DE2702335C3 - Vorrichtung zum Behandeln einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Substrat - Google Patents
Vorrichtung zum Behandeln einer lichtempfindlichen Schicht auf einem SubstratInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vor. .chtung zum Behandeln
einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Substrat, das mittels einer Antriebsvorrichtung mit der
Schicht nach oben durch einen Behandlungsabschnitt, in dem die Schicht einem Teile der Schicht ändernden
Behandlungsfluid aussetzbar ist, und danach durch einen weiteren Abschnitt, wie Spülabschnitt, bewegbar ist,
wobei der Behandlungsabschnitt einen Eingang und einen Ausgang für das Substrat bildende Einrichtungen
aufweist, die einen Entwicklungsbereich begrenzen und wobei im Bereich der Eingangseinrichtung eine
Fluidzufuhrvorrichtung vorgesehen ist.
Zum Drucken von Buchstaben oder lithographischer Darstellungen wird häufig eine Maske mit einem für
eine aktinische Strahlung undurchlässigen Bild zur Herstellung einer Druckplatte verwendet. Eine solche
Maske wird auch zur Herstellung der anfänglichen Kontakt- oder Halbtonfilme für die anschließende
Herstellung von Druckplatten verwendet. Eine ähnliche Maske wird zur Herstellung gedruckter Schaltungsplatten
unter Verwendung eines Fotoresistmaterials (lichtbeständigen Materials) benutzt.
Filmmasken sind in Form einzelner Bögen oder kontinuierlicher Streifen bekannt. Sie haben eine
Unterlage oder ein Substrat, gewöhnlich aus plastischem Kunststoff, das mit einem lichtempfindlichen
(häufig ein Schutzmittel oder einen Ätzgrund bildenden) Material überzogen ist. Es wird durch eine Halbtonmaske
hindurch einer aktinischen (chemisch wirksamen) Strahlung ausgesetzt. Nach der Bestrahlung bzw.
Belichtung wird der Film mit einem von den verwendeten Materialien abhängigen Behandlungsteil
behandelt.
Die Behandlung umfaßt gewöhnlich das sogenannte Entwickeln, bei dem die belichtete lichtempfindliche
Schicht entweder weichgemacht oder gehärtet wird, so daß das weiche oder lose Material entfernt werden
kann. Daran schließt sich das Waschen oder Spülen an, bei dem die aufgeweichten Teile gewöhnlich durch
unter hohem Druck stehende Wasserstrahlen vom Film entfernt werden. Anschließend wird der Film getrocknet
In letzter Zeit werden für die lichtempfindlichen
ίο Schichten von Filmen und Platten sehr schnell
entwickelbare Materialien verwendet, die die Entwicklungszeit erheblich verringern. Einige dieser Materialien
sind verhältnismäßig weich und äußerst druck- oder kratzempfindlich, so daß Druckmarkierungen oder
Kratzer entstehen können, wenn der Film bei der Behandlung gefaltet oder gebogen wird.
Bei derart schnell entwickelbaren Materialien muß die Behandlungsvorrichtung die Entwicklungszeit sehr
genau einhalten können, so daß verschiedene Bereiche des Films weder überentwickelt noch unterentwickelt
werden. Bekannte Behandlungs- oder Verarbeitungsvorrichtungen sind nicht in der Lage, die Behandiungszeit
genau einzuhalten, insbesondere wenn es sich um verhältnismäßig kurze Entwicklungszeiten handelt, die
in der Größenordnung von einigen Sekunden liegen können. Die meisten bekannten Entwicklungsvorrichtungen
pflegen Umlenkstellen aufzuweisen, an denen der Film durch das Biegen Markierungen oder andere
Beschädigungen erhalten kann, so daß seine Qualität beeinträchtigt wird.
So ist bei einer bekannten Vorrichtung der gattungsgemäßen Art (DE-AS 12 65 581) der Eingang und
Ausgang des Behandlungsbereichs jeweils durch eine obere Walze und ein von unteren Walzen getragenes
Band begrenzt. Entwicklerflüssigkeit gelangt aus dem Auslaufstutzen eines Behälters etwa auf die Mitte der
oberen Walze. Infolge der Drehrichtung dieser Walze gelangt diese Flüssigkeit zumindest zum größten Teil
vor den Eingang. Da die oberen Walzen durch Berührung mit dem Band von ctn unteren Walzen
mitgenommen werden, wird die vor dem Eingang befindliche Flüssigkeit abgequetscht, so daß sie gar nicht
erst in den Behandlungsbereich gelangt. Im Behandlungsbereich ist daher keine oder lediglich noch die
geringe Flüssigkeitsmenge wirksam, die entgegen der Drehrichtung der eingangsseitigen Walze auf der der
Eingangsseite der Walze abgekehrten Seite herabgelaufen ist. Infolgedessen ist es ungewiß, ob die Schiebt
tatsächlich bis zuai Ausgang der Entwicklerflüssigkeit
ausgesetzt ist.
Bei dieser Vorrichtung läßt sich die Entwicklungszeit nicht genau einhalten. Denn die Entwicklung der
lichtempfindlichen Schicht beginnt bereits, bevor das Substrat den Eingang erreicht hat, weil Entwicklerflüssigkeit
von der oberen eingangsseitigen Walze vor den Eingang transportiert wird. In ähnlicher Weise ist es
unsicher, wann die Entwicklung aufhört, weil die Gefahr besieht, daß in der Nähe des Ausgangs schon keine
Entwicklerflüssigkeit mehr voi handen ist. Sodann ist mit einer ungleichmäßigen Entwicklung zu rechnen, da zum
Ausgang hin die Entwicklerflüssigkeit erschöpft sein kann.
Ähnliche Schwierigkeiten ergeben sich bei einer anderen bekannten Vorrichtung (DE-GM 71 41 280), bei
der ein Bad angewendet wird, in dem die Badflüssigkeit zwischen Seitenwänden relativ hoch stehen kann.
Demzufolge ist die Abdichtung am Ein- und Ausgang schwierig. Am Eingang sind zwei Staubürstenreihen
hintereinander und am Ausgang zwei Staubürstenreihen und ein Gummiabstreifer hintereinander angeordnet.
Auch hier ergibt sich beim Durchlauf des Substrats keine genau definierte Entwicklungszeit, weil Staubürsten
ein Bad nicht ausreichend abdichten können, so daß die Entwicklungszeit bereits vor dem Eingang beginnt
und nach dem Ausgang endet
Sodann ist eine Vorrichtung der gattungsgemäßen Art bekannt (DE-GM 69 01 603), bei der drei Walzenpaare
hintereinander im Behandlungsabschnirt angeordnet sind. Das erste Walzenpaar bildet den Eingang
und das dritte den Ausgang des Entwicklungsbereichs. Zwischen den ersten beiden Walzenpaaren bringt eine
Fludizuführvorrichtung Fluid im breiten Kegel auf die lichtempfindliche Schicht auf. Die obere Walze des
mittleren Walzenabschnitts ist mit Einschnitten oder Ausnehmungen versehen, über die die Entwicklerlösung
abgeführt werden kann, so daß sie wieder auf die Oberseite des zwischen dem mittleren Walzenpaar
ausgetretenen Films strömt. In dem sich an das zweite Walzenpaar anschließenden Abschnitt wird die Entwicklung
in einem Bad fortgesetzt, aus dem der Fiim schließlich wieder austritt, bevor er das ausgangsseitige
Walzenpaar durchläuft
Durch das Aufbringen des Entwicklerfluids im breiten Kegel ist kein gleichmäßiger Auftrag auf der lichtempfindlichen
Schicht des Substrats sichergestellt Unmittelbar unter der Zuführvorrichtung liegende Bereiche
werden stärker mit Entwickler als andere beaufschlagt. Die Folge ist eine ungleichmäßige Entwicklung, d.h.
eine Oberentwicklung der einen und Unterentwicklung der anderen Bereiche. Sodann sind Anfang und Ende
des Entwicklungsbereichs zwischen den beiden ersten Walzenpaaren nicht genau begrenzt während zwischen
den beiden letzten Walzenpaaren das Substrat durchgebogen wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der gattungsgemäßen Art anzugeben, bei
der eine vorbestimmte Behandlungszeit, insbesondere die Entwicklungszeit des lichtempfindlichen Materials,
genau einhaltbar ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der Eingangs- und Ausgangseinrichtung je eine
Fluidzufuhrvorrichtung so zugeordnet ist daß das Behandlungsfluid nur am Eingang und am Ausgang in
der Form je eines weitgehend gleichförmigen Vorhangs auf die Schicht aufbringbar ist, so daß eine gleichförmige,
genau vom Eingang bis zum Ausgang reichende Behandlungsfluid-Lache auf der Schicht entsteht und
beibehalten wird.
Hierbei bildet sich zwischen den beiden Vorhängen des Behandlungsfluids eine Lache mit genau definierter
Länge. Wenn das Substrat mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit durch den Behandlungsabschnitt hindurchgefördert
wird, steht jedes Element der lichtempfindlichen Schicht für eine genau definierte Zeit unter
dem Einfluß des Behandlungsfluids. Diese Behandlungszeit kann sehr einfach durch eine Änderung der
Fördergeschwindigkeit geändert werden. Wichtig ist hierbei, daß der Behandlungsfluid-Vorhang erst am
Eingang, nicht aber schon vor dem Eingang, zugeführt wird. Dasselbe gilt für den zweiten Behandlungsfluid-Vorhang,
der am Ausgang zugeführt wird, aber nicht mehr dahinter wirksam ist. Der zweite Behandlungsfluid-Vorhang
hat die Aufgabe, die Lache gleichförmiger zu gestalten, die bei einer Behandlungsfluid-Zufuhr
nur am Eingang durch seitlichen Abfluß des Fluids in der Dicke abnehmen würde.
Wenn die Eingangs- und Ausgangseinrichtung je eine die lichtemfpindiiche Schicht berührende Walze aufweisen,
ist vorzugsweise dafür gesorgt, daß die Fluidzufuhrvorrichtungen das Fluid derart auf die Walzen
aufbringen, daß es auf einander zugewandten Walzenseiten als Vorhang herabfließt Die Walzen führen zu
einer sehr schonenden Behandlung der lichtempfindlichen Schichten, was insbesondere bei weichen und leicht
zerstörbaren Schichten wichtig ist Gerade mit Hilfe dieser Walzen kann nun auf besonders einfache Art ein
solcher Vorhang erzeugt werden, wie er für die erfindungsgemäße Lachenbildung gewünscht wird.
Das Substrat kann längs einer praktisch geradlinigen Bahn befördert werden, so daß Umlenkungen bzw.
Verbiegungen und/oder Diskontinuitäten vermieden werden, die die Schicht beschädigen wurden.
Die Erfindung wird im folgenden anhand einer schematischen Zeichnung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels
näher beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 einen Querschnitt einer Vorrichtung zum Behandeln von Substraten nach der E.'ifidung,
F i g. 2 eine Draufsicht auf den Behaiidi-ingsabschnitt
der Vorrichtung nach F i g. 1 mit einem den Behandlungsabschnitt durchlaufenden Filmstreifen und
F i g. 3 eine Antriebseinrichtung für die Walzen, die in der Vorrichtung nach F i g. 1 verwendet werden kann.
Die Vorrichtung wird am Beispiel der Behandlung eines fotopolymeren lithographischen Films beschrieben.
Die Vorrichtung kann jedoch auch zur Behandlung irgendwelcher beschichteter Substrate verwendet werden.
Der fotopolymere lithographische Film weist auf einer Unterlage bzw. einem Substrat eine fotohärtbare
Schicht auf, die eine optische Dichte im aktinischen Bereich von mindestens drei besitzt nicht dicker als
0,001524 cm (0,0006") ist und die äußere Schicht des Elementes bildet oder einer abziehbaren Deckschicht
benachbart ist. Die foto- oder lichthärtbare Schicht besteht aus einem Material, daß aus fotopolymerisierbaren,
lichtvernetzbaren und fotodimerisierbaren Materialien ausgewählt ist. Ein typisches fotopolymerisierbares
Material besteht aus einem Fotoinitiator, einem Absorber für aktinische Strahlung, einem polymerisierbaren
Monomer und einem polymeren Bindemittel, die alle an sich bekannt sind. Ein derartiger fotopolymerer
Film kann in der erfindungsgemäßen Vorrichtung einer Behandlung unterzogen werden, die ein selbsttätiges
und konitnuierliches Entwickeln, Spülen und eventuell Trocknen umfaßt. Die üblicherweise für einen derartigen
polymeren Film, auch Lithofilm genannt, verwendeten Materialien sind in der Regel verhältnismäßig weich
und bei einer Behandlung leicht zu beschädigen oder mit Markierungen zu versehen. Aus diesem Grunde ist eine
Behandlungsvorrichtung mit geradlinigem Durchlauf erwünscht, in der der Film keiner Umlenkung,
Verbiegung und dergleichen ausgesetzt ist. Ferner sollte die Anzahl der Flächen, mit denen die licntempfindliche
Schicht des Films in Berührung kommt, auf ein absolutes Minimum verringert werden, und am günstigsten ist es,
wenn sich diese Flächen alle mit der gleichen Geschwindigkeit wie der Film bewegen, so daß keine
oder nur eine geringe Relativbewegung zwischen dem Film und den Flächen auftritt.
Der Begriff »Film« soll hier einen einzelnen Bogen oder einen kontinuierlichen Streifen oder auch Platten,
wie sie in der Drucxereitechnik verwendet werden, umfassen. Diesen ist gemeinsam, daß sie alle ein
Substrat mit einer lichtempfindlichen Schicht aufweisen,
die behandelt und von der Teile entfernt werden sollen, um das sogenannte entwickelte Bild oder Kunstwerk
herzustellen.
Die Behandlungsvorrichtung enthält einen Behandlungsabschnitt 10 mit einem Entwicklungsbereich und
einen Spülabschnitt 12. Der aus dem Spülabschnitt austretende Film kann einer nichtdargestellten Trocknungseinrichtung
zugeführt werden, die in an sich bekannter Weise ausgebildet sein kann. Auch bei der
Trocknungseinrichtung kann es sich um einen Abschnitt mit geradlinigem Durchlauf wie bei dem Spülabschnitt
12 handeln, jedoch mit Heizeinrichtungen anstelle von Spülwasser-Spritzeinrichtungen.
Der Behandlungsabschnitt 10 weist eine Kammer 14 auf, die eine Filmbehandlungschemikalie 16 aufnehmen
kann, zum Beispiel ei:ie solche, wie sie üblicherweise zum Behandeln eines Films 18 verwendet wird, der eine
zuvor belichtete lichtempfindliche Schicht auf seiner Oberseite aufweist. Der Film 18 wird mit seiner
beschichteten Seite nach oben auf einer Eingabeplattform 20 angeordnet und dann durch einen Eingangsschlitz
22 zwei Eingangsförder- oder Haltewalzen 24 zugeführt. Die (in der Zeichnung) obere Walze der
Haltewalzen 24 läuft frei mit und kann die untere Walze und/oder die Oberseite oder Schicht des Films 18
berühren. Die obere Walze wird durch reibende Berührung von der angetriebenen unteren Walze und
bis zu einem gewissen Grad durch den Film angetrieben.
Von den Haltewalzen 24 gelangt der Film 18 auf eine horizontal angeordnete Filmführung 28. Die Filmführung
ist vorzugsweise aus Drähten ausgebildet, so daß sie die verschiedenen Fluide, Luft und dergleichen
allenfalls minimal stört. Ferner ist die Drahtführung vorzugsweise mit einem plastischen Kunststoffüberzug
versehen, um die Filmreibung und das Verkratzen des Films möglichst gering zu halten. Hierfür ist jeder
plastische Kunststoff geeignet, der mit den verwendeten Chemikalien nicht reagiert.
Der Film läuft dann durch zwei Ausgangsförder- oder Haltewaizen 32. Die (in der Zeichnung) untere Walze
der Haltewalzen 32 wird gemäß Fig. 3 angetrieben, während die (in der Zeichnung) obere Walze
der Haltewalzen 32 durch reibende Berührung mit der unteren Walze und der Oberseite des Films oder
Substrats 18, ebenso wie die obere Walze der Eingangswalzen 24. angetrieben wird. Dann läuft der
Film aus dem Behandlungsabschnitt 10 in den Spülabschnitt 12. Die Haitewalzen 24 und 32 können aus
irgendeinem weichen Material, zum Beispiel Gummi, Schaumgummi und dergleichen, wie es üblicherweise
bei Behandlung fotografischer Materialien verwendet wird, hergestellt sein. Sie können daher durch die
Berührung wie Quetschwalzen zusammengequetscht werden, was den Antrieb der oberen Walzen unterstützt.
Nach der Erfindung läßt sich die Verweilzeit und mithin die Zeit während der der Film dem chemischen
Behandlungsfluid ausgesetzt ist, sehr genau einhalten, wie nachstehend erläutert wird. Die Chemikalien 16
werden mittels einer Pumpe 34 über Rohrleitungen 36 einer Eingangsspritzstange 38 und einer Ausgangsspritzstange
40 zugeführt. Die Spritzstangen erstrecken sich, wie deutlicher der F i g. 2 zu entnehmen ist, quer
über die Breite des Films 18 (oder der Walzen 24 und 32), während er den Entwicklungsbereich 10 durchläuft
Jede Spritzstange 38 und 40 weist mehrere Düsen 42 auf, die das Fluid gegen obere flexible Wischer 44, die die
jeweiligen oberen Haltewalzen 24 und 32 berühren, oder direkt auf die Walzen richten. Die Wischer 44 sind
vorzugsweise aus Gummi oder einem ähnlichen Material hergestellt. Dies hält den Entwickler in der
Kammer 14 zurück und gestattet ihm, nacheinander oder wasserfallartig über die oberen WaUen und nach
unten auf den Film 18 zu fließen, während der Film unter den Walzen hindurchläuft Auf diese Weise wird der
Film 18 genau in dem Augenblick, in dem er in den Entwicklungsbereich 10 eintritt, gleichzeitig über seine
gesamte Breite einem Vorhang aus wasserfallartig
ίο herabströmendem Entwickler auf einer verhältnismäßig
geraden Linie senkrecht zur Bewegungsrichtung des Films 18 ausgesetzt. Dies gestattet die Ausbildung einer
Lache oder Pfütze 50 aus Behandlungsmaterial auf dem Film, die im wesentlichen den gesamten Bereich des
Films zwischen den Förderwalzen 74 am Eingang und den Förderwalzen 32 am Ausgang und keine weitere
Stelle überzieht Die Haltewalzen verhindern, daß das Behandlungsmaterial sich über den Eingang und
Ausgang des Entwicklungsbereichs hinaus ausbreitet.
Um sicherzustellen, daß dem gesamicii Film, einschließlich
seiner vorderen und hinteren Teile, hinreichende Mengen an Chemikalien zugeführt werden,
benetzt das von der oberen Walze der ausgangsseitigen Haltewalzen 32 herabströmende Fluid den gesamten
Film weiter. Dadurch ergibt sich ein ziemlich scharfer Abbruchpunkt, da die ausgangsseitigen Haltewalzen 32
das Fluid an einer genau definierten Stelle abquetschen, das heißt, an der Stelle, an der die Haltewalzen den Film
berühi-en. Die Zeitspanne, während der der Film dem Entwickler ausgesetzt ist, ist daher durch die Geschwindigkeit
bestimmt, mit der der Film durch den Entwicklungsbercich hindurchbefördert wird. Die Filmfläche,
die in jedem Augenblick entwickelt wird, wird durch den Longitutinalabstand zwischen den Haltewalzen
und den seitlichen Rändern des Films bestimmt Da der Film in der Regel mit einer verhältnismäßig hohen
Geschwindigkeit läuft und der Abstand zwischen den ! ia'tewalzen gewöhnlich verhältnismäßig kurz ist, in der
Größenordnung von 150 mm (6") liegt, kann die
-to Entwicklungszeit in der Größenordnung von 2 bis 3 Sekunden liegen. Diese Genauigkeit ist bei bekannten
Filmbehandlungsvorrichtungen nur mit größter Schwierigkeit, wenn überhaupt, zu erzielen, da nicht alle Teile
des Films gleichzeitig benetzt und nicht während der gesamten Zeit behandelt werden, in der er sich im
Entwicklungsbereich befindet.
Die unteren Walzen der Haltewalzen 24 und 32 stehen mit einem flexiblen Wischer 52 in Berührung, der
an den Wänden der Entwicklungskammer 14 befestigt ist Diese Wischer tragen mit dazu bei, den Entwickler in
der Kammer 14 zu halten, so daß er auf den Boden der Kammer 14 herabfällt und wieder von der Pumpe 34
durch die Spritzstangen gepumpt werden kann.
Nachdem der Film den Behandlungsabschnitt verlassen hat, wird er geradlinig durch zwei eingangsseitige
Förder- oder Haltewalzen 54 im Spülabschnitt 12 befördert Die Haltewalzen 54 können ebenso ausgebildet
sein wie die im Behandlungsabschnitt. Sie sind ebenfalls mit Wischern 56 versehen, die das Spülwasser
im Spülabschnitt 12 zurückhalten. Der Spülabschniti enthält eine Kammer 58 mit einer Pumpe 60, die das
Fluid durch die Leitung 62 zu oberen Spritzstangen 64 zurückbefördert die es unter hohem Druck und mil
hoher Geschwindigkeit direkt auf die Oberseite des Films 18 spritzen. Dadurch werden bei der Entwicklung
aufgeweichte oder gelöste Materiaiteilchen von dei Oberfläche des Films entfernt Eine untere Spritzstang«
66, die in der Regel mit geringerem Druck arbeitet
spritzt das Wasser nach oben gegen die Unterseite des Films. Das Spritzwasser wird durch eine Filmtransportführung
68 hindurchgeleitet, die den Film trägt und in ähnlicher Weise x/ie die Filmführung 28 im Behandlungsabschnitt
10 aus Drähten ausgebildet sein kann.
Schließlich sind im Spülabschnitt zwei ausgangsseitige Haltewalzen 68 angeordnet, die in Verbindung mit
Wischvn 70 das Fluid im Spülabschnitt zurückhalten. Vorzugsweise sind die Haltewalzen 54 und 68 ebenso
ausgebildet wie die Haltewalzen im Behandlungsabschnitt. Im vorliegenden Falle sind die AusfrUngswalzen
68 jedoch vorzugsweise mit einem Material überzogen, das leicht Feuchtigkeit absorbiert, zum Beispiel mit
einem Tuch, das den Film bereits teilweise trocknet, bevor er den Spülabschnitt verläßt. Nach dem Verlassen
des SpUlabschnitts wird der Film einer nicht dargestellten Trocknungsvorrichtung zugeführt, durch die erwärmte
Luft hindurchgeleitet werden kann, um das Trocknen des Films zu besc^p|m'crfin Vr*rzi|tT**w*'*:'s
wird der Film auch durch die Trocknungsvorrichtung geradlinig hindurch befördert, obwohl dies in vielen
Fällen nicht unbedingt erforderlich ist, nachdem er erst einmal entwickelt und gespült worden ist.
Die Antriebseinrichtung der Behandlungsvorrichtung ist der Fig.3 zu entnehmen, in der auch die
Haltewalzen 24, 32, 54 und 68 dargestellt sind. Die unteren Haltewalzen sind mit einem Kettenrad
versehen, das von einer Kette 70 angetrieben wird. Die Leerlaufräder 72 stellen die Antriebsverbindung zwischen
der Kette 70 und einem Antriebszahnrad 74 sicher, das seinerseits von einem Motor 76 mit
r> veränderbarer Drehzahl angetrieben wird. Ein Spannrad
78, das unter Federvorspannung stehen kann, ist ebenfalls vorgesehen.
Die untere der Haltewalzen ist jeweils die Antriebswalze, und alle Haltewalzen sind so zueinander
ίο ausgerichtet, daß der Film geradlinig durch sie
hindurchbefördert wird, um ein Verbiegen des Films zu vermeiden. Die Vorrichtung hat den Vorteil einer
bewegten Tauchentwicklung ohne den Nachteil, daß das entwickelte Element durch ein Bad hindurchbefördert
wird, das aufgrund der zahlreichen tordierenden Windungen weiche Filmschichten mit Markierungen
versehen und beschädigen kann.
Die Kammerbauteile können grundsätzlich aus verschiedenen chemisch resistenten nlastischen K.unststoffen
und nicht korrodierbaren Metallen oder Metallegierungen hergestellt sein, das heißt, aus Stahl,
rostfreiem Stahl, Messing, Bronze, Aluminium und dergleichen. Die Walzen können ebenfalls aus den
erwähnten Baustoffen hergestellt sein und sind vorzugsweise mit Gummi, synthetischen Elastomeren, Silikonharzen
und dergleichen überzogen.
ίΛ Ά
if
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Vorrichtung zum Behandeln einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Substrat, das mittels einer
Antriebsvorrichtung mit der Schicht nach oben durch einen Behandlungsabschnitt, in dem die
Schicht einem Teile der Schicht ändernden Behandlungsfluid aussetzbar ist, und danach durch einen
weiteren Abschnitt, wie Spülabschnitt, bewegbar ist,
wobei der Behandlungsabschnitt einen Eingang und einen Ausgang für das Substrat bildende Einrichtungen
aufweist, die einen Entwicklungsbereich begrenzen und wobei im Bereich der Eingangseinrichtung
eine Fluidzufuhrvorrichtung vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Eingangsund
Ausgangseinrichtung (24, 32) je eine Fluidzufuhrvorrichtung (38, 44; 40, 44) so zugeordnet ist,
daß das Behandlungsfluid nur am Eingang und am Ausgang in der Form je eines weitgehend gleichförmigen
Vorhangs auf die Schicht aufbringbar ist, so daß eine gWchförmige. genau vom Eingang bis zum
Ausgang reichende Behandlungsfluid-Lache auf der
Schicht entsteht und beibehalten wird.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der die Eingangs- und Ausgangseinrichtung je eine die
lichtempfindliche Schicht berührende Walze aufweisen, dadurch gekennzeichnet, daß die Fluidzufuhrvorrichtungen
(38,44; 40,44) das Fluid derart auf die Walzen (24, 32) aufbringen, daß es auf einander
zugewandten Walzenseiten als Vorhang herabfließt.
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| US (1) | US4142194A (de) |
| JP (1) | JPS608498B2 (de) |
| DE (1) | DE2702335C3 (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3734097A1 (de) * | 1987-10-09 | 1989-04-27 | Du Pont Deutschland | Verfahren und vorrichtung zum behandeln eines photographischen aufzeichnungsmaterials |
| DE3921657C1 (en) * | 1989-06-30 | 1990-12-13 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen, De | Photographic film washing device - comprises two plastics spray tubes between processing tanks and producing top and bottom waves of wash fluid |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE419199B (sv) * | 1977-05-16 | 1981-07-20 | Svecia Silkscreen Maskiner Ab | Anordning for framstellning av en stencil |
| US4294533A (en) * | 1978-03-23 | 1981-10-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Apparatus for pre-conditioning film |
| AU526632B2 (en) * | 1978-10-18 | 1983-01-20 | Hilton, R.C. | Continuous processing apparatus |
| JPS55114370A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | Treatment of plate |
| US4215927A (en) * | 1979-04-13 | 1980-08-05 | Scott Paper Company | Lithographic plate processing apparatus |
| DE2951847A1 (de) * | 1979-12-21 | 1981-07-02 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Vorrichtung zum entwickeln von fotografischen schichttraegern |
| DE3002732A1 (de) * | 1980-01-25 | 1981-08-13 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Horizontal-durchlauf-tauchbad |
| US4327987A (en) * | 1980-01-30 | 1982-05-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Film processor |
| US4268667A (en) * | 1980-04-21 | 1981-05-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of aryl ketones based on 9,10-dihydro-9,10-ethanoanthracene and p-dialkyl-aminoaryl aldehydes as visible sensitizers for photopolymerizable compositions |
| JPS581935U (ja) * | 1981-06-29 | 1983-01-07 | コニカ株式会社 | 板状体の処理装置 |
| JPS585039U (ja) * | 1981-06-30 | 1983-01-13 | 大日本スクリ−ン製造株式会社 | 自動現像機用水洗装置 |
| JPS58170644U (ja) * | 1982-05-12 | 1983-11-14 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料処理装置 |
| JPS6082638U (ja) * | 1983-11-10 | 1985-06-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 消去液水洗機 |
| JPS6141252U (ja) * | 1984-08-18 | 1986-03-15 | コニカ株式会社 | 印刷製版用感光材料処理装置 |
| JP2575631B2 (ja) * | 1985-10-18 | 1997-01-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真フイルム処理装置 |
| JP2575632B2 (ja) * | 1985-10-18 | 1997-01-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真フイルム処理装置 |
| US4875067A (en) * | 1987-07-23 | 1989-10-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Processing apparatus |
| US4969002A (en) * | 1988-05-09 | 1990-11-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photo-sensitive printing plate processing apparatus |
| JPH0267336U (de) * | 1989-09-28 | 1990-05-22 | ||
| US5047795A (en) * | 1989-11-28 | 1991-09-10 | Delphi Technology, Inc. | Slotted processing apparatus and method |
| JP2627018B2 (ja) * | 1990-09-12 | 1997-07-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 水なし平版印刷版の製版方法 |
| GB9025598D0 (en) * | 1990-11-24 | 1991-01-09 | Kodak Ltd | Photographic processing apparatus |
| DE4307923B4 (de) * | 1992-03-13 | 2008-07-31 | Fujifilm Corp. | Plattenmaterial-Bearbeitungsvorrichtung |
| DE4231102C2 (de) * | 1992-09-17 | 1998-07-02 | Du Pont Deutschland | Verfahren zum Herstellen photopolymerisierbarer flexographischer Druckplatten |
| DE4304907C1 (de) * | 1993-02-18 | 1994-03-31 | Agfa Gevaert Ag | Vorrichtung zum Entwickeln fotografischer Schichtträger |
| US5313242A (en) * | 1993-04-27 | 1994-05-17 | Eastman Kodak Company | Thru-wall web processing apparatus |
| US5420659A (en) * | 1993-05-03 | 1995-05-30 | Eastman Kodak Company | Modular processing channel for an automatic tray processor |
| US5420658A (en) * | 1993-05-03 | 1995-05-30 | Eastman Kodak Company | Modular processing channel for an automatic tray processor |
| US5353088A (en) * | 1993-05-03 | 1994-10-04 | Eastman Kodak Company | Automatic tray processor |
| US5400106A (en) * | 1993-05-03 | 1995-03-21 | Eastman Kodak Company | Automatic tray processor |
| DE69531911D1 (de) * | 1994-05-25 | 2003-11-20 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer lithographischen Offsetdruckplatte nach dem Silbersalz-Diffusionsübertragungsverfahren |
| US5579076A (en) * | 1995-04-13 | 1996-11-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method and apparatus for processing photosensitive material |
| US6701945B1 (en) * | 2000-02-28 | 2004-03-09 | Utica Enterprises, Inc. | Sheet metal blank washer system |
| TWI245578B (en) * | 2001-12-31 | 2005-12-11 | Ritdisplay Corp | Developing apparatus and method for developing organic electroluminescent display panels |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2404138A (en) * | 1941-10-06 | 1946-07-16 | Alvin L Mayer | Apparatus for developing exposed photographic prints |
| DE1280673B (de) * | 1963-05-27 | 1968-10-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | Geraet zum Aufbringen von Behandlungsloesungen auf lichtempfindliches Papier |
| US3299791A (en) * | 1963-05-27 | 1967-01-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Device for developing copying paper |
| US3589261A (en) * | 1968-01-16 | 1971-06-29 | Du Pont | Photographic developing apparatus |
| US3682078A (en) * | 1968-07-18 | 1972-08-08 | Western Litho Plate & Supply | Apparatus for post-exposure treatment of lithographic plates |
| JPS5117050B1 (de) * | 1970-06-22 | 1976-05-29 | ||
| US3710703A (en) * | 1971-03-18 | 1973-01-16 | Eastman Kodak Co | Web transport apparatus |
| DE7141280U (de) * | 1971-11-02 | 1972-02-03 | Krause B | Vorrichtung zur badbehandlung von drucktraegern |
| DE2319140C2 (de) * | 1973-04-16 | 1983-07-28 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Vorrichtung zum Behandeln von Druckplatten mit einer Flüssigkeit |
| CA1021906A (en) * | 1973-12-26 | 1977-12-06 | Ellwood J. Horner | Apparatus for guiding sheet material into counterrotating brushes |
-
1977
- 1977-01-21 DE DE2702335A patent/DE2702335C3/de not_active Expired
- 1977-02-09 JP JP52012565A patent/JPS608498B2/ja not_active Expired
- 1977-09-06 US US05/830,477 patent/US4142194A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3734097A1 (de) * | 1987-10-09 | 1989-04-27 | Du Pont Deutschland | Verfahren und vorrichtung zum behandeln eines photographischen aufzeichnungsmaterials |
| DE3921657C1 (en) * | 1989-06-30 | 1990-12-13 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen, De | Photographic film washing device - comprises two plastics spray tubes between processing tanks and producing top and bottom waves of wash fluid |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2702335A1 (de) | 1977-08-11 |
| DE2702335B2 (de) | 1980-12-11 |
| JPS5296869A (en) | 1977-08-15 |
| US4142194A (en) | 1979-02-27 |
| JPS608498B2 (ja) | 1985-03-04 |
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