DE2925362C2 - Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten.

Die abschließende Stufe beim Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte wird allgemein als Gunimierstufe bezeichnet, da in dieser Stufe die Platte mit einer Gummierlösung zum Schutz des bildfreien Bereiches, weicher Wasser zurückhält und die ölige Druckfarbe abstößi, überzogen wird. Obwohl der Hauptzweck der Gummierung in der Desensibilisierung oder Erhöhung des hydrophilen Charakters des biidfreien Bereiches der lithographischen Druckplatte besteht, dient sie auch anderen Zwecken, nämlich zur Verhinderung einer möglichen Schädigung der lithographischen Druckplatte während des Zeitraumes zwischen der Herstellung der Platte und des Drückens oder während eines Zeitraumes, während dessen das Drucken unterbrochen wird, zur Verhinderung, daß der bildfreie Bereich aufnahmefähig für Druckfarben aufgrund des Talgs an den Fingern und anderem Fremdmaterial während der Handhabung der lithographischen Druckplatte wird, beispielsweise wenn sie in die Druckmaschine eingesetzt wird, und zur Verhinderung der Ausbildung von Kratzern und anderen Flecken während der Handhabung der Platte auf dem bildfreien Bereich oder dem Bildbereich, welcher Wasser abweist und die Druckfarbe annimmt

Unter den üblichen Gummierlösungen ist die wirksamste eine Gummierlösung vom Emulsionstyp, welche aus einer Ölfarbe, die gelöst in einem organischen Lösungsmittel eine im Lösungsmittel lösliche lipophile Substanz plus ein emulgierendes oberflächenaktives Mittel enthält, und einer wäßrigen Phase, die gelöst ein wasserlösliches Dextrin enthält, besteht Wenn diese Art einer Gummierlösung zur Gummierung einer Platte für den lithographischen JDruck verwendet wird, wird der Bildbereich durch die lipophile Substanz in der Öiphase geschützt, wihremf der bildfreie Bereich durch das wasserlösliche Dextrin in der wäßrigen Phase geschützt wird. Infolgedessen nimmt der lipophile Charakter des Bildbereiches nur gering ab, selbst wenn er in Kontakt mit dem S wasserlöslichen Dextrin steht

ί Jedoch ist auch diese Gummierlösung vom Emulsionstyp nicht geeignet, eine Abnahme des lipophilen Charak-

ters des Bildbereiches vollständig zu verhindern.

Die DE-OS 27 18 869 beschreibt ein Schutzmittel für lithographische Flachdruckplatten, das aus einer ÖI-in-

Wasser-Emulsion besteht und in der wäßrigen Phase eine hochmolekulare hydropküe organische Verbindung

enthält Die öiphase enthält ein organisches Lösungsmittel und nichtionische oberflächenaktive Mittel vom Alkyl-Phenyl-Typ. Dieses bekannte Schutzmittel zeigt jedoch noch nicht den gewünschten Effekt

Aufgabe der Erfindung ist daher die Schaffung eines Schutzmittels vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten, das eine Abnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches der Platte unabhängig davon verhindert, ob sich an das Entwicklungsverfahren eine Waschstufe anschließt oder nicht, die Herstellung einer Druckplatte ermö^fcht, bei deren Gebrauch eine geringere Anzahl an verlorenen Bögen und eine geringere Hintergrundverichmutzung erhalten wird.
Die Lösung dieser Aufgabe erfolge gemäß der Erfindung durch die Schaffung eines Schutzmittels vom

! Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten, bestehend aus einer ÖI-in-Wasser-EmuI-

sion mit einer wäßrigen Phase, die gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält, und einer

Öiphase, die ein organisches Lösungsmittel und mehrere oberflächenaktive Mittel enthält, das durch die Kombination eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert (HJ-B: Hydrophil-Lipophil-Gleichgewicht) niedriger als 14, und eines anionischen oberflächenaktiven Mitteis gekennzeichnet ist

Im Rahmen der Beschreibung der Erfindung werden nachfolgend das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert von niedriger als 14 und das anionische oberflächenaktive Mittel in der öiphase, die die Erfindung kennzeichnen, im einzelnen beschrieben.

Das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14, besteht bevorzugt aus einer Verbindung, die durch die folgende Formel I wiedergegeben wird und einen HLB-Wert niedriger als 14 hai:

worin R eine Aikylgruppe, ρ die Zahlen 1 oder 2, m eine ganze Zahl von 1 bis 4 und π eine ganze Zahl von 2 oder mehr bedeuten.

Die Aikylgruppe R hat vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoffatome und ist eine geradkettige Aikylgruppe, obwohl auch verzweigtkettige Alkylgruppen brauchbar sind, beispielsweise eine Octylgruppe, eine Nonylgruppe, Decylgruppe, Undecylgruppe, Dodecylgruppe (Laurylgruppe). Tetradecylgruppe oder Hexadecylgruppe (Cetylgruppe). Die am stärksten bevorzugten Alkylgruppen sind Octylgruppen und Nonylgruppen. Obwohl R im allgemeinen in der Para-Stellung hinsichtlich der Gruppe

ist, kann es auch in der Meta- oder Ortho-Stellung stehen. Die bevorzugte Zahl für ρ ist 1 und für m ist sie 2. Während η unterschiedliche Zahlen entsprechend der Art der Aikylgruppe R bedeutet, ist es innerhalb eines solchen Bereiches, daß der Wert von HLB niedriger als 14 und vorzugsweise im Bereich von 4 bis 12, am stärksten bevorzugt von 7 bis 12 liegt.

Schutzmittel, die ein nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert größer als 14 enthalten, sind nicht günstig, da sie den lipophilen Charakter des Bildbereiches der lithographischen Druckplatte verringern.

Spe7ifische Beispiele für nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14 umfassen Polyoxymethylenoctylphenyläther, Polyoxymethylennonylphenyläther, Polyoxymethylencetylphenyläther, Polyoxymethylenlaurylphenylätlier, Polyoxyäthylenoctylphenyläther, Polyoxyäthylennonylphenyläther, Polyoxyäthylendecylphenyläther, Polyoxyäthylenlaurylphenyläther, Polyoxypropylenoctyl-5 phenyläther, Polyoxypropylennonylphenyläther, Polyoxypropylendecylphenyläther, Polyoxypropylenlaurylphe-I nyiäther, Polyoxypropylencetylphenyläther, Polyoxybutylenoctylphenyläther, Polyoxybutylennonylphenyläther,

I Polyoxybutylendecylphenyläther, Polyoxybutylenlaurylphenyläther, Polyoxybutylencetylphenyläther und PoIy-

1 oxyäthylendinonylphenyläther, wobei diese sämtlichen Beispiele einen HLB-Wert niedriger als 14 besitzen,

jj Besonde-i» vorteilhaft für die Zwecke der Erfindung sind diejenigen vom Polyoxyäthylentyp, wie Polyoxyäthy-

I ίο lennonylphenyläther und Polyoxyäthylenoctylphenyläther.

r Beispiele für die erfindungsgemäß eingesetzten anionischen oberflächenaktiven Mittel sind aliphatische Säu-

i vesalze, vorzugsweise Salze von Säuren mit 8 bis 22 Kohlenstoffatomen, Salze von Alkylsulfatestern, vorzugs-

ij weise Salze von geradkettigen oder verzweigtkettigen Alkylestern mit 8 bis 18 Kohlenstoffatomen, Alkylbenzol-

^]-: sulfonate, worin der Alkylauteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoffato-

ΐ*; i5 me besitzt, Alkylnaphthylensulfonate, worin der Alkylanteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugs-

j' weise 3 bis 10 Kohlenstoffatome besitzt, Salze von Dialkylsulfosuccinatestern, worin die Alkylgruppe geradkettig oder verzweigtkettig ist und 2 bis 18 Kohlenstoffatome besitzt, beispielsweise eine sec-Butylgruppe, eine tert-Butylgruppe, eine Hexylgruppe, eine 2-Äthylhexylgruppe, eine Nonylgruppe, eine Decylgruppe oder eine I Dodecylgruppe, Salze von Alkylphosphatestern, worin der Alkylanteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und

8 20 vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoffatome besitzt, Kondensate von Naphthalinsulfonsäuren mit Formalin und

§ Saize von Polyoxyäihylenaikylsuifaiesiem, vorzugsweise mit bis zu 6 Po!yosyäthy!er.eir.r:c'ten und mit einer

f geradkettigen oder verzweigtkettigen .dkylgruppe mit 8 bis 18 Kohlenstoffatomen. Die am stärKsten bevorzug-

|· ten anionischen oberflächenaktiven Mittel stellen Salze von Dialkylsulfosuccinaten dar. Spezifische Beispiele für

8 Salze von Dialkylsulfosuccinaten sind Natrium-di(2-äthylhexyl)sulfosuccinat, Natrium-dinonylsulfosucciiiat und

i- 25 Natrium-dilaurylsulfosuccinaL

I Das Plattenschutzmittel, welches eine Kombination des nicht-ionischen oberflächenaktiven Mittels vom

I Alkylphenyltyp und des vorstehend angegebenen anionischen oberflächenaktiven Mittels enthält, senkt den

I lipophilen Charakter des Bildbereiches nicht so stark wie ein Plattenschutzmittel, welches jedes der beiden

I oberflächenaktiven Mittel allein enthält. Die Summe der Mengen der beiden Arten von oberflächenaktiven

ρ 30 Mitteln, wie sie erfindungsgemäß einzusetzen sind, liegt im Bereich von 0,5 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 5

1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels. Das geeignete Verhältnis des nicht-ioni-

ä sehen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp zu dem anionischen oberflächenaktiven Mittel liegt

ί innerhalb des Bereiches von 10:1 bis 1 :10, vorzugsweise 5 :1 bis 1 :5, auf das Gewicht bezogen.

Ι Die vorstehend angegebenen beiden Arten von oberflächenaktiven Mitteln werden in einem organischen

1 35 Lösungsmittel gelöst, um die Ölphase des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung zu bilden. Das bevorzugte

< organische Lösungsmittel ist in Wasser unlöslich, beispielsweise ein Kohlenwasserstoff wie z. B. Terpentinöl,

I Xylol, Toluol, n-Heptan, Lösungsnaphtha, Kerosin, Mineralsprit, Erdölfraktionen mit Siedepunkten von 120 bis

1 250⁰C, Plastifizieren die sich bei weniger als 15° C verfestigen und bei mehr als 300° C bei eine·· Atmosphäre

sieden, beispielsweise Phthalsäurediester, z. B. Dibutylphthalat, Diheptylphthalat, Di-n-octylphthalat, Di(2-äthyl- Ϊ 40 hexyOphthalat, Dinonylphthalat. Didecylphthalat, Dilaurylphthalat und Butylbenzylphthalat, aliphatische Ester

„v zweibasischer Säuren, z. B. Dioctyladipat, Butylglykolad-^at, Dioctylazelat, Dibutylsebacat, Di(2-äthylhexyl)se-

bacat und Dioctylsebacat, epoxidieites Triglycerid, z. B. epoxidiertes Sojabohnenöl, Phosphatester wie Tri- '"· crexylphosphat, Trioctylphosphat und Trichloräthylphosphat und Benzoesäureester wie Benzylbei?zoat.

Diese Lösungsmittel können in Kombinationen mit einem aliphatischen Keton wie Cyclohexanon, einem 45 aliphatischen Halogenid wie Äthylendichlorid und einem Äthylenglykoläther wie Äthylenglykolmonomethyläther, Äthylenglykolmonophoiyläther oder Äthylenglykolmonobutyläther verwendet werden.

Die Lösungsmittel werden in Mengen innerhalb des Bereiches von 0,1 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, eingesetzt.

Die Ölphase des Schutzmittels gemäß der Erfindung enthält bevorzugt gelöst eine lipophile Substanz zum so Zweck der Erhöhung der Stabilität des Schutzmittels im emulgierten Zustand und zur Minimalhaltung der Potentialabnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches. Die bevorzugten lipophilen Substanzen sind solcne, die gewöhnlich als Träger für lithographische Druckfarben verwendet werden. Spezifische Beispiele ?ür geeignete lipophile Substanzen umfassen Novolakphenolb^ze wie Phenol-Formaldehydharze, Cresol-Formaldehydharze oder tert.-Butylphenol-Formaldehydharze, durch Kondensation von Phenol und Xylol mit Formal-55 dehyd hergestellte Xylolhar?e. durch Kondensation von Phenol und M'sitylen mit Formaldehyd hergestellte Harze, Polyhydroxystyrol, bromiertes Polyhydroxystyrol, Cashewharze, teilweise veresterte Produkte aus Copolymeren des Styrols und Maleinsäureanhydrid, Melaminharze, Alkydharze, Polyesterharze, Epoxyharze, Naturharze oder Kolophonium oder modifiziertes Naturharz oder Kolophonium, wie hydriertes Kolophonium oder Kolophoniumester und Erdölharze wie Gilsonit. Novolakphenoi.iarze, Naturharze oder Kolophonium 60 oder modifizierte Naturharze und Kolophonium werden bevorzugt. Weitere Beispiele für geeignete lipophile Substanzen umfassen aliphatische Carbonsäuren mit 5 bis 25 Kohlenstoffatomen wie Oleinsäure, Laurinsäure, Valeriansäure, Nonylsäure, Caprinsäure, Myristinsäure und Palmitinsäure sowie Rizinusöl. Gaviz gleich ob sie einzeln oder als Gemisch verwendet werden, so werden diese lipophilen Substanzen in Mengen innerhalb eines Bereiches von 0,05 bis 5 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Platten-65 schutzmitte«, verwendet.

Die in der wäßrigen Phase des Plattenschutzmitiels gemäß der Erfindung enthaltene hydrophile hochmolekulare Verbindung cient zum Schutz des Nichtbildbereiches der lithographischen Druckplatte und ist vorzugsweise aus einem filmbildenden wasserlöslichen Harz aufgebaut.

Beispiele für geeignete filmbildende hydrophile hochmolekulare Verbindungen sind Dextrin, Gummiarabikum, Alginate wie Natriumalginat, wasserlösliche Cellulosen wie Carboxymethylcellulose, Hydroxyäthylcellulose oder Methylcellulose, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylamid, wasserlösliche Copolymere, die Acrylamideinheiten enthalten, Copolymere aus Vinylmcthyläther und Maleinsäureanhydrid oder Copolymere aus Vinylacetat und Maleinsäureanhydrid. Besonders bevorzugt werden Gummiarabikum, Dextrin, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose und Polyvinylalkohol. Gummiarabikum wird am stärksten bevorzugt. Diese filmbildenden hydrophilen hochmolekularen Verbindungen können unabhängig oder als Gemisch verwendet werden. Von besonderem Vorteil ist eine Kombination aus Gummiarabikum und Dextrin, welche zur Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nichtbildbereiches ohne Verringerung des lipophilen Charakters des Bildbereiches fähig ist. Obwohl diese hydrophilen hochmolekularen Verbindungen in der wäßrigen Phase innerhalb eines weiten Konzentrationsbereiches enthalten sein können, werden sie allgemein in Mengen innerhalb des Bereiches von 5 bis 40 Gew.-%, vorzugsweise 10 bis 30 Gew.-%. bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, verwendet und ihre Konzentration in der wäßrigen Phase hegt im Bereich von 6 bis 60 Gew.-%, vorzugsweise 15 bis 50 Gew.-%.

Die wäßrige Phase des erfindungsgemäßen Plattenschutzmittels enthält vorzugsweise ein Benetzungsmittel. damit die wäßrige Phase in geeigneter Weise auf dem Nichtbildbereich der lithographischen Druckplatte ausgebreitet bleibt. Bevorzugte Benetzungsmittel sind mehrwertige Alkohole, und spezifische Beispiele sind Ath*'!crit!"iic! Diättt^t#!sn^rt!"l*ol 'Friäth^w!ei»ⁿ!^l/ko! Prc^nl/!en^oi^uico! 3üt^v!en^ori^i/k/"vi PpntnnHjni WpYvlpncrivknl T*»- traäthylenglykol, Polyäthylenglykol, Dipropylenglykol, Tripropylenglykol, Glycerin, Sorbit oder Pentaerythrit. Glycerin wird am stärksten bevorzugt. Diese Benetzungsmittel werden in Mengen von 0,5 bis etwa 10 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 5 bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, verwendet.

Die wäßrige Phase des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung enthält vorzugsweise ein wasserlösliches Salz zum Zweck der Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nichtbildbereiches der lithographischen Druckplatte, wenn sie mit dem Plattenschutzmittel überzogen wird. Die vorteilhaften wasserlöslichen Salze umfassen Alkalisalze und Ammoniumsalze und besonders vorteilhaft sind wasserlösliche Alkalisalze und Ammoniumsalze von Säuren wie Essigsäure, Molybdänsäure, Borsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure und PoIyphosphorsäure. Spezifische Beispiele sind Ammoniuniacetat. Natrium? Vtat, Kaliumacetat, Natriummolybdat, Kaliummolybdat, Natriumborat. Ammoniumborat, Lithiumnitrat Natriumnitrat, Kaliumnitrat, primäres Natriumphosphat, Sekunda ^res Natriumphosphat, tertiäres Natriumphosphat, primäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat tertiäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat und Nstriumpolypho^phat. Besonders bevorzugt werden Kaliumacetat, Natriumborat, Ammoniumborat, Kaliumnitrat, Natriummolybdat, Kaliummolybdat und Kaliumsulfat Ganz gleich, ob sie einzeln oder als Gemisch verwendet werden, so werden diese wasserlöslichen Salze in Mengen von 0,05 bis 2 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels verwendet

Falls Gummiarabikum als hydrophile hochmolekulare Verbindung, die gelöst in der wäßrigen Phase des Plattenschutzmittels enthalten ist. verwendet wird, wird der pH-Wert der wäßrigen Phase auf sauer gesteuert, vorzugsweise auf den Bereich von 1 bis 5, stärker bevorzugt i bis 3. Falls deshalb die wäßrige Phase nicht sauer ist wird eine Säure verwendet um sie sauer zu machen. Die zur pH-Einstellung verwendeten Säuren umfassen Mineralsäuren wie Phosphorsäure, Schwefelsäure oder Salpetersäure und organische Säuren wie Zitronensäure, Tanninsäure, Apfelsäure, Eisessig, Milchsäure, Oxalsäure oder p-Toluolsulfonsäure. Phosphorsäure ist besonders vorteilhaft, da sie nicht nur als Mittel zur Einstellung des pH-Wertes der wäßrigen Phase dient sondern auch eine Fleckenbildung des Nichtbildbereiches verhindert und sie wird in einer Menge von 0,1 bis 8 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 5 Gew.-°/o, bezogen auf das Gesamtgewicht der wäßrigen Phase, eingesetzt.

Ein typisches Beispiel des Verfahrens zur Herstellung des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung wird nachfolgend beschrieben.

Zunächst wird die hydrophile hochmolekulare Verbindung in Wasser zur Bildung der wäßrigen Phase gelöst Erforderlichenfalls wird ein Benetzungsmittel, ein wasserlösliches Salz und/oder eine Säure zur wäßrigen Phase zugesetzt Getrennt wird ein oberflächenaktives Mittel in einem organischen Lösungsmittel zur Bildung der ölphase gelöst. Erforderlichenfalls wird eine lipophile Substanz zu der Ölphase zugegeben. Die Ölphase wird tropfenweise zu der wäßrigen Phase unter Rühren zugesetzt Ein Homogenisator wird zur Förderung der iö Emulgierung des Gemisches eingesetzt bis das Schutzmittel gemäß der Erfindung hergestellt ist

Obwohl das Plattenschutzmittel gemäß der Erfindung mit einer Vielzahl von lithographischen Druckplatten verwendet werden können, wird es vorteilhaft mit lithographischen Druckplatten eingesetzt, welche durch Ausführung der bildweisen Belichtung und Entwicklung einer vorsensibilisierten lithographischen Druckplatte, die nachfolgend als PS-Platte bezeichnet wird, hergestellt wurden, weiche aus einem mit einer lichtempfindlichen ~ Schicht überzogenen /üuminiumsubstrat besteht

PS-Platten, die von besonderem Vorteil für die Aufgabe gemäß der Erfindung sind, werden nachfolgend im einzelnen erläutert

a Die Aluminiumplatten, welche vorteilhaft als Substrat verwendet werden, umfassen reine Aluminiumplatten

. 8 und Aluminiumiegierungsplatten sowie mit Aluminium beschichtete oder metallisierte Kunststoffolien. Diese

Aluminiumplatten werden vorzugsweise einer Oberflächenbehandlung wie Körnung, Eintauchen in eine wäßrige Lösung von Natriumsilicat Kaliumiluorzirconat oder Phosphat oder Anodisierung unterzogen. Weitere vorteilhafte Substrate sind Aluminiumplatten der in der US-Patentschrift 27 14 066 beschriebenen Art, welche gekörnt sind und anschließend in eine wäßrige Lösung von NatriumsiUcat eingetaucht werden, sowie Aluinini-H umplatten der in der US-Patentschrift 31 81 461 beschriebenen Art, die anodisiert werden, bevor sie in eine

wäßrige Lösung eines Alkalisilicates eingetaucht werden. Die Anodisierung wird unter Anwendung einer

~ Aluminiumanode in einem Elektrolyt ausgeführt der eine oder mehrere wäßrige oder nicht-wäßrige Lösungen

von anorganischen Säuren wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure oder organischen

Säuren wie Oxalsäure oder Sulfaminsäure oder deren Salze enthält.

Das Verfahren der Elektroabscheidung von Silicat, wie in der US-Patentschrift 36 58 662 beschrieben, kann gleichfalls vorteilhaft erfindungsgemäß angewandt werden.

Ein weiteres Beispiel für vorteilhafte Substrate ist die Aluminiumplatte der in der US-Patentschrift 40 87 341, der japanischen Patentveröffentlichung 27 481/71 und der japanischen Patentanmeldung 30 503/77 beschriebenen Art, weiche zunächst elektrogekörnt wird und dann in der vorstehend beschriebenen Weise anodisiert wird. Ein weiteres Beispiel ist eine Aluminiumplatte der in der US-Patentschrift 38 34 998 beschriebenen Art, die gekörnt ist, chemisch geätzt ist und in der vorstehenden Weise anodisiert ist. Diese Oberflächenbehandlungen werden nicht nur zu dem Zweck angewandt, die Oberfläche des Substrates hydrophil zu machen, sondern auch ίο zum Zweck der Verhinderung irgendwelcher nachteiliger Reaktionen' mit der auf dem Substrat aufgebrachten lichtempfindlichen Masse und zur Ausbildung einer starken Bindung zwischen dem Substrat und der lichtempfindlichen Schicht

Bevorzugte Beispiele von Massen zur Ausbildung der lichtempfindlichen Schicht auf diesen Aluminiumsubstraten umfassen die folgenden:

(1) Aus Diazoharzen aufgebaute Massen

Die Diazoharze, deren typische Beispiele ein Kondensat von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd sind, können wasserlöslich oder unlöslich sein und sind vorzugsweise in Wasser unlöslich und in den üblichen organischen Lösungsmitteln löslich. Besonders bevorzugte Diazoverbindungen sind Salze eines Kondensates von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd oder Acetaldehyd, beispielsweise Verbindungen mit zwei oder mehr Diazogruppen im Molekül in der Form eines Phenolates, Fluorcaprates oder Salzes von Sulfonsäuren wie Triisopropylnaphthalinsuifonsäure, 4,4-Biphenyldisulfonsäure, 5-N itro-ortho-toluolsulfonsäure, 5-Sulfosalicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Chlor-5-nitrobenzoisulfonsäure, 2-Fluorcaprylnaphthalinsulfonsäure, l-Naphthol-5-sulfonsäure, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure und Paratoluolsulfonsäure. Weitere bevorzugte Diazoharze umfassen ein Kondensat von 2,5-Dimethoxy-4-p-tolylmercapto-benzoldiazonium und Formaldehyd in Form der vorstehend erläuterten Salze.

Ein weiteres bevorzugtes Beispiel ist das in der britischen Patentschrift 13 12 925 beschriebene Diazoharz.

Obwohl diese Harze allein als lichtempfindliches Material zur Herstellung eines Widerstandes dienen können, werden sie bevorzugt in Kombination mit einem Binder eingesetzt

Eine Vielzahl von Polymeren kann als Binder verwendet werden. Die bevorzugten Binder enthalten Hydroxy-, Amino-, Carbonsäure-. Amido-, Sulfonamid-, aktive Methylen-, Thioalkohol- und Epoxygruppen und andere Gruppen. Beispiele für bevorzugte Binder sind Schellack der in der britischen Patentschrift 13 50 521 beschriebenen Art, ein Polymeres der in der britischen Patentschrift 14 60978 und der US-Patentschrift 41 25 276 beschriebenen Art, welches Hydroxyäthylacrylat- oder Hydroxyäthylmethacrylateinheiten als überwiegende sich v/iederholeride Einheiten enthält, Polyamidharze der in d?r US-Patentschrift 37 51 257 beschriebenen Art, Phenolharze und Polyvinylacetalharze wie Polyvinylformalharze oder Polyvinylbutyralharze, die von der in der britischen Patentschrift 10 74 392 beschriebenen Art sind, lineare Polyurethanharze, mit Phthalsäure veresterte Polyvinylalkoholharze, durch Kondensation von Bisphenol A und Epichlorhydrin hergestellte Epoxyharze, Polymere mit einer Aminogruppe wie Polyaminostyrol oder Polyalkylamino(meth)acrylat, Cellulose wie Celluloseacetat, Cellulosealkyläther, Celluloseacetatphthalat, die von der in der US-Patentschrift 36 60 097 beschriebenen Art sind.
Diese Binder sind günstigerweise in der den lichtempfindlichen Widerstand bildenden Masse in einer Menge von 40 bis 95 Gew.-% enthalten. Ein höherer Bindergehalt, d. h. ein niedrigerer Gehalt an Diazoharz, ergibt natürlich eine größere Empfindlichkeit, jedoch wird dies durch die niedrige zeitabhängige Stabilität ausgeglichen. Der optimale Gehalt des Binders liegt im Bereich von etwa 70 bis 90 Gew.-%.

Die aus derartigen Diazoharzen aufgebauten Massen können gewünschtenfalls andere Zusätze wie Phosphorsäure, Farbstoff und Pigmente enthalten, wie in der US-Patentschrift 32 36 646 angegeben.

(2) Aus o-Chinondiazidverbindungen aufgebaute Massen

Besonders bevorzugte o-Chinondiazidverbindungen sind o-Naphthochinondiazidverbindungen der in den US-Patentschriften 27 66 118,27 67 092,27 72 972,28 59 112,29 07 665,30 46 110,30 46 111,30 46 115,30 46 118, 30 46 119, 30 46 120, 30 46 121, 30 46 122, 30 46 123, 30 61 430, 31 0?. 80S, 31 06 465, 36 35 709. 35 47 443 und zahlreichen weiteren Veröffentlichungen beschriebenen Art Besonders bevorzugt werden o-Naphthochinondiazidosulfonsäureester oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureester von aromatischen Hydroxyverbindungen sowie o-Naphthochinondiazidosulfonamid oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureamide von aromatischen Aminoverbindungen. Sehr wirksame Verbindungen sind Kondensate von Pyrogallol und Aceton, die mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure verestert sind, wie in der US-Patentschrift 36 35 709 beschrieben, Polyester mit einer endständigen Hydroxylgruppe, die mit einer o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure verestert ist, wie in der US-Patentschrift 40 28 111 beschrieben, Homopolymere von p-Hydroxystyrol oder Copolymere hiervon mit weiteren copo'ymerisierbaren Monomeren, die mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure verestert sind, -#ie in der US-Patentschrift 41 39 3S4 beschrieben,

Obwohl diese o-Chinonazidverbindungen unabhängig verwendet werden können, werden sie bevorzugt als Gemisch mit alkalilöslichen Harzen eingesetzt Geeignete alkalilösliche Harze umfassen Phenolharze vom Novolaktyp wie Phenolfonnaldehydharz, o-Cresolformaldehydharz oder m-Cresolformaldehydharz. Stärker

bevorzugt werden diese Phenolharze in Kombination mit tert.-Butylphenolforrr/aldehydharzen verwendet, welche ein Kondensat von Formaldehyd und Phenol oder Cresol, die -nit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituiert sind, darstellt, wie in der US-Patentschrift 41 23 279 beschrieben. Diese alkalilöslichen Harze sind in der den lichtempfindlichen Widerstand bildenden Masse in einer Menge von 50 bis 85 Gew.-%, vorzugsweise 60 bis 80 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, enthalten.

Aus derartigen o-Chinondiazidverbindungen aufgebaute lichtempfindliche Massen können gewünschtenfalls noch andere Zusätze wie Pigmente, Farbstoff und Plastifizierer enthalten.

(3) Aus lichtempfindlichen Azidverbindungen aufgebaute Massen

Geeignete lichtempfindliche Azidverbindungen sind aromatische Azidverbindungen, worin eine Azidgruppe an den aromatischen Ring entweder direkt oder über eine Carboxylgruppe oder Sulfonylgruppe gebunden ist. Bei der Aussetzung an Licht wird die Azidgruppe der Verbindung unter Bildung vo>n Nitren zersetzt, welches in verschiedene Reaktionen eintritt, die die Verbindung unlöslich machen. Die bevorzugten aromatischen Azidverbindungen sind solche, die eine oder mehrere Gruppen wie Azidophenyl-, Azidostyryl-, Azidobenzal-, Azidobenzoyl- und Azidocinnamoylgruppen enthalten. Spezifische Beispiele sind

4,4'-Diazidochalcon,4-Azido-4'-(azidobenzoyläthoxy)chalcon, Ν,Ν-Bis-p-azidO'benzal-p-phenylendiamin, l,2,6-Tri(4'-azidobenzoxy)hexan, 2-Azido-3-chlor-benzochinon,2,4-Diazido-4'-äthoxy-azobenzoI, 2,6-Di-(4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexan,4,4'-Diazidobenzophenon, 2,5-Diazido-3,6-dichlorbenzochinon,2,5-Bis(4-Azidostyryl)-13/l-oxadiazol,2-(4-Azidocinnamoyl)thiophen, 2,5-Di(4'-azidobenzal)cyclohexanon,4,4'-Diazidophenylmethan.

1 -(4-Azidophenyl)-5-f uryl-2-penta-2,4-dien-1 -on,

1 -(4-Azidophenyl)-5-(4-methoxyphenyl)-penta-1 ^-dienO-on, 1 -{4- Azidophenyl)-3-(l-naphthyl)propen- 1-on, l-(4-Azidophenyl)-3-(4-dimethylaminophenyl)propan-l-on, l-(4-Azidophenyl)-5-phenyl-l,4-pentadien-3-on, 1 -(4-Azidophenyl)-3-(4-nitrophenyl)-2-propen-1 -on, 1 -(4-Azidophenyl)-3-(2-f uryl)-2-propen-1 -on, l,2,6-Tri(4'-azidobenzoxy)hexan,2,6-Bis-(4-azidobenzylidin-p-t-butyl)cyclohexanon, 4,4'-Diazidodibenzalaceton,4,4'-Diazidostilben-2,2'-disulfonsäure, 4'-Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure, 4,4'-Diazidostilben~«-carbonsäure, Di-(4-azido-2'-hydroxybenzal)aceton-2-sulfonsäure,4-Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure, 2-Azido-1,4-dibenzolsulfonylaminonaphthalin oder 4,4-Diazidostilben-2,2'-disulfonsäureanilid.

Diese niedrig molekularen aromatischen Diazidverbindungen können vorteilhafterweise durch azidhaltige Polymere ersetzt werden, wie sie in den japanischen Patentveröffentlichungen 9 047/69, 31 837/69, 9 613/70, 24 915/70, 25 713/70 sowie den japanischen Patentanmeldungen 5 102/75, 84 302/75. 84 303/75 und 12 984/78 beschrieben sind.

Die vorstehend aufgeführten lichtempfindlichen Azidverbindungen werden bevorzugt in Kombination mit einem Polymeren eingesetzt, welches als Binder wirkt. Die bevorzugten Binder sind alkalilösliche Harze. Beispiele von alkalilöslichen Harzen umfassen Naturharze wie Schellack oder Kolophonium, Phenolharze vom Novolaktyp wie Phenolformaldehydharze oder m-Cresolformaldehydharze, Homopolymere von ungesättigten Carbonsäuren oder Copolymere derselben mit weiteren copolymerisierbaren Monomeren wie Polyacrylsäure, Polymethacrylsäure, Methacrylsäure-Styrolcopolymere, Methacrylsäure-Methylacrylatcopolymere oder Styrol-Maleinsäureanhydridcopolymere, durch Umsetzung eines teilweisen oder vollständigen Verseifungsproduktes von Polyvinylacetat mit Aldehyden wie Acetaldehyd, Benzaldehyd, Hydroxybenzaldehyd oder Carboxybenzaldehyd unter Bildung eines teilweisen Acetals hergestellte Harze und Polyhydroxystyrol. Andere Beispiele für Binder sind in organischen Lösungsmitteln lösliche Harze wie Cellulosealkyläther, beispielsweise Cellulosemethyläther und Celluloseäthyläther.

Der Binder ist vorzugsweise in einer Menge von 10 bis 90 Gew.-%. bezogen auf das Gesamtgewicht der aus der lichtempfindlichen Azidverbindung aufgebauten Masse enthalten.

Die aus der lichtempfindlichen Azidverbindung aufgebauten Massen können gewünschtenfalls einen Farbstoff, Pigment, einen Plastifizierer wie Phthalatester, Phosphatester, aliphatischen Carbonsäureester, Glykol oder Sulfonamid und einen Sensibilisator wie Michlers-Keton, 9-Fluorenon, 1-Nitropyren, 1,8-Dinitropyren, 2-Chlor-l,2-benzanthrachinon, 2-Brom-l,2-benzanthrachinon, Pyren-l,6-chinon, 2-Chlor-l,8-phthaloylnaphtha-Hn oder Cyanoacridin enthalten.

Obwohl die Grundstruktur der PS-Platte, wie sie für die Zwecke der Erfindung besonders geeignet ist, aus einem mit einer aus den vorstehend abgehandelten lichtempfindlichen Materialien aufgebauten lichtempfindlichen Schicht abgedeckten Aluminiumsubstrat besteht, kann die lichtempfindliche Schicht auch gewünschtenfalls mit einer oder mehreren Harzschichten überzogen sein, wie sie spezifisch in der US-Patentschrift 31 36 637 beschrieben sind, worin das Substrat mit in der angegebenen Reihenfolge einer lichtempfindlichen Schicht, einer lipophilen Harzschicht, einer hydrophoben Harzschicht, einer wasserunlöslichen Harzschicht und einer weiteren Harzschicht, welche durch ein Lösungsmittel erweicht wird, bedeckt ist Eine PS-Platte von ähnlicher Struktur ist in den britischen Patentschriften 14 78 333 und 14 78 224 beschrieben und diese Struktur ist ebenfalls im Rahmen S der vorliegenden Erfindung brauchbar.

™ Die folgende Erläuterung zeigt, wie das Piättenschützmitteä gemäß der Erfindung auf eine PS-Platte in einer

^m bevorzugten Ausführungsform aufgebracht wirfi.

Zunächst wird die PS-Platte bildweise belichtet und entwickelt, um die lithographische Druckplatte herzus* eilen. Die erhaltene Platte wird mit Wasser gewaschen, das Wasser auf der Platte wird mit Watte entfernt, eine

geeignete Menge des Schutzmittels wird auf die Platte gegossen und ein Schwamm wird zur Ausbreitung des Mittels über die gesamte Oberfläche der Platte verwendet Infolge dieser Verfahren wird der Nichtbildbereich der Platte in der Weise geschützt, daß die lithographische Druckplatte eine ausgedehnte Lagerung aushalten kann. Die Platte wird mit Wasser zur Entfernung des Gummis gewaschen, bevor mit dem üblichen Druckverfahren begonnen wird. Das Schutzmittel gemäß der Erfindung sinkt den lipophilen Charakter des Bildbereiches der lithographischen Platte nicht, obwohl es zur Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nichtoildöereiches geeignet ist

Das Schutzmittel gemäß der Erfindung arbeitet am wirksamsten, wenn es mit einer lithographischen Druckplatte angewandt wird, welche aus einer PS-Platte hergestellt wurde, wie sie in den britischen Patentschrifter 14 60 978 und 15 05 739 beschrieben ist

Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Beispiele erläutert, worin sämtliche Prozentsätze auf das Gewicht bezogen sind.

Beispiele 1 bis 7 und Vergleichsbeispiele 1 und 2

Ein 0,24 mm dickes Aluminiumsubstrat wurde durch Eintauchen in eine 7%ige wäßrige Lösung von tertiärem Natriumphosphat bei 60⁰C entfettet und nach der Wasserwäsche wurde eine Suspension von Bims in Wasser auf das Substrat gegossen, wobei es durch Reiben mit einer Nylonbürste gekörnt wurde. Nach der Wäsche mit Wasser wurde das gekörnte Substrat während eines Zeitraumes von 30 bis 60 -Sek. in eine 5°/oige wäßrige Lösung von Natriumsilicat JIS Nr.3 (Molarverhältnis von S1O2 zu Na₂O = 3,l zu 33) eingetaucht, die auf 70°C gestec irt war.

Nach gründlicher Wäsche mit Wasser wurde das Substrat getrocknet und mit der folgenden lichtempfindlichen Lösung A oder B überzogen. Das mit jeder lichtempfindlichen Lösung überzogene Substrat wurde bei 100° C während eines Zeitraumes von 2 Min. getrocknet.

Lichtempfindliche Lösung A

Copolymeres aus 2-Hydroxyäthylmethacrylat (hergestellt nach dem

Verfahren von Beispiel 1 der US-Patentschrift 41 23 276 0,7 g

Salz der 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzolsulfonsäure mit einem

Kondensat von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd 0,1 g

öllöslicher blauer Farbstoff 0,03 g

2-Methoxyäthanol 6 g

Methanol 6 g

Äthylendichlorid 6 g

Lichtempfindliche Lösung B

Lichtempfindliche Lösung A 18,83 g

Halbester (Molekulargewicht etwa 1500) aus Styrol/Maleinsäure-

anhydridcopolymerem (Molarverhältnis von Styrol zu
Maleinsäureanhydrid = 13 :1 bis 2 : l)mit2-Methylpentanol-4 0,014 g

Jede lichtempfindliche Lösung wurde aufgetragen bis das Trockenüberzugsgewicht 2,0 g/m² betrug". Die auf diese Weise hergestellten lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten wurden als Platten A bzw. B bezeichnet. Jede Platte wurde bildweise während eines Zeitraumes von 45 Sek. mit einer Kohlenbogenlampe (30 Ampere) im Abstand von 70 cm belichtet Anschließend wurde die Platte in eine Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung bei Raumtemperatur während eines Zeitraumes von 1 Min. eingetaucht und die Oberfläche der Platte schwach mit Watte gerieben, um den unbelichteten Bereich zu entfernen, Die Produkte werden als lithographische Druckplatten A bzw. B bezeichnet

Entwicklerlösung

Natriumsujfit 3 g

Benzylalkohol 30 g

Triäthanolamin 20 g

Monoäthanolamin 5 g

Natrium-tert-butylnaphthalinsulfonat 30 g

Wasser 1000 ml

Eine wäßrige Lösung C der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt und eine Lösung D der weiteren nachfolgend angegebenen Zusammensetzung wurde allmählich zu der wäßrigen Lösung C unter kräftigem Rühren zugefügt und die erhaltene Emulsion wurde weiterhin unter Anwendung eines Homogenisators emulgiert, bis das Schutzmittel gemäß der Erfindung hergestellt war.

Wäßrige Lösung C

Gummiarabikum Dextrin

Phosphorsäure (85%) Wasser

Lösung D

Natriumdilaurylsulfosuccinat Dibutylphthalat

nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp

(siehe Tabelle I) Kolophoniumester

4g
16 g

0,2 g
75 g

1,0 g
2,0 g

1,0 g
0,5 g

Die vorhergehend hergestellte lithographische Druckplatte wurde mit Wasser gewaschen, der Überschuß an Wasser mit einem Schwamm entfernt, eine geringe Menge eines Schutzmittels tropfenweise aufgetropft und ein Schwamm zur Ausbreitung des Mittels zur Abdeckung der gesamten Oberfläche der Druckplatte verwendet. Anschließend wurde die Platte mit Wasser gewaschen, um das Schutzmittel von der Oberfläche zu entfernen und in eine Druckmaschine zum Drucken eingesetzt. Der fipophiie Charakter der Platte wurde bewertet, indem die Anzahl der verbrauchten Bögen gezählt wurde, bevor Drucksachen mit zufriedenstellender Dichte der Druckfarbe erhalten wurden, wobei diese Anzahl nachfolgend als Anzahl der Abfallbögen angegeben wird Die Ergebnisse der Untersuchung sind in der nachfolgenden Tabelle I aufgeführt

Tabelle 1

Versuch Nr.

nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp

HLB

Anzahl der Abfallbögen
Druckplatte A Druckplatte B

Beisp. 1	Polyoxyäthylennonylphenyläther	8	10	10
Beisp. 2	ebenso	10	10	5
Beisp. 3	ebenso	12	10	5
Beisp. 4	ebenso	14	10	5
Vergleichsbeisp. 1	ebenso	18	40	35
Beisp. 5	Polyoxyäthylendodecylphenyläther	8	10	10
Beisp. 6	ebenso	10	10	5
Beisp. 7	ebenso	14	10	10
Vergleichsbeisp. 2	lediglich Lösung C	—	60	60

Tabelle 1 zeigt den stark lipophilen Charakter des gemäß der Erfindung hergestellten Schutzmittels. Es ist darauf hinzuweisen, daß sämtliche mit den Schutzmitteln gemäß den Beispielen 1 bis 7 und den Vergleichsbeispielen 1 und 2 behandelten lithographischen Druckplatten Drucksachen ohne Flecken lieferten.

Beispiel 8

Ein mechanisch gekörntes 2S-Aluminiumsubstrat wurde teilweise durch Eintauchen in eine 2%ige wäßrige Lösung von Natriumhydroxid bei 40^cC während eines Zeitraumes von 1 Min. geätzt. Nach der Wäsche mit Wasser wurde das Aluminiumsubstrat in ein Gemisch aus Schwefelsäure und Chromsäure während eines Zeitraumes von etwa 1 Min. zur Freilegung der Oberfläche aus reinem Aluminium eingetaucht. Dann wurde das Substrat in eine 2O°/oige Schwefelsäure von 30⁰C eingetaucht und der Anodisierung bei einer Gleichstromspannung von 1,5 V und einer Stromdichte von 3 A/dm² unterworfen, worauf mit Wasser gewaschen und getrocknet wurde. Anschließend wurde ein Walzenüberzugsgerät zum kontinuierlichen Überziehen des Substrates mit einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammensetzung verwendet, bis das Trockengewicht 2 g/m² betrug.

Lichtempfindliche Lösung

Naphthochinon-1,2-diazid-(2)-5-sulfonsäureester eines Aceton-Pyrogallolharzes (hergestellt nach dem Verfahren von Beispiel 1 der US-Patentschrift 36 35 709) tert.-Butylphenol/Formaldehydharz Kresol/Formaldehydharz Methyläthylketon Cyclohexanon

5g

0,5 g

5g
50 g
40 g

Die Platte wurde bei 100⁰C während eines Zeitraumes von 2 Min. getrocknet und zeigte das Verhalten einer PS-Platte, die an einem kühlen dunklen Platz während eines Zeitraumes von 1 Jahr ohne irgendeine signifikante Schädigung ihrer Qualität gelagert werden konnte. Die in dieser Weise vorsensibilisierte lithographische Druck-

platte wurde in einen Vakuumdruckrahmen gesetzt und an eine 3 kW-Metallhalogenidlampe durch einen positiven Film während eines Zeitraumes von 30 Sekunden ausgesetzt Anschließend wurde die Platte in eine Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung eingetaucht

Entwicklerlösung

NatriumsüicatJISNr.3 10 g

Natrium-Isopropylnaphthalinsulfonat 20 g

Benzylalkohol 30 g ίο Wasser zu 1000 m!

Die erhaltene lithographische Druckplatte wurde mit Wasser gewaschen, abgestrichen, mit einem der in der nachfolgenden Tabelle II angegebenen drei Schutzmittel gummiert und bei 80° C während eines Zeilraumes von 5 Min. getrocknet Die drei Druckplatten wurden bei einer Temperatur von 20° C während eines Zeitraumes von 7 Tagen stehengelassen, mit Wasser zur Entfernung des Schutzmittels von der Oberfläche gewaschen, zum Drucken in einem üblichen Verfahren verwendet wobei die Anzahl der Abfallbögen gezählt wurde und sämtliche Flecken auf den Nichtbildbereichen der Drucksachen gewählt wurden. Die Ergebnisse der Bewertuk^ sind in der Tabelle II aufgeführt " fi

20	Tabelle II	Vergleichsbeisp. I	Beisp.2	Vergleichsbeisp. 2
	Schutzmittel	15 keine	5 keine	15 keine
75	Anzahl der Abfallbögen Flecken

Die vorstehenden Ergebnisse belegen, daß die Schutzmittel gemäß der Erfindung den lipophilen Charakter des Büdbereiches der Druckplatte nicht schädigen noch irgendwelche Flecken auf den Nichtbildbereichen hervorrufen.

Beispiel 9

Das Verfahren nach Beispiel 3 wurde wiederholt, wobei jedoch Dibutylphthalat als organisches Lösungsmittel für das Schutzmittel durch K-Solvent ersetzt wurde. Die beiden Druckplatten A und B lieferten das gleiche Ergebnis wie in Beispiel 3.

Beispiele 10 bis 16 und Vergleichsbeispiele 3 und 4

Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch die Druckplatte mit einem Schutzmittel überzogen wurde, welches durch Emuigierung eines Gemisches einer wäßrigen Lösung E und einer Lösung F -,

der folgenden Zusammensetzungen hergestellt worden war. Die Ergebnisse der Bewertung des lipophilen jjj

Charakters des Büdbereiches jeder Druckplatte sind in der nachfolgenden Tabelle III aufgeführt.

Wäßrige Lösung E |

Gummiarabikum 4 g §|

Dextrin 16 g

Phosphorsäure (85%) 0,2 g

Wasser 75 g ,

$

Lösung F

Natrium-di(2-äthylhexyl)su!fosuccinat 1,0 g

Dioctylphthalat 2,0 g

nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp

(siehe folgende Tabelle III)
Kolophoniumester 0,5 g

Aus der folgenden Tabelle III ist ersichtlich, daß das Schutzmittel gemäß der Erfindung die Eigenschaft besitzt, den lipophilen Charakter des Bildbereiches einer lithographischen Druckplatte nicht zu verringern.

Tabelle III

Versuch Nr. nicht-ionisches oberflächenaktives HLB Anzahl der AbfaUbögen

Mittel vom Alkylphenyltyp Druckplatte A Druckplatte B

Beisp. 10 Polyoxyäthylennonylphenyläther 8 10 10

Beisp. 11 ebenso 10 10 10

Beisp. 12 ebenso 12 10 5

Beisp. 13 ebenso 14 10 5

Vergleichsbeisp. 3 ebenso 18 40 50 io

Beisp. 14 Polyoxyäthylendodecylphenyläther 8 10 10

Beisp. 15 ebenso 10 10 5

Beisp. 16 ebenso 14 10 10

Vergleichsbeisp. 4 Schutzmittel, bestehend lediglich 60 60

aus Lösung E 15

Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne daß die Erficdung hierauf begrenzt ist.

Claims (20)

Patentansprüche:

1. Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten, bestehend aus einer Öl-in-Wasser-Emulsion mit einer wäßrigen Phase, die gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält, und einer ölphase, die ein organisches Lösungsmittel und mehrere oberflächenaktive Mittel enthält, gekennzeichnet durch die Kombination eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14, und eines anionischen oberflächenaktiven Mittels.

2. Schutzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das nichtionische oberflächenaktive Mittel vonm Alkylphenyltyp aus einer Verbindung der Formel (I) besteht

worin R eine Alkylgruppe, ρ die Zahlen 1 oder 2, m eine ganze Zahl von 1 bis 4 und η eine ganze Zahl von 2 oder höher bedeuten.

3. Schutzmittel nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet daß das nichtionische oberflächenaktiv Mittel vom Alkylphenyltyp aus dem Polyoxymethylenoctylphenyläther, Polyoxymethylennonylphenyläther, PoIyoxymethylencetylphenyläther, Polyoxymethylenlaurylphenylätheir, Polyoxyäthylenoctylphenyläther, PoIyoxyäthylennonylphenyläther, Polyoxyäthylendecylphenyläther, Polyoxyäthylenlaurylphenyläther, Polyoxypropylenoctylphenyiäther, Poiyoxypropylennonyiphenyiäther, Poiyoxypropyiendecyiphenyiäther, Poiyoxypropylenlaurylphenyläther, Polyoxypropylencetylphenyläther, Polyoxybutylenoctylphenyläther, Polyoxybutylennonjlphenyläther, Polyoxybutylendecylphenyläther, Polyoxybutylenlaurylphenyläther, Polyoxybuty-Iencetylphenyläther und/oder Polyoxyäthylendinonylphenyläther, jeweils mit einem HLB-Wert niedriger als 14, besieht

4. Schutzmittel nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das nichtionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus Polyoxyäthylennonylphenyläther oder Polyoxyäthylenoctylphenyläther besteht

5. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel aus einem aliphatischen Säuresalz, einem Alkylsulfatester, einem Alkylbenzolsulfonat,

3t» einem Alkylnaphthalinsulfonat, einem Dialkylsulfosuccinatester. einem Alkylphosphatester, einem Kondensat von Naphthalinsulfonsäure und Formalin oder einem Polyoxyäthylenalkylsulfaiester besteht.

6. Schutzmittel nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel aus einem Dialkylsulfosuccinat besteht

7. Schutzmittel nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet daß das Dialkylsulfosuccinat aus Natriumdihexylsulfosuccinat Natrium-di-(2-äthylhexyl)-sulfosuccinat, Natrium-dinonylsulfosuccinat und/oder Natriumdilaurylsulfosuccinat besteht.

8. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtmenge von nichtionischem und anionischem oberflächenaktiven Mitte! 0,5 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Plattenschutzmittels, beträgt

9. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des nichtionischen oberflächenaktiven Mittels zu dem anionischen oberflächenaktiven Mittel 10:1 bis 1 :10 beträgt.

10. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel aus einem Plastifizieren der sich bei einer Temperatur niedriger als 15°C verfestigt und bei einer Temperatur höher als 300°C bei Atmosphärendruck siedet, besteht

11. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel aus einem in Wasser unlöslichen Lösungsmittel besteht.

12. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 11. dadurch gekennzeichnet, daß das Lösungsmittel in einer Menge von 0.1 bis 10 Gew.-°/o, bezogen auf das Gewicht des Plattenschutzmitteis. vorlie.-'t.

13. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 12. dadurch gekennzeichnet, daß die ölphase zusätzlich eine lipophile Substanz enthält, die die Stabilität der Emu!· ion erhöht.

14. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 13. dadurch gekennzeichnet, daß das hydrophile Polymere aus Dextrin. Gummiarabicum. einem Alginat, einer wasserlöslichen Cellulose. Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon. Polyacrylamid, Acrylamidcopolymerem, Vinylmethyl äther- Maleinsäureanhydrid-Copolymerem und/oder Vinylacetat-Maleinsäureanhydrid-Copolymerem besteht.

15. Schutzmittel nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das hydrophile Polymere aus Gummiarabicum. Dextrin. Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose und/oder Polyvinylalkohol besteht.

16. Schutzmittel nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das hydrophile Polymere aus Gummiarabicum besteht.

*

17. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile polymere

Verbindung in einer Menge von 5 bis 40 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Plattenschutzmitteis, vorliegt.

18. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die wäßrige Phase | zusätzlich ein Benetzungsmittel enthält |

19. Schutzmittel nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Benetzungsmittel aus einem mehrwertigen Alkohol besteht.

20. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet, daß die wäßrige Phase zusätzlich ein wasserlösliches Salz enthält.