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DE2702335C3 - Vorrichtung zum Behandeln einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Substrat - Google Patents

Vorrichtung zum Behandeln einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Substrat

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Publication number
DE2702335C3
DE2702335C3 DE2702335A DE2702335A DE2702335C3 DE 2702335 C3 DE2702335 C3 DE 2702335C3 DE 2702335 A DE2702335 A DE 2702335A DE 2702335 A DE2702335 A DE 2702335A DE 2702335 C3 DE2702335 C3 DE 2702335C3
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DE
Germany
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film
treatment
layer
rollers
fluid
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DE2702335A
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DE2702335A1 (de
DE2702335B2 (de
Inventor
James Samuel Cherry Hill N.J. Hamlin
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EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
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Publication date
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine Vor. .chtung zum Behandeln einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Substrat, das mittels einer Antriebsvorrichtung mit der Schicht nach oben durch einen Behandlungsabschnitt, in dem die Schicht einem Teile der Schicht ändernden Behandlungsfluid aussetzbar ist, und danach durch einen weiteren Abschnitt, wie Spülabschnitt, bewegbar ist, wobei der Behandlungsabschnitt einen Eingang und einen Ausgang für das Substrat bildende Einrichtungen aufweist, die einen Entwicklungsbereich begrenzen und wobei im Bereich der Eingangseinrichtung eine Fluidzufuhrvorrichtung vorgesehen ist.
Zum Drucken von Buchstaben oder lithographischer Darstellungen wird häufig eine Maske mit einem für eine aktinische Strahlung undurchlässigen Bild zur Herstellung einer Druckplatte verwendet. Eine solche Maske wird auch zur Herstellung der anfänglichen Kontakt- oder Halbtonfilme für die anschließende Herstellung von Druckplatten verwendet. Eine ähnliche Maske wird zur Herstellung gedruckter Schaltungsplatten unter Verwendung eines Fotoresistmaterials (lichtbeständigen Materials) benutzt.
Filmmasken sind in Form einzelner Bögen oder kontinuierlicher Streifen bekannt. Sie haben eine Unterlage oder ein Substrat, gewöhnlich aus plastischem Kunststoff, das mit einem lichtempfindlichen (häufig ein Schutzmittel oder einen Ätzgrund bildenden) Material überzogen ist. Es wird durch eine Halbtonmaske hindurch einer aktinischen (chemisch wirksamen) Strahlung ausgesetzt. Nach der Bestrahlung bzw. Belichtung wird der Film mit einem von den verwendeten Materialien abhängigen Behandlungsteil behandelt.
Die Behandlung umfaßt gewöhnlich das sogenannte Entwickeln, bei dem die belichtete lichtempfindliche Schicht entweder weichgemacht oder gehärtet wird, so daß das weiche oder lose Material entfernt werden kann. Daran schließt sich das Waschen oder Spülen an, bei dem die aufgeweichten Teile gewöhnlich durch unter hohem Druck stehende Wasserstrahlen vom Film entfernt werden. Anschließend wird der Film getrocknet
In letzter Zeit werden für die lichtempfindlichen
ίο Schichten von Filmen und Platten sehr schnell entwickelbare Materialien verwendet, die die Entwicklungszeit erheblich verringern. Einige dieser Materialien sind verhältnismäßig weich und äußerst druck- oder kratzempfindlich, so daß Druckmarkierungen oder Kratzer entstehen können, wenn der Film bei der Behandlung gefaltet oder gebogen wird.
Bei derart schnell entwickelbaren Materialien muß die Behandlungsvorrichtung die Entwicklungszeit sehr genau einhalten können, so daß verschiedene Bereiche des Films weder überentwickelt noch unterentwickelt werden. Bekannte Behandlungs- oder Verarbeitungsvorrichtungen sind nicht in der Lage, die Behandiungszeit genau einzuhalten, insbesondere wenn es sich um verhältnismäßig kurze Entwicklungszeiten handelt, die in der Größenordnung von einigen Sekunden liegen können. Die meisten bekannten Entwicklungsvorrichtungen pflegen Umlenkstellen aufzuweisen, an denen der Film durch das Biegen Markierungen oder andere Beschädigungen erhalten kann, so daß seine Qualität beeinträchtigt wird.
So ist bei einer bekannten Vorrichtung der gattungsgemäßen Art (DE-AS 12 65 581) der Eingang und Ausgang des Behandlungsbereichs jeweils durch eine obere Walze und ein von unteren Walzen getragenes Band begrenzt. Entwicklerflüssigkeit gelangt aus dem Auslaufstutzen eines Behälters etwa auf die Mitte der oberen Walze. Infolge der Drehrichtung dieser Walze gelangt diese Flüssigkeit zumindest zum größten Teil vor den Eingang. Da die oberen Walzen durch Berührung mit dem Band von ctn unteren Walzen mitgenommen werden, wird die vor dem Eingang befindliche Flüssigkeit abgequetscht, so daß sie gar nicht erst in den Behandlungsbereich gelangt. Im Behandlungsbereich ist daher keine oder lediglich noch die geringe Flüssigkeitsmenge wirksam, die entgegen der Drehrichtung der eingangsseitigen Walze auf der der Eingangsseite der Walze abgekehrten Seite herabgelaufen ist. Infolgedessen ist es ungewiß, ob die Schiebt tatsächlich bis zuai Ausgang der Entwicklerflüssigkeit ausgesetzt ist.
Bei dieser Vorrichtung läßt sich die Entwicklungszeit nicht genau einhalten. Denn die Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht beginnt bereits, bevor das Substrat den Eingang erreicht hat, weil Entwicklerflüssigkeit von der oberen eingangsseitigen Walze vor den Eingang transportiert wird. In ähnlicher Weise ist es unsicher, wann die Entwicklung aufhört, weil die Gefahr besieht, daß in der Nähe des Ausgangs schon keine Entwicklerflüssigkeit mehr voi handen ist. Sodann ist mit einer ungleichmäßigen Entwicklung zu rechnen, da zum Ausgang hin die Entwicklerflüssigkeit erschöpft sein kann.
Ähnliche Schwierigkeiten ergeben sich bei einer anderen bekannten Vorrichtung (DE-GM 71 41 280), bei der ein Bad angewendet wird, in dem die Badflüssigkeit zwischen Seitenwänden relativ hoch stehen kann. Demzufolge ist die Abdichtung am Ein- und Ausgang schwierig. Am Eingang sind zwei Staubürstenreihen
hintereinander und am Ausgang zwei Staubürstenreihen und ein Gummiabstreifer hintereinander angeordnet. Auch hier ergibt sich beim Durchlauf des Substrats keine genau definierte Entwicklungszeit, weil Staubürsten ein Bad nicht ausreichend abdichten können, so daß die Entwicklungszeit bereits vor dem Eingang beginnt und nach dem Ausgang endet
Sodann ist eine Vorrichtung der gattungsgemäßen Art bekannt (DE-GM 69 01 603), bei der drei Walzenpaare hintereinander im Behandlungsabschnirt angeordnet sind. Das erste Walzenpaar bildet den Eingang und das dritte den Ausgang des Entwicklungsbereichs. Zwischen den ersten beiden Walzenpaaren bringt eine Fludizuführvorrichtung Fluid im breiten Kegel auf die lichtempfindliche Schicht auf. Die obere Walze des mittleren Walzenabschnitts ist mit Einschnitten oder Ausnehmungen versehen, über die die Entwicklerlösung abgeführt werden kann, so daß sie wieder auf die Oberseite des zwischen dem mittleren Walzenpaar ausgetretenen Films strömt. In dem sich an das zweite Walzenpaar anschließenden Abschnitt wird die Entwicklung in einem Bad fortgesetzt, aus dem der Fiim schließlich wieder austritt, bevor er das ausgangsseitige Walzenpaar durchläuft
Durch das Aufbringen des Entwicklerfluids im breiten Kegel ist kein gleichmäßiger Auftrag auf der lichtempfindlichen Schicht des Substrats sichergestellt Unmittelbar unter der Zuführvorrichtung liegende Bereiche werden stärker mit Entwickler als andere beaufschlagt. Die Folge ist eine ungleichmäßige Entwicklung, d.h. eine Oberentwicklung der einen und Unterentwicklung der anderen Bereiche. Sodann sind Anfang und Ende des Entwicklungsbereichs zwischen den beiden ersten Walzenpaaren nicht genau begrenzt während zwischen den beiden letzten Walzenpaaren das Substrat durchgebogen wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der gattungsgemäßen Art anzugeben, bei der eine vorbestimmte Behandlungszeit, insbesondere die Entwicklungszeit des lichtempfindlichen Materials, genau einhaltbar ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der Eingangs- und Ausgangseinrichtung je eine Fluidzufuhrvorrichtung so zugeordnet ist daß das Behandlungsfluid nur am Eingang und am Ausgang in der Form je eines weitgehend gleichförmigen Vorhangs auf die Schicht aufbringbar ist, so daß eine gleichförmige, genau vom Eingang bis zum Ausgang reichende Behandlungsfluid-Lache auf der Schicht entsteht und beibehalten wird.
Hierbei bildet sich zwischen den beiden Vorhängen des Behandlungsfluids eine Lache mit genau definierter Länge. Wenn das Substrat mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit durch den Behandlungsabschnitt hindurchgefördert wird, steht jedes Element der lichtempfindlichen Schicht für eine genau definierte Zeit unter dem Einfluß des Behandlungsfluids. Diese Behandlungszeit kann sehr einfach durch eine Änderung der Fördergeschwindigkeit geändert werden. Wichtig ist hierbei, daß der Behandlungsfluid-Vorhang erst am Eingang, nicht aber schon vor dem Eingang, zugeführt wird. Dasselbe gilt für den zweiten Behandlungsfluid-Vorhang, der am Ausgang zugeführt wird, aber nicht mehr dahinter wirksam ist. Der zweite Behandlungsfluid-Vorhang hat die Aufgabe, die Lache gleichförmiger zu gestalten, die bei einer Behandlungsfluid-Zufuhr nur am Eingang durch seitlichen Abfluß des Fluids in der Dicke abnehmen würde.
Wenn die Eingangs- und Ausgangseinrichtung je eine die lichtemfpindiiche Schicht berührende Walze aufweisen, ist vorzugsweise dafür gesorgt, daß die Fluidzufuhrvorrichtungen das Fluid derart auf die Walzen aufbringen, daß es auf einander zugewandten Walzenseiten als Vorhang herabfließt Die Walzen führen zu einer sehr schonenden Behandlung der lichtempfindlichen Schichten, was insbesondere bei weichen und leicht zerstörbaren Schichten wichtig ist Gerade mit Hilfe dieser Walzen kann nun auf besonders einfache Art ein solcher Vorhang erzeugt werden, wie er für die erfindungsgemäße Lachenbildung gewünscht wird.
Das Substrat kann längs einer praktisch geradlinigen Bahn befördert werden, so daß Umlenkungen bzw. Verbiegungen und/oder Diskontinuitäten vermieden werden, die die Schicht beschädigen wurden.
Die Erfindung wird im folgenden anhand einer schematischen Zeichnung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels näher beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 einen Querschnitt einer Vorrichtung zum Behandeln von Substraten nach der E.'ifidung,
F i g. 2 eine Draufsicht auf den Behaiidi-ingsabschnitt der Vorrichtung nach F i g. 1 mit einem den Behandlungsabschnitt durchlaufenden Filmstreifen und
F i g. 3 eine Antriebseinrichtung für die Walzen, die in der Vorrichtung nach F i g. 1 verwendet werden kann.
Die Vorrichtung wird am Beispiel der Behandlung eines fotopolymeren lithographischen Films beschrieben. Die Vorrichtung kann jedoch auch zur Behandlung irgendwelcher beschichteter Substrate verwendet werden.
Der fotopolymere lithographische Film weist auf einer Unterlage bzw. einem Substrat eine fotohärtbare Schicht auf, die eine optische Dichte im aktinischen Bereich von mindestens drei besitzt nicht dicker als 0,001524 cm (0,0006") ist und die äußere Schicht des Elementes bildet oder einer abziehbaren Deckschicht benachbart ist. Die foto- oder lichthärtbare Schicht besteht aus einem Material, daß aus fotopolymerisierbaren, lichtvernetzbaren und fotodimerisierbaren Materialien ausgewählt ist. Ein typisches fotopolymerisierbares Material besteht aus einem Fotoinitiator, einem Absorber für aktinische Strahlung, einem polymerisierbaren Monomer und einem polymeren Bindemittel, die alle an sich bekannt sind. Ein derartiger fotopolymerer Film kann in der erfindungsgemäßen Vorrichtung einer Behandlung unterzogen werden, die ein selbsttätiges und konitnuierliches Entwickeln, Spülen und eventuell Trocknen umfaßt. Die üblicherweise für einen derartigen polymeren Film, auch Lithofilm genannt, verwendeten Materialien sind in der Regel verhältnismäßig weich und bei einer Behandlung leicht zu beschädigen oder mit Markierungen zu versehen. Aus diesem Grunde ist eine Behandlungsvorrichtung mit geradlinigem Durchlauf erwünscht, in der der Film keiner Umlenkung, Verbiegung und dergleichen ausgesetzt ist. Ferner sollte die Anzahl der Flächen, mit denen die licntempfindliche Schicht des Films in Berührung kommt, auf ein absolutes Minimum verringert werden, und am günstigsten ist es, wenn sich diese Flächen alle mit der gleichen Geschwindigkeit wie der Film bewegen, so daß keine oder nur eine geringe Relativbewegung zwischen dem Film und den Flächen auftritt.
Der Begriff »Film« soll hier einen einzelnen Bogen oder einen kontinuierlichen Streifen oder auch Platten, wie sie in der Drucxereitechnik verwendet werden, umfassen. Diesen ist gemeinsam, daß sie alle ein Substrat mit einer lichtempfindlichen Schicht aufweisen,
die behandelt und von der Teile entfernt werden sollen, um das sogenannte entwickelte Bild oder Kunstwerk herzustellen.
Die Behandlungsvorrichtung enthält einen Behandlungsabschnitt 10 mit einem Entwicklungsbereich und einen Spülabschnitt 12. Der aus dem Spülabschnitt austretende Film kann einer nichtdargestellten Trocknungseinrichtung zugeführt werden, die in an sich bekannter Weise ausgebildet sein kann. Auch bei der Trocknungseinrichtung kann es sich um einen Abschnitt mit geradlinigem Durchlauf wie bei dem Spülabschnitt 12 handeln, jedoch mit Heizeinrichtungen anstelle von Spülwasser-Spritzeinrichtungen.
Der Behandlungsabschnitt 10 weist eine Kammer 14 auf, die eine Filmbehandlungschemikalie 16 aufnehmen kann, zum Beispiel ei:ie solche, wie sie üblicherweise zum Behandeln eines Films 18 verwendet wird, der eine zuvor belichtete lichtempfindliche Schicht auf seiner Oberseite aufweist. Der Film 18 wird mit seiner beschichteten Seite nach oben auf einer Eingabeplattform 20 angeordnet und dann durch einen Eingangsschlitz 22 zwei Eingangsförder- oder Haltewalzen 24 zugeführt. Die (in der Zeichnung) obere Walze der Haltewalzen 24 läuft frei mit und kann die untere Walze und/oder die Oberseite oder Schicht des Films 18 berühren. Die obere Walze wird durch reibende Berührung von der angetriebenen unteren Walze und bis zu einem gewissen Grad durch den Film angetrieben.
Von den Haltewalzen 24 gelangt der Film 18 auf eine horizontal angeordnete Filmführung 28. Die Filmführung ist vorzugsweise aus Drähten ausgebildet, so daß sie die verschiedenen Fluide, Luft und dergleichen allenfalls minimal stört. Ferner ist die Drahtführung vorzugsweise mit einem plastischen Kunststoffüberzug versehen, um die Filmreibung und das Verkratzen des Films möglichst gering zu halten. Hierfür ist jeder plastische Kunststoff geeignet, der mit den verwendeten Chemikalien nicht reagiert.
Der Film läuft dann durch zwei Ausgangsförder- oder Haltewaizen 32. Die (in der Zeichnung) untere Walze der Haltewalzen 32 wird gemäß Fig. 3 angetrieben, während die (in der Zeichnung) obere Walze der Haltewalzen 32 durch reibende Berührung mit der unteren Walze und der Oberseite des Films oder Substrats 18, ebenso wie die obere Walze der Eingangswalzen 24. angetrieben wird. Dann läuft der Film aus dem Behandlungsabschnitt 10 in den Spülabschnitt 12. Die Haitewalzen 24 und 32 können aus irgendeinem weichen Material, zum Beispiel Gummi, Schaumgummi und dergleichen, wie es üblicherweise bei Behandlung fotografischer Materialien verwendet wird, hergestellt sein. Sie können daher durch die Berührung wie Quetschwalzen zusammengequetscht werden, was den Antrieb der oberen Walzen unterstützt. Nach der Erfindung läßt sich die Verweilzeit und mithin die Zeit während der der Film dem chemischen Behandlungsfluid ausgesetzt ist, sehr genau einhalten, wie nachstehend erläutert wird. Die Chemikalien 16 werden mittels einer Pumpe 34 über Rohrleitungen 36 einer Eingangsspritzstange 38 und einer Ausgangsspritzstange 40 zugeführt. Die Spritzstangen erstrecken sich, wie deutlicher der F i g. 2 zu entnehmen ist, quer über die Breite des Films 18 (oder der Walzen 24 und 32), während er den Entwicklungsbereich 10 durchläuft Jede Spritzstange 38 und 40 weist mehrere Düsen 42 auf, die das Fluid gegen obere flexible Wischer 44, die die jeweiligen oberen Haltewalzen 24 und 32 berühren, oder direkt auf die Walzen richten. Die Wischer 44 sind vorzugsweise aus Gummi oder einem ähnlichen Material hergestellt. Dies hält den Entwickler in der Kammer 14 zurück und gestattet ihm, nacheinander oder wasserfallartig über die oberen WaUen und nach unten auf den Film 18 zu fließen, während der Film unter den Walzen hindurchläuft Auf diese Weise wird der Film 18 genau in dem Augenblick, in dem er in den Entwicklungsbereich 10 eintritt, gleichzeitig über seine gesamte Breite einem Vorhang aus wasserfallartig
ίο herabströmendem Entwickler auf einer verhältnismäßig geraden Linie senkrecht zur Bewegungsrichtung des Films 18 ausgesetzt. Dies gestattet die Ausbildung einer Lache oder Pfütze 50 aus Behandlungsmaterial auf dem Film, die im wesentlichen den gesamten Bereich des Films zwischen den Förderwalzen 74 am Eingang und den Förderwalzen 32 am Ausgang und keine weitere Stelle überzieht Die Haltewalzen verhindern, daß das Behandlungsmaterial sich über den Eingang und Ausgang des Entwicklungsbereichs hinaus ausbreitet.
Um sicherzustellen, daß dem gesamicii Film, einschließlich seiner vorderen und hinteren Teile, hinreichende Mengen an Chemikalien zugeführt werden, benetzt das von der oberen Walze der ausgangsseitigen Haltewalzen 32 herabströmende Fluid den gesamten Film weiter. Dadurch ergibt sich ein ziemlich scharfer Abbruchpunkt, da die ausgangsseitigen Haltewalzen 32 das Fluid an einer genau definierten Stelle abquetschen, das heißt, an der Stelle, an der die Haltewalzen den Film berühi-en. Die Zeitspanne, während der der Film dem Entwickler ausgesetzt ist, ist daher durch die Geschwindigkeit bestimmt, mit der der Film durch den Entwicklungsbercich hindurchbefördert wird. Die Filmfläche, die in jedem Augenblick entwickelt wird, wird durch den Longitutinalabstand zwischen den Haltewalzen und den seitlichen Rändern des Films bestimmt Da der Film in der Regel mit einer verhältnismäßig hohen Geschwindigkeit läuft und der Abstand zwischen den ! ia'tewalzen gewöhnlich verhältnismäßig kurz ist, in der Größenordnung von 150 mm (6") liegt, kann die
-to Entwicklungszeit in der Größenordnung von 2 bis 3 Sekunden liegen. Diese Genauigkeit ist bei bekannten Filmbehandlungsvorrichtungen nur mit größter Schwierigkeit, wenn überhaupt, zu erzielen, da nicht alle Teile des Films gleichzeitig benetzt und nicht während der gesamten Zeit behandelt werden, in der er sich im Entwicklungsbereich befindet.
Die unteren Walzen der Haltewalzen 24 und 32 stehen mit einem flexiblen Wischer 52 in Berührung, der an den Wänden der Entwicklungskammer 14 befestigt ist Diese Wischer tragen mit dazu bei, den Entwickler in der Kammer 14 zu halten, so daß er auf den Boden der Kammer 14 herabfällt und wieder von der Pumpe 34 durch die Spritzstangen gepumpt werden kann.
Nachdem der Film den Behandlungsabschnitt verlassen hat, wird er geradlinig durch zwei eingangsseitige Förder- oder Haltewalzen 54 im Spülabschnitt 12 befördert Die Haltewalzen 54 können ebenso ausgebildet sein wie die im Behandlungsabschnitt. Sie sind ebenfalls mit Wischern 56 versehen, die das Spülwasser im Spülabschnitt 12 zurückhalten. Der Spülabschniti enthält eine Kammer 58 mit einer Pumpe 60, die das Fluid durch die Leitung 62 zu oberen Spritzstangen 64 zurückbefördert die es unter hohem Druck und mil hoher Geschwindigkeit direkt auf die Oberseite des Films 18 spritzen. Dadurch werden bei der Entwicklung aufgeweichte oder gelöste Materiaiteilchen von dei Oberfläche des Films entfernt Eine untere Spritzstang« 66, die in der Regel mit geringerem Druck arbeitet
spritzt das Wasser nach oben gegen die Unterseite des Films. Das Spritzwasser wird durch eine Filmtransportführung 68 hindurchgeleitet, die den Film trägt und in ähnlicher Weise x/ie die Filmführung 28 im Behandlungsabschnitt 10 aus Drähten ausgebildet sein kann.
Schließlich sind im Spülabschnitt zwei ausgangsseitige Haltewalzen 68 angeordnet, die in Verbindung mit Wischvn 70 das Fluid im Spülabschnitt zurückhalten. Vorzugsweise sind die Haltewalzen 54 und 68 ebenso ausgebildet wie die Haltewalzen im Behandlungsabschnitt. Im vorliegenden Falle sind die AusfrUngswalzen 68 jedoch vorzugsweise mit einem Material überzogen, das leicht Feuchtigkeit absorbiert, zum Beispiel mit einem Tuch, das den Film bereits teilweise trocknet, bevor er den Spülabschnitt verläßt. Nach dem Verlassen des SpUlabschnitts wird der Film einer nicht dargestellten Trocknungsvorrichtung zugeführt, durch die erwärmte Luft hindurchgeleitet werden kann, um das Trocknen des Films zu besc^p|m'crfin Vr*rzi|tT**w*'*:'s wird der Film auch durch die Trocknungsvorrichtung geradlinig hindurch befördert, obwohl dies in vielen Fällen nicht unbedingt erforderlich ist, nachdem er erst einmal entwickelt und gespült worden ist.
Die Antriebseinrichtung der Behandlungsvorrichtung ist der Fig.3 zu entnehmen, in der auch die Haltewalzen 24, 32, 54 und 68 dargestellt sind. Die unteren Haltewalzen sind mit einem Kettenrad versehen, das von einer Kette 70 angetrieben wird. Die Leerlaufräder 72 stellen die Antriebsverbindung zwischen der Kette 70 und einem Antriebszahnrad 74 sicher, das seinerseits von einem Motor 76 mit
r> veränderbarer Drehzahl angetrieben wird. Ein Spannrad 78, das unter Federvorspannung stehen kann, ist ebenfalls vorgesehen.
Die untere der Haltewalzen ist jeweils die Antriebswalze, und alle Haltewalzen sind so zueinander
ίο ausgerichtet, daß der Film geradlinig durch sie hindurchbefördert wird, um ein Verbiegen des Films zu vermeiden. Die Vorrichtung hat den Vorteil einer bewegten Tauchentwicklung ohne den Nachteil, daß das entwickelte Element durch ein Bad hindurchbefördert wird, das aufgrund der zahlreichen tordierenden Windungen weiche Filmschichten mit Markierungen versehen und beschädigen kann.
Die Kammerbauteile können grundsätzlich aus verschiedenen chemisch resistenten nlastischen K.unststoffen und nicht korrodierbaren Metallen oder Metallegierungen hergestellt sein, das heißt, aus Stahl, rostfreiem Stahl, Messing, Bronze, Aluminium und dergleichen. Die Walzen können ebenfalls aus den erwähnten Baustoffen hergestellt sein und sind vorzugsweise mit Gummi, synthetischen Elastomeren, Silikonharzen und dergleichen überzogen.
ίΛ Ά if
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Vorrichtung zum Behandeln einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Substrat, das mittels einer Antriebsvorrichtung mit der Schicht nach oben durch einen Behandlungsabschnitt, in dem die Schicht einem Teile der Schicht ändernden Behandlungsfluid aussetzbar ist, und danach durch einen weiteren Abschnitt, wie Spülabschnitt, bewegbar ist, wobei der Behandlungsabschnitt einen Eingang und einen Ausgang für das Substrat bildende Einrichtungen aufweist, die einen Entwicklungsbereich begrenzen und wobei im Bereich der Eingangseinrichtung eine Fluidzufuhrvorrichtung vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Eingangsund Ausgangseinrichtung (24, 32) je eine Fluidzufuhrvorrichtung (38, 44; 40, 44) so zugeordnet ist, daß das Behandlungsfluid nur am Eingang und am Ausgang in der Form je eines weitgehend gleichförmigen Vorhangs auf die Schicht aufbringbar ist, so daß eine gWchförmige. genau vom Eingang bis zum Ausgang reichende Behandlungsfluid-Lache auf der Schicht entsteht und beibehalten wird.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der die Eingangs- und Ausgangseinrichtung je eine die lichtempfindliche Schicht berührende Walze aufweisen, dadurch gekennzeichnet, daß die Fluidzufuhrvorrichtungen (38,44; 40,44) das Fluid derart auf die Walzen (24, 32) aufbringen, daß es auf einander zugewandten Walzenseiten als Vorhang herabfließt.
DE2702335A 1976-02-09 1977-01-21 Vorrichtung zum Behandeln einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Substrat Expired DE2702335C3 (de)

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