DE3016132A1 - Verfahren zur herstellung von gegen hitzeschockeinwirkung widerstandsfaehigen gedruckten schaltungen - Google Patents
Verfahren zur herstellung von gegen hitzeschockeinwirkung widerstandsfaehigen gedruckten schaltungenInfo
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Date
Date
23. April 1980
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Republic National Bank Building Dallas, Texas 75201, V.St.A.
Verfahren zur Herstellung von gegen Hitzeschockeinwirkung widerstandsfähigen gedruckten Schaltungen
03U0U/0899
Die Widerstandsfähigkeit der Lochwandmetallisierung
von durchplattierten Löchern in gedruckten Schaltungen bei plötzlicher Erwärmung, dem sogenannten Hitzeschock,
wird gemäß der nachfolgend beschriebenen Erfindung erheblich gesteigert, wenn die die Lochwand bedeckende
Metallschicht aus drei Schichten besteht, von denen zwei aus einem elektrisch leitfähigen Metall und die
Mittelschicht aus einem Metall unterschiedlicher Leitfähigkeit bestehen. Vorzugsweise werden die Metalle so
gewählt, daß wenigstens zwei Metallschichten aus einem Metall mit einem großen Ausdehnungskoeffizienten bestehen,
während die dazwischenliegende Schicht eine Dehnung aufweist, die den beiden anderen Schichten entgegenwirkt.
Derartige Lochwandmetallisierungen weisen bei einem Hitzeschock, wie er beispielsweise beim Löten
auftritt, eine hohe Widerstandsfähigkeit gegen Blasenbildung, Brüche oder Abbauerscheinungen auf, die eine
Verschlechterung der Leitfähigkeit zur Folge haben.
Bei bestimmten Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen wird die Oberfläche des Isolierstoffträgers
einer Vorbehandlung unterzogen, um sie für die Metallabscheidung aus stromlos arbeitenden Bädern zu sensibilisieren.
Nach einem solchen Verfahren wird die Oberfläche des Trägers in den Bezirken, die dem gewünschten Schaltungsmuster
entsprechen, sensibilisiert und auf den so
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-Mr-
-s-
vorbehandelten Bezirken wird dann aus stromlos arbeitenden Metallabscheidungsbädern Metall abgeschieden.
Die Metallschicht kann dabei entweder ausschließlich aus stromlos arbeitenden Bädern abgeschieden werden oder nach
Erreichen einer gewissen Schichtdicke elektrolytisch verstärkt werden. Nach einem anderen Verfahren wird auf den
Isolierstoffträger vor der Metallabscheidung auf diesem eine Haftvermittlerschicht aufgebracht. Nach einem dritten
Verfahren wird das Schaltbild durch einen Ätzvorgang hergestellt, indem der kupferkaschierte Träger durch Aufdrucken
einer dem Leiterzugmuster entsprechenden Maske abgedeckt wird.
Nach einem allgemein üblichen Verfahren wird eine Schaltungsplatte
durch Bohren oder Stanzen mit Löchern versehen, die der Verbindung der Leiterzüge, beispielsweise
auf Ober- und Unterseite der Schaltungsplatte,dienen. Die Wandungen dieser Löcher werden für die stromlose Metallabscheidung
sensibilisiert oder es wird von Material ausgegangen, das bereits auf die stromlose Metallabscheidung
katalytisch wirksam ist. Nach dem Bohr- beziehungsweise Stanzvorgang liegen die katalytisch aktiven Partikel in
der Lochwand frei und es erübrigt sich ein besonderer Katalysierungsschritt.
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Da die Metallschicht auf der Lochinnenwand einen anderen
Ausdehnungskoeffizienten als das Isolierstoffmaterial der Trägerplatte hat, dehnen sich oder kontraktieren die
Metallschicht auf der Lochinnenwand und das die Lochinnenwand bildende Isolierstoffmaterial unter Hitzeeinwirkung
oder bei Abkühlung mit unterschiedlicher Geschwindigkeit, wodurch Risse und Brüche in der Lochwandmetallisierung
verursacht werden, die die Stromleitung verschlechtern oder sogar unterbrechen. Eine ebenfalls typische Folgeerscheinung
ist das Auftreten einer Spannung in der Metallschicht, welche ebenfalls zur Rißbildung beiträgt.
Bei der Herstellung gedruckter Leiterplatten tritt dieses Problem beispielsweise beim Lötvorgang auf. Der
Lötvorgang kann entweder durch Oberflächentauchen der Platte in das Lötbad oder durch Lötwellen erfolgen. Der
Lötzinnüberzug schützt die Lochwand vor Korrosion, beispielsweise bei längerer Lagerung vor der Weiterverwendung
der Platten.
Nach einem anderen Lötverfahren wird nach Abdrucken einer Lötzinn abweisenden und nur die Lochwandungen
freilassenden Lötmaske die Platte in das Lötzinnbad getaucht, so daß die
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Löcher sich vollständig mit Lötzinn füllen. Durch einen Blasvorgang
wird das noch geschmolzene, überschüssige Zinn aus den Löchern herausgeblasen, so daß nur ein Wandüberzug zurückbleibt.
Im Verlauf des weiteren Herstellverfahrens werden die Löcher, nachdem die Anschlußdrähte der Bauteile in diese eingeführt
wurden, vollständig mit Lötzinn gefüllt, um so einen sicheren Kontakt zu gewährleisten.
Diese Lötvorgänge verursachen selbst bei nur kurzzeitiger Dauer einen Hitzeschock und dadurch häufig Risse in der Lochwandmetallisierung.
'
Es ist ein Gegenstand der vorliegenden Erfindung, die Gefahr der Rißbildung in der Lochwandmetallisierung zu verringern.
Es ist ein weiterer Erfindungsgegenstand, die Widerstandsfähigkeit
der Lochwandmetallisierung gegen die Einwirkung des Hitzeschocks auf durchplattierte gedruckte Schaltungen
zu verringern sowie die gedruckten Schaltungen so zu gestalten, daß diese weniger anfällig gegen Hitzeschockeinwirkungen
sind.
Noch weitere Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens werden
aus der folgenden Beschreibung sowie aus den Beispielen ersichtlich.
Die vorliegende Erfindung gewährleistet eine Verbesserung der Widerstandsfähigkeit von LochwandmetaULsierungen in gedruckten
Schaltungen und ist dadurch gekennzeichnet, daß die Lochwandmetallisierung aus mindestens zwei Schichten eines elektrisch
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leitfähigen Metalles und mindestens einer Zwischenschicht aus einem Metall mit unterschiedlicher Leitfähigkeit besteht.
In einer vorzugsweisen Ausgestaltungsform der vorliegenden Erfindung besteht die Lochwandmetallisierung aus drei Schichten,
von denen die mittlere eine innere Spannung aufweist, die jener der beiden äußeren Schichten entgegengerichtet ist.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf elektrische Schaltungsplatten,
bestehend aus einer Isolierstoffträgerplatte, die mir Lochungen versehen ist, welche die Verbindungen zwischen
den in verschiedenen Ebenen angebrachten Leiterzügen darstellen, oder der Verbindung zwischen Leiterzügen und
AnSchlußdrähteη der Bauteile dienen. Die in einer oder mehreren
Ebenen angeordneten Leiterzüge entsprechen dem gewünschten Schaltungsmuster; die Löcher sind mit einem Metallbelag
versehen, der mindestens aus drei Schichten besteht, von denen zwei aus dem gleichen Metall hergestellt sind, während
die mittlere Schicht aus einem anderen Metall besteht.
Nach einer vorzugsweisen Ausgestaltungsform bestehen die innere und die äußere Schicht aus Kupfer und die Zwischenschicht
aus Nickel. Die Kupferschichten erleiden eine Druckspannung,
die Nickelschicht eine Zugspannung.
Die Ausdrücke '"Spannung" oder "gespannt" beziehen sich in
diesem Zusammenhang auf das physikalische Phänomen, das verursacht wird, wenn ein einseitig mit einer Isolierschicht
versehener Metallstreifen sich wölbt und eine bogenförmige Gestalt annimmt, nachdem er auf der nicht isolierten Seite
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mit einem Metallniederschlag versehen wurde. Die Druckspannung wird als "Kontraktionsspannung" und die Zugspannung
als "Dehnungsspannung" bezeichnet, was die entgegengesetzte physikalische Wirkung zum Ausdruck bringt.
Der Ausdruck "Druck(Kontraktions)spannung" bezeichnet in der
vorliegenden Beschreibung die Fälle, bei denen sich der oben beschriebene, einseitig isolierte Metallstreifen nach dem
Abscheiden einer Metallschicht auf der nicht isolierten Sei·?
te entsprechend einem konvexen Bogen verbiegt. Der Ausdruck "Zug (Dehnungs) spannung" bezeichnet die Fälle, bei denen der
Metallniederschlag einen konkaven Bogen zur ,'Folge hat.
Als allgemeine Regel kann angegeben werden, daß stromlos abgeschiedene Kupferschichten in der Regel einer Druckspannung
unterliegen, während die meisten anderen stromlos oder galvanisch aufgebrachten Metallniederschläge einer Zugspannung
unterliegen.
Der Grad der konkaven oder konvexen Wölbung ist direkt von der diese bewirkenden Spannung abhängig und kann nach bekannten
Verfahren gemessen werden. Ein derartiges Meßverfahren wird später in den Beispielen beschrieben.
Im allgemeinen werden die für die Lochwandmetallisierung
geeigneten Metalle unter jenen der Gruppe IVA, IB und VIII des Periodischen Systems der Elemente ausgewählt; als solche
kommen beispielsweise in Frage Kupfer, Nickel, Gold, Zinn, Blei, Silber, Palladium, Platin, Osmium, Eisen, Kobalt,
Rubidium, und ähnliche. Vorzugsweise werden Kupfer, Nickel, Gold und Zinn verwendet.
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Die Metalle werden in der üblichen Weise entweder aus stromlos arbeitenden oder aus galvanischen Bädern abgeschieden.
Die Dicke der abgeschiedenen Metallschicht variiert zwischen 2,5 und 35 μπι. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung ist die
absolute Schichtdicke der Metallschicht von geringerer Bedeutung; wichtig ist die Anordnung der einzelnen Schichten.
Die einzelnen Verfahrensschritte zur Herstellung von Gegenständen
nach der vorliegenden Erfindung werden in den nachfolgenden
Beispielen beschrieben.
Eine gedruckte Schaltplatte wird unter Anwendung des erfindungsgemäßen
Verfahren wie folgt hergestellt*
(1) Bohren oder Stanzen der Löcher in die Isolierstoff
platte ;
(2) Sensibilisieren der Lochwandungen und der Oberfläche
der Trägerplatte für die Metallabscheidung aus stromlos arbeitenden Bädern?
(3) Aufdrucken einer Abdeckmaske in den Bezirken, die nicht dem Leiterzugmuster entsprechen;
(4) Abscheiden einer ersten (inneren) Schicht aus elektrisch leitfähigem Metall auf den nicht von
der Maske bedeckten Bezirken und auf den Lochwandungen;
£5) Aufbringen einer zweiten (mittleren) Metallschicht
aus einem anderen als dem zuerst abgeschiedenen Metall;
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— -»7 —
(6) Aufbringen einer dritten (äußeren) Metallschicht aus dem gleichen Metall wie die zuerst aufgebrachte
Schicht;
(7) Entfernen der Maske, falls erwünscht.
Nach einer vorzugsweisen Abwandlung des unter 1 beschriebenen Verfahrens wird die Oberfläche der Isolierstoffträgerplatte
zunächst mit einer aus einer Harzmischung bestehenden Haftvermittlerschicht versehen. Die Oberfläche dieser Schicht
wird anschließend nach bekannten Verfahren mikroporös und benetzbar gemacht.
Das folgende Verfahren kann zum Herstellen von gedruckten Schaltungen verwendet werden, die mit einer Lötmaske versehen
sind:
(1) Herstellen eines Leiterzugmusters auf der Isolierstoff
träger-Oberflache nach dem bekannten Druck- und Ätzverfahren oder nach dem "Voll-Additiv"-Verfahren;
(2) Abdecken der gesamten Oberfläche mit einer Lötmaske ;
(3) Bohren oder Stanzen der Löcher;
(4) Sensibilisieren der Lochwandungen für die stromlose Metallabscheidung (dieser Verfahrensschritt
entfällt, falls die Platte aus katalytischen Material besteht);
(5) Metallisieren der Lochwandungen nach dem zuvor beschriebenen Mehrschicht-Verfahren;
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(6) Verzinnen der Löcher und der diese ringförmig umgebenden Oberflächenbezirke (Anschlußflächen).
Mit "Druck- und Ätz-" wird ein Verfahren bezeichnet, das allgemein in die Technik zur Herstellung gedruckter Schaltungsplatten
eingeführt ist. Die Oberfläche der Isolierstoffplatte wird mit einer dünnen Kupferschicht versehen, beispielsweise
durch Auflaminieren einer Kupferfolie oder durch stromlose Verkupferung nach entsprechender vorheriger Sensibilisierung
der Oberfläche für die Metallabscheidung aus
stromlos arbeitenden Bädern. Die dem Leiterzug-muster entsprechenden
Bezirke werden mit einer ätzfesten Maskenschicht unter Verwendung bekannter Druckverfahren abgedeckt, das
Kupfer wird in den nicht von der Maske bedeckten Bezirken weggeätzt und die Abdeckmaskenschicht entfernt.
Mit "Voll-Additiv" wird ein Verfahren bezeichnet, bei dem
eine Isolierstoffplatte nach bekannten Verfahren für die Abscheidung aus stromlos arbeitenden Bädern sensibilisiert ,
eine Abdeckmaske, die dem Negativ des vorgesehenen Leiterzugmusters entspricht, aufgedruckt, dann aus einem stromlos
Metall abscheidenden Bad auf den nicht abgedeckten Bezirken so lange Metall abgeschieden wird, bis die gewünschte Metallschichdicke
erreicht ist. Anschließend wird die Maskenschicht entfernt.
Statt der in Beispiel 2 beschriebenen Reihenfolge von Verfahrensschritten
kann auch wie folgt vorgegangen werden:
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(1) Bohren oder Stanzen der Löcher in einer Isolierstoff
trägerplatte mit oder ohne Kupferkaschierung ;
(2) Sensibilisieren der Lochwandungen für die Metallabscheidung aus stromlos arbeitenden Bädern (erübrigt
sich bei der Verwendung von katalytischem Material) ;
(3) Aufbringen der Leiterzüge entweder nach der
"Voll-Additiv"- oder der "Druck- und Ätz"-Technik;
(4) Abdecken der gesamten Oberfläche mit einer Lötmaske unter Freilassung der Lochwandungen und
der die Löcher ringförmig umgebenden Anschlußflächen;
(5) Abscheiden der Metallschichten auf den Lochinnenwänden in der erfindungsgemäßen Reihenfolge;
(6) Versehen der Löcher und der Lochumrandungen mit Lötzinn.
Dieses Beispiel beschreibt ein anderes Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen gedruckten Schaltungen.
(1) Eine beidseitig kupferkaschierte Isolierstoffträgerplatte
wird mit den entsprechenden Löchern versehen;
(2) Die Lochwandungen werden für die Metallabscheidung
aus stromlos arbeitenden Bädern sensibilisiert und auf diesen stromlos Kupfer in der gewünschten Schichtdicke abgeschieden
;
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(3) Die Oberflächen werden mit einer Negativabdeckmaske bedruckt, die die Leiterzüge des herzustellenden Schaltungsmusters
frei läßt;
(4) Kupfer wird galvanisch auf den freiliegenden Bezirken der Oberfläche sowie auf den metallisierten Lochinnenwänden
abgeschieden;
(5) Nickel wird galvanisch auf den freiliegenden Bezirken der Oberfläche sowie auf den Lochinnenwänden abgeschieden;
(6) Schritt (4) wird wiederholt;
(7) Eine Zinn-Blei-Legierung (Lötzinn) wird galvanisch auf den Lochinnenwänden und auf den freiliegenden Bezirken
der Plattenoberfläche abgeschieden;
(8) Die Negativ-Abdeckmaske wird entfernt und die darunter liegende Kupferschicht weggeätzt.
Stromlose wie galvanische Metallisierungsbäder, mit deren Hilfe Metallniederschläge abgeschieden werden, die spannungsbelastet
sind, sind in der Technik allgemein bekannt. Hier sollen besondersdie stromlos Metall abscheidenden Bäder zur
Herstellung von gedruckten Schaltungen erwähnt werden. Die typischen Bäder dieser Art bestehen aus einer wässrigen Lösung
von Kupferionen, einem oder mehreren Komplexbildner(n) für diese Ionen und einem oder mehreren Reduktionsmittel(n).
Zur Verbesserung der Duktilität der abgeschiedenen Metallschicht können gewisse Zusätze an Duktilitätsverbessernden
chemischen Verbindungen verwendet werden, wozu allgemein Cyanidverbindungen gehören, wie beispielsweise Alkalicyanide
wie Natrium- und Kaliumcyanid, die gewöhnlich in Mengen von
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1 bis 100 mg/1 den stromlos Metall abscheidenden Bädern zugesetzt werden; dem gleichen Zweck dienen auch Vanadiumpentoxyd
und Polyalkylenoxyde.
Der Zusatz derartiger Duktilitätsverbesserer bewirkt in der Regel, daß die abgeschiedene Kupferschicht eine verhältnismäßig
geringe Druckspannung aufweist, im Gegensatz zu Abscheidungen aus stromlos Metall abscheidenden Bädern ohne
derartige Zusätze, bei denen die abgeschiedene Metallschicht eine erhebliche Druckspannung aufweist.
Die stromlos arbeitenden Nickelbäder, wie sie entsprechend
der erfindungsgemäßen Lochwandmetallisierung verwendet werden, sind in "Metal Finishing" November 1954, S; 68 bis 76
sowie in den US Patentschriften 3 062 666 und 2 94 2 990 beschrieben.
Stromlose Goldbäder sind in den US Patentschriften 2 976 181,
3 589 916 und 3 396 042 beschrieben.
Im folgenden wird die Zusammensetzung einiger Kupfer-, GoId-
und Nickelbäder angegeben.
Kupfersalz (vorzugsweise
Kupfer(II)sulfat) 0,002 bis 1,2 Mol
Kupfer(II)sulfat) 0,002 bis 1,2 Mol
Reduktionsmittel (vorzugsweise Formaldehyd) 0,03 bis 3 Mol
Kupfer(II)ionen-Komplexbildner 0,05 bis 20ig fache
Anzahl der verwendeten
,,, , . , , ,, -, .-, „. Kupfersalzmole
Alkalimetallhydroxid zum Em- e stellen des pH Wertes, vorzugsweise
NaOH Zum Erzielen eines pH
von zwischen 10 und 14, vorzugsw. 11-14
(bei 25° C)
Mit Wasser auf 1 Liter auffüllen
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Das oben beschriebene Kupferbad ergibt Kupferabscheidungen mit einer erheblichen Druckspannung. Da diese in der Regel
nicht erwünscht ist, wird dem Bad 30 bis 50 mg/1 Kaliumcyanid zugesetzt.
Stromlos Nickel abscheidende Badlösung
Nickelsalz, vorzugsweise 0,01 bis 0,2 Mol Nickel(II)Chlorid oder
Nickel(II)sulfat
Nickel(II)sulfat
Reduktionsmittel, Vorzugs- 0,01 bis 1,0 Mol weise Dimethylaminboran
Nickel(II)ionen-Komplex- ,0,01 bis 0,5 Mol
bildner, vorzugsweise
Zitronen- oder Glykolsäure
Zitronen- oder Glykolsäure
Alkalihydroxyd oder Schwefel- Zur Erzielung eines säure zum Einstellen des pH Wertes von 4 bis 9,
pH Wertes gemessen bei Zimmer
temperatur (25° C)
Mit Wasser auf 1 Liter auffüllen
Die Druck- und Zugspannungen werden wie folgt gemessen:
Man nimmt einen Kupfermetallstreifen von 0,2 mm Dicke, 15 mm
Breite und 152 mm Länge. Die Oberfläche wird mit einer wässrigen
Reinigungslösung, beispielsweise ALTREX, von Verschmutzungen befreit, danach wird mit Wasser gespült. Eine
Seite des Kupferstreifens wird mit einer Maske bedeckt, beispielsweise RISTON. Der Streifen wird gleichzeitig mit anderen
zu metalliserenden Gegenständen wie beispielsweise Leiterplatten in ein stromlos Metall abscheidendes Bad getaucht
und auf der nicht-maskierten Seite eine Metallschicht abgeschieden.
Der Kupferstreifen bildet einen Bogen; ist dieser
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nach der Plattierung konvex, so bedeutet dies, daß die abgeschiedene
Kupferschicht eine Zugspannung bewirkt, und zwar sowohl auf dem Kupfersteifen als auch auf den anderen
metallisierten Gegenständen. Ist der nach der Plattierung sich bildende Bogen konkav, so bedeutet dies, daß die abgeschiedene
Kupferschicht eine Druckspannung bewirkt.
Die Länge des zu metallisierenden Streifens ist in der nachstehenden
Formel mit "1" bezeichnet, und mit "^L" die Abweichung
der Krümmung gemessen im Mittelpunkt des Teststreifens. Die Druck- oder Zugspannung wird nach der folgenden
Formel berechnet:
Spannung = i E
dl2
E = Young's Modulus Basismetall
d = Dicke der abgeschiedenen Metallschicht
t = Dicke des Metallstreifens
1 = Länge des Metallstreifens-
/\ L = Krümmungsänderung gemessen im Mittelpunkt
des Metallstreifens unter Verwendung eines optischen Komparators
Vergl. hierzu Parker und Shah, PLATING, _58, 230 (1971).
In den Beispielen sind die Spannungswerte in MegaPascal (MPa) angegeben.
Eine Isolierstoffplatte von 1 ,6 mm Dicke, bestehend aus einem
schwer entflammbaren, laminierten Phenolhartpapier, wird beid-
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seitig mit einem Haftvermittler in einer Stärke von 25 um
(nach Trocknung) beschichtet. Der Haftvermittler ist wie folgt zusammengesetzt:
Methyläthy!keton 415 g
Zellosolveazetat 2375 g
Nitrilgummi (flüssig) 590 g
Nitrilgummi (in Stücken) 350 g
Öl-lösliches Phenolharz 350 g
| Epoxidharz (Epichlor- hydrinderivat) |
400 | g |
| SiO2, fein verteilt | 300 | g |
| Butylcarbitol | 1830 | g |
Viskosität ca. 600 cps bei 22° C
Die mit dem Haftvermittler beschichtete Platte wird dann mit den gewünschten Löchern mit einem Durchmesser von 1 mm versehen
und die Oberfläche der Haftvermittlerschicht sodann durch Behandeln mit einer Chromschwefelsäure-Lösung für
Minuten mikroporös gemacht. Die Lösung enthält 100 g CrO3
und 500 g Schwefelsäure pro Liter. Nach dieser Säurebehandlung wird die Oberfläche mit einer 1%igen Natriumbisulfit-Lösung
behandelt und in kaltem, fließendem Wasser gespült.
Danach werden die Oberfläche der Haftvermittlerschicht und die Lochwandungen für die MetaIlabscheidung aus stromlos arbeitenden
Bädern sensibilisiert, indem man diese für 5 Min. bei 25° C in eine salzsaure Lösung des Reaktionsproduktes von
Palladium(II)chlorid und Zinn(II)chlorid eintaucht.
Nach dem Sensibilisieren wird die Oberfläche kurz mit Wasser
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gespült und dann für 5 Minuten in eine 5%ige Fluorborsäure-Lösung getaucht, um überschüssiges Zinnsalz zu entfernen,
und wieder mit Wasser gespült und getrocknet.
Nach dem Trocknen wird die Trägerplattenoberfläche mit einer selektiven Abdeckmaske versehen, beispielsweise mit einem
Trockenfilmakrylat-Photoresist, welche die Lochwandungen und die dem Leiterzugmuster entsprechenden Bezirke der Oberfläche
freiläßt.
Nach dem Aufbringen der Abdeckmaske wird die Platte für 10
Stunden bei 70° C in ein stromlos Kupfer abscheidendes Bad der folgenden Zusammensetzung gebracht":
| CuSO4.5H2O | 10 | g | 7 |
| Formaldehyd (37%) | 4 | ml | 0,005 g |
| Benetzer | 0,2 | g | |
| Tetranatriumsalz von EDTA | 35 | g | |
| Natriumhydroxid (NaOH) zum Einstellen des pH auf |
11, | ||
| Natriumcyanid (NaCN) |
mit Wasser auf 1 Liter auffüllen
Nach 10 Stunden ist eine Kupferschicht von 20 μπι Dicke auf
den Lochwandungen und auf den nicht maskierten Bezirken der Plattenobefflache abgeschieden.
Anschließend wird die Platte für eine Stunde bei 50° C in ein stromlos Nickel abscheidendes Bad der folgenden Zusammensetzung
gebracht:
Nickel(II)Chlorid (NiCl2) 35 g
Dimethylaminboran 2 g
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| Milchsäure | 8,5 | g |
| Natriumzitrat | 5,0 | g |
| Ammoniumhydroxid | 8,0 | ml |
| PH | 7,1 |
Mit Wasser auf 1 Liter auffüllen
Nach einstündiger Einwirkungszeit ist eine Nickelschicht von 4,3 μπι auf der zuvor abgeschiedenen Kupferschicht nieder
ge s chlagen.
Nach dem Trocknen wird auf der Nickelschicht eine weitere Kupferschicht abgeschieden, und zwar von 33 \xm durch Eintauchen
in das oben beschriebene stromlose Kupferabscheidungsbad für 16 Stunden bei 70° C.
Die Abdeckmaske wird durch Besprühen mit Dichloromethan in
einer mit Laufband versehenen Sprüheinrichtung entfernt. Die .nach diesem Verfahren hergestellte Schaltungsplatte weist
die folgende Lochinnenwandmetallisierung auf:
| Schicht | Metall | Schichtdicke |
| μΐη | ||
| Erste | Kupfer | 20 |
| Zweite | Nickel | 4,8 |
| Dritte | Kupfer · | 33 |
Zum Vergleich wird das oben beschriebene Verfahren wiederholt mit dem Unterschied, daß nur eine Kupferschicht von 53 μπι
abgeschieden wird.
Die Schaltungsplatten werden dreimal für 10 Sekunden in ein
Lötbad von 260° C getaucht und anschließend auf Zimmertemperatur angekühlt. Dann werden 50 Löcher in jeder Platte mikros-
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kopisch bei einer Vergrößerung von 1:500 untersucht. Es kann
festgestellt werden, daß bei den erfindungsgemäßen Dreischicht-Lochwandungen
nur eine Fehlerquote von 4% auftritt, d.h. von den 50 untersuchten Löchern waren nur zwei fehlerhaft, während
die Lochwandungen, die nur mit einer Kupferschicht versehen wurden, eine Fehlerquote von 44%,oder 22 fehlerhafte
Löcher von 50, aufweisen.
Nach dem Verfahren entsprechend Beispiel 5 werden Schaltungsplatten mit Dreischicht-Lochwandmetallsierung hergestellt und
mit Vergleichsplatten, die nur eine einzige Lochwandmetallisierungsschicht aufweisen, verglichen. Die innere Spannung
eines jeden Metallniederschlages wird nach der zuvor beschriebenen Methode gemessen. Nach dem Metalliseren werden die Platten
im Ofen bei 160° C getempert (für 1 Stunde) und anschließend auf Zimmertemperatur abgekühlt. Der Lötvorgang und
die mikroskopische Untersuchung erfolgen wie in Beispiel 5 beschrieben.
| Beispiel | 6 | 6A* | 7 | 7A* |
| Metallschicht | ||||
| Erste | Kupfer (8,1 um) |
Kupfer (32,5 um) |
Kupfer (16,2 \im) |
'Kupfer (32,5 um) |
| Zweite | Nickel (4,1 um) |
Nickel (4,1 \im) |
||
| Dritte | Kupfer (16,2 um) |
——— | Kupfer (16,2 \im) |
_·· |
| Spannung** | ||||
| Erste | - 62,7 | 62,7 | 34,5 | - 34,5 |
| Zweite | + 110,3 | — + | 110,3 | -—. |
| Dritte | - 62,7 | — — | 13,8 | — |
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Beispiel 6> 6A* Ί_ 7A*
Fehlerhafte
Lochwandme tallisierung (%) 44 100 4 100
Lochwandme tallisierung (%) 44 100 4 100
* Vergleichsversuch ** + Zugspannung
- Druckspannung
Ein Vergleich zwischen den Beispielen 6 und 6A und 7 und 7A zeigt, daß durch die erfindungsgemäße Dr ei schicht-Lochwandmetallisierung
der Widerstand gegen Hitzeschockeinwirkung enorm gesteigert wird.
Das Verfahren wird mit einem anderen Nickelbad wiederholt; alle anderen Verfahrensschritte und Badzusammensetzungen entsprechen
Beispiel 5.
Nickelsulfat
(NiSO4-6H2O) 30 g
(NiSO4-6H2O) 30 g
Dimethylaminboran 2 g
Natriumzitrat 30 g
Natriumhydroxid zum Einstellen des pH Wertes auf 6-8
Mit Wasser auf 1 Liter auffüllen Temperatur 50 - 65° C
Die mit diesem-Nickelbad metallisierten Dreischicht-Lochwandungen
zeigen ebenfalls eine wesentliche Verringerung der durch Hitzeschockeinwirkung entstehenden Fehler in der Lochwandmetallisierung.
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PC-194 , -·23- :
Die Widerstandsfähigkeit der Lochwandmetallisierung von durchplattierten
Löchern in gedruckten Schaltungen bei plötzlicher Erwärmung, dem sogenannten Hitzeschock, wird erheblich gesteigert,
wenn die die Lochwand bedeckende Metallschicht aus drei Schichten besteht, von denen zwei aus einem elektrisch
leitfähigen Metall und die Mittelschicht aus einem Metall unterschiedlicher Leitfähigkeit bestehen. Vorzugsweise werden
die Metalle so gewählt, daß wenigstens zwei Metallschichten aus einem Metall mit einem großen Ausdehnungskoeffizienten
bestehen, während die dazwischen liegende Schicht eine Dehnung aufweist, die den beiden anderen Schichten entgegenwirkt. Derartige Lochwandmetallisierungen weisen bei einem
Hitzeschock, wie er beispielsweise beim.Löten auftritt, eine hohe Widerstandsfähigkeit gegen Blasenbildung, Brüche oder
Abbauerscheinungen auf, die eine Verschlechterung der Leitfähigkeit zur Folge haben.
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Claims (5)
- -X-PATENTANSPRÜCHE:( 1.^ Verfahren zur Herstellung von mit durchplattierten Löchern versehenen gedruckten Schaltungen, dadurch ge kennzeichnet, daß die Lochwandmetallisierung mindestens aus drei Metallschichten besteht, von denen zwei die gleiche elektrische Leitfähigkeit aufweisen, während die dritte, als Zwischenschicht angeordnete Metallschicht eine unterschiedliche elektrische Leitfähigkeit besitzt.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Metalle zur Lochwandmetallisierung unter Kupfer, Nickel, Gold und Zinn ausgewählt sind.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Lochwandmetallisierung, aus mindestens zwei Metallschichten, die eine innere Spannung aufweisen, und wenigstens einer Zwischenschicht, deren innere Spannung in Richtung und Ausmaß der einer oder mehrerer der anderen Metallschichten zumindest teilweise entgegenwirkt, besteht.
- 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallschichten in der folgenden Reihenfolge aufgebracht werden: zunächst eine Kupferschicht, gefolgt von einer Zwischenschicht aus Nickel, und wieder eine Kupferschicht.030044/0899
- 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Kupferschichten eine Druck- oder Kontraktionsspannung und die Nickelschicht eine Zug- oder Dehnungsspannung aufweisen.030044/0899
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Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4532152A (en) * | 1982-03-05 | 1985-07-30 | Elarde Vito D | Fabrication of a printed circuit board with metal-filled channels |
| DE3901029A1 (de) * | 1989-01-14 | 1990-07-19 | Bayer Ag | Verfahren zum metallisieren von formkoerpern aus polyarylensulfiden |
| EP0335565B1 (de) * | 1988-03-28 | 1994-06-15 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten |
| US4964947A (en) * | 1989-01-20 | 1990-10-23 | Casio Computer Co., Ltd. | Method of manufacturing double-sided wiring substrate |
| US5013402A (en) * | 1989-01-20 | 1991-05-07 | Casio Computer Co., Ltd. | Method of manufacturing double-sided wiring substrate |
| JPH02296389A (ja) * | 1989-05-11 | 1990-12-06 | Japan Gore Tex Inc | 印刷回路基板 |
| GB2237451B (en) * | 1989-10-14 | 1993-04-28 | Stc Plc | Multilayer through hole connections |
| US5245751A (en) * | 1990-04-27 | 1993-09-21 | Circuit Components, Incorporated | Array connector |
| US5071359A (en) * | 1990-04-27 | 1991-12-10 | Rogers Corporation | Array connector |
| US5235139A (en) * | 1990-09-12 | 1993-08-10 | Macdermid, Incorprated | Method for fabricating printed circuits |
| US5207888A (en) * | 1991-06-24 | 1993-05-04 | Shipley Company Inc. | Electroplating process and composition |
| GB2284509B (en) * | 1993-12-03 | 1997-11-26 | John Frederick David Knopp | Method of making a printed circuit board |
| JP2819523B2 (ja) * | 1992-10-09 | 1998-10-30 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 印刷配線板及びその製造方法 |
| US5840402A (en) * | 1994-06-24 | 1998-11-24 | Sheldahl, Inc. | Metallized laminate material having ordered distribution of conductive through holes |
| US6023842A (en) * | 1996-09-24 | 2000-02-15 | Macdermid, Incorporated | Process for the manufacture of printed circuit boards |
| US6423906B2 (en) * | 1999-09-21 | 2002-07-23 | Youngtek Electronics Corp. | Surface mount package for long lead devices |
| TW527856B (en) * | 2001-02-16 | 2003-04-11 | Siemens Dematic Electronics As | Interconnection circuit and method of fabricating the same |
| US6630743B2 (en) * | 2001-02-27 | 2003-10-07 | International Business Machines Corporation | Copper plated PTH barrels and methods for fabricating |
| JP4549807B2 (ja) * | 2004-10-27 | 2010-09-22 | シャープ株式会社 | 多層プリント配線板の製造方法、多層プリント配線板及び電子装置 |
| US8230592B2 (en) * | 2008-08-19 | 2012-07-31 | International Business Machines Corporation | Method for via stub elimination |
| TWI542264B (zh) * | 2010-12-24 | 2016-07-11 | Lg伊諾特股份有限公司 | 印刷電路板及其製造方法 |
| CN108140534B (zh) * | 2015-10-08 | 2020-07-07 | 大日本印刷株式会社 | 检测元件 |
| KR20210000161A (ko) * | 2019-06-24 | 2021-01-04 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 및 그 제조방법 |
| TWI711355B (zh) * | 2019-12-10 | 2020-11-21 | 欣興電子股份有限公司 | 電路板及其製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2247977A1 (de) * | 1972-09-29 | 1974-04-11 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung doppelseitiger durchkontaktierter gedruckter schaltungsplatten |
| DE2405428A1 (de) * | 1973-03-23 | 1974-10-03 | Macdermid Inc | Verfahren zur verbesserung der haftung zwischen einem kunststoff-schichttraeger und einer metallabscheidung |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3514538A (en) * | 1968-11-01 | 1970-05-26 | Intern Electronics Research Co | Thermal dissipating metal core printed circuit board |
| JPS5543278B2 (de) * | 1972-04-24 | 1980-11-05 | ||
| CA1012540A (en) * | 1972-06-17 | 1977-06-21 | Sumitomo Chemical Company | 2-propanol derivatives and preparation thereof |
| US3811973A (en) * | 1972-08-11 | 1974-05-21 | Bell Telephone Labor Inc | Technique for the fabrication of a bilevel thin film integrated circuit |
| US3959523A (en) * | 1973-12-14 | 1976-05-25 | Macdermid Incorporated | Additive printed circuit boards and method of manufacture |
| GB1485569A (en) * | 1974-09-10 | 1977-09-14 | Siemens Ag | Multi-layer wired substrates for multi-chip circuits |
| JPS5135068A (en) * | 1974-09-19 | 1976-03-25 | Fujitsu Ltd | Purintohaisenban no seizohoho |
| US4104111A (en) * | 1977-08-03 | 1978-08-01 | Mack Robert L | Process for manufacturing printed circuit boards |
| JPS5710594A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Remote control originating device |
| JPS5710593A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-20 | Mitsubishi Electric Corp | Convergence circuit |
-
1979
- 1979-04-27 US US06/034,210 patent/US4303798A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-04-02 CA CA000349018A patent/CA1154878A/en not_active Expired
- 1980-04-21 GB GB8013065A patent/GB2047974B/en not_active Expired
- 1980-04-23 SE SE8003085A patent/SE8003085L/xx not_active Application Discontinuation
- 1980-04-23 DE DE3016132A patent/DE3016132C2/de not_active Expired
- 1980-04-24 JP JP5611280A patent/JPS55145397A/ja active Pending
- 1980-04-24 NL NLAANVRAGE8002409,A patent/NL182931C/xx not_active IP Right Cessation
- 1980-04-25 DK DK180180A patent/DK180180A/da not_active Application Discontinuation
- 1980-04-25 CH CH3225/80A patent/CH652268A5/de not_active IP Right Cessation
- 1980-04-25 FR FR8009333A patent/FR2455420A1/fr active Granted
- 1980-04-28 IT IT48522/80A patent/IT1127453B/it active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2247977A1 (de) * | 1972-09-29 | 1974-04-11 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung doppelseitiger durchkontaktierter gedruckter schaltungsplatten |
| DE2405428A1 (de) * | 1973-03-23 | 1974-10-03 | Macdermid Inc | Verfahren zur verbesserung der haftung zwischen einem kunststoff-schichttraeger und einer metallabscheidung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CH652268A5 (de) | 1985-10-31 |
| NL182931B (nl) | 1988-01-04 |
| JPS55145397A (en) | 1980-11-12 |
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| FR2455420A1 (fr) | 1980-11-21 |
| NL182931C (nl) | 1988-06-01 |
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| IT8048522A0 (it) | 1980-04-28 |
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