DE3018603C2 - Verfahren zum Abfunken eines in einer evakuierten Kathodenstrahlröhre befindlichen Elektronenstrahlsystemaufbaus und Verwendung des Verfahrens - Google Patents

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs I₁ wie es aus der US-PS 40 52 776 bekannt ist. Die Erfindung "><> betrifft ferner die Verwendung des Verfahrens.

Bei der Herstellung von Kathodenstrahlröhren wird der Elektronenstrahlsystemaufbau gewöhnlich noch elektrisch behandelt, nachdem die Kathodenstrahlröhre vollständig zusammengebaut, evakuiert und abge- « schmolzen worden ist. Ein Schritt dieser elektrischen Behandlung ist das sogenannte Abfunken, bei welchem man zwischen benachbarten Elektroden, üblicherweise zwischen der Fokussierungselektrode und einer angrenzenden Elektrode, Funken überschlagen läßt. Durch die *>" Funkenüberschläge werden Vorsprünge, Grate und/ oder Partikel entfernt, an denen später im normalen Betrieb der Kathodenstrahlröhre eine Feldelektronenemission auftreten könnte.

Bei einem aus der US-PS 40 52 776 bekannten"» Abfunkverfahren werden der Heizer, die Kathode, die Steuerelektrode, die Schirnigitterelektrode und die Fokussierelektroden während des Abfunkens zusammengeschaltet und die Hochspannung zum Abfunken zwischen die Anode und die zusammengeschalteten Strahlsystemelemente gelegt

Aus der US-PS 37 36 038 ist ein Abfunkverfahren bekannt, bei dem eine Hochspannung zwischen die Anode und mehrere, zusammengeschaltete Strahlsystemelemente gelegt wird. Bei diesem Verfahren ist die Fokussierungselektrode über einen Widerstand mit den zusammengeschalteten Strahlsyste. !elementen verbunden. Dies bewirkt beim Anlegen der Hochspannung zuerst eine Entladung von der Anode zur Fokussierelektrode und darauf von dieser zu den übrigen Elektroden.

Zum Abfunken wenden gewöhnlich Hochspannungsimpulse mit einer Amplitude verwendet, die etwa gleich der doppelten maximalen Nenn-Betreibsspannung der Kathodenstrahlröhre ist

In den letzten Jahren sind die Betriebsspannungen von Kathodenstrahlröhren, insbesondere Fernsehbildröhren zunehmend größer geworden, so daß man auch zum Abfunken höhere Hochspannungen verwenden muß. Diese höheren Spannungen ergeben jedoch Oberschläge, die zu Haarrissen im aus Glas bestehenden Hals des Röhrenkolbens sowie zu Ablagerungen verdampften Metalles auf der Halsinnenseite und Isolatoroberflächen des Systemaufbaus führen können. Zur Verringerung dieser nachteiligen Wirkungen kann man die Behandlungszeiten erhöhen und die Spannungen herabsetzen, was jedoch zu einer entsprechenden Verringerung des Leistungsvermögens der Bearbeitungsanlagen und/oder einer Erhöhung der Herstellungskosten führt Außerdem kann ein Abfunken zwischen den G 2- und G 3-Elektroden sowie ein zusätzliches getrenntes Abfunken zwischen der G3-Elektrode und der Anode erforderlich sein.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einem Verfahren der eingangs genannten Art eine Konznetration von Funken- oder Lichtbogenenergie zwischen Anode und Fokussierelektrode zu vermeiden, so daß die Gefahr von Glasbeschädigungen im Röhrenhals vermindert wird.

Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs genannten Art mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.

Weiterbildungen und Ausgestaltugen des erfindungsgemäßen Verfahrens sind Gegenstand von Unteransprüchen.

Bei dem Verfahren gemäß der Erfindung kann man mit hohen Spannungen und kurzen Abfunkzeiten arbeiten, ohne daß die Gefahr einer Beschädigung des gläsernen Röhrenhalses besteht.

Das vorliegende Verfahren läßt sich auf beliebige Elektronenstrahlsysteme mit einer Kathode und vier oder mehr Elektroden, die unabhängig voneinander vorspannbar sind, anwenden. Der Elektronenstrahlsystemaufbau kann ein einziges Elektronenstrahlerzeugungssystem oder eine Mehrzahl von Elektronenstrahlerzeugungssystemen enthalten. Wenn mehr als ein Elektronenstrahlerzeugungssystem vorhanden ist, dann können diese Systeme in beliebiger geometrischer Anordnung angeordnet sein. Im Falle von Dreistrahlsystemen, wie sie beispielsweise bei den meisten Farbfernsehbildröhren verwendet werden, können die Strahlerzeugungssysteme eine Delta-Anordnung eine In-Linie-Anordnung oder irgendeine andere Anordnung aufweisen.

Das vorliegende Verfahren läßt sich beispielsweise für Zwei- und Drcipotcntial-Elektronenstrahlsystcmc

verwenden. Ein Zweipotentialsystem hat typischerweise einen Heizer und eine Kathode K, ein Steuergitter G1, ein Schirmgitter G 2, eine einzige Fokussierelektrode G3 und eine Hochspannungselektrode, die häufig als Anode oder mit G 4 bezeichnet wird. Obgleich man getrennte Elemente für jedes der drei Strahlsysteme einer Farbbildröhre benutzen kann, verwendet man gemäß neuerer Praxis für die drei Elektronenstrahlsysteme gemeinsame Elemente für G 1, GZ G 3 und die Anode. Ein Dreipotential-Elektronenstrahlsystem unterscheidet sich von einem Zweipotentialsystem dadurch, daß für die Fokussierung drei Fokussierelektroden anstatt nur einer benutzt werden. Ein Dreipotentialsystem hat üblicherweise einen Heizer, eine Kathode K, ein Steuergitter Gl, ein Schirmgitter G 2, drei Fokussierelektroden GZ, G 4 und GS und eine Anode, welche oft mit G 6 bezeichnet wird. Zum Zwecke der Beschreibung des vorliegenden Abfunkverfahrens sei hier auf ein Zweipotentialsystem für die prinzipielle Erläuterung Bezug genommen. Bei dem Dreipotentialsystem werden die drei Fokussierelektroden G 3, G 4 und G5 in derselben Weise behandelt wie die eine Fokussierelektrode G 3 bei einem Zweipoten'.ialsystcm.

Es sind verschiedene Verfahren zum Abfunken von Elektronenstrahisystemen bekannt, um die elektrischen Eigenschaften von Fernsehbildröhren zu verbessern. Bei den meisten dieser Verfahren erzeugt man Lichtbogen zwischen zwei benachbarten Elektroden, um Vorsprünge, Geräte und/oder Partikel zu entfernen, so daß die Feldemission von Elektronen zwischen den beiden Elementen beim Anlegen normaler Betriebspoitentiale erheblich herabgesetzt wird. In allen Fällen, wo man zwischen der Anode und der Fokussierelektrode G 3 Abfunküberschläge erzeugt, werden positive fluktuierende hochgespannte Gleichspannungsimpulse zwischen diese beiden Elektroden gelegt, während alle anderen Elektroden auf Massepotential gehalten werden. Alternativ kann man die Anode erden und negative fluktuierende hochgespannte Gleichspannungsimpulse an den übrigen Teil des Systemaufbaus legen. Die F<">rm, Größe und Wiederholungsrate der Hochspannungsimpulse variiert weit in Abhängigkeit von der Art der benutzten Abfunkapparatur.

Die am häufigsten für das Abfunken benutzten Spannungsimpulse sind sinusförmig und werden vom normalen Verlauf der Netzspannung abgeleitet. Es kann sich um Haibwellen handeln, wobei e'er niedrigste Wert entweder einen gewissen minimalen positiven Gleichspannungspegel oder Nullpotential hat. Man kann auch Vollwellen benutzen, wobei dann der niedrigste Wert üblicherweise auf Massepotential gehalten wird. Man hat auch sehr schnell ansteigende Impulse kurzer Dauer benutzt, dir manchmal durch Entladung eines Kondensators über eine kugelfunkenstrecke erzeugt worden sind, wobei der Impulsstrom oft 100 Ampere überschritiien hat. Obgleich die Leistung solcher Impulse sehr hoch ist, begrenzt die Dauer jedes Impulses (oft weniger ais I Mikrosekunde)die Energie des entstehenden Lichtbogens auf Werte, die für die Röhrenelemente noch sicher sind. Unabhängig von der Art der für das Abfunken verwendeten Impulse haben es die meisten Anwender für geraten gehalten, der Anode negntive Impulse zuzuführen.

In den letzten Jahren hat man Verbesserungen bezüglich der Fokussierung des Elektronenstrahlauftreffpunktes auf dem Schirm erreicht, indem die Fokussierelemcnte sowohl bei Zweipotential- als auch bei Drcipotcntialtypcn z'inehmend mit höheren Spannungen betrieben hat. Wenn dieser höheren Betriebsspannungen ist es häufig notwendig, zwischen der Fokussierelektrode G 3 und dem Schirmgitter G 2 abzufunken bei Dreipotentialtypen hat man ein Abfunken auch zwischen den verschiedenen Fokussierelektroden G 3, G 4 und G 5 für zweckmäßig gehalten. Früher hat man diese hohen Potentiale durch die Röhrenfußzuleitungen zugeführt. Wenn man nicht spezielle Vorkehrungen trifft, dann wird das Anlegen

κι ausreichend hoher Spannungen für die Elektrodenbehandlung durch Funkenbildung zwischen den Leitern im Röhrenfuß begrenzt.

Bei dem Abfunkverfahren, das in der US-PS 40 52 776 beschrieben ist, addiert man Hochfrequenzschwin- -» gungszüge sehr hoher Amplitude zu den fluktuierenden Gleichspannungsimpulsen relativ niedriger Amplitude, die zum Abfunken zwischen den Elektroden GT. und G 3 verwendet werden. Bei diesem Verfahren werden die fluktuierenden Abfunk-Gleichspannungsimpulse

2(i durch die Sockelstifte zu den Elektroden G 3 und G 5 eines Drdpotentialstrahlsystems geführt, und der HF-Schwingungszug wird über die Vorigen Sockelstifte zugeführt, weiche elektrisch zusammengeschaltet sind. Da die Sockelstifte aber dicht beieinander liegen, muß

v> man entweder die Spitzengleichspannungen auf relativ kleinen Werten halten, weiche die Wirksamkeit begrenzen, oder man muß besondere Vorsichtsmaßnahmen treffen, um einen elektrischen Durchschlag zwischen den äußeren Teilen der Röhrenfußleiter zu

in verhindern.

Unabhängig von dem verwendeten Abfunk-Verfahren unterliegen alle obenerwähnten bekannten Verfahren den folgenden Beschränkungen:

r> 1) Damit das Abfunken wirksam ist, müssen die Spitzenwerte der fluktuierenden Gleichspannung sehr hoch sein. Häufig verwendet man Werte etwa doppelter Größe der normalen Betriebspotentiale. Ragt ein relativ großer Vorsprung von der

4M negativen Elektrode (welche bei Abfunken als Kathode wirkt) weg, dann führt die hohe konzentrierte Energieanhäufung an dieser Stelle häufig zu Sprüngen im Glaskolben (Glashalsrisse) oder bewirkt das Niederschlagen einer übermäßi-

■r> gen Metallmenge am Glas des Halses oder an den Glasperlenisolatoren.

2) Zur Verringerung solcher unerwünschter Effekte vermeidet man eine übermäßige Aufheizung durch periodische Unterbrechung der Impulse und ein

■>i> minimales Tastverhältnis. Dadurch verlängert sich

aber die Gesamtzeit der Behandlung und es ergeben sich höhere Produktionskosten pro Einheit.

3) Für einige Röhreniypen, insbesondere solche, wo >". o.e Fokussierelektroden mit relativ hohen Potentialen arbeiten, muß man eigene Hochspannungsabfunkgeräte für das Abfunken zwischen den Fokussierelektroden und dem Schirmgitter G 2 vorsehen. Dieser zusätzliche Prozeß erfordert nicht

3f» nur entsprechend größeren apparativen Aufwand

mit zusätzlichen Kosten, sondern es müssen auch alle betreffenden Elektroden zugänglich sein, und damit wird für jede Elektrode eine eigene Durchführung notwendig. Dies ist teuer (sowohl

-.Ί anfangs als auch im späteren Verlauf) und kann

unter Umständ"n nicht kompatibel mit anderen Bearbeitungserfordernissen der Röhre sein. Es können auch andere Sockelfassurigen erforderlich

-.ein. clic üblicherweise zusätzliche Arbeitsgänge für das Auswechseln tier .Sockelfassungen mit dem einsprechenden zusätzlichen Zeilbedarf bei der Röhrenherstellung erforderlich machen.

Das vorliegende Abfunkverfahren überwindet die obenerwähnten Nachteile und beseitigt die Notwendigkeit, getrennte Spannungsquellen oder Behandlungsstationen für das Abfunken zwischen benachbarten Elektrodenpaaren vorzusehen. Bei diesem Verfahren können auch die höheren Spannungen benutzt werden, mit denen üblicherweise das Abfunken zwischen Anoue und Fokussierelektroden durchgeführt wird, jedoch entfällt die Notwendigkeit getrennter Niederspannungsquellen ebenso wie die Notwendigkeil. Anschlüsse für die Fokussierelektrode(n) vorzusehen. Zur Durchführung des Verfahrens wird oder werden die Fokussierelektrode(n) von allen Spannungsquellen (oder Masse) abgetrennt, so daß sie während des Abfunkens potentialfrei sind. In dieser Weise lassen sich alle üblichen bekannten Abfunkverfahren abwandeln. die oben erläutert worden sind.

Die Zuführung von hochgespannten fluktuierenden Gleichspannungsimpulsen zur Anode bei potentialfreier Fokussierelektrode(n) und gegebenenfalls die gleichzeitige Zuführung von Hochlrequenzschwingungszügen zu den Niederspannungselementen des Sirahlsysiems führt zur Erzeugung einer Reihe von Funkenüberschlägen, die sich über die gesamte Länge des Strahlerzeugungssystemes ausbreiten. Von der Anode geht ein Funken zu der oder den potentialfreien Fokussierelektrode(n). welche auf einen hohen Spannungspegel aufgeladen wird und dann ihrerseits zur Schirmgitterelektrode G2 überfunkt. Dieses mehrfache Funken bewirkt eine ionisierung entlang der gesamten Länge des Systemaufbaus und führt zu einem wirksamen Beschüß des Glashalses mit Elektronen, wodurch Versehmutzurigsschichten entfernt werden und die Wahrscheinlichkeit späterer Lichtbogenbildung verringert wird. Das Verfahren vermeidet auch die Konzentralion von Lichtbogenenergie an der Zwischenfläche zwischen Anode und Fokuselektrode und reduziert die Wahrscheinlichkeit von Glasbeschädigungen erheblich. Bei geeigneter Wahl der Spannungen - die tatsächlichen Werte hängen vom speziellen angewandten Verfahren und den hierbei auftretenden Energien ab — können die Anodenspannungsimpulse kontinuierlich zugeführt werden. Diese kontinuierliche Wirkung verringert die Gesamtzeit, welche für das Hochspannungsabfunken benötigt wird, und die Anzahl der notwendigen Apparaturen, so daß sich erheblich geringere Kosten ergeben.

Eine Kathodenstrahlröhre kann bei dem vorliegenden Verfahren in einer Folge von Stationen behandelt werden, bei denen für die verschiedenen Behandlungsschritte Programme für die der Kathode und den verschiedenen Elektroden jedes Elektronenstrahlsystem in der Kathodenstrahlröhre zuzuführenden Spannungen vorgegeben sind. Die Kathodenstrahlröhre kann von Hand oder mittels eines Förderbandes von Station zu Station transportiert werden, wie es in der Technik bekannt ist. Geeignete Förderer sind in den US-PS 29 17 357 und 36 98 786 beschrieben. Das Verfahren sei nun in Anwendung an die obenerwähnte Röhre mit Handtransport als Beispiel erläutert. An jeder Station wird die Röhre somit in einem Halter gesetzt, und es wird eine Sockelfassung an die Sockelstifte der Kathodenstrahlröhre angeschlossen.

Die generelle Abfolge der Schrille bei der Behandlung einer vollständig montierten Kathodenstrahlröhre umfaßt das Abiunken, dann ein kurzzeitiges Überheizen, dann die Niederspanmingsalteriing und gegebenenfalls die Hoclr.panniingsalterung. Dann kann ein Implosionsschulz an der Rohre angebracht werden. Gegebenenfalls kann sich nun ein weiterer Hochspannung^abfiinkschritt anschließen. Da all diese Verfahrensschritie außer dem vorliegenden Verfahren /um • Abfunken bekannt sind, brauchen sie hier nicht weiter ausgeführt zu werden.

Im folgenden werden Ausführiingsbeispiele der Erfindung unter Bezugsnahme auf die Zeichnung näher erläutert.
Es zeigt

F i g. 1 bis 4 schematische Darstellungen von Schaltungsanordnungen zur Durchführung von vier verschiedenen Ausführungsformen des vorliegenden Verfahrens.

F i g. i zeigt einen schematisehcn Seitenschrin durch eine Kathodenstrahlröhre 21 mil einer Frontplatte 23. die auf ihrer Innenseite einen Leuchtschirm 25 trägt. Die Frontplatte 23 ist mit dem größeren Ende eines Konus 27 dicht verbunden, dessen kleineres Ende sich in einen Hals 29 fortsetzt. Der Hals 29 ist durch einen Quetschfuß 31 abgeschlossen. Die Innenfläche des Konus 27 ist mit einem leitenden Überzug 33 beschichtet, weicherden Anodenkontakt 35 berührt.

Der Hals 29 enthält ein Zweipotential-Elektronenstrahlerzeugungssysiem. wie es beispielsweise in der US-PS 37 72 554 beschrieben ist. Dieses System enthält drei Zweipotentiaistrahlkanonen, von denen in F i g. 1 aber nur eine gezeigt ist. Das System enthält zwei Glashalterungsstäbe, an denen die verschiedenen Elemente der Kanone montiert sind. Diese Elemente umfassen einen Heizer 41. eine Kathode K. eine Steuerelektrode Gl. eine Schirmgitterelektrode C 2. cine Fokiissiere'.ekirode C 3 und eine Anode oder Hochspannungselektrode 43. Letztere ist über Kontaktfedern 45 mit dem leitenden Überzug 33 verbunden. Der Heizer 41. die Kathode K. die Steuerelektrode C 1 und die Schirmgitterelektrode C 3 werden nachfolgend als Niederspannungselemente des Systems bezeichnet und sind an getrennte Sockelstifte 47 angeschlossen, die durch den Röhrenfuß 31 ragen. Die Fokussierelektrode G 3 ist an einen getrennten Leiter 49 angeschlossen, ebenfalls durch den Röhrenfuß verläuft.

Während des Abfunkens sind der Röhrenfuß 31 sowie die Leiter 47 und 49 in eine nicht dargestellte Fassung eingesetzt, die Leiter 47 der Niederspannungselemente sind zusammengeschaltet und über einen Soctelfassungsleiter 53 mit Masse 51 verbunden. Die Leitung 49 für die Fokussierelektrode G 3 bleibt unangeschlossen oder elektrisch potentialfrei. Der Anodenkontakt 35 ist über eine Anodenleitung 55 mit einer Quelle 57 niederfrequenter Abfunk-Impulsspannung verbunden, die andererseits an Masse 51 liegt. Die Impulse steigen von Massepotential anfänglich auf Spitzenwerte um etwa minus 35 + 5 kV an und steigen dann in 90 bis 120 Sekunden auf Spitzenwerte von etwa minus 60 ±5 kV. Die Impulse werden durch eine halbwellengleichgerichtete Wechselspannung mit einer Frequenz um 60 Hz gebildeL Der positive Wert der Wechselspannung ist an Masse geklemmt Die Gesamtdauer der Impulse kann im Bereich von 0,1 bis 02 Sekunden liegen (6 bis 12 Zyklen), und der Zcitsbstand kann im Bereich von 0,5 bis 1,0 Sekunden liegen. Dadurch, daß die Elektrode G 3 potentialfrei bleibt wird das Abfunken wirksamer, man

kann höhere Sp;uiiuingen verwenden und man vermeidet dabei aber die üblicherweise auftretenden Nachteile, l·'i g. 2 ist ähnlich wie F i g. I nut Ausnahme der folgenden drei Punkte. Zunächst ist eine Quelle 59 hochfrequenter Spannlingsimpulse kurzer Dauer und schneller Anstiegs/eil in die Sockel/uleitung 53 /wischen Sockel und Masse 51 eingeschaltet. Die Impulse umfassen etwa 5 Zyklen einer gedämpften Wechselspannung von etwa JOOkH/. Zweitens umgibt ein Metallring 61 den Hals 29 etwa gegenüber der Anode 43. Der Ring fil ist über eine Ringleitung 63 mil der Anodenleitung 55 verbunden. Drittens enthiih die (nicht dargestellte) Sockelfassiing eine Isolierumhüllung, welche den außerhalb der Kathodenstrahlröhre befindlichen Teil der G 3-Leitung 49 umgibt und elektrisch isoliert. Diese Art von Sockelfassiing ist beispielsweise in den US-PS 40 76 366 und 41 27 313 beschrieben. Die hochfrequente Spannung von der Quelle 49 führt mit höherer Zuverlässigkeil /ti einer Lichtbogenbildung und /u einer Hochspannung, so daß Gasmoiekuie in der Nähe der Elektroden besser ionisiert werden und Gasionen sowie Lichtbögen wirkungsvoller unerwünschte Materialreste entfernen. Der Ring 61 verhindert Durchschläge des Halses und andere schädliche Auswirkungen gegen Finde des Abfunkens.

I' i g. J und 4 /eigen ähnliche Anordnungen wie die I' i g. I bzw. 2. außer daß das Zweipotenlialsystem durch ein Dreipolentialsystem ersetzt ist. Dieses Dreipotentialsystem ist hinsichtlich des hier beschriebenen Verfahrens ähnlich einem Zweipotcntialsystem. außer daß anstelle der einzigen F'okussierclekirode G 3 in bekannter Weise drei Fokussierelektroden C 3, G 4 und G 5 vorhanden sind, wobei die Elektroden G 3 und G 5 /usammengeschaltet sind und zwei getrennte Sockelstifte 49 an die Elektroden G 3 bzw. G 4 angeschlossen sind. Die .Sockelstifte 49 bleiben beide beim Abflinken unangeschlosscn. Das Abfunken wird hier in gleicher Weise ausgeführt, wie es für die F i g. 1 und 2 beschrieben worden ist, außer daß alle drei Fokussierelektroden G 3. G 4 und G 5 elektrisch potentialfrei sind.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (6)

Patentansprüche:

1. Verfahren zum Abfunken eines in einer evakuierten Kathoderstrahlröhre befindlichen EIektronenstrahlsystemaufbaus mit einem Heizer (41), einer Kathode (K), einer Steuergiiterelektrode (G 1), einer Schirmgitterelektrode (C2), mindestens einer Fokussierelektrode (G 3, G4.G5) und einer Anode (43), wobei der Heizer (41) die Kathode (K), die n> Steuergitterelektrode (Gi) und die Schirmgitterelektrode (G 2) zusammengeschaltet werden und eine Hochspannung zum Abfunken zwischen diese zusammengeschalteten Strahlsystemelemente und die Anode (43) gelegt wird, dadurch gekenn- ΐί zeichnet, daß die Fokussierelektrode oder -elektroden (G3, GA, GS) elektrisch unangeschlossen bleibt bzw. bleiben.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß als Hochspannung niederfrequente fluktuierende Gleichspannungsimpulse angelegt werden.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß hochfrequente Spannungsimpulse kurzer Dauer und schneller Anstiegszeit zwischen die Anode (43) und die zusammengeschalteten Strahlsystemelemente gelegt werden, während die Hochspannung zum Abfunken anliegt.

4. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Hochspannung an die Anode (43) gelegt wird und daß die zusammengeschalteten Strahlsystemelemente mit Masse verbunden werden.

5. Verwendung dts Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 4 zum Abfü ,ken eines Elektronenstrahlsystemaufbaus vom Zweipotentialtyp mit nur einer einzigen Fokussierelektrode (G 3), welche sich zwischen der Schirmgitterelektrode (Gl) und der Anode (43) befindet.

6. Verwendung des Verfahrens nach einem der -»o Ansprüche 1 bis 4 zum Abfunken eines Elektronenstrahlsystemaufbaus vom Dreipotentialtyp mit mindestens zwei Fokussierelektroden (G 3, G 4, GS).