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DE2853004A1 - Optisches system fuer ein kopiergeraet - Google Patents

Optisches system fuer ein kopiergeraet

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Publication number
DE2853004A1
DE2853004A1 DE19782853004 DE2853004A DE2853004A1 DE 2853004 A1 DE2853004 A1 DE 2853004A1 DE 19782853004 DE19782853004 DE 19782853004 DE 2853004 A DE2853004 A DE 2853004A DE 2853004 A1 DE2853004 A1 DE 2853004A1
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DE
Germany
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layer
substrate
optical system
thickness
Prior art date
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Application number
DE19782853004
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English (en)
Other versions
DE2853004C2 (de
Inventor
Osamu Kamiya
Nobuyuki Sekimura
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Publication of DE2853004A1 publication Critical patent/DE2853004A1/de
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Publication of DE2853004C2 publication Critical patent/DE2853004C2/de
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    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/281Interference filters designed for the infrared light
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/04Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
    • G03G15/043Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure
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  • Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)
  • Color Electrophotography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein optisches System für ein Kopiergerät, bei dem eine Kombination aus einer Halogenlampe und einem fotoempfindlichen CdS-Material verwendet wird, wobei das optische System eine mehrlagige Beschichtung aufweist, die die Anpassung der Spektralcharakteristik von von einer Vorlage stammendem Licht an die Spektralempfindlichkeit des fotoempfindlichen Materials erlaubt.
Bei einem herkömmlichen Kopiergerät, bei dem ein reflektierendes Projektionslinsensystem verwendet wird, ist der in diesem Linsensystem verwendete Spiegel üblicherweise durch einen mit Metall wie beispielsweise Aluminium beschichteten Spiegel gebildet, der ein gleichförmig hohes Reflexionsvermögen vom nahen Ültraviolett-Wellenlängenbereich bis zum Infrarot-Wellenlängenbereich zeigt. Falls als Llchtquelle eine Halogenlampe, die bei gewöhnlicher Fadentemperatur von annähernd 3000° c eine Lichtabstrahlungs-Energie- -
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Deutsche Bank (München) Kto. 51/61070
909824/0829
Dresdner Bank (Mönchen) KIo. 3939844
Postscheck (München) Kto. 670-43-804
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verteilung hat, die im Infrarotbereich von 800 bis 900 nm am höchstem ist und allmählich zum Bereich kürzerer Wellenlängen hin abfällt, in Verbindung mit einem fotoempfindlichen CdS-Material verwendet wird, das seine höahste Spektralempfindlichkeit im Infrarot-Wellenlängenbereich bis zum nahen Infrarot-Wellenlängenbereich hat, ergibt sich häufig im Vergleich zum Bereich grüner oder blauer Wellenlängen eine übermäßige Belichtung im Bereich roter Wellenlängen aufgrund der additiven Wirkung der genannten Eigenschaften der Lichtquelle und des fotoempfindlichen Materials; dies führt zu dem Fehler, daß ein Rotbild wie ein roter Stempel auf der Kopie nicht zufriedenstellend oder überhaupt nicht reproduziert wird.
Zur Vermeidung einer derartigen Fehlanpassung zwischen der Spektralcharakteristik des einfallenden Lichts und der Spektralempfindlichkeit des fotoempfindlichen Materials ist aus der Beschreibung der DE-OS 23 50 281, Fig. 6, ein Verfahren zum Abfangen von Licht im unnötigen Wellenlängenbereich mittels eines Filters bekannt, das in dem Abbildungslinsensystem oder in der Nähe desselben dort angeordnet ist, wo der Durchmesser des Lichtstrahls kleiner ist; wie in dieser Beschreibung ausgeführt ist, ist dieses Verfahren jedoch dadurch nicht zufriedenstellend, daß im Unterschied zu einem Durchgangs-Linsensystem ein reflektierendes Linsensystem einen beträchtlichen Lichtmengenverlust ergibt, weil das Bildlicht beim Eintreten in das Linsensystem und beim Austreten aus dem Linsensystem das Filter zweimal durchläuft, sowie dadurch, daß die Abbildungsgüte zwangsläufig durch Reflexionen an den Filteroberflächen verschlechtert wird. Ferner ist in dem IBM Technical Disclosure Bulletin, vol. 15, Nr. 2, Juli 1972, Seite 522 ein dichroitischer Spiegel zur Unterdrückung von Licht im infraroten und roten Wellenlängenbe-
"" reich beschrieben. Es ist daher zu erwarten, einen ge-
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] wünschten Durchlaß und eine gewünschte Abbildungsgüte einzuhalten , wenn durch Aufbringen einer mehrlagigen Interferenzbeschichtung mit einer Eigenschaft, die derjenigen eines bei Farbfernsehkameras verwendeten dichroitischen c Farbtrennungsspiegels ähnlich ist, auf die Reflexionsfläche des reflektierenden Linsensystems das Licht im erforderlichen Wellenlängenbereich reflektiert wird, während das Licht im Bereich unnötiger Wellenlängen beim Durchgang ausgeschaltet wird; die erwünschte Güte kann jedoch nicht
IQ erzielt werden, wenn eine mehrlagige Interferenzbeschichtung verwendet wird, die durch einfaches Verschieben der Mittenwellenlänge eines herkömmlichen dichroitischen Spiegels hergestellt ist. Zur Erzielung dines Reproduktionsbilds hoher Güte ist es daher notwendig, unter Beibehal- tung der Belichtungswerte im blauen und im grünen Wellenlängenbereich die Belichtung im nahen Infrarot-Wellenlängenbereich entsprechend der Spektralcharakteristik und der Spektralempfindlichkeit bei der Zusammenstellung aus·Halogenlampe und fotoempfindlichem CdS-Material zu unterdrücken.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde,
ein optisches System mit einer mehrlagigen Interferenzbeschichtung zu schaffen, das zur Verwendung bei einem Kopiergerät geeignet ist, bei dem eine Halogenlampe als Lichtquelle sowie fotoempfindliches CdS-Material verwendet werden und das ein reflektierendes Linsensystem enthält, wobei die Beschichtung eine Unterdrückung der Belichtung im roten Wellenlängenbereich ohne Verringerung der Belichtung im blauen und grünen Wellenlängenbereich ergibt.
Die.Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die
Anpassung der Spektralcharakteristik des von einer Vorlage reflektierten Lichts an die Spektralempfindlichkeit des fotoempfindlichen Materials mittels einer mehrlagigen
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•j Interferenzbeschichtung mit einem Aufbau aus 5 bis 9 Schichten erfolgt, der zum Unterdrücken von Tieflexionen im nahen Infrarot-Wellenlängenbereich durch abwechselndes Überlagern von stark brechenden und schwach brechenden r Schichten gebildet ist und drei Anpassungsschichten aufweist, die an der Substratseite und der Luftseite der Beschichtung angeordnet sind.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Aus-IQ führungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.
Fig. 1 ist eine Schnittansicht des optischen Systems.
Fig. 2 ist eine Teilschnittansicht des optischen Systems.
Fig. 3 ist eine grafische Darstellung von spektralen Reflexionsfähigkeiten bei Beispie
len von Interferenzbeschichtungen.
Durch Versuche wurden die spektralen Reflexionseigenschaften ermittelt, die bei einer an einer Reflexionsfläche eines reflektierenden Projektionslinsensystems angebrachten mehrlagigen Interferenzbeschichtung erforderlich sind, die in Zusammenhang mit einer als Lichtquelle dienenden Halogenlampe und einem fotoempfindlichen CdS-Material zu verwenden ist. Diese Erfordernisse sind folgende:
1. Ein Filter, das den unnötigen Bereich roter Wellenlängen über 550 nm scharf abschneidet, ergibt einen verringerten Kontrast für die Farben Blau, Grün und Cyanblau, obgleich ein solches Filter den Kontrast von ot verbessert. Das Filter sollte daher vorzugsweise ein hohes
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Reflexionsvermögen im Bereich der blauen und grünen kurzen Wellenlängen und ein fortschreitend absinkendes Reflexionsvermögen im Bereich roter Wellenlängen zum nahen .Infrarot-Wellenlängenbereich hin haben, bei welchem das Filter kein Reflexionsvermögen haben sollte.
2. Das Filter sollte im Bereich blauer und grüner Wellenlängen von 400 bis 550 nm ein hohes Reflexionsvermögen von durchschnittlich mindestens 70 % haben.
3."Das Filter sollte im nahen Infrarot-Wellenlängenbereich oberhalb von 700 nm reflexionsfrei mit einem durchschnittlichen Reflexionsvermögen sein, das nicht 1 % übersteigt.
Das Ziel bei dem optischen System ist es, einen zufriedenstellenden Kontrast für alle Farben dadurch zu erzielen, daß die vorstehend genannten Anforderungen und insbesondere die erste Anforderung erfüllt werden; dieses Ziel wird in dem optischen System zur Verwendung bei einem Kopiergerät mittels einer mehrlagigen Interferenzbeschichtung erreicht, die an einer Reflexionsfläche in einem reflektierenden Projektionslinsensystem angebracht ist und die einen Aufbau aus 5 bis 9 Schichten hat, der zur Unterdrückung von Reflexionen im nahen Infrarot-Wellenlängenbereich aus abwechselnd übereinander angeordneten stark brechenden und schwach brechenden Schichten gebildet ist und der drei Anpassungsschichten aufweist, die an der Substratseite und an der Luftseite der Beschichtung angebracht sind. Dieser Aufbau aus 5 bis 9 Schichten wird durch Berücksichtigung einer gut abgestimmten Rot-Reproduktion erzielt, da ein Aufbau mit 4 Schichten oder weniger ein sehr geringes Reflexionsvermögen ergibt, während ein Aufbau mit 10 Schichten oder mehr ein übermäßig scharfes bzw. steiles Abschneiden ergibt, was zu einer Repro-
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duktion von blauen Bildern mit geringer Dichte führt.
Bei den folgenden Beispielen ist die schwach brechende Schicht aus MgF2 (N=1,38) gebildet, während die stark brechende Schicht aus unterschiedlichen Materialien zusammengesetzt ist; falls die stark brechenden Schichten aus einem Material mit einen Brechungsindex von N=2,15 oder höher wie beispielsweise aus TiO2 oder CeO2 gebildet sind, ist ein Aufbau aus 5 bis 7 Schichten vorzuziehen, während im Falle der Bildung der stark brechenden Schichten aus einem Material mit einem Brechungsindex im Bereich von 2",0 bis 2,15 wie aus ZrO2 oder Ta2Oc ein Aufbau aus 7 bis 9 Schichten zweckdienlich ist. Im Falle eines größer werdenden Verhältnisses des Brechungsindex der stark brechenden Schichten zu demjenigen der schwach brechenden Schichten zeigt die mehrlagige Beschichtung ein höheres Reflexionsvermögen und kann daher aus weniger Schichten gebildet sein, während die Beschichtung ein geringeres Reflexionsvermögen zeigt und daher zur Steigerung des Reflexionsvermögens eine größere Anzahl von Schichten erforderlich· macht, wenn dieses Verhältnis kleiner ist.
Jede Schicht sollte mit einer optischen Dicke ausgebildet sein, die im wesentlichen gleich einem Viertel einer Konstruktions-WellenlängeA0 ist, die ungefähr in der Mitte des Wellenlängenbereichs für das gewünschte hohe Reflexionsvermögen liegt; diese Konstruktions-Wellenlänge ist entsprechend der Energieabstrahlcharakteristik der Lichtquelle und der Spektralempfindlichkeit des fotoempfindlichen Materials zu wählen und wird üblicherweise innerhalb eines Bereichs von 450 bis 600 nm festgelegt.
Darüberhinaus werden zum Unterbinden von Reflexionen im nahen Infrarot-Wellenlängenbereich zwei dem Substrat benachbarte Schichten und eine der Luft benachbarte Schicht oder eine dem Substrat benachbarte Schicht
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und zwei der Luft benachbarte Schichten in ihren Dicken gegenüber der vorstehend genannten Grund-Dicke verändert. Bei dem herkömmlichen dichroitischen Mehrlagenspiegel ist es zwar bekannt, zur Unterdrückung der sogenannten Welligkeit bzw. kleiner Schwankungen bei der Spektralcharakteristik oder Spektralkennlinie eine dem Substrat benachbarte Schicht und eine der Luft benachbarte Schicht in ihren Dicken abzuändern; bei dem optischen System erfolgt darüberhinaus zur Verbesserung der Reflexionsfreiheit im nahen Infrarot-Wellenlängenbereich eine Dickenänderung bzw. -abwandlung an einer weiteren Schicht an der Substratseite oder der Luftseite.
Nimmt man an, daß die Gesamtanzahl der Schichten gleich ein N ist und die Dicke einer in Zählung von der Substratseite her i-ten Schicht durch ND;, (i=1,2,...,n) gegeben ist, so kann im Falle der Verwendung von zwei Schichten an der Substratseite und einer Schicht an der Luftseite als Anpassungsschichten zur Welligkeitsunterdrückung der Dickenzusammenhang der Schichten folgendermaßen dargestellt werden:
NDn< ND1 <ND2 <ND3 = ND4 = ... = NDn-1,während dieser Zusammenhang im Falle der Verwendung einer Schicht an der Substratseite und zweier Schichten an der Luftseite
als Anpassungsschichten folgendermaßen darstellbar ist:
NDn<ND1<ND2 = ND3 = ... = NDn_2< NDn-1
Die Fig. 1, die in schematischer Querschnittsansicht ein optisches System für ein Kopiergerät darstellt,
und die Fig. 2, die in einer vergrößerten Schnittansicht ein reflektierendes Projektionslinsensystem in dem optischen System darstellt, zeigen: eine Lichtquellen-Lampe 1 wie eine Halogenlampe, eine Vorlage 2, Spiegel 3, 4 und 6 zur Umlenkung der Lichtbahn, ein reflektierendes Projektionslinsensystem 5, eine mit einer fotoempfindlichen Schicht
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versehene Trommel 7, eine Linsengruppe 10, ein Glassubstrat 11, eine mehrschichtige dielektrische Interferenzbeschichtung 12, eine mattierte Fläche 13 an der rückseitigen Oberfläche des Substrats und eine lichtabsorbierende Antireflex-Farbschicht 14 an der mattierten Fläche.
Der von der Lichtquelle 1 abgegebene und durch die Vorlage 2 reflektierte Lichtstrahl wird über die Spiegel 3 und 4 geführt und tritt in das reflektierende Projektionslinsensystem 5 ein. Der durch die Linsengruppe 10 laufende konvergierende Lichtstrahl wird auf die mehrlagige Interferenzbeschichtung 12 gerichtet, wo er einer den Eigenschaften der Beschichtung entsprechenden Filterwirkung unterzogen wird, wobei die brauchbare Lichtkomponente von der Beschichtung reflektiert wird, während die unnötige Lichtkomponente durch die Beschichtung in das Substrat 11 durchgelassen wird und mittels der Farbschicht 14 gestreut oder absorbiert wird. Der von der Interferenzbeschichtung reflektierte Lichtstrahl wird im weiteren von der Linsengruppe 10 fokussiert und mittels des Spiegels 6 reflektiert, um ein Bild der Vorlage auf der fotoempfindlichen Trommel 7 auszubilden.
Im folgenden sind Beispiele für den Aufbau der mehrlagigen Interferenzbeschichtung angegeben, wobei Ns ein Substrat ist, Nh eine stark brechende Schicht ist, Nl eine schwach brechende Schicht ist, No Luft ist und die jeweilige Schichtdicke durch ND/A0 angegeben ist.
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10 15
25
Beispiel 1
Substrat
Schicht
■ -
Luft Beispiel.2
Substrat
Schicht
Luft
Brechungsindex
. Ns 1.52
Nh 2.13
Nl 1.38
Nh 2.13
Nl 1.38
Nh 2.13
Nl 1.38
Nh 2.13
No 1.00
Brechungsindex
Ns ' 1.52
Nh 2.15
Nl 1.38
Nh 2.15
Nl 1.38
Nh 2.15
Nl 1.38
Nh 2.15
No 1,00
Dicke
0.150 0.202 0.250 0.250 0.250 0.250 0.126
Dicke
0.125 0.250 0.250 0.250 0.250 0.360 0.100
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Beispiel 3
20
25
Luft Ns Brechunas index Dick«
Substrat Beispiel 4 Nh 1.52
Schicht χ Nl 2.05 0.104
2 Nh 1.33 0.250
3 Nl 2.05 0.250
4 Nh 1.38 0.250
5 Nl 2.05 0.250
6 Nh 1.38 0.250
7 Nl 2.05 0.250
8 Nh 1.38 0.357
9 No 2.05 0.079
1.00
30
Substrat Schicht ι
4 5 Luft
Ns Nh Nl Nh Nl Nh No
Brechungsindex Dicke
1.52
2.35 0.134
1.38 0.145
2.35 0.250
1.38 0.250
2.35 0.083
1.00
35
Die Fig. 3 zeigt an der Ordinate das Spektralreflexionsvermögen als Funktion der an der Abszisse aufgetragenen Wellenlänge, wobei die Kurven I,II,III und IV den vorstehend angeführten Beispielen 1, 2, 3 bzw. 4 ent-
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1 sprechen, während die Kurve V das Spektralreflexionsvermögen eines herkömmlichen Aluminiumspiegels zeigt und die Kurven VI und VII die Spektralreflexionsfähigkeiten einer drei-lagigen Beschichtung ohne Anpassungsschichten bzw.
5 einer elf-lagigen Beschichtung ohne Anpassungsschichten mit den folgenden Aufbauten zeigen:
VI
Luft Luft < Ns Brechungsindex Dicke
.Substrat VII Nh 1.52
Schicht -j. Nl 2.35 0.250
2 Substrat Nh 1.38 0.250
3 Schicht 1 No 2.35 0.250
2 1.00
3
4 Ns Brechungsindex Dicke
5 Nh 1.52
6 Nl 2.35 0.125
7 Nh 1.38 0.250
8 Nl 2.35 0.250
9 Nh 1.38 0.250
10 Nl 2.35 0.250
11 Nh 1.38 0.250
Nl 2.35 0.250
Nh 1.38 0.250
- Nl 2.35 0.250
-Nh 1.38 0.250
No 2.35 0.125
1.00
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Gemäß der Darstellung durch die Kurven I, II, III und IV, die jeweils den vorangehenden Beispielen entsprechen, hat die mehrlagige Interferenzbeschichtung des optischen Systems ein Spektralreflexionsvermögen, das vom Bereich blauer und grüner Wellenlängen an zum nahen Infrarotbereich hin allmählich abfällt und im Wellenlängenbereich über 790 nm im wesentlichen gleich null ist. Der Vergleich der Kurven I und II mit der Kurve III läßt ferner die Tendenz einer Erhöhung der Steigung der Kurve mit ansteigender Anzahl von Schichten erkennen, so daß ein Aufbau aus mehr als 9 Schichten wegen eines übermäßig steilen Abschneidens unerwünscht ist, wie es durch die Kurve VII gezeigt ist. Obgleich zwar ein höheres Verhältnis der Brechungsindizes der stark brechenden Schicht und der schwach brechenden Schicht eine Steigerung des Reflexionsvermögens bewirkt, ist gemäß der Darstellung durch die Kurve VI zur Erzielung eines ausreichenden Reflexionsvermögens ein Aufbau aus weniger als 5 Schichten selbst dann ungeeignet, wenn das Verhältnis ausreichend hoch gewählt ist. Die mehrlagige Interferenzbeschichtung des optischen Systems wird vorzugsweise gemäß der Darstellung bei den vorangehend angeführten Beispielen aus einer ungeraden Anzahl von Schichten gebildet, da eine zusätzliche Schicht zur Bildung eines Aufbaus mit einer geraden Anzahl von Schichten das Reflexionsvermögen nicht verbessert, sondern nur den Herstellungsvorgang kompliziert.
Wie im vorstehenden ausführlich erläutert ist, ist das optische System insofern vorteilhaft, als es durch das Unterdrücken des roten Wellenlängenbereichs und das Ausschalten des nahen Infrarot-Wellenlängenbereichs das Kopieren eines Rotbilds mit der gleichen Deutlichkeit wie bei einem Schwarzbild zuläßt und ferner aufgrund des allmählichen Abfalls des Reflexionsvermögens im roten Wellenlängenbereich einen.zufriedenstellenden Kontrast für ein
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blaues oder grünes Bild sicherstellt.
Mit der Erfindung ist ein optisches System geschaffen, bei dem in einem Kopiergerät, bei welchem eine Halogenlampe als Lichtquelle und ein CdS-Material als fotoempfindliches Material verwendet wird und das ein reflektierendes Linsensystem aufweist, ein in dem reflektierenden Projektionslinsensystem enthaltener Spiegel mit einer mehrlagigen Beschichtung aus 5 bis 9 Schichten einer dielektrischen Substanz versehen ist, um ohne Verringerung der Belichtung im Bereich blauer und grüner Wellenlängen die Belichtung im Bereich roter Wellenlängen zu verringern und dadurch die Spektralcharakteristik des Lichts von einer Vorlage an die Spektralempfindlichkeit des fotoempfindlichen Materials anzupassen.
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Claims (8)

  1. Patentansprüche
    1, Optisches System für ein Kopiergerät, das eine Halogenlampe, ein reflektierendes Projektionslinsensystem mit einer Reflexionsfläche hinter einer Linse und ein fotoempfindliches CdS-Katerial aufweist, gekennzeichnet durch eine mehrlagige Interferenzbeschichtung (12) mit einem Aufbau aus 5 bis 9 Schichten, der durch abwechselndes Überlagern von stark brechenden Schichten und schwach brechenden Schichten gebildet ist, die jeweils eine optische Grund-Dicke von einem Viertel einer Konstruktions-Wellenlänge λQhaben,um eine Reflexion im nahen Infrarot-Wellenlängenbereich zu unterdrücken und dadurch die Spektralcharakteristik des von einer Vorlage (2) reflektierten Lichts an die Spektralempfindlichkeit des fotoempfindlichen Materials (7) anzupassen.
  2. 2. Optisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die mehrlagige Interferenzbeschichtung (12) einen Aufbau aus 5, 7 oder 9 Schichten hat, der mit einer auf einem Substrat (11) aufgebrachten stark brechenden Schicht beginnt.
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    VI/18
    ORiGhNAL INSPECTED
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  3. 3. Optisches System für ein Kopiergerät, das eine Halogenlampe, ein reflektierendes Projektionslinsensystem mit einer Reflexionsfläche hinter einer Linse und ein fotoempfindliches CdS-Material aufweist, gekennzeichnet durch eine mehrlagige Interferenzbeschichtung (12) mit einem Aufbau aus 5 bis 9 Schichten, der durch abwechselndes Überlagern von stark brechenden Schichten und schwach brechenden Schichten gebildet ist, die jeweils eine optische Grund-Dicke von einem Viertel einer Konstruktions-Wellenlänge Λ_ haben, und der zwei Anpassungsschichten und eine Anpassungsschicht oder eine Anpassungsschicht und zwei Anpassungsschichten an der Substratseite bzw. der Luftseite der Beschichtung aufweist, um damit eine Reflexion im nahen Infrarot-Wellenlängenbereich zu unterdrücken und dadurch die Spektralcharakteristik des von einer Vorlage (2) reflektierten Lichts an die Spektralempfindlichkeit des fotoempfindlichen Materials (7) anzupassen, wobei die optische Dicke ND. einer von dem Substrat (11) her gezählt i-ten Schicht die Bedingung
    NDn< ND1 <ND2 <ND3 = ... = NDn-1 erfüllt, wenn zwei Anpassungsschichten an der Substratseite und eine Anpassungsschicht an der Luftseite angeordnet sind, oder die Bedingung
    NDn <ND.j <ND2 = ... = ND n_2<NDn-1 erfüllt' wenn ei~ ne Anpassungsschicht an der Substratseite und zwei Anpassungsschichten an der Luftseite angeordnet sind.
  4. 4. Optisches System nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die mehrlagige Interferenzbeschichtung (12) einen Aufbau aus 5, 7 oder 9 Schichten hat, der mit einer an einem Substrat (11) angebrachten stark brechenden Schicht beginnt.
  5. 5. Optisches System nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die mehrlagige Interferenzbe-· schichtung (12) folgenden Aufbau hat:
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    T.itFt- - 3 - 2853004
    B 9339
    Brechungsindex Dicke ND/^0 Substrat 1.52 Schicht 1 2.13 0.150 2 1.38 0.202 3 2.13 O.25O k 1.38 O.25O 5 2.13 O.25O 6 I.38 O.25O 7 2.13 O.126 1.00
  6. 6. Optisches System nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die mehrlagige Interferenzbeschichtung (12) folgenden Aufbau hat:
    Luft Brechungsindex Dicke Substrat 1.52 Schicht 1 2.15 0.125 2 1.38 0.250 3 2.15 O.250 k 1.38 0.250 5 2.15 O.25O 6 1.38 O.36O 7 2.15 0.100 t 1.00
  7. 7. Optisches System nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die mehrlagige Interferenzbe-35 schichtung (1.2) folgenden Aufbau hat:
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    - 4 -
    Brechungs index
    B 9339
    2853004
    Dicke ND/z^q
    Substrat 1.52 Schicht 1 2.05 0.104 2 I.38 O.25O 3 2.05 O.25O k I.38 O.25O 5 2.05 O.25O 6 I.38 O.25O 7 2.05 -O.25O 8 I.38 0.357 9 2.05 0.079 1.00
    Luft
  8. 8. Optisches System nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die mehrlagige Interferenzbe-20 schichtung (12) folgenden Aufbau hat:
    Luft Brechungsindex Dicke Substrat I.52 Schicht 1 2.35 O.134 2 I.38 0.145 3 2.35 O.25O k I.38 O.250 5 2.35 O.O83 1.00
    909824/0829
DE2853004A 1977-12-09 1978-12-07 Optisches System für ein Kopiergerät Expired DE2853004C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14851877A JPS5480738A (en) 1977-12-09 1977-12-09 Optical system for copying apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2853004A1 true DE2853004A1 (de) 1979-06-13
DE2853004C2 DE2853004C2 (de) 1987-04-09

Family

ID=15454557

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2853004A Expired DE2853004C2 (de) 1977-12-09 1978-12-07 Optisches System für ein Kopiergerät

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4218134A (de)
JP (1) JPS5480738A (de)
DE (1) DE2853004C2 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3125756A1 (de) * 1980-07-01 1982-04-29 Canon K.K., Tokyo Bildnachweisvorrichtung
DE3229442A1 (de) * 1981-08-08 1983-02-24 Canon K.K., Tokyo Projektionsvorrichtung
EP0157595A3 (en) * 1984-03-28 1986-03-12 Mita Industrial Co. Ltd. Copying machine having reduced image memory

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5565911A (en) * 1978-11-10 1980-05-17 Canon Inc Optical system of copying machine
US4436412A (en) 1981-05-20 1984-03-13 Mita Industrial Company Limited Cleaning device for use on an electrostatic copying apparatus
DE9014406U1 (de) * 1990-10-17 1990-12-20 Kempf, Georg-Ulrich, 2057 Wentorf Vorrichtung zum Vergrößern von transparenten Vorlagen im Durchlichtverfahren

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2318839A1 (de) * 1972-04-13 1973-10-18 Canon Kk Elektrophotographische vorrichtung
DE2350281A1 (de) * 1973-10-06 1975-04-17 Zeiss Carl Fa Spiegellinsen-objektiv zur abbildung auf einer gemeinsamen objekt- und bildseite sowie mit verminderten aberrationen hoeherer ordnung
DE2634241A1 (de) * 1975-10-06 1977-04-14 Ibm Hochwirksames beleuchtungssystem

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3143921A (en) * 1960-03-30 1964-08-11 John W Russell Photographic enlarger system
GB1232423A (de) * 1967-07-13 1971-05-19
BE759392A (fr) * 1969-11-27 1971-04-30 Fuji Photo Film Co Ltd Methode d'exposition en electrophotographie polychrome
JPS4940140A (de) * 1972-08-18 1974-04-15
JPS5710402B2 (de) * 1973-02-14 1982-02-26
JPS5039561A (de) * 1973-08-10 1975-04-11
US3869205A (en) * 1973-08-29 1975-03-04 Xerox Corp Illumination source for xerographic exposure
JPS5433888B2 (de) * 1974-10-09 1979-10-23
JPS5260142A (en) * 1975-11-12 1977-05-18 Minolta Camera Co Ltd Optical system for copying machine
US4132477A (en) * 1975-12-27 1979-01-02 Ricoh Company, Ltd. Optical imaging system for electrophotography

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2318839A1 (de) * 1972-04-13 1973-10-18 Canon Kk Elektrophotographische vorrichtung
DE2350281A1 (de) * 1973-10-06 1975-04-17 Zeiss Carl Fa Spiegellinsen-objektiv zur abbildung auf einer gemeinsamen objekt- und bildseite sowie mit verminderten aberrationen hoeherer ordnung
DE2634241A1 (de) * 1975-10-06 1977-04-14 Ibm Hochwirksames beleuchtungssystem

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3125756A1 (de) * 1980-07-01 1982-04-29 Canon K.K., Tokyo Bildnachweisvorrichtung
DE3229442A1 (de) * 1981-08-08 1983-02-24 Canon K.K., Tokyo Projektionsvorrichtung
EP0157595A3 (en) * 1984-03-28 1986-03-12 Mita Industrial Co. Ltd. Copying machine having reduced image memory

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5480738A (en) 1979-06-27
JPS6217213B2 (de) 1987-04-16
DE2853004C2 (de) 1987-04-09
US4218134A (en) 1980-08-19

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