DE2821777A1

DE2821777A1 - Wasserentwickelbare offsetdruckplatte

Info

Publication number: DE2821777A1
Application number: DE19782821777
Authority: DE
Inventors: Simon Long Chu; Eugene Golda; Alan Leonard Wilkes
Original assignee: Polychrome Corp
Current assignee: Polychrome Corp
Priority date: 1977-05-19
Filing date: 1978-05-18
Publication date: 1978-11-30
Also published as: AU519958B2; GB1604170A; JPS53145706A; FR2391489B1; US4104072A; JPS6151311B2; SE7805737L; CA1103089A; FR2391489A1; DK74278A; NL7801625A; NO774517L; AU3596778A

Description

u.Z. : M 4-69
Case: DB-52

POLYCHROME CORPORATION

On the Hudson, Yonkers, Few York, V.St.A.

"Wasserentwickelbare Offsetdruckplatte"

Die Herstellung von umweltfreundlichen Offsefcdruckplatten und ihre Entwicklung ist bisher ein ungelöstes Problem. Es sind Offsetdruckplabten bekannt, die die Verwendung verschiedener chemischer Entwicklersubstanzen erfordern, die nach dem Gebrauch normalerweise durch das öffentliche Abwassernetz beseitigt werden müssen. Solche Entwickler sind teuer und ihre Beseitigung mit dem Abwasser isb unerwünscht.

Die Verwendung bestimmter wasserlöslicher Diazoverbindungen zur Herstellung von Offsetdruckplatten, die bei der üblichen Belichtung mit ultravioletter Strahlung wasserunlöslich werden, ist bekannt. Dieses Verfahren erlaubt die Entfernung von nicht belichteten Bereichen durch Entwickeln mit Wasser. Die dabei erhaltenen Bilder sind jedoch überaus zerbrechlich und können der Beanspruchung durch längeres Drucken nicht standhalten. Deshalb ist es bei Platten, die nach diesem Verfahren hergestellt werden, erforderlich, einen für Tinte aufnahmefähigen Lack oder eine ähnliche Beschichtung nach dem Entwikkeln auf die Bildbereiche aufzubringen. Tatsächlich druckt somit diese Beschichtung das gewünschte Bild und nicht die Diazoverbindung. Außerdem muß beachtet werden, daß auch diese Lacke das Spülwasser verschmutzen. Ein derartiges wasserlös-

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liches Diazosystem ist beispielsweise in der US-PS 3 179 518 "beschrieben.

Andere Versuche betreffen die Verwendung einer wasserlöslichen Diazoverbindung und eines wasserlöslichen Harzes, das bei der üblichen Belichtung wasserunlöslich wird. Jedoch sind die nach diesen Verfahren erhaltenen Bilder nicht aufnahmefähig für Tinte und eignen sich deshalb nicht zur Herstellung von Offsetdruckplatten.

Bei der Herstellung von praktisch verwendbaren vorsensibLlisierten Offsetdruckplatten, die kein nachträgliches Aufbringen eines Lackes auf die Bildbereiche erfordern, ist bisher die Verwendung von lichtempfindlichen Gemischen erforderlich, die nicht mit gewöhnlichem Leitungswasser entwickelt werden können. Nach diesem Verfahren hergestellte Druckplatten können nur mit Hilfe von teuren, umweltverschmutzenden, besonderen chemischen Verbindungen entwickelt werden.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine technisch verwendbare Offsetdruckplatte zu schaffen, die mit gewöhnlichem Leitungswasser entwickelt werden kann, keine teuren und umweltschädlichen chemischen Stoffe zur Entwicklung benötigt und kein nachträgliches Aufbringen eines Lackes oder ähnlichen Stoffes auf das entwickelte Bild erfordert. Diese Aufgabe wird durch die Erfindung gelöst.

Die Erfindung betrifft somit den in den Ansprüchen gekennzeichneten Gegenstand.

Die erfindungsgemäße Offsetdruckplatte kann durch Verwendung von gewöhnlichem Leitungswasser, das billig und umweltfreundlich ist, befriedigend entwickelt werden. Eine Offsetdruckplatte, die diese Bedingungen erfüllt, kann erfindungsgemäß dadurch hergestellt werden, daß zunächst eine Schicht aus einer lichtempfindlichen, für den Offsetdruck geeigneten,

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wasserlöslichen Verbindung auf die Oberfläche einer Metallplatte aufgebracht wird. Das dabei erhaltene Substrat wird anschließend mit einer oberen Schicht aus einem lichtempfindlichen Gemisch aus einem wasserunlöslichen, für den Offsetdruck geeigneten Photosensibilisator und einem wasserunlöslichen Harz beschichtet. Die erfindungsgemäß in den Schichten "verwendeten, für den Offsetdruck geeigneten Photosensibilisator en können entweder positiv oder negativ wirken, jedoch müssen die untere und die obere Schicht entweder beide positiv oder beide negativ wirken. Das obere Beschichtungsgemisch ist dadurch gekennzeichnet, daß es wasserunlöslich, für Tinte aufnahmefähig und entweder wasserdurchlässig oder wasserundurchlässig ist. Wasserdurchlässigkeit bedeutet, daß das Gemisch in Wasser unlöslich ist j das Wasser jedoch durch das Gemisch hindurchgehen kann. In einer negativ wirkenden Beschichtung ist die obere Schicht ursprünglich wasserdurchlässig. Bei der bekannten bildhaften Belichtung durch eine geeignete Abdeckung werden die belichteten Bereiche wasserundurchlässig und bleiben für Tinte aufnahmefähig. In einem derartigen negativ wirkenden System ist die untere Schicht zunächst wasserlöslich. Sie wird jedoch in den belichteten Bereichen wasserunlöslich, während die nicht belichteten Bereiche wasserlöslich bleiben. Infolgedessen dringt das Wasser beim Waschen einer bildhaft belichteten Platte in die nicht belichteten Bereiche der negativ wirkenden lichtempfindlichen Beschichtung ein, erreicht die wasserlösliche, nicht belichtete, lichtempfindliche Verbindung unter den Nichtbildbereichen und löst sie auf. Auf diese Weise wird cLe Grundlage der Nichtbildbereiche unterminiert und ausgewaschen. Diese Bereiehe, die dann keine ausreichende Grundlage mehr besitzen, können durch Wasser in Verbindung mit leichtem Reiben rasch und leicht weggespült werden. Da die Bildbereiche bei der Belichtung wasserundurchlässig werden, kann das Wasser die feste Grundlage der nun wasserunlöslichen Verbindung unter den Bildbereichen nicht erreichen. Diese Bereiche werden deshalb nicht untergraben und weggespült. Die Wasserunlöslichkeit

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der unteren Bildbereiche verstärkt die Festigkeit gegen unerwünschte Verluste der Bildbereiche. Die Bildbereiche sind deshalb für Tinte aufnahmefähig, während die nackte Metalloberfläche der Nlchtbildbereiche, in denen die Beschichtung entfernt wurde, von ihrer Natur her tintenabweisend ist. Somit wird eine technisch befriedigende Offsetdruckplatte erhalten.

Bei einer positiv wirkenden Platte ist die lichtempfindliche obere Schicht ursprünglich wasserundurchlässig. Bei der Belichtung wird sie in den belichteten Bereichen wasserdurchlässig und bleibt in den unbelichteten Bereichen wasserundurchlässig. Bei einem positiv wirkenden System ist jedoch auch die untere Schicht zunächst wasserlöslich. Bei der bildhaften Belichtung werden jedoch die belichteten Bereiche stärker wasserlöslich als die unbelichteten Bereiche. Als Folge davon dringt das Wasser durch die belichteten Bereiche der oberen Schicht und löst die entsprechenden, nunmehr extrem wasserlöslichen Bereiche der unteren Schicht rasch auf.

Obwohl auch die nicht belichteten Bereiche der unteren Schicht wasserlöslich sind, dringt das Wasser nicht durch die entsprechenden nicht belichteten Bereiche der oberen Schicht. Infolgedessen werden die nicht belichteten Bereiche der unteren Schicht nicht in nennenswerter Menge gelöst.

Denn das Wasser kann diese Bereiche durch die obere Schicht nicht erreichen und die rasche Auflösung der benachbarten belichteten Bereiche verhindert, daß Wasser zur Unterminierung der nicht belichteten Bereiche anwesend ist.

in der ersten Stufe des Verfahrens zur Herstellung der erfindungsgemäßen Offsetdruckplatte wird eine Metallplatte, vorzugsweise aus Aluminium oder dessen Legierungen, die gegebenenfalls nach bekannten Körnungs- und/oder Ätz- und/oder anodischen Oxidationsverfahren vorbehandelt wurden, und außerdem gegebenenfalls mit einer als Zwischenschicht für Offsetdruckplatten geeigneten Verbindung behandelt wurden, mit einer

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Schicht aus einer für den Offsetdruck geeigneten, lichtempfindlichen, wasserlöslichen Verbindung beschichtet. Anschließend wird auf das derart vorbeschichtete Substrat eine Schicht aus einem Gemisch von einem wasserunlöslichen, für den Offsetdruck geeigneten Photosensibilisator und einem was serunlöslichen Harz aufgebracht. Dieses für die obere Schicht verwendete Gemisch ist wasserunlöslich, für Tinte aufnahmefähig und vor der Belichtung mit ultravioletter oder anderer, chemische Veränderungen hervorrufender Strahlung, entweder wasserdurchlässig oder wasserundurchlässig. Das für die obere Schicht verwendete Gemisch bildet vorzugsweise kei ne Folie, die Wasserdurchlässigkeit verhindern würde. Bei ne gativ wirkenden Druckplatten wird die vorstehend erwähnte oberste Schicht, die ursprünglich wasserdurchlässig ist, bei der bekannten bildhaften Belichtung durch eine Abdeckung in den belichteten Bereichen wasserundurchlässig, während die nicht belichteten Bereiche wasserdurchlässig bleiben. Dies gilt nur für negativ wirkende Platten. Bei positiv wirkenden Platten ist die oberste Beschichtung ursprünglich wasserundurchlässig und bei Belichtung bleiben die unbelichteten Bereiche wasserundurchlässig, während die belichteten Bereiche wasserdurchlässig werden.

Bei einer negativ wirkenden Beschichtung besteht die obere Schicht aus einem Gemisch aus einem wasserunlöslichen, negativ wirkenden Offsetphotosensibilisator und einem wasserdurchlässigen, oleophilen, wasserunlöslichen Harz. Das erhal tene Gemisch ist ebenfalls lichtempfindlich, wasserdurchlässig, oleophil und wasserunlöslich. Nach der Belichtung mit ultravioletter oder sonstiger, chemische Veränderungen bewir kender Strahlung, ist der Photosensibilisator enger an das Harz gebunden, und das Gemisch wird infolgedessen wasserundurchlässig.

Eine positiv wirkende Beschichtung besteht aus einem Gemisch aus einem wasserunlöslichen, wasserundurchlässigen, positiv

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wirkenden Offsetphotosensibilisator und einem wasserdurchlässigen, oleophilen, wasserunlöslichen Harz. Das erhaltene Gemisch isb ebenfalls oleophil und wasserunlöslich. Der Photosensibilisator ist jedoch eng an das Harz gebunden, und das Gemisch ist infolgedessen wasserundurchlässig. Nach der Belichtung wird, wie vorstehend, der Photosensibilisator wasserdurchlässig, wodurch das gesamte Gemisch an den belichteten Bereichen wasserdurchlässig wird.

Die belichtete Platte wird durch Spülen mit Wasser und gegebenenfalls Reiben entwickelt. Dabei erlauben die wasserdurchlässigen Bereiche den Durchgang des Wassers zu der darunterliegenden Schicht der Platte und verursachen so die Auflösung der unteren Verbindung und die Unterspülung der wasserdurchlässigen Bereiche der oberen Schicht, die gelockerb und weggewaschen wird. In den wasserundurchlässigen Bereichen verbleibt dagegen ein für Tinte aufnahmefähiges Bild, das als Offsetdruckplatte verwendet werden kann.

Bekannte Vorbehandlungen der Metallplatten sind elektrolytisches anodisches Oxidieren in Schwefel-, Chrom-, Salz und/ oder Phosphorsäure, oder elektrolytisches Ätzen Ln Salz- oder Phosphorsäure und/oder chemisches oder mechanisches Körnen nach bekannten Verfahren. Als Zwischenschicht; für die erfindungsgemäßen Offsetdruckplatten eignen sich solche, die als wäßrige Lösungen aufgebracht werden können, wie wäßrige Lösungen von Alkalimetallsilikaten, wie Natriumsilikat, Kieselsäure, Polyacrylsäure, Alkalizirkoniumfluoriden, wie Kaliumzirkoniumhexafluorid oder Fluorozirkoniumsäure in Konzentrationen von 0,5 bis 20 Volumenprozent.

Es wurde festgestellt, daß bei den erfindungsgemäßen Offseb druckplatten befriedigende Ergebnisse erhalten werden, wenn die lichtempfindliche Verbindung der unteren Schicht einen

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wasserlöslichen, in organischen Lösungsmitteln fast oder gar nicht löslichen, für den Offsetdruck geeigneten Photosensibilisator darstellt, der gegebenenfalls mit einem wasserlöslichen Harz vermischt sein kann, das in Wasser oder einem Gemisch von Wasser und einem mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel gelöst ist.

Als mit Wasser mischbare organische Lösungsmittel eignen sich erfindungsgemäß solche mit einem Siedepunkt von höchstens 121⁰C, vorzugsweise höchstens 100⁰C, und besonders bevorzugt von 10 bis 66°C. Spezielle Beispiele sind Methanol, Ithanol, Isopropanol, Aceton, Methyläthylketon und Äthylenglykolmonomethylather.

Spezielle Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare Photosensibilisatoren sind :

4~Diazo-diphenylamin-Sulfat

1-Diazo-4—NjN-dimethylaiaino-beiizol-Zinkchlorid 1-Diazo-4-H,N~diäthylamino-benzol-Zinkchlorid Ί-Diaso—4—N-äthyl-II-hydroxyäth3?laiiiinD-benaol-i/2-Zinkchlorid 1-Diazo—H- N-methyl-N-hydroxyäthylamino-benaol-i^-Zinkchlorid 1-Diazo-2,5-diäthoxy-A—ben3oyla-ino-benaol-1/2-Sinkchlorid 1-Diazo-4-N-benzylamino~benzol"1/2-2i:nl£chlorid i-Diazo-4—NjEf-dimethylamino-benzol-Borfluorid 1-Diazo-4~morpholino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-4—morpholino-benzol-Borfluorid 1-Diazo-2,5-äimethoxy-4~p-tolylmercaptobenzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-2-äthoxy-4—E',lT-dimethylaminobenzol-i/2-Zinkchlorid p-Mazo-dimethyl-anilin-i/^-Zinkchlorid 1-Diazo-4~lT,N-diäthylamino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-2,5-dibutoxy-4-T-morpholino-benzol-Sulfat 1-Diazo-2, 5-diäthoxy-^;4—morpholino-benzol-i/2-Zinkchlorid i-Diazo-2, 5~dimethoxy-^/^-morpholino-benzol~Zinkchlorid 1-Oiazo-2,5-diäthoxy-4—aorpholino-benzol-i/^-Zinkchlorid 1-Diazo-2,5-diäthoxy—4—morpholino-benzol-Borfluorid Natriumsalz von 2-Diazo-1-naphthol-5~sulfonsäure

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1-Diazo-4~lf,Ii-diäthylamino-benzol-Borfluorid 1-Diazo-2,5-diätlioxy-4~p-tolylmercapto-benzol-1/2-ZirLk:clilorid ^/1-Diazo-3-äthoxy-4-N-methyl-M'-benzylamino-benzol-i/2-Zinkchlorid

i-Diazo-3-chlor—4~ ^,N-diäthylamino-benzol-i^-Ziiikchlorid 1~Diazo-3-iaethyl-4-pyrrolidino-benzol-chlorid-Zinkc]ilorid 1-Diazo-3-methy1-4-pyrrolidino-benzol-Borfluorid 1-Diazo-2~ohlor-^zl—N,N-dimethylamino-5-meth.oxy-benzol-Borfluorid i-Diazo^-methoxy-^-pyrrolidino-benzol-Zinkchlorid Eondensationsprodukt von 4-Diazo-diphenylamin-Sulfat und Formaldehyd-Zinkchlorid.

Als wasserlösliche Harze der unteren Schicht eignen sich Polyvinylpyrrolidon, Polyvinylalkohole, Polyacrylamide und PoIyacrylamid-Copolymerisate, synthetische Gummi, wie starabische Gummi und Dextrine, sowie natürliche Gummi, wie Gummiarabicum und Hydroxyäthylcellulosegummi.

Wenn die Verbindung der unteren Schicht ein wasserlösliches Harz enthält, dann kann das Verhältnis von Photosensibilisator zu Harz 100:1 bis 1:100 Gewichtsteile betragen.

Venn die die untere Beschichtungslösung darstellende Lösung ein mit Wasser mischbares organisches Lösungsmittel enthält, dann kann dieses bis zu der Menge vorhanden sein, die beim Zusatz zu einer wäßrigen Lösung der für die untere Schicht verwendeten lichtempfindlichen Verbindung eine Ausfällung verursacht.

Vorzugsweise beträgt das Verhältnis von Wasser zu organischem Lösungsmittel etwa 1:9 Ms etwa 9:1 Gewichtateile.' Besonders bevorzugt ist ein Verhältnis von 1:1 Gewichtsteilen.

Die Geschwindigkeit der Entwicklung kann durch das Verhältnis der verwendeten Mengen Wasser und organisches Lösungsmit-

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tel gesteuert werden. Wenn ein größerer Anteil Wasser verwendet wird, dann wird "beim Trocknen ein gleichmäßigerer Auftrag der unteren Schicht erhalten. Dadurch wird eine stärkere Haftung am Substrat erreicht. Die auf diese Weise herge-

stellte Platte benötigt jedoch eine längere Entwicklungsdauer. Wird dagegen ein größerer Anteil an organischem Lösungsmittel verwendet, dann wird beim Trocknen ein ungleichmäßigerer Auftrag der unteren Schicht erhalten, der nicht so
stark an das Substrat gebunden ist, aber eine raschere Ent-

wicklung ermöglicht.

Das Gleichgewicht dieser Faktoren muß in Abhängigkeit zu den im Einzelfall gewünschten Eigenschaften gesucht werden.

wird
Die Verbindung der unteren Schicht/auf das Substrat in einem Beschichtungsgewicht von etwa 0,5 bis 20 mg/qm, vorzugsweise von etwa 1 bis 10 mg/qm und besonders bevorzugt von etwa 2,5 bis 6 mg/qm, aufgebracht.

In der oberen Schicht der erfindungsgemäßen Offsetdruckplatten verwendbare wasserdurchlässige oleophile Harze sind
Epoxidharze, PoIyicarethane, Polyester, Polyvinylformaldehydharze, Urethane mit niederem Molekulargewicht, Polyvinylacetale, Polyäthylenoxide und Polyvinylhydrogenphthalate.

Als wasserunlösliche, lichtempfindliche Verbindungen für die obere Schicht werden erfindungsgemäß solche Verbindungen verwendet, die sich für den Offsetdruck eignen und gegen chemische Veränderungen hervorrufende und/oder ultraviolette Strahlung empfindlich sind. Es können sowohl negativ als auch positiv wirkende lichtempfindliche Verbindungen verwendet werden. Spezielle Beispiele für verwendbare negativ wirkende
lichtempfindliche Verbindungen sind aromatische Diazoverbindungen, wie das Umsetzungsprodukt von Paradiazodiphenylamin-Paraformaldehyd-Kondensat und 2-Hydroxy-4~methoxy-benzophenonsulfonsäure, und die Azidopyrene, wie 1-Azidopyren, 6-Nitro-

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1-aziaopyren, 1,6-Diazidopyren, 1,8-Diazidopyren, 1-Propionyl 6-azidopyren, 1-Acetyl-S-azidopyren, 1-n-Butyryl-6-azidopyren, i-n-Propionyl-e-brom-G-azidopyren und 8-n-Propionyl-1,6-diazidopyren. Spezielle Beispiele für verwendbare positiv wirkende lichtempfindliche Verbindungen sind aromatische Diazooxidverbindungen, wie Benzochinondiazide und Faphthochinondiazide, und Polyacetale, die bei Bestrahlung mit ultraviolettem Licht depolymerisieren, Polymonochloracetaldehyd, PoIy propionaldehyd, Poly-n-butyraldehyd, Polycyanacetaldehyd, Pcly-ß-cyanpropionaldehyd, Polycyanpentaldehyd, Polycyanvaler aldehyd, Polyisobutyraldehyd, Polyvaleraldehyd und Polyheptaldehyd. Die am besten geeignete lichtempfindliche Verbindung kann vom Fachmann je nach dem angestrebten Ergebnis ausgewählt werden.

Das geeignetste Mengenverhältnis der Komponenten und die Auswahl der einzelnen Verbindungen hängt natürlich von den besonderen Eigenschaften ab, die bei der Offsetdruckplafcte gewünscht werden. Obwohl das Mengenverhältnis von Photosensibilisator zu Harz in der oberen Schicht nicht kritisch isb, beträgt es aus praktischen Gründen etwa 1 bis 10 Gewichtsteile Sensibilisator zu etwa 50 bis 1 Gewichtsteil Harz. Ein bevorzugtes Verhältnis liegt bei etwa 1 bis 5 Gewichtsteilen Sensibilisator zu etwa 10 bis 1 Gewichtsteil Harz. Besonders bevorzugt ist ein Verhältnis von etwa 1 bis 3 Gewichbsteilen Sensibilisator zu etwa 4- bis 1 Gewichtsteil Harz.

Das Beschichtungsgewicht des Gemisches von Phobo3ensibilisator und Harz der oberen Schicht auf der Offseüdruckplatte beträgt etwa 0,5 bis 30 mg/qm, vorzugsweise ebwa 3?5 bis 20 mg/ qm und besonders bevorzugt etwa 5 bis 10 mg/qm.

Die nach vorstehendem Verfahren hergestellte erfindungsgemäße Offsetdruckplatte kann nach der bekannten bildhaften Belichtung durch Verwendung von fließendem Wasser mit oder ohne Reiben entwickelt werden. Die Entwicklungsdauer beträgt

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mindestens 5 Sekunden und hängt von der Zusammensetzung der Schichten und der Größe der Platte ab.

Die Beispiele erläutern die Erfindung.

Beispiel 1

Zwei Platten A und B aus einer mit Bimsstein gekörnten Aluminiumlegierung werden mit einem wasserlöslichen, negativ wirkenden Diazoniumsalz-Harz, nämlich mit Paradiazodiphenyl- · amin-Z inkehl or id kondensiert mit Paraformaldehyd, "beschichtet. Die Platte A wird dann mit einer 2prozentigen Lösung des vorstehend genannten Kondensationsproduktes in Wasser "bis zu einem trockenen Beschichtungsgewicht von 4- mg/qm tauchbeschichtet. Die Platte B wird mit einer 2prozentigen Lösung des vorstehend genannten Kondensationsproduktes in einem Gemisch von 50% Wasser und 50% Methanol ebenfalls bis zu einem trockenen Beschichtungsgewicht von 4- mg/qm tauchbeschichtet .

Beide Platten werden hierauf mit einem Gemisch aus 1 Gewichtsteil wasserunlöslichem Diazoharz, 2 Gewichtsteilen Epoxidharz und 0,1 Gewichtsteil Farbstoff basic blue in Ithylenglykolmonomethyläther bis ^x einem trockenen Beschichtungsgewicht von 7 mg/qm beschichtet.

· Sodann werden die erhaltenen Platten 2 Minuten in einem Vakuumgehäuse unter einem photographischen Negativ mit UV-Strahlung belichtet. Dann werden beide Platten mit gewöhnlichem Leitungswasser entwickelt.

Die Platte A muß 30 Sekunden benetzt und mit einem Baumwolllappen heftig gerieben werden, bevor sich die nicht belichteten Bereiche abzuheben beginnen. Die Platte B wird mit Leitungswasser 5 Sekunden benetzt. Es ist nur sehr geringes Reiben mit einem Baumwollappen erforderlich, um die Nichtbildbereiche vollständig und leicht zu entfernen. Es wird eine

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vollständig entwickelte Druckplatte erhalten.

I)a.s Beispiel zeigt die Unterschiede in den Entwicklungszeiten, die innerhalb der vorliegenden Erfindung erreicht werrlt;n können.

Beispiel 2

Gemäß Beispiel 1, Platte B, wird eine Offumdruckplatte hergestellt, vn/bei das Methanol durch Methyläthy!keton ersetzt wird. }Jg v/erden ähnliche Ergebnisse erhalten.

Beispiel 3

Gemäß Beispiel 1, Platte B, wird eine Offsetdruckplatte hergest;33t, wobei der Beschichtung der unteren Schicht 2%
¹ⁱ⁾ Polyvinylalkohol zur Steigerung der Entwicklungsfähigkeit
in5t Wasser zugefügt v/erden. Es werden ähnliche Ergebnisse
erhalten.

Beispiel 4

Gemäß Beispiel 1, Platte B, wird eine Offsetdruckplatte hergestellt, wobei als wasserlösliche, lichtempfindliche Komponente i-Diazo-^-N-äthyl-N-benzylaminobenzol-i/^ Zinkchlorid verwendet wird. Es werden ähnliche Ergebnisse erhalten.

Beispiel 5

Eine Aluminiuuplatte wird in einer lOprozentigen Lösung von Trinatriumphosphat 1 Minute bei 82°C chemisch geätzt. Anschließend wird eine hydrophile Schicht aus Natriumsilikat
aufgebracht. Hierauf wird eine wasserlösliche Beschichtung

aus 1,2% p-Diazodimethylanilin-1/2 Zinkchlorid und 1% Phosphorsäure in einem Lösungsmittelgemisch aus 40% Wasser,
'\Qf/o Isopropanol und 20% Ä.thylenglykolmonomethyläther mit
einem-Wirbelbeschichter bis zu einem trockenen Beschichtungsgewicht von 6 mg/qm aufgebracht. Die getrocknete Beschich-

tung hat ein glanzloses Aussehen, das auf den Zusatz von

Isopropanol und Äthylenglykolmonomethyläther zu dem Beschlch-

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tungsgemisch zur Erzielung der erwünschten ungleichmäßigen Beschichtungseigenschaften zurückzuführen ist.

Anschließend wird auf das Substrat eine weitere Schicht aus 1 Gewichtsteil eines wasserunlöslichen Diazoharzoj, Ί Gewichtsteil eines Polyesterharzes und 1 Gewicht stell eines Epoxidharzes in einem Lösung smittelgemisch aus 50% Ä'bhyLenglykolmonoiaethyläther und 50% Ithylenglykolmonomethylätheracebat bis zu einsm trockenen Beschichbungsgewicht von 8 mg/qm aufgebracht.

Die erhaltene Platte wird 2 Minuten durch ein photographisches Negativ mit

einer gewöhnlichen Lichtquelle belichtet. Die nicht beL Lohtet en Bereiche werden beim Entwickeln nach 10 Sekunden Benetzen mit Leitungswasser leicht entfernt. Es wird eine technisch brauchbare Offsetdruckplatte erhalten.

Beispiel 6

Beispiel 5 wird mit der Änderung wiederholt, daß als wastierlösliches Diazoharz i-Diazo-3-methyl—^t--pyrrolLdin-benzolchlorid-Zinkehlοrid mit einem Molekulargewicht von 360 vejrwendet wird. Es v/erden ähnliche Ergebnisse erhalten.

Beispiel 7

Das Verfahren zur Herstellung der Platte B von Beispiel 1 wird mit der Änderung wiederholt, daß als wasserlöslicher Pliotosensibilisator ein positiv wirkendes wasserlösliches Diazoharz, nämlich das Natriumsalz von 2-Diazo-1-naph.th.alin-5-sulfonsäure; verwendet wird und daß die obere Beschichtung 1 Gewichtsteil eines positiv wirkenden wasserunlöslichen Diazoharzes zusammen mit 2 Gewichtsteilen eines Phenolformaldehydharzes enthält. Das trockene Beschichtungsgewicht beträgt 8,5 mg/qm. Each dem Belichten durch ein Positiv lösen sich beim Entwickeln mit gewöhnlichem Leitungswasser elLo belichteten Bereiche der erhaltenen Platte leLcht ab.

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Claims

vossius ■ vossius · hiltl · tauchner · heunemann

Patentanwälte. 28717 77

SIEBERTSTRASSE Λ ■ 8ΟΟΟ MÖNCHEN 86 . PHONE: (Ο89) 4-74Ο75 CABLE: BEN ZOLPATENT MÖNCHEN -TELEX 5-29 453 VOPAT D

18. Mai 1978

U.S.: M 469 (Vo/Ra/H)
Case: "DB-52

POLYCHROME CORPORATION

On the Hu el son, Yonkers, New York, V. St. A.

"Wasserentwickelbare Offsetdruckplatte"

Priorität: 19. Mai 1977, V.St.A., Nr. 798 531

Patentansprüche

. Ajasserentwickelbare Offsetdruckplatte, bestehend aus einer mit einer wasserlöslichen, für den Offsetdruck geeigneben, lichtempfindlichen Verbindung beschichteten Metallplatte, auf der eine Schicht a\is einem wasserunlöslichen, für Tinte aufnahmefähigen, lichtempfindlichen Gemisch von einem wasserdurchlässigen, wasserunlöslichen, oleophilen Harz und einem für den Offsebdruck geeigneten, positiv oder negativ wirkenden Photoaensibilisator aufgebracht ist, wobei die wasserlösliche, für den Offsebdruck geeignete, lichtempindliche Verbindung und das wasserunlösliche, für Tinbe aufnahmefähige, lichtempfindliche Gemisch entweder beide positiv oder beide negativ wirken.
2. Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallplatte aus Aluminium besteht.
3· Offsetdruckplatte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminiumplatte anodisch oxidiert ist.

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4-. Offsetdruckplatte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminiumplatte gekörnt ist.
5. Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zwischen der Metalloberfläche und der wasserlöslichen, für den Offsetdruck geeigneten, lichtempfindlichen Verbindung eine Zwischenschicht aus einem AlkalimetalleLlL-kat, Kieselsäure,/Polyacrylsäure, einem Alkalimetallzir-

koniumfluorid oder Fluorozirkoniumsäure aufweist. 10
6» Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet;, daß der als Teil dos wasserunlöslichen, für Tinte aufnahmefähigen, lichtempfindlichen Gemisches verwendete positiv wirkende), für den Offsetdruck geeignete Phofcosenaibiiiaator als photosensibilisierenden Stoff eine aromatische Diazooxidverbindung, ein Polyacetal, das bei ultravioletter Bestrahlung depolymerisiert, Polymonochloracetaldeh.yd, Polyprcpionaldehyd, Pcly-n-butyraldshyd, PolycyanpenbaLdohyd, Polycyanvaleraldehyd , Poly isobutyraldehycl, PolyvaLoraldehyd oder Polyheptaldehyd enthält, V7obei das lichtempfindliche Gemisch vor der Bestrahlung mit ultravio Lebt'jr oder anderer, chemische Veränderungen bewirkender SbrahLun^, wasserundurchlässig und nach einer solchen Bestrahlung was-serdürchlaasig ist.
7- Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekermzeichnot, daß der als Teil des wasserunlöslichen, für Tinte aufnahmefähigen, lichtempfindlichen GemLsches verwendete negativ wirkende, für den Offsetdruck geeLgnete PhotosensLbiL Lijabor als photosensibilisieranden Stoff eine aro.nat isclie DLa:ic>verbindung oder ein Azidopyren enthält, wobei dar· Lichtempfindliche Gemisch vor der Bestrahlung mit uLtravioLebter oder anderer, chemische Veränderungen bewirkend or iibra

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wasserdurchlässig und nach, einer derarten Bestrahlung wasserundurchlässig ist.
8. Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das oleophile Harz ein Epoxidharz, Polyurethan, Polyester, Polyvinylformaldehydharz, Polyvinylacetäl, Polyäthylenoxid oder Polyvinylhydrogenphthalat ist.
9. Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Beschichtungsgewicht der wasserlöslichen, lichtempfindlichen Verbindung etwa 0,5 bis 20 mg/qm und das BeschichtuEgsgewicht des Gemisches von für den Offsetdruck geeignetem Photosensibilisator und oleophilem Harz etwa 0,5 "bis 30 sig/^m "beträgt.
10. Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von für den Offsetdruck geeignetem Photo sensibilisator zu oleophilem Harz etwa 1 bis 10 Gewichtsteile Photosensibilisator zu etwa 50 bis 1 Gewichtsteil oleophiles Harz beträgt.
11. Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die wasserlösliche, für den Offsetdruck geeignete, lichtempfindliche Verbindung nie einem nicht lichtempfindliehen Harz aus Polyvinylpyrrolidon, einem Polyvinylalkohol, Polyacrylamid, einem Polyacrylamid-Copolymerisat oder einem synthetischen oder natürlichen Gummi vermischt ist.
12. Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die wasserlösliche, für den Offsetdruck geeignete, lichtempfindliche Verbindung in Wasser oder einem Gemisch aus Wasser und einem mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel mit einem Siedepunkt von höchstens 121°C als

Lösungsmittel gelöst ist.
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13· Offsetdruckplatte nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß man als mit Wasser mischbares organisches Lösungsmittel Methanol, Ithanol, Isopropanol, Iceton, Methyläthylketon oder Ithylenglykolmonomethylather verwendet.
14. Verfahren zur Herstellung einer Offsetdruckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß man auf mindestens eine Oberfläche einer Metallplatte zunächst eine wasserlösliche, für den Offsetdruck geeignete, lichtempfindliche "Verbindung auf- · bringt und anschließend das derart vorbehandelte Substrat mit einem wasserunlöslichen, für Tinte aufnahmefähigen, lichtempfindlichen Gemisch aus einem wasserdurchlässigen, wasserunlöslichen, oleophilen Harz und einem für den Offsetdruck geeigneten, posiciv oder negativ wirkenden Photosensibilisator beschichtet, wobei die wasserlösliche, für den Offsetdruck geeignete, lichtempfindliche Verbindung und das wasserunlösliche, für Tinte aufnahmefähige, lichtempfindliche Gemisch entweder beide positiv oder beide negativ wirken.

15· Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß man eine wasserlösliche, für den Offsetdruck geeignete, lichtempfindliche Verbindung verwendet, die einen für den Offsetdruck geeigneten Photosensibilisator darstellt, der gegebenenfalls mit einem wasserlöslichen, nicht lichtempfindlichen Harz vermischt und in Wasser oder einem Gemisch von Wasser und einem mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel mit einem Siedepunkt von höchstens 121°0 als Lösungsmittel gelöst ist.

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