)
zwischen dem Fizeau1sehen Keil (CF) und der Lichtverstärkungssubstanz
(COL) angeordnet ist.
8. Einrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 7>
dadurch gekennzeichnet , daß der Fizeau'sche-Keil
3 . ■
derart angeordnet ist, daß durch ihn das schmale Wellenlängenband,
welches selektiv reflektiert wird, längs der optischen Achse des Laserhohlraums zurückgesandt wird=
9» Einrichtung nach einem der Ansprüche 5 "bis 7? dadurch
gekennzeichnet , daß der JFizeau'sche-Keil
derart angeordnet ist, daß der Eest der Wellenlängen
mit Ausnahme des engen Wellenlängenbandes, welches selektiv reflektiert wird, längs der optischen Achse
des Laserhohlraums zurückgesandt wird.
10. Einrichtung nach Anspruch 8, dadurch g e k e η η zeichnet
, daß der ΙΊζβ&αι1 sche-Keil derart angeordnet
ist, daß er unmittelbar das schmale Wellenlängen-"band, welches selektiv reflektiert wird, längs der optischen
Achse des Laserhohlraums zurückgesandt wird»
11. Einrichtung nach einem der Ansprüche 5 "bis 8 und 10,
dadurch gekennzeichnet , daß der Fizeau"
sche-Keil (CES) als Austrittsspiegel für den Laserhohlraum
dient.
12. Einrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet , daß in dem Laserhohlraum dem Fizeau"
schen-Keil (Ci1S) gegenüberliegend ein Beugungsgitter ,
(BL) vorgesehen ist.
13· Einrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 8, 10 oder
11, dadurch gekennzeichnet 9 daß ein zweiter
Fizeau1scher-Keil (CEp) in Transmissionsbetrieb in dem
Strahlengang des Laserbündels angeordnet ist.
14.. Einrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 8, 10
oder 11, dadurch gekennzeichnet , daß ein
zweiter Fizeau1scher-Keil (CFp) als reflektierende
Wandung in dem Laserhohlraum vorgesehen ist»
'■'- ■'-- "--· -:- 3H0086
15. Einrichtung nach einem der Ansprüche 8 oder 10 "bis 15»
welche auf den Anspruch 8 zurückzubeziehen sind, dadurch gekennzeichnet , daß ein zweites, eine
optische Trenneinrichtung bildendes Element "vorgesehen und so angeordnet ist, daß es die anderen Wellenlängen
mit Ausnahme des engen, selektiv längs der optischen Achse durch den 3?izeaü' schen-Keil reflektierten Bandes
empfängt, und daß durch die zweite, optische Trenneinrichtung ihrerseits ein anderes schmales Wellenlängen-*
band längs der optischen Achse des Laserhohlraums zurückgeworfen wird, wodurch ermöglicht wird, den Laserhohlraum
getrennt auf zwei unterschiedliche Wellenlängen abzustimmen.
16. Einrichtung nach Anspruch 15? dadurch gekennzeichnet, daß die zweite, optische Trenneinrichtung
ein Beugungsgitter umfaßt. ■
17· Einrichtung nach Anspruch 15i dadurch g e k e η η zeichnet,
daß die zweite, optische Trenneinrichtung einen im Eeflexionsbetrieb verwandten Pizeau1 schen-Keil
umfaßt. .
18. Einrichtung nach Anspruch 15 j dadurch g e k e η η zeichnet,
daß die zweite, optische Trenneinrichtung einen anderen Bereich des ersten Pizeau1schen-Keils
umfaßt.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8021621A FR2492176A1 (fr) | 1980-10-09 | 1980-10-09 | Dispositif selecteur optique utilisant un coin de fizeau en reflexion |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3140086A1 true DE3140086A1 (de) | 1982-04-29 |
Family
ID=9246718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19813140086 Ceased DE3140086A1 (de) | 1980-10-09 | 1981-10-08 | "optische trenneinrichtung mit einem fizeau'schen-keil in reflexion" |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4468775A (de) |
| DE (1) | DE3140086A1 (de) |
| FR (1) | FR2492176A1 (de) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0624277B2 (ja) * | 1986-01-28 | 1994-03-30 | 浜松ホトニクス株式会社 | Cpmリング色素レ−ザ装置 |
| US4770536A (en) * | 1986-12-04 | 1988-09-13 | Moshe Golberstein | Reflective photometry instrument |
| US5488486A (en) * | 1991-03-11 | 1996-01-30 | Ricoh Company, Ltd. | Image processing system |
| US5226054A (en) * | 1991-09-18 | 1993-07-06 | Coherent, Inc. | Cavity mirror for suppressing high gain laser wavelengths |
| US5604592A (en) * | 1994-09-19 | 1997-02-18 | Textron Defense Systems, Division Of Avco Corporation | Laser ultrasonics-based material analysis system and method using matched filter processing |
| US5572542A (en) * | 1995-04-13 | 1996-11-05 | Amoco Corporation | Technique for locking an external cavity large-area laser diode to a passive optical cavity |
| FR2935845B1 (fr) | 2008-09-05 | 2010-09-10 | Centre Nat Rech Scient | Cavite optique amplificatrice de type fabry-perot |
| CN102540281B (zh) * | 2012-02-01 | 2014-09-24 | 中国科学技术大学 | 一种白光干涉位移传感器中楔形膜及其制作方法 |
| CN107402415B (zh) * | 2016-05-20 | 2020-10-30 | 福州高意光学有限公司 | 一种复合光学楔角片及其制作方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2442888A1 (de) * | 1973-11-29 | 1975-06-05 | Ibm | Laserresonator |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3498693A (en) * | 1967-01-24 | 1970-03-03 | Zenith Radio Corp | Radiation translating devices |
-
1980
- 1980-10-09 FR FR8021621A patent/FR2492176A1/fr active Granted
-
1981
- 1981-10-08 DE DE19813140086 patent/DE3140086A1/de not_active Ceased
- 1981-10-09 US US06/310,335 patent/US4468775A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2442888A1 (de) * | 1973-11-29 | 1975-06-05 | Ibm | Laserresonator |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| M. Born, E. Wolf "Principles of Optics" 3.Aufl. 1965, Pergamon Press, Oxford, S.351-360 * |
| R.S. Longhurst "Geometrical and Physical Optics" 2.Aufl. 1967, John Wiley and Sons, New York, S.186-188 * |
| US-Zeitschr.: "Appl. Phys. Lett.", Vol. 27, No. 6,15.9.1975, S. 344-346 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2492176A1 (fr) | 1982-04-16 |
| US4468775A (en) | 1984-08-28 |
| FR2492176B1 (de) | 1984-06-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0829120B1 (de) | Durchstimmbare, justierstabile laserlichtquelle mit spektral gefiltertem ausgang | |
| DE69701275T2 (de) | Lasersysteme | |
| DE2918863B1 (de) | Abstimmbarer Laseroscillator | |
| DE2258215A1 (de) | Selektive optische koppelvorrichtung | |
| DE3108177C2 (de) | Verfahren und Einrichtung zum Messen der Dauer von einzelnen kohärenten Strahlungsimpulsen | |
| DE4023175A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum gewinnen von daten zur bestimmung der dauer und frequenzmodulation von ultrakurzen laserpulsen | |
| DE2723418A1 (de) | Lasermoden-selektor-etalon | |
| DE2831813C2 (de) | Optisches Filter | |
| EP3652570B1 (de) | Polarisatoranordnung und euv-strahlungserzeugungsvorrichtung mit einer polarisatoranordnung | |
| DE69013265T2 (de) | Gepulstes parametrisches Lasersystem. | |
| DE102007033567A1 (de) | Phasenschiebe-Einrichtung und Laserresonator zur Erzeugung radial oder azimutal polarisierter Laserstrahlung | |
| DE3140086A1 (de) | "optische trenneinrichtung mit einem fizeau'schen-keil in reflexion" | |
| DE3781089T2 (de) | Gewellte reflektor-vorrichtung und freielektronenlaser-verfahren. | |
| DE69225130T2 (de) | Optischer spiegel und diesen verwendende vorrichtung | |
| DE69720164T2 (de) | Optisches Interferometer und Signalsynthesierer mit Verwendung des Interferometers | |
| DE102011085614B4 (de) | Lasersystem mit Resonator | |
| DE19642409B4 (de) | "Lasersystem mit externem Resonator" | |
| EP0801451B1 (de) | Abstimmvorrichtung | |
| EP0568738A1 (de) | Laseroszillator | |
| DE2704273A1 (de) | Laser | |
| DE10305268B4 (de) | Laseranordnung mit resonatorinterner Frequenzkonvertierung | |
| DE3721218A1 (de) | Mit verteilter rueckkopplung arbeitender laser | |
| EP3707542B1 (de) | Optisches system | |
| EP0416105A1 (de) | Selektiver interferenzlichtfilter und optische anordnung die diesen benutzt | |
| EP2738543A2 (de) | Interferometrische Messzelle, Spektrometer und Verfahren zur spektroskopischen Messung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8131 | Rejection |