DE2645113A1 - Photoempfindliche zusammensetzung fuer drucksiebe - Google Patents
Photoempfindliche zusammensetzung fuer drucksiebeInfo
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Description
3R. WALTER KRAUS DIPLOMCHEMIKER · DR.-1NS. ANNEKÄTE WEISERT DIPU-ING. FACHRICHTUNG CHEMIE
IRMGARDSTRASSE 15 ■ D-8OOO MÜNCHEN 71 · TELEFON 089/797077-797078 · TELEX O5-212156 kpat d
1372 AW/MY
MURAKAMI SCREEN KABUSHIKI KAISHA, Tokyo / Japan
Photoempfindliche Zusammensetzung für Drucksiebe
Die Erfindung betrifft eine photoempfindliche Zusammensetzung
in Lösung für Drucksiebe, die enthält
(a) ein flüssiges Medium aus der Gruppe mit Wasser mischbarer organischer Lösungsmittel und Gemische dieser organischen
Lösungsmittel und Wasser,
(b) ein sowohl in den organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser lösliches Polymer, und
(c) ein in den organischen Lösungsmitteln löslichen Sensibilisator aus der Gruppe photoempfindliche Monomere und
ihre Präpolymere,
Diese Zusammensetzung ermöglicht die Herstellung präsensibilisierter
Drucksiebe mit ausgezeichneter Haltbarkeit und Druckbeständigkeit. Sie ermöglicht ferner ein Verfahren,
gemäß dem vorsensibilisierte Drucksiebe leicht hergestellt werden können.
Die vorliegende Erfindung betrifft photoempfindliche
Harzzusamraensetzungen für Drucksiebe. Die Erfindung betrifft insbesondere neue photoempfindliche Harzzusammensetzungen in
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Lösung, die als Sensibilisator ein photoempfindliches Vinylmonomer
oder Präpolymer enthalten, das in der Vergangenheit als Material für sog. direkte Verfahren für die Herstellung
von Drucksieben nicht verwendet wurde, ein daraus hergestelltes, vorsensibilisiertes Drucksieb und ein Verfahren zu seiner
Herstellung.
In der Vergangenheit verwendete photoempfindliche Filmmaterialien für Drucksiebe enthalten eine wäßrige Emulsionsmischung
aus Polyvinylalkohol und Polyvinylacetat , zu der Ammoniumbichromat oder Diazoharze als Sensibilisatoren
zugegeben werden. Diese photoempfindlichen Materialien sind für die Herstellung von Drucksieben gut geeignet. Sie besitzen
jedoch den Nachteil, daß ihre Haltbarkeit oder Beständigkeit unzufriedend ist. Die Verwendung von photoempfindlichen,Bichromate
als Sensibilisatoren enthaltenden Materialien ist wegen der durch das Chrom hervorgerufenen Umweltprobleme beschränkt.
Gegenwärtig werden als Sensibilisatoren hauptsächlich Diazoharze verwendet.
Diazoharze rufen keine Umweltprobleme hervor, und ihre Beständigkeit ist, verglichen mit den Bichromaten, ausreichend.
Werden sie auf ein Sieb aufgetragen und darauf unter Bildung eines photoempfindlichen Films getrocknet, so kann
der Film an kalten und dunklen Stellen während etwa einer Woche gelagert werden. Bei normalen Temperatur- und Feuchtigkeitsbedingungen
beim Lagern findet eine sog. Dunkelreaktion statt, die bewirkt, daß die nichtbelichteten Flächen des Films
in Wasser unlöäich werden.Ein solcher Film wird nutzlos· Werden
die zuvor beschriebenen photoempfindlichen Materialien
verwendet, so müssen die Beschichtungs-, Belichtungs-, Auswaschentwicklungsverfahren
so schnell wie möglich und kontinuierlich durchgeführt werden. Bei der Herstellung von Drucksieben
tritt somit eine große Anzahl von Schwierigkeiten auf.
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. /14.
Wenn beispielsweise ein Siebdruckverfahren bei der
Herstellung von elektronischen Elementen an einem entfernten
Ort erfolgt, so wird das Drucksieb im allgemeinen in situ hergestellt.
Das Beschichten des photo empfindlichen Materials auf die Siebe wird jedoch bevorzugt und geeigneterweise von
dem Lieferanten des photoempfindlichen Materials für die Drucksiebe durchgeführt. In diesem Falle müssen die Filme,
die einen aufgetragenen photo empfindlichen Film enthalten
(präsensibilisierte Drucksiebe), zu der Fabrik für elektronische Elemente an einem entfernten Ort transportiert werden. Es
besteht somit ein Bedarf für photoempfindliche Filme für Drucksiebe, die sicher bei normalen Temperaturen und Feuchtigkeiten
während langer Zeiten gelagert werden können.
Die vorliegende Erfindung betrifft einsphotoempfindliche
Zusammensetzung, die bei einem direkten. Verfahren für die Herstellung von Drucksieben verwendet werden kann. Wird die
photoempfindliche Zusammensetzung als photoempfindliche Flüssigkeit
gelagert, so ist es nicht erforderlich, einen Sensibilisator und eine wäßrige Polymerlösung zu schaffen und beide getrennt
zu lagern, wie dies bei den flüssigen photoempfindlichen Zusammensetzungen für Drucksiebe erforderlich ist, bei
denen Bichromate oder Diazoharze als Sensibilisatoren verwendet werden. Die neue flüssige photoempfindliche Zusammensetzung
kann als Gemisch aus einer äthylenisch ungesättigten Verbindung als Sensibilisator und einem Polymer gelagert werden
und. ist für die praktische Anwendung gut geeignet.
Wird diese photoempfindliche Zusammensetzung zu einem photo empfindlichen Film verarbeitet, so kann der Film während
langer Zeiten, ohne daß er sich verschlechtert, stabil gelagert werden. Verwendet man diese photoempfindliche Zusammensetzung,
so kann man ein präsensibilisiertes (Druck)Sieb herstellen (aufgrund des angelsächsischen Ausdrucks "presensitized
(printing). screen" wird es im folgenden als PSPS
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oder PSS abgekürzt). In der Vergangenheit hat man angenommen, daß es unmöglich sein würde, nach einem direkten Verfahren
präsensibilisierte (Druck)Siebe herzustellen. Die Herstellung von PSPS und das Drucken können außerdem auf leichte Art
und Weise erfolgen, selbst wenn der Verbraucher von PSPS von dem Lieferer von PSPS weit entfernt ist.
Gegenstand der Erfindung ist eine photoempfindliche
Zusammensetzung in Lösung für Drucksiebe, die enthält
(a) ein flüssiges Medium aus der Gruppe organischer, mit Wasser mischbarer Lösungsmittel und Lösungsmittelgemische
aus diesen organischen Lösungsmitteln und Wasser,
(b) ein Polymer, das sowohl in den organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser löslich ist, und
(c) einen Sensibilisator, der in den organischen Lösungsmitteln löslich ist,' aus der Gruppe photoempfindliche
Monomere und ihren Präpolymeren.
Gegenstand der Erfindung ist weiterhin ein präsensibilisiertes
(Druck)Sieb, das erhalten wird, indem man die photoempfindliche
Zusammensetzung auf einen Siebstoff aufträgt und sie trocknet. Dieses PSPS besitzt eine ausgezeichnete
Lagerfähigkeit und Druckbeständigkeit.
Gegenstand der Erfindung ist somit ein präsensibilisiertes
(Druck)Sieb, das enthält
(1) einen Siebstoff und
(2) eine feste Lösurigsschicht, die auf den Siebstoff
aufgetragen ist, wobei die Schicht enthält
(a) ein Polymer, das sowohl in Wasser als auch in wasserlöslichen organischen Lösungsmitteln löslich ist, und
(b) einen Sensibilisator, der in den wasserlöslichen organischen Lösungsmitteln löslich ist, aus der Gruppe
photoempfindlicher Monomerer und ihren Präpolymeren.
In dieser Anmeldung soll der Ausdruck "Siebstoff" irgendein
für die Herstellung von Drucksieben geeignetes Material bedeuten.
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•V-
Gegenstand der Erfindung ist weiterhin ein sog. semidirektes Verfahren für die Herstellung eines präsensibilisierten
(Druck)Siebs aus der oben beschriebenen Zusammensetzung.
Erfindungsgemäß wird so ein Verfahren zur Herstellung von PSPS geschaffen, das die folgenden Stufen umfaßt
(1) Beschichten einer Oberfläche eines planaren Substrats mit einer photoempfihdlichen Zusammensetzung, wobei
die Zusammensetzung enthält ,
(a) ein flüssiges Medium aus dsr Gruppe mit
Wasser mischbarer organischer Lösungsmittel und Lösungsmittelmischungen
aus den organischen Lösungsmitteln und Wasser,
(b) ein Polymer, das sowohl in den organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser löslich ist, und
(c) einen Sensibilisator, der in den organischen Lösungsmitteln löslich ist, aus der Gruppe photoempfindlicher
Monomerer und ihren Präpolymeren,
(2) Beschichten einer Oberfläche eines Siebstoffs mit der photoempfindlichen Zusammensetzung,
(3) Verbinden des beschichteten, planaren Substrats und des beschichteten Siebtuchs unter Druck auf solche Weise,
daß die beschichteten Oberflächen der beiden Materialien einander gegenüberliegen, unter Herstellung eines Laminats, und
(4) Entfernung des planaren Substrats von dem Laminat.
Anhand der beigefügten Zeichnungen werden bevorzugte erfindungsgemäße Ausführungenformen näher erläutert; es
zeigen
Fig. 1 bis 4 eine Reihe von Verfahrenestufen (bei
einem semi-direkten Verfahren) für die Herstellung von PSPS unter Verwendung der erfindungsgemäßen photoempfindlichen
Zusammensetzung in schematischer Darstellung.
Die erfindungsgemäße photoempfindliche Zusammensetzung enthält grundsätzlich drei Komponenten, nämlich ein flüssiges
Medium, ein Polymer und einen Sensibilisator. Sie zeichnet
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sich dadurch aus, daß sie als einheitliches Gemisch in Lösung vorliegt.
Der Ausdruck "flüssiges Medium", wie er in der vorliegenden Anmeldung verwendet wird, bedeutet ein mit Wasser
mischbares organisches Lösungsmittel per se oder ein Gemisch aus organischem Lösungsmittel und Wasser. Es ist bevorzugt,
daß der Gehalt an organischem Lösungsmittel, in dem flüssigen Medium 30 Gew.?£ oder mehr beträgt, bevorzugt 40 bis 75 Gew.%.
Beispiele von mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden, sind
Alkohole mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, Methylcello solve, Äthylcellosolve,
Butylcellosolve, Aceton, Methyläthylketon, Methylisobutylketon, Dioxan, Dimethylformamid und Dirnethylsulfoxid.
Polymere, die bei der vorliegenden Erfindung verwendbar sind, sind solche Polymeren, die sowohl in den oben erwähnten
organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser löslich sind. Beispiele solcher Polymere sind die teilweise verseiften
Produkte von Polyvinylacetat, Copolymere von Vinylacetat und ungesättigte Säuren (mit 3 bis 4 Kohlenstoffatomen) wie
Crotonsäure und ihre teilweise verseiften Produkte, Polyäthylenoxid, Carboxymethylcellulose und Vinylpyrrolidon. Von
diesen Verbindungen sind die teilweise verseiften Produkte von Polyvinylacetat, die Copolymeren von Vinylacetat und
die ungesättigten Säuren und ihre teilweise verseiften Produkte besonders bevorzugt.
Damit die oben erwähnten Polymeren sowohl in Wasser als auch in organischen Lösungsmitteln löslich sind, sind
die Polymeren hinsichtlich des Verseifungsgrades, des Polymerisationsgrades oder ihres Copolymerisationsverhältnisses
begrenzt. Der Fachmann kann jedoch den Verseifungsgrad und den Polymerisationsgrad des Polymeren und das Copolymerisationsverhältnis
leicht kontrollieren, so daß die Polymeren
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sowohl in Wasser als auch in den oben erwähnten organischen
Lösungsmitteln löslich sind. Beispielsweise erfüllt Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 85 bis 4C$ die oben
erwähnten Erfordernisse. Ein geeignetes Beispiel ist ein Polyvinylalkohol mit dem Warenzeichen Gosenol KH-17 (mit einem
Verseifungsgrad von 78,5 bis 81,5%, hergestellt von Nippon
Gosei Kagaku Kogyo K.K., Japan). Ein anderes geeignetes Polymer
ist ein hO% hydrolysiertes Produkt eines Copolymeren
aus 97 Mo 1-% Vinylacetat und 3 Mol-% Crotonsäure, das unter
dem Warenzeichen Corponeel PK 40, hergestellt von Nippon Gosei Kagaku Kogyo K.K., bekannt ist.
Es ist bevorzugt,daß die oben beschriebenen Polymeren
in der Zusammensetzung in solchen Verhältnissen verwendet werden, daß das oben erwähnte flüssige Medium 150 bis
800 Gew.Teile, bevorzugt 250 bis 650 Gewo?6, bezogen auf
100 Gew.Teile des Polymeren, beträgt.
Der Sensibilisator, der zu dem Polymeren gegeben wird, ist ein Monomer mit einer photoempfindlichen, . äthylenisch
ungesättigten Gruppe, wie einer Acryloyl-5 Methacryloyl-,
Allyl-, Vinyläther- und Acrylamidgruppe, oder ihren Präpolymeren mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad nicht
über 5· Polyfunktionelle Sensibilisatoren, die zwei oder mehr dieser photoempfindlichen Gruppen enthalten, sind besonders
bevorzugt. Beispiele solcher Sensibilisatoren sind Pentaerythrit-triacrylat, Pentaerythrit-tetraacrylat, Pentaerythrittrimethacrylat.
Pentaerythrit-tetramethacrylat, 2,2-Dibrom- . methyl-1,3-propandiol-diacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-dimethacrylat,
2,3-Dibrompropylacrylat, Triallyliso-. cyanurat, Methoxyäthylvinyläther, t-Butylvinyläther und N,N'-Methylen-bis-acrylamid
und ihre Präpolymeren. Von diesen Sensibilisatoren sind Pentaerythrit-triacrylat und -tetraacrylat
besonders nützlich. Es ist bevorzugt, daß diese Sensibilisatoren in einer Menge von 20 bis 400 Gew.Teilen, insbesondere
50 bis 200 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, verwendet
werden.
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Die oben erwähnte Beschränkung für das Verhältnis der oben erwähnten drei Komponenten wird bevorzugt verwendet,
damit die erfindungsgemäße Zusammensetzung in einheitlichem Iiösungszustand vorliegt.
Bei der Bestrahlung mit ultravioletten Strahlen dissoziieren die Sensibilisatoren in Radikale, die selbst
polymerisieren und vernetzen. Dadurch findet eine Photopolymerisation
des Polymeren statt. Die Zugabe von Reaktionsinitiatoren, wie im folgenden beschrieben, aktiviert die
Dissoziation der Sensibilisatoren in Radikale, und dabei wird der Sensibilisierungsgrad der Zusammensetzung erhöht. Reaktionsinitiatoren,
die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind solche Materialien, die bei der Einwirkung
von Bestrahlung leicht Radikale bilden. Beispiele solcher Initiatoren sind Benzoinalkyläther, Michlers Keton,
Di-tert.-butylperoxid, Dibenzothiazolyl-disulfid, Tribromacetophenon
und Anthrachinonderivate wie tert.-Butylanthrachinon. Von diesen Verbindungen sind die Benzoinalkyläther
mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe wie Benzoinmethyläther
besonders bevorzugt. Es ist bevorzugt, daß der Initiator in einer Menge von 1 bis 20 Gew.Teilen bevorzugt
3 bis 15 Gew. Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Sensibilisator, verwendet wird.
Wird ein Acrylat als Sensibilisator verwendet, so wird die entstehende Zusammensetzung, wenn sie zu einem photoempfindlichen
Film verarbeitet wird, durch den Sauerstoff in der Luft beeinflußt, wie dies bei allen anderen photoempfindlichen
Harzzusammensetzungen der Acrylat-Art üblich ist. Es
ist daher bevorzugt, in die photoempfindliche Zusammensetzung
ein Antioxydans, z.B. Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Zinn(II)-chlorid
oder Zinkchlorid,als Stabilisator oder ein Wachs einzuarbeiten. Die Zugabemenge dieser Zusatzstoffe liegt im allgemeinen
nicht über 3 Gew.%, bezogen auf die gesamte Zusammensetzung.
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Die Verwendung von photoempfindlichen Harzen, die Polyvinylalkohole und dazu zugegeben einen Acrylat-Sensibilisator
enthalten, als photoempfindliches Material für Reliefdruck,
ist bekannt (vergl. z.B. JA-PSen 42450/71, 26848/71 und 8041/75 sowie US-PS 3 801 328). Photoempfindliche Harze,
die Celluloseacetat-hydrosuccinat oder ein allcalilösliches
Polyvinylalkohol-Derivat, vermischt mit einem Acrylat, enthalten, sind ebenfalls bekannt (vergl. z.B. JA-PSen 342/60,
8495/60, 4112/61, 16078/61, 14657/62, 15810/63, 1112/64 und 2204/65 der E.I.DuPont de Nemours & Co., Inc.).
Der Unterschied zwischen der vorliegenden Erfindung und dem bekannten Stand der Technik wird im folgenden näher
erläutert. Entsprechend den JA-PSen 42450/71, 26848/71 und 8041/75 sowie der US-PS 3 801 328 der Nippon Paint K.K.
wird nach der Entwicklung und dem Härten der photoempfindlichen Harzschicht die Auswaschentwicklung der nichtbelichteten
Flächen unter Verwendung von Wasser durchgeführt. Dementsprechend
müssen der Polyvinylalkohol und das Acrylat. in Wasser löslich sein. Zur Herstellung eines Gemisches aus wasserunlöslichem
Initiator mit diesen Materialien wird der Initiator zuerst mit irgendeinem geeigneten organischen Lösungsmittel
gelöst, und die Lösung wird dann mit der Harzlösung in Anwesenheit eines Dispersionsmittels unter Bildung einer Emulsion
vermischt.
In den Patentschriften der E.I.DuPont de Nemours & Co., Ine*, wo eine wäßrige Alkalilösung bei der Auswaschentwicklung
verwendet wird, wird das Celluloseacetat-hydrosuccinat oder der alkalilösliche Polyvinylalkohol mit den Acrylaten und
Initiatoren unter Verwendung von zwei erhitzten Kautschukwalzen verknetet und mechanisch vermischt. Da die photoempfindliche Zusammensetzung, die nach diesem Vermischungsverfahren
hergestellt wird, keine einheitliche Phase aus Harzkomponente, Sensibilisator und Initiator enthält, kann man ein Reliefbild
ohne Schwierigkeiten bei einer photoempfindlichen Schicht, die
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an einer Metallplatte haftet, wie eine photoempfindliche
Schicht für Reliefdruck, herstellen. Wenn diese photoempfindliche Zusammensetzung für Seidensiebe verwendet wird, ist
die Haftung zwischen den Siebmaschen und dem photoempfindlichen Harz, bedingt durch Photohärtung, nicht ausreichend, so
daß es unmöglich ist, ein Sieb mit guter Druckbeständigkeit (Abnutzungsbeständigkeit bei wiederholten Druckvorgängen)
herzustellen, das beim "Drucken oder Textilbedrucken verwendet
werden kann·
Bei der vorliegenden Erfindung, bei der ein Polymer verwendet wird, das sowohl in organischen Lösungsmitteln als
auch in Wasser löslich ist, und bei der die entstehende Lösung zu. dem Sensibilisator und Reaktionsinitiator zugegeben
wird, haftet die photoempfindliche Zusammensetzung für das PSPS, wobei eine Auswaschentwicklung mit Wasser möglich ist,
fest an dem Seidensieb. Diese kann während langer Zeiten als photoempfindliches Material für Seidensiebdruck gelagert
werden. Auf diese Weise kann eine photoempfindliche Lösung aus organischem Lösungsmittel, worin die drei Komponenten
vollständig gelöst sind und miteinander vermischt sind,
erhalten werden. Unter Verwendung dieser photoempfindlichen Lösung ist es möglich, eine photoempfindliche Schicht in fester
Lösungsform herzustellen, die für das Seidensiebdrucken bzw. für Seidendrucksiebe gut geeignet ,ist.
Es wurde weiterhin gefunden, daß, wenn Schellack
als solches oder z.B. Schellack in Form einer Emulsion, wie Shellac SA Nr.25 und Lacqcoat 50 (Warenzeichen), hergestellt
von Nippon Shellac Kogyo K.K., Japan, zu der photoempfindlichen
Zusammensetzung für das Seidendrucksieb gegeben wird, die Druckbeständigkeit des Drucksiebes wesentlich verbessert
wird. Es ist bevorzugt, daß die Zugabe von Schellack erfolgt, wenn ein Alkohol als organisches Lösungsmittel verwendet wird·
Der Schellack wird in einer Menge bis zu 500 Gew.Teilen, be-
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vorzugt 10 bis 100 Gew.Teile, bezogen auf 100 Gew.Teile
Polymer, verwendet.
Beim Drucken eines Musters aus einer integrierenden Schaltung als einen dicken Film ist eine Auflösekraft
mit einer Linienbreite von etwa 50 Mikron bei dem Seidensiebdruckverfahren erforderlich. Das Filament, das die Maschen
des Drucksiebs ergibt (das Filament kann aus feiner Seide, Polyester oder Stahl hergestellt sein), kann das einfallende"
Licht während der Belichtung zerstreuen und* eine Lichthofbildung
hervorrufen. Dadurch wird die Auflösekraft des ausgedruckten Musters vermindert. Es wurde gefunden, daß durch
Zugabe eines geeigneten Antilichthof-Farbstoffs zu der erfindungsgemäßen
Zusammensetzung die oben erwähnte Erscheinung verhindert wird und daß eine bemerkenswerte Steigerung in
der Auflösekraft erreicht wird. Als Antilichthof-Farbstoffe
können bei der vorliegenden Erfindung solche Farbstoffe verwendet werden, die in den oben erwähnten organischen Lösungsmitteln
und ihren Gemischen mit Wasser leicht löslich sind. Die Verhinderung der Lichthofbildung ergibt keine wesentliche
Verminderung in der Empfindlichkeit der Zusammensetzung, und man beobachtet keine Polymerisationsinhibitorwirkung.
Beispiele solcher Farbstoffe sind CI Acid Yellow 25 (CI Nr.
18835), CI Acid Yellow 38 (CI Nr. 25135), CI Acid Orange 56
(CI. Nr. 22895), CI Acid Orange 74 (CI Nr. 18745), CI Acid
Brown 13 (CI Nr. 10410) u.a. Die Menge an Antilichthof-Farbstoff,
die zugegeben wird, liegt in der Größenordnung von 0,1
bis 5 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer.
Die erfindungsgemäße photoempfindliche Zusammensetzung
kann ebenfalls bei dem sog. indirekten Verfahren verwendet werden, bei dem die Zusammensetzung auf einen geeigneten
Substratfilm aufgebracht und getrocknet wird und der Überzug aus der Zusammensetzung auf dem Substrat mit Licht durch ein
• Positiv belichtet wird und unter Bildung eines Bildes auf dem
Substrat entwickelt wird. Anschließend wird das Bild übertra-
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gen iind auf einen Siebstoff unter Bildung eines Drucksiebs
aufgebracht.Wenn die photoempfindliche Zusammensetzung auf
einen geeigneten Siebstoff übertragen wird und unter Bildung yon PSPS getrocknet wird, so erhält man eine ausgezeichnete
Beständigkeit bzw. Lagerfähigkeit. Das erfindungsgemäße PSPS enthält eine photoempfindliche Schicht auf einem Siebtuch,
die erhalten wird, indem man die photoempfindliche Zusammensetzung
darauf aufbringt und sie trocknet. Die photoempfindliche Schicht enthält eine feste Lösung aus den Komponenten
der Zusammensetzung, aus der das flüssige Medium im wesentlichen entfernt wurde.
Der Siebstoff kann irgendeiner der bekannten Siebstoffe sein und kann aus Seide, Polyester oder Stahl bestehen.
Die Dicke der photoempfindlichen Schicht kann innerhalb eines
weiten Bereichs variieren, und sie kann z.B. zwischen 40 und 500 Mikron liegen. Die Dicke der photoempfindlichen Schicht
entspricht der Farbdicke, wenn das Sieb als Drucksieb verwendet wird, und sie besitzt die Eigenschaft von Drucksieben
bzw. Siebdrucken, d.h. die Dicke der photoempfindlichen
Schicht, d.h. die Farbdicke, kann beliebig eingestellt werden. Bei der Anwendung bei dem sog. üblichen direkten
Verfahren, bei dem die Dicke der photoempfindlichen Schicht
progressiv durch wiederholte Anwendung und Trocknung zur Herstellung einer einheitlichen. .Dicke der photoempfindlichen
Schicht erhöht wird, sind mehr als zehn Anwendungs-Trocknungs-Zyklen für die Herstellung einer photoempfindlichen Schicht
mit einer Dicke von so viel wie 100 Mikron erforderlich. Dieses Verfahren ist daher ungeeignet und unwirtschaftlich.
Im Gegensatz dazu ermöglicht das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von PSPS die Herstellung einer photoempfindlichen
Schicht mit einer Dicke in der Größenordnung von 100 Mikron, wobei die Anwendungs-Trocknungs-Zyklen nur
eine wenige Male wiederholt werden müssen. Dieses Verfahren wird anhand der beigefügten Fig. 1 bis 4 erläutert.
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Die erfindungsgemäße photoempfindliche Zusammensetzung
in Lösung wird zuerst auf ein planares Substat 1, wie einen Polycarbonatfilm, einen Polyäthylenfilm oder einen
Polyvinylchloridfilm, in einheitlicher Dicke von etwa 80 Mikron, wie in Fig. 1 dargestellt, aufgetragen. Der entstehende
photoempfindliche Harzfilm 2 wird mit einem nichtgetrockneten Siebtuch 4,mit einem photoempfindlichen Harz 3
der gleichen Art darauf aufgetragen, wie in Fig. 2 dargestellt, verbunden. Das Verbinden erfolgt unter Druck unter
Verwendung eines Quetschers 5, wie in Fig. 3 dargestellt.
Anschließend, wenn das Substrat 1 von dem Gefüge entfernt wird, wird ein PSPS erhalten, das die gleichen wertvollen
Eigenschaften besitzt wie eines, das man erhält, wenn die photoempfindliche Lösung auf die Oberfläche des Siebtuchs
4 aufgetragen wird. Gegebenenfalls kann nach der Anwendung der photoempfindlichen Harzzusammensetzung auf das Substrat
oder dem Verbinden unter Druck unter Verwendung des Quetschers, wie in Fig. 3 dargestellt,'der Verbundstoff zur Erleichterung
der Abtrennung des Substrats 1 getrocknet werden. Ein solches Trocknen ist bevorzugt. Das Trocknen wird bevorzugt bei einer
Temperatur nicht über '600C, bevorzugt in der Größenordnung
von 30 bis 500C, durchgeführt. Die Zusammensetzung kann
nach irgendwelchen bekannten Verfahren, wie durch Aufbürsten, Eintauchen und Sprühen, aufgetragen ..werden; gegebenenfalls können
zur Einstellung der Dicke ein oder mehrere weitere Überzüge zusätzlich auf den ersten Überzug aufgetragen werden. Während
der Anwendungsstufe ist es nicht erforderlich, die Dicke zu
beachten.
Aus dem oben beschriebenen Verfahren geht hervor, daß bei der Herstellung von Drucksieben die photoempfindliche
Schicht sogar nach einem sog. semi-direkten Verfahren aufgetragen werden kann. Bei dem bekannten semi-direkten Verfahren
wird ein Film auf das Drucksieb übertragen,;.-wobei auf dem film
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eine nicht-photoempfindliche Emulsionsmischung aus Polyvinylalkohol
und Polyvinylacetat aufgetragen ist. Die Photosensibilisierung erfolgt, indem man eine wäßrige Polyvinylalkohollösung
zuvor mit einer wäßrigen Bichromat- oder Diazoharzlösung sensibilisiert und auf die Oberfläche des Siebs aufträgt
und eine nicht-sensibilisierte Polymerschicht in Form
eines Films auf die nichtgetrocknete Oberfläche des Siebs überträgt. Der in der photoempfindlichen Schicht, die auf
das Sieb aufgetragen wurde, enthaltene Sensibilisator diffundiert und penetriert in die übertragene, nicht-sensibilisierte
Polymerschicht, wodurch eine Sensibilisierung des Polymeren erfolgt.
Bei dem bekannten semi-direkten Verfahren kann eine zufriedenstellende Diffusion und Penetration der Dichromate
oder Diazoverbindungen in die Polymerschicht nicht leicht erreicht werden. Aus diesem Grund ist die Dicke des Polymeren,
das übertragen werden soll, auf etwa 70 Mikron bei Dichromaten und etwa 30 Mikron bei Diazosensibilisatoren beschränkt.
Zur Herstellung eines Drucksiebs mit dickerer Harzschicht nach dem semi-direkten Verfahren ist es erforderlich,
die Polymerschicht auf dem Substrat vorher zu sensibilisieren. Durch die schlechte Beständigkeit der Bichromate oder
der Diazoharze als Sensibilisator kann ein diese Sensibilisatoren enthaltender, auf ein Substrat aufgetragener Harzfilm
nicht während langer Zeit gelagert werden.
Wird dagegen die erfindungsgemäße photoempfindliche
Zusammensetzung als Übertragungsschicht verwendet, so ist es möglich, eine übertragene, photoempfindliche Schicht unter
Verwendung des semi-direkten Verfahrens herzustellen, unabhängig von der Dicke der Schicht. Die photoempfindliche Schicht
kann außerdem vor dem Übertragen lange Zeit gelagert werden. Da ein Vinylmonomer oder ein Vinylpräpolymer, das eine photo-
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empfindliche VInylgruppe enthält, als Sensibilisator In dem
erfindungsgemäßen photoempfindlichen Drucksieb verwendet
wird, so wird dies durch Umgebungstemperatur und Feuchtigkeit nicht beeinflußt, und verschlechtert sich während mehrerer Monate nicht, wenn es In der Dunkelheit gelagert wird· Die erfindungsgemäßen
photoempfindlichen Drucksiebe können daher wirksam als PSPS verwendet werden.
Das so hergestellte PSPS wird den-gleichen Drucksiebherstellungsverfahren unterworfen, wie es bei dem bekannten
Verfahren üblich ist« Ein Positiv wird auf den photo empfindlichen
Film gelegt und mit einer Quecksilber-Bogenlampe oder auf ähnliche Art belichtet. Wenn z.B. das Laminat mit einer
Lichtquelle von einer 3 kW-Quecksilber-Bogenlampe in einer
Entfernung'von 1 m während 2 Minuten belichtet wird, härten
die belichteten Harze des Laminats und Werden wasserunlöslich. Die Entwicklung erfolgt mit Wasser von einer Temperatur von
5 bis 40°C, und gegebenenfalls wird sie durch Aufsprühen von
Wasser zur vollständigen Entfernung von irgendwelchem restlichen
Harz von den nichtbelichteten Flächen vervollständigt. Nach· dem Trocknen des entwickelten Laminats wird ein Drucksieb
erhalten. Das Drucksieb kann bei den gleichen Anwendungen verwendet werden, wo die bekannten Drucksiebe eingesetzt
werden.
Wird, wie zuvor angegeben, ein Acrylat als Sensibilisator
verwendet, nimmt die Empfindlichkeit des photoempfindlichen
Films unweigerlich während der Belichtung, bedingt durch den Einfluß von Sauerstoff, ab. Wenn daher das erfindungsgemäße
PSPS nicht sofort für die Herstellung von Drucksieben verwendet wird, wird das PSPS bevorzugt in einem· Strom
aus Inertgas, wie Kohlendioxid oder Stickstoff, während etwa
2 bis 3 Stunden vor dem Drucken des Bildes zur Entfernung von Sauerstoff aus dem photo empfindlichen Film konditioniert.
Um zu verhindern, daß Sauerstoff den photoempfindlichen Film
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beeinflußt, kann man ebenfalls beide Oberflächen des photoempfindlichen
Films mit einem dünnen Kunststoffilm abdecken,
oder man kann einen Film aus einem wasserlöslichen Polymer, wie Polyvinylpyrrolidon und Polyvinylalkohol, auf der Oberfläche
des photoempfindlichen Films herstellen. Zu diesem Zweck reicht ein Schutzfilm mit einer Dicke von 1 bis 10 Mikron
aus.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. Alle Mengen, die in Teilen angegeben werden, sind Gewichtsteile·
Bei spiel 1
Corponeel PK-40 (hergestellt von Nippon Gosei Kagaku
Kogyo K.K.) [eine 40%ige Lösung eines Copolymeren aus hO%
verseiftem Polyvinylacetat und Crotonsäure (97:3) in einem Methanol-Wasser-Lösungsmittel] 30 Teile (als Harz) ·
Pentaerythrit-triacrylat 40 Teile
Benzoinmethylather 4 Teile
Methanol 40 Teile
Wasser 30 Teile
Die oben angegebenen, photoempfindlichen Bestandteile
werden bei Zimmertemperatur gerührt und vollständig aufgelöst und dann miteinander vermischt. Die entstehende Lösung wird
mit einem Becher auf Polyestersiebe (ca. 0,068 mm = 225 mesh,
Spannung 8 kg/cm), die über einen Metall- oder Holzrahmen gespannt sind, angewendet. Diese Anwendung umfaßt zwei oder
drei übereinanderliegende Überzüge nach bekanntem Verfahren.
Anschließend wird der Überzug mit warmer Luft bei 30 bis 40°C getrocknet; dabei wird ein 90 Mikron dicker, photoempfindlicher
Film gebildet. Wird das entstehende, photoempfindliche Sieb mehrere Monate in der Dunkelheit gelagerts so zersetzt
er sich nicht und kann somit als PSPS verwendet werden.
709815/0898
Ein positiver Film wird auf den photo empfindlichen
Film unter Verwendung eines Vakuumdruckrahmens gelegt und mit einer Superhochdruck-Quecksilberbogenlampe von 8 kW in
.einer Entfernung von 1 m während 2 min belichtet· Die Auswaschentwicklung
des so erhaltenen Widerstandsbildes bzw. Deckbilds erfolgt auf folgende Weise. Das belichtete Sieb
wird zuerst in Wasser bei 25°C während 3 min für die Auflösung des Hauptanteils der nichtbelichteten Flächen des
photoempfindlichen Films eingetaucht. Dann wird Wasser von 200C auf die Oberfläche des photo empfindlichen Films mit einem
Druck von 6 kg/cm und einer Entfernung von 30 cm mit einer
Sprühkanone zur vollständigen Entfernung von restlichen, nichtbelichteten Flächen aufgesprüht. Das Sieb wird dann mit
Warmluft 30 min bei 450C unter Herstellung eines Drucksiebs
getrocknet.
Beispiel 2
Corponeel PK-40 (hergestellt von Nippon Gosei Kagaku Kogyo K.K.) [eine 40%ige Lösung eines Copolymeren aus 40%
verseiftem Polyvinylacetat und Crotonsäure (97:3) in einem Methanol-Wasser-Lösungsmittel] 80 Teile (als Harz)
Pentaerythrit-triacrylat 40 Teile
Schellack (SA Nr.25, hergestellt von
Nippon Shellac . K.K.) 20 Teile
Benzoinmethyläther 4 Teile
Methanol 50 Teile
Wasser 80 Teile
Die oben aufgeführten Bestandteile werden unter Herstellung einer photoempfindlichen Zusammensetzung in Lösung
verarbeitet. Gemäß dem gleichen Verfahren, wie in Beispiel 1 beschrieben, wird die entstehende Lösung auf ein Seidensieb
unter Herstellung eines Seidendrucksiebs aufgetragen.
7098 IS/0898
Gosenol KH-17 (hergestellt von Nippon Gosei Kagaku
Kogyo K.K.) (Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von
78,5 bis 81,4# und einem Polymerisationsgrad von 1700)
10 Teile
Pentaerythrit-tetraacrylat 10 Teile
Natriumlaurylsulfat 0,2 Teile
Benzoinmethyläther 1 Teil
Methylcellosolve 45 Teile
Wasser 20 Teile
Eine photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung wird aus den obigen Bestandteilen hergestellt und auf ein
Seidensieb gemäß dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren unter Herstellung eines Seidendrucksiebs aufgetragen.
Beispiel 4
Polyäthylenoxid mit einem Molekulargewicht von 30 (im Handel unter dem Warenzeichen PSO No.3 von der Seitetsu
Kagaku Kogyo K.K. erhältlich) 15 Teile
Pentaerythrit-trimethacrylat 14 Teile
Michlers Keton 1,4 Teile
Zinn(ll)-Chlorid (oder Zinkchlorid oder
Wachs) 0,15 Teile
Natriumlaurylsulfat 0,3 Teile
Methylcellosolve . 4,5 Teile
Wasser . 22 Teile
Eine photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung
wird aus den obigen Bestandteilen hergestellt und auf ein Seidensieb gemäß dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren
unter Herstellung eines Seidendrucksiebs aufgetragen.
709815/0898
Bei s ρ i e 1 5
Gosenol KP-08 (hergestellt von Nippon Gosei Kagaku Kogyo K.K.) (Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von
71,5% und einem Polymerisationsgrad von 800) 12 Teile
Dibromneopentyl-glykol-diacrylat 5 Teile
N-Methylolacrylamid (oder Diacetonacrylamid) 5 Teile
Benzoinisopropyläther 1S2 Teile
Natriumlaurylsulfat , 0,2 Teile
Methylcellosolve 25 Teile
Wasser - ."-"■■■ 18 Teile
Eine photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung
wird aus den obigen Bestandteilen hergestellt und auf ein Seidensieb gemäß dem in Beispiel Λ beschriebenen Verfahren
unter Herstellung eines Seidendrucksiebs aufgetragen«
In diesem Beispiel wird noch ein Antilichthof-Farbstoff
zu der Zusammensetzung von Beispiel 5 zugegeben»
Gosenol KP-08 (hergestellt von Nippon Gosei
Kagaku Kogyo K.K.) (Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 71,5% und einem Polymerisationsgrad
von 800) 12 Teile
Dibrompentylglykol-diacrylat 5 Teile
N-Methylolacrylamid (oder Diacetonacrylamid) 5 Teile
Benzoinisopropyläther ' 192 Teile
Natriumlaurylsulfat O52 Teile
Kayanol Meeling Orange G (hergestellt von
Nippon Kayaku K.K.; CI Hr.22895) 0,1 Teil
Methylcellosolve 25 Teile
Wasser 18 Teile
Eine photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung wird aus den obigen Bestandteilen hergestellt und auf ein
7098 15/089
Seidensieb gemäß dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren
unter Herstellung eines Seidendrucksiebs aufgetragen.
Die Haltbarkeit der vorsensibilisierten Drucksiebe und die Druckbeständigkeit der Drucksiebe, hergestellt gemäß
den Beispielen 1 bis 6, sind in der folgenden Tabelle I angegeben.
| Bei spiel |
Beständigkeitsverhalten (Linien/mm) |
I nach Z Monaten |
nach ö Monaten |
Druckbeständigkeit++ (Anzahl der Druckvorgän, |
| Nr. | nach ' Monat |
50 | 50 | |
| 1 | 50 | 45 | 40 | 20 000 |
| 2 | 45 | 50 | 50 | 30 000 |
| 3 | 50 | 45 | 45 | 35 000 |
| 4 | 45 | 50 | 50 | 20 000 |
| 5 | 50 | 70 | 70 | 30 000 |
| 6 | 70 | 30 000 |
Das Beständigkeitsverhalten in Tabelle· I wird unter
Verwendung der Auflösekraft in Linieneinheiten/mm des Drucksiebs,hergesteilt.. nach dem in den Beispielen beschriebenen
Verfahren,an dem PSPS gemessen, nachdem es in der Dunkelheit während der angegebenen Zeit gelagert wurde.
j ι
Als Druckbeständigkeit wird die Anzahl der wiederholten Druckvorgänge beschrieben, die mit jedem Drucksieb
durchgeführt werden konnten, bevor die Auflösekraft praktisch unannehmbar wurde.
Jede der photoempfindlichen Zusammensetzungen, hergestellt
gemäß den Beispielen 1 bis 6, wird in einheitlicher Dicke auf einen Polyesterfilm mit einer Walzenbeschichtungsvorrichtung
oder einem Rotationsapplikator aufgebracht und getrocknet. Anschließend wird der beschichtete Film in der Dunkelheit
gelagert. Jeder Film wird zu Siebgröße geschnitten
7098 15/0898
und auf das Sieb von außen eines Siebrahmens unter Druck
aufgelegt.
Wird eine photoempfindliche Lösung der gleichen Zusammensetzung,
wie in den Beispielen beschrieben,zuerst auf die Oberfläche, auf die das Sieb gelegt wird, in einheitlicher
Dicke aufgetragen und wird die photoempfindliche Schicht
auf den Polyesterfilm unter Druck auf die beschichtete Oberfläche in nassem Zustand aufgelegt, so haftet die photoempfindliche
Schicht vollständig an dem Sieb* Nach der Entfernung
des Polyesterfilms wird ein negativer Film auf die photoempfindliche Schicht aufgelegt und dann wird mit Licht belichtet.
Die photoempfindliche Schicht wird anschließend einer
Auswaschentwicklung unterworfen. Man erhält ein gutes Drucksieb.
Es wird festgestellt, daß die präsensibilisierten Drucksiebe und die Drucksiebe, die gemäß den Beispielen 7 bis
12 erhalten wurden, eine gute Haltbarkeit und Lagerbeständigkeit besitzen, die fast gleich ist denjenigen, die in
den Beispielen 1 bis 6 erhalten wurden.
Die photoempfindlichen Zusammensetzungen der Beispiele
7 bis 12 werden auf einen Polyesterfilm aufgetragen, und dieser wird in der Dunkelheit gelagert und anschließend
für die Herstellung eines PSPS verwendet.
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Leerseite
Claims (41)
- - ar-PatentansprüchePhotoempfindliche Zusammensetzung in Lösung für )rucksiebe, dadurch gekennzeichnet, daß sie enthält(a) ein flüssiges Medium aus der Gruppe mit Wasser mischbarer organischer Lösungsmittel und Lösungsmittelgemische aus diesen organischen Lösungsmitteln und. Wasser,(b) ein sowohl in den organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser lösliches Polymer und(c) einen in den organischen Lösungsmitteln löslichen Sensibilisator aus der Gruppe photoempfindlicher Monomerer und ihren Präpolymeren.
- 2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das flüssige Medium in einer Menge im Bereich von 150 bis 800 Gew.Teilen und der Sensibilisator in einer Menge im Bereich von 20 bis 400 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew,-Teile 'Polymer, vorhanden sind.
- 3. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das flüssige Medium in einer Menge im Bereich von 250 bis 650 Gew.Teilen und der Sensibilisator in einer Menge im Bereich von 50 bis 200 Gew.-Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, vorhanden sind.
- 4.' Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie als organisches Lösungsmittel Alkohole mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, Methylcellosolve, Äthylcellosolve, Butylcellosolve, Aceton, Methyläthylketon, Methylisobutylketon, Dioxan, Dimethylformamid und/oder Dimethylsulfoxid enthält.
- 5. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Polymer teilweise verseifte Produkte von Polyvinylacetat, Copolymere von Methyl-7 0 9 8 15/0898vinylather und Maleinsäureanhydrid, Polyäthylenoxid, Carboxymethylcellulose, Polyvinylpyrrolidon und/oder teilweise verseifte Produkte von Copolymeren aus Vinylacetat und Crotonsäure enthält.
- 6. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Monomer eine photoempfindliche, äthylenisch ungesättigte Gruppe wie eine Acryloyl-, Methacryloyl-, Allyl-, Vinyläther- und/oder Acrylamidgruppe enthält.
- 7. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Sensibilisator Pentaerythrit-triacrylat, Pentaerythrit-tetraacrylat, Pentaerythrit- trimethacrylat, Pentaerythrit-tetramethacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-diacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-dimethacrylat, 2,3-Dibrompropylacrylat, Triallylisocyanurat, Methoxyäthyl-vinyläther, tert.-Butylvinyläther, Ν,Ν'-Methylen-bis-acrylamid und/oder ihre Präpolymeren mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad nicht über 5 enthält.
- 8. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich einen in den organischen Lösungsmitteln löslichen Initiator, der bei der Einwirkung von Licht Radikale bildet, enthält.
- 9. Zusammensetzung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Initiator Benzoinalkyläther mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe, Michlers Keton, Di-tert.-butylperoxid, Dibenzothiazolyl-disulfid, Tribromacetophenon und/oder tert.-Butylanthrachinon enthält.
- 10. Zusammensetzung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Initiator in einer Menge von 1 bis709815/089820 Gew.Teilen, "bezogen auf 100 Gew.Teile Sensibilisator, vorhanden ist.
- 11. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiter ein Antioxydans in einer Menge von 0,01 Ms 5 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.-Teile Polymer, enthält.
- 12. Zusammensetzung nach Anspruch 11,-dadurch gekennzeichnet, daß sie als Antioxydans Hydrochinon, p-Methoxyphenon, Zinn(Il)-Chlorid, Zinkchlorid und/oder Wachs enthält.
- 13. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiter Schellack in einer Menge von 10 bis 100 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.-Teile Polymer, enthält.
- 14. Präsensibilisiertes Drucksieb, dadurch gekennzeichnet, daß es enthält(1) einen Siebstoff und(2) eine feste Lösungsschicht, aufgetragen auf den Siebstoff, wobei die Schicht enthält(a) ein Polymer, das sowohl in Wasser als auch in wasserlöslichen organischen Lösungsmitteln löslich ist, und(b) einen Sensibilisator, der in den wasserlöslichen organischen Lösungsmitteln löslich ist, aus der Gruppe photoempfindlicher Vinylmonomerer und ihren Präpolymeren.
- 15. Präsensibilisiertes Drucksieb nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Polymer ausgewählt wird aus der Gruppe teilweise verseifter Produkte von Polyvinylacetat, Copolymer en von Methylvinyläther und Maleinsäureanhydrid, Polyäthylenoxid, Carboxymethylcellulose, Polyvinylpyrrolidon und/oder teilweise verseifter Produkte von Copolymeren aus Vinylacetat und Crotonsäure.09815/0898- 2g -
- 16. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, daß das Monomer eine photoempfindliche, äthylenisch ungesättigte Gruppe wie Acryloyl-, Methacryloyl-, Allyl-, Vinyläther-.und/oder Acrylamidgruppen enthält.
- 17. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Sensibilisator ausgewählt wird aus der Gruppe Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrit-tetraacrylat, Pentaerythrit-trimethacrylat, Pentaerythrit-tetramethacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-diacrylat, 2,2-Dibrom-methyl-1,3-propandioldimethacrylat, 2,3-Dibrompropylacrylat, Triallylisocyanurat, Methoxy-äthylvinyläther, tert.-Butylvinyläther, N,N'-Methylenbis-acrylamid und/oder ihren Präpolymeren mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad nicht über 5.
- 18. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die feste Lösung den Sensibilisator in einer Menge von 20 bis 400 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.
- 19. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung weiterhin einen Initiator in einer Menge von 1 bis 20 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Sensibilisator, enthält, der in den organischen Lösungsmitteln löslich ist und bei der Einwirkung von Licht Radikale bildet.
- 20. Präsensibilisiertes Drucksieb nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß der Initiator ausgewählt wird aus der Gruppe Benzoinalkyläther mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe, Michlers Keton, Di-tert.-butyloxid, Dibenzo thiazolyl-disülf id, Tribromacetophenon und/oder tert.-Butylanthrachinon.709815/0898
- 21. Präsensibilisiertes Drucks!et> nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß die feste Lösungsschicht weiterhin ein Antioxydans in einer Menge von 0,01 bis 5 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.
- 22. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß das Antioxydans ausgewählt wird aus der Gruppe Hydrochinon, p-Methoxyphenon, Zinn(II)-chlorid, Zinkchlorid und Wachse.
- 23. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß die feste Lösungsschicht weiterhin Schellack in einer Menge von 10 bis 100 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.
- 24. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß eine Kunststoffilmschicht auf der festen Lösungsschicht aufgebracht ist.
- 25. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 24, dadurch gekennzeichnet, daß eine Filmschicht, die aus dem Polymer gebildet ist, auf der festen Lösungsschicht aufgebracht ist.
- 26. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß die feste Lösungsschicht 40 bis 500 Mikron dick ist.
- 27. Präsensibilisiertes Drucksieb nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Filmschicht aus dem Polymer 1 bis 10 Mikron dick ist.7098 15/08 9 8
- 28. Verfahren zur Herstellung eines präsensibilisierten Drucksiebs, dadurch gekennzeichnet, daß man(1) eine Oberfläche eines planaren Substrats mit einer photoempfindlichen Zusammensetzung beschichtet, wobei die Zusammensetzung die folgenden Komponenten enthält(a) ein flüssiges Medium aus der Gruppe mitWasser mischbarer organischer Lösungsmittel und Lösungsmittelgemischen aus den organischen Lösungsmitteln und Wasser,(b) ein Polymer, das sowohl in organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser löslich ist, und(c) einen Sensibilisator, der in organischen Lösungsmitteln löslich ist, aus der Gruppe photoempfindlicher Monomerer und ihren Präpolymeren,(2) eine Oberfläche eines Siebstoffs mit der photoempfindlichen Zusammensetzung beschichtet,(3) das beschichtete, planare Substrat und das beschichtete Siebtuch auf solche Weise zur Herstellung eines Laminats miteinander verbindet, daß die beschichteten Oberflächen der beiden Materialien einander gegenüberliegen, und(4) das planare Substrat aus dem Laminat entfernt, wobei das präsensibilisierte Drucksieb zurückbleibt.
- 29. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß die aufgetragene, photoempfindliche Schicht getrocknet wird, indem man das Produkt der Stufe (1) Trocknungsbedingungen aussetzt.
- 30. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß das Laminat zwischen den Stufen (3) und (4) getrocknet wird.
- 31. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 30, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung das flüssige Medium und den Sensibilisator in einer Menge von 150 bis 800 Gew.Teilen bzw. 20 bis 400 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.709815/0898Λ-
- 32. . Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 31, dadurch gekennzeichnet, daß als organisches Lösungsmittel Alkohole mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, Methylcellosolve, Äthylcellosolve, Butylcellosolve, Aceton, Methyläthylketon, Methylisobutylketon, Dioxan, Dimethylformamid und/oder Dimethylsulfoxid verwendet werden.
- 33. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 32, dadurch gekennzeichnet, daß als Polymer teilweise verseifte Produkte von Polyvinylacetat, Copolymere aus Methylvinyläther und Maleinsäureanhydrid, Polyäthylenoxid, Carboxymethylcellulose, Polyvinylpyrrolidon und/oder teilweise verseifte Produkte von Copolymeren aus Vinylacetat und Crotonsäure verwendet werden.
- 34. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 33, dadurch gekennzeichnet, daß das Monomer eine photoempfindliche, äthylenisch ungesättigte Gruppe, bevorzugt eine Acryloyl-, Methacryloyl-, Allyl-, Vinyl-äther und/oder Acrylamidgruppe, enthält.
- 35. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 34, dadurch gekennzeichnet, daß als Sensibilisator Pentaerythrit-triacrylat, Pentaerythrit-tetraacrylat, Pentaerythrit- trimethacrylat, Pentaerythrit-tetramethacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-diacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-dimethacrylat, 2,3-Dibrompropylacrylat, Triallylisocyanurat, Methoxyäthyl-vinyläther, tert.-Butylvinyläther, Ν,Ν'-Methylen-bis-acrylamid und/oder ihre Präpolymeren mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad nicht über verwendet werden.
- 36. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 35, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung weiterhin einen Initiator enthält, der in den organischen Lo-709815/0898sungsmitteln löslich ist und bei der Einwirkung von Licht Radikale bildet.
- 37. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 36, dadurch gekennzeichnet, daß als Initiator Benzoinalkyläther mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe, Michlers Keton, Di-tert.-butylperoxid, Dibenzothiazolyl-disulfid, Tribromacetophenon und/oder tert.-Butylanthrachinon verwendet werden.
- 38. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 36 oder 37» dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung den Initiator in einer Menge von 1 bis 20 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Sensibilisator, enthält.
- 39. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 38, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung ein Antioxydans in einer Menge von 0,01 bis 5 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.
- 40. Verfahren nach Anspruch 39, dadurch gekennzeichnet, daß als Antioxydans Hydrochinon, p-Methoxyphenon, Zinn(II)-chlorid, Zinkchlorid und/oder Wachse verwendet werden.
- 41. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 40, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung Schellack in einer Menge von 10 bis 100 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.709815/0898
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|---|---|---|---|
| JP50121045A JPS5917414B2 (ja) | 1975-10-07 | 1975-10-07 | スクリ−ン版用感光性組成物及び感光膜 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2645113A1 true DE2645113A1 (de) | 1977-04-14 |
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| DE2645113C3 DE2645113C3 (de) | 1995-01-26 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2645113A Expired - Lifetime DE2645113C3 (de) | 1975-10-07 | 1976-10-06 | Mit Wasser entwickelbares, lichtempfindliches Gemisch für Drucksiebe, mit Wasser entwickelbares Drucksieb und Verfahren zu seiner Herstellung |
Country Status (7)
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|---|---|
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| GB (2) | GB1571191A (de) |
| IT (1) | IT1069964B (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2515835A1 (fr) * | 1981-11-03 | 1983-05-06 | Sericol Group Ltd | Composition photopolymerisable pour la confection de pochoirs d'impression au cadre |
| FR2515834A1 (fr) * | 1981-11-03 | 1983-05-06 | Sericol Group Ltd | Composition photopolymerisable pour la confection de pochoirs d'impression au cadre |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55103554A (en) * | 1979-02-02 | 1980-08-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | Photosensitive resin composition for sand blast resist |
| JPS58127922A (ja) * | 1982-01-26 | 1983-07-30 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
| JPS59102228A (ja) * | 1982-12-06 | 1984-06-13 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂版材 |
| GB8405549D0 (en) * | 1984-03-02 | 1984-04-04 | Sericol Group Ltd | Screen printing compositions |
| US4789621A (en) * | 1985-03-05 | 1988-12-06 | Advance Process Supply Company | Screen emulsions comprised of diacetone acrylamide |
| JPS6279209U (de) * | 1985-11-05 | 1987-05-21 | ||
| JPH01122189A (ja) * | 1987-11-05 | 1989-05-15 | Kansai Paint Co Ltd | プリント配線板フォトレジスト用電着塗料組成物 |
| JP2681279B2 (ja) * | 1988-05-16 | 1997-11-26 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂版 |
| JPH0511104U (ja) * | 1992-07-10 | 1993-02-12 | 住友電気工業株式会社 | 光フアイバ融着接続用の光フアイバ固定治具 |
| JP4459091B2 (ja) * | 2004-05-07 | 2010-04-28 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE731642C (de) * | 1937-03-02 | 1943-02-12 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen fuer die Erzeugung von Reliefdrucken auf keramischen Unterlagen |
| GB834337A (en) * | 1956-08-27 | 1960-05-04 | Du Pont | Photopolymerisable compositions and elements containing the same |
| US3100150A (en) * | 1960-11-02 | 1963-08-06 | Owens Illinois Glass Co | Stencil screen coating comprising polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, and a light sensitizing agent |
| DE1194707B (de) * | 1957-04-26 | 1965-06-10 | Du Pont | Zur Herstellung photomechanischer Druckformen bestimmte photopolymerisierbare Platte |
| DE2038200A1 (de) * | 1969-08-01 | 1971-02-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliches Schablonen- oder Matrizendruckmaterial |
| US3630746A (en) * | 1968-01-22 | 1971-12-28 | Nippon Paint Co Ltd | Photopolymerizable resin compositions and water-washable photopolymer printing plates |
| US3801328A (en) * | 1970-03-27 | 1974-04-02 | Nippon Paint Co Ltd | Photopolymer printing plate and its production |
| GB1361298A (en) * | 1971-02-04 | 1974-07-24 | Dynachem Corp | Photopolymerizable compositions and their use |
| GB1388144A (en) * | 1971-05-13 | 1975-03-26 | Hoechst Ag | Light-sensitive transfer material |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL219906A (de) * | 1956-08-14 | |||
| US3070442A (en) * | 1958-07-18 | 1962-12-25 | Du Pont | Process for producing colored polymeric relief images and elements therefor |
| GB1054125A (de) * | 1963-04-22 | |||
| GB1054982A (de) * | 1963-04-22 | |||
| US3677755A (en) * | 1969-08-28 | 1972-07-18 | Asahi Chemical Ind | Relief lithographic plates and photosensitizing solutions |
| JPS4833904A (de) * | 1971-09-01 | 1973-05-15 | ||
| JPS548091B2 (de) * | 1971-12-10 | 1979-04-12 | ||
| US3961961A (en) * | 1972-11-20 | 1976-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Positive or negative developable photosensitive composition |
| JPS49103701A (de) * | 1973-02-06 | 1974-10-01 | ||
| JPS5027602A (de) * | 1973-07-13 | 1975-03-20 | ||
| JPS5077101A (de) * | 1973-11-09 | 1975-06-24 |
-
1975
- 1975-10-07 JP JP50121045A patent/JPS5917414B2/ja not_active Expired
-
1976
- 1976-10-04 US US05/729,610 patent/US4118233A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-10-06 DE DE2645113A patent/DE2645113C3/de not_active Expired - Lifetime
- 1976-10-06 IT IT51596/76A patent/IT1069964B/it active
- 1976-10-06 CH CH1263276A patent/CH618026A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1976-10-07 GB GB41807/76A patent/GB1571191A/en not_active Expired
- 1976-10-07 FR FR7630186A patent/FR2327572A1/fr active Granted
- 1976-10-07 GB GB19383/79A patent/GB1571192A/en not_active Expired
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE731642C (de) * | 1937-03-02 | 1943-02-12 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen fuer die Erzeugung von Reliefdrucken auf keramischen Unterlagen |
| GB834337A (en) * | 1956-08-27 | 1960-05-04 | Du Pont | Photopolymerisable compositions and elements containing the same |
| DE1194707B (de) * | 1957-04-26 | 1965-06-10 | Du Pont | Zur Herstellung photomechanischer Druckformen bestimmte photopolymerisierbare Platte |
| US3100150A (en) * | 1960-11-02 | 1963-08-06 | Owens Illinois Glass Co | Stencil screen coating comprising polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, and a light sensitizing agent |
| US3630746A (en) * | 1968-01-22 | 1971-12-28 | Nippon Paint Co Ltd | Photopolymerizable resin compositions and water-washable photopolymer printing plates |
| DE2038200A1 (de) * | 1969-08-01 | 1971-02-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliches Schablonen- oder Matrizendruckmaterial |
| US3801328A (en) * | 1970-03-27 | 1974-04-02 | Nippon Paint Co Ltd | Photopolymer printing plate and its production |
| GB1361298A (en) * | 1971-02-04 | 1974-07-24 | Dynachem Corp | Photopolymerizable compositions and their use |
| GB1388144A (en) * | 1971-05-13 | 1975-03-26 | Hoechst Ag | Light-sensitive transfer material |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2515835A1 (fr) * | 1981-11-03 | 1983-05-06 | Sericol Group Ltd | Composition photopolymerisable pour la confection de pochoirs d'impression au cadre |
| FR2515834A1 (fr) * | 1981-11-03 | 1983-05-06 | Sericol Group Ltd | Composition photopolymerisable pour la confection de pochoirs d'impression au cadre |
| DE3236068A1 (de) * | 1981-11-03 | 1983-05-11 | Sericol Group Ltd., London | Photopolymerisierbare masse und deren verwendung fuer die herstellung von schablonen fuer den siebdruck |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1571192A (en) | 1980-07-09 |
| FR2327572B1 (de) | 1978-12-22 |
| US4118233A (en) | 1978-10-03 |
| FR2327572A1 (fr) | 1977-05-06 |
| DE2645113C3 (de) | 1995-01-26 |
| GB1571191A (en) | 1980-07-09 |
| CH618026A5 (de) | 1980-06-30 |
| JPS5245402A (en) | 1977-04-09 |
| IT1069964B (it) | 1985-03-25 |
| DE2645113C2 (de) | 1984-10-25 |
| JPS5917414B2 (ja) | 1984-04-21 |
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