DE2910961A1

DE2910961A1 - Auftaugeraet ii

Info

Publication number: DE2910961A1
Application number: DE19792910961
Authority: DE
Inventors: Karl Dr Fritz
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1979-03-21
Filing date: 1979-03-21
Publication date: 1980-10-02

Description

Betr.: Anmeldung zum Patent hilfsweise Gebrauchsmuster schutz
Auf taugerät II Zusatz zu P29olo50 Im Hauptpatent wurde ein Mikrowellenauftraugerät beschrieben, das für Objekte mit sehr empfindlicher Oberfläche gegenüber erhöhten Temperaturen geeignet ist. Solche Objekte fallen in der Industrie an, in der Lebensmitteltechnik vor allem in Form von tiefgekühlten Torten bei Konditoreien.
Bekanntlich isteíbisher nicht möglich, solche worten forciert aufzutauen, man muß vielmehr diese Objekte ca. 2 Tage normaler Temperatur aussetzen, da die Wärmeleitfähigkeit sehr gering ist, andererseits die Temperaturempfindlichkeit der Oberfläche gegenüber dem Inneren ausßerordentlich viel größer ist.
Diese Empfkindlichkeit wird zunächst herücksichtigt durch eine forcierte Kühlung der Oberfläche durch einen tiefgekühlten Luftstrom.
Aber auch rein hochfrequenzelektrisch sind besondere Vorkehrungen zu treffen, da diese Objekte eine sehr homogene ESstrahlung verlangen und dadurch von den Sttoßstellen am Objekt ausgehende Sekundärstrahlung zu Interferenzeffekten führt, die ein Auftauen zunächst unmöglich machen.
Von der zylindrischen Begrenzung ausgehend ergeben sich abwechselnd Maximal und Minima in Form von Ringen, konzentrisch zum Rand, von der Decken- und Bodenbegrenzung ausgehend ergibt sich bei der üblichen Dicke und der zugelassenen Wellenlänge zunächst ein Minimum genau in halber Höhe des Objektes.
Abb. 1 bis 3 zeigen die elektrischen Anordnungen, die notwendig sind, um diese Interferenzeffekte auszuschalten. Als Beispiel ist ein genau zylindrischer Objektkörper gewählt, weil bei einem solchen Körper diese störenden Interferenzeffekte am stärksten auftreten. In Abb. 1 sei eins das Objekt auf einem Drehteller, der nicht metallisch, sondern über reibungsarme Plastik gelagert ist und mittels einer Platikachse gedreht wird. Die Einstrahlung der Hochfrequenz geschieht nicht frei in den Raum, sondern direkt im Primärstrahl auf das Objekt. Dadurch ist im Raum außerhalb des Objektes keine nennenswerte MW-Leistung vorhanden und die Dimensionen des Raumes sind freibleibend, ebenso wie die fähigkeit der Tür sehr vereinfacht wird. Die Strahlungsquellen zwei sind Fenster, beispielsweise als Enden je eines Hohlleiters, die von einer gemeinsamen Quelle drei gespeist werden. Dadurch ist sichergestellt, daß die Phase an zwei genau gleich sind, dadurch bildet sich bekanntlich ein flaches Maximum symmetrisch zwischen den beiden Enden 2. Auf diese Weise kann man das normalerweise im Objekt entstehende Minimum sogar geringfügig überkompensieren. Des weiteresn wird nach Abb. 2 die geometrische Lage dieser Fenster relativ zum Drehpunkt 4 und dem Rand 5 des Objektes sehr genau so gewählt, daß die Umgebung des Mittelpunktes nahezu die selbe Bestrahlung in Zeitmittel enthälft, wie die übrgien Teile des Objektes mit Außnahme des äußeren zylindrischen Randes, dessen Temperatur mit Hilfe der Fensterlokalisierung und der bei 4 zugeführten Kaltluft genau auf einen Sollwert gehalten wird.
6 ist der Verdampferkühler, durch den die Luft aus dem Kälteaggregat im Ringstromverfahren nach Abb. 3 durchströmt.
Im Bedarfsfalle steht es frei, den Außenrand nach Auftauen des Inneren durch kurze Durchführung durch einen Infrarotstrahler weiter aufzuwäremen.
Vorbedingung lit ist dabei immer, daß die Temperatur der Außenhaut so niedrig bleibt, daß diese keine mechanischen Änderungen erleidet.
Im Falle von Konditoreierzeugnissen kommt es oft vor, daß einzelne Obstteile z.B. Kirschen alsrapierung auf der Oberfläche auft werden. Diese Elemente absorbieren durch ihren Säuregehalt normlerweise die MW-Energie in erhöhtem Maße und stören den Vorgang, dürfen also erst nach dem Auftauvorgang aufgebracht werden. Ebenso dürfen lockere Bestandteile wie Schokoladesplitter und ähnliches nicht vorher aufgebracht werden, da diese den guten Kontakt der Kühlluft mit der Oberfläche beeinträchtigen.
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Claims

Mikrowellenauftaugerät für oberflächenempfindliche Objekte dadurch gekennzeichnet, daß 1. das Objekt sich in einem Strome tiefgekühlter Luft befindet.
2. diese Luft im Kreislauf über ein Kühlsystem üblicher Art geführt wird.
3. die Mikrowelleneinstrahlung aus zwei einandergegenüberliegenden Fenstern erfolgt, die gleichphasig sind und gleiche Amplitude haben.
4. zur Verlagerung des Maximums zwischen den beiden Strahlungsquellen Amplitude und Phase von außen gesteuert werden kann mit Hilfe bekannter Mittel.
5. die geometrische Lage der Strahlungsquellen relativ zum Mittelpunkt und zum Rand so gewählt wird, daß im gesamten Objekt eine relativ gleichförmige Temperaturerhöhung entsteht mit Ausnahme des Randes, dessen Temperatur in definierten Weise niederiger gehalten wird.
6. die Strahlung relativ zum Objekt so geführt wird, daß im Raum keine nennenswerte Mikrowellenstrahlung auftritt, sodaß die Raumdimensionen unwirksam sind.
7. eine Abzweigung dines Teiles der Kühlluft zur Kühlung der Senderöhre verwendet wird.
8. gegebenfalls zur Erhöhung der Einstrahlleistung der gleiche Vorgang an weiteren symmetrisch gelagerten Stelles des Objektes wiederholt wird.
9. irw vor dem Auftauen störende absorbierende Elemente entfernt werden.

lo.der Drehteller mit Hilfe von Plastik geringer Oberflächenreibung sich auf einem Flächenlager dreht.