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DE2645113A1 - Photoempfindliche zusammensetzung fuer drucksiebe - Google Patents

Photoempfindliche zusammensetzung fuer drucksiebe

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Publication number
DE2645113A1
DE2645113A1 DE19762645113 DE2645113A DE2645113A1 DE 2645113 A1 DE2645113 A1 DE 2645113A1 DE 19762645113 DE19762645113 DE 19762645113 DE 2645113 A DE2645113 A DE 2645113A DE 2645113 A1 DE2645113 A1 DE 2645113A1
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DE
Germany
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parts
weight
polymer
photosensitive
composition
Prior art date
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Granted
Application number
DE19762645113
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English (en)
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DE2645113C3 (de
DE2645113C2 (de
Inventor
Takahiro Tsunoda
Tsuguo Yamaoka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murakami Screen KK
Original Assignee
Murakami Screen KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Murakami Screen KK filed Critical Murakami Screen KK
Publication of DE2645113A1 publication Critical patent/DE2645113A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2645113C2 publication Critical patent/DE2645113C2/de
Publication of DE2645113C3 publication Critical patent/DE2645113C3/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Description

PATENTANWÄLTE
3R. WALTER KRAUS DIPLOMCHEMIKER · DR.-1NS. ANNEKÄTE WEISERT DIPU-ING. FACHRICHTUNG CHEMIE IRMGARDSTRASSE 15 ■ D-8OOO MÜNCHEN 71 · TELEFON 089/797077-797078 · TELEX O5-212156 kpat d
TELEGRAMM KRAUSPATENT
1372 AW/MY
MURAKAMI SCREEN KABUSHIKI KAISHA, Tokyo / Japan
Photoempfindliche Zusammensetzung für Drucksiebe
Die Erfindung betrifft eine photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung für Drucksiebe, die enthält
(a) ein flüssiges Medium aus der Gruppe mit Wasser mischbarer organischer Lösungsmittel und Gemische dieser organischen Lösungsmittel und Wasser,
(b) ein sowohl in den organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser lösliches Polymer, und
(c) ein in den organischen Lösungsmitteln löslichen Sensibilisator aus der Gruppe photoempfindliche Monomere und ihre Präpolymere,
Diese Zusammensetzung ermöglicht die Herstellung präsensibilisierter Drucksiebe mit ausgezeichneter Haltbarkeit und Druckbeständigkeit. Sie ermöglicht ferner ein Verfahren, gemäß dem vorsensibilisierte Drucksiebe leicht hergestellt werden können.
Die vorliegende Erfindung betrifft photoempfindliche Harzzusamraensetzungen für Drucksiebe. Die Erfindung betrifft insbesondere neue photoempfindliche Harzzusammensetzungen in
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Lösung, die als Sensibilisator ein photoempfindliches Vinylmonomer oder Präpolymer enthalten, das in der Vergangenheit als Material für sog. direkte Verfahren für die Herstellung von Drucksieben nicht verwendet wurde, ein daraus hergestelltes, vorsensibilisiertes Drucksieb und ein Verfahren zu seiner Herstellung.
In der Vergangenheit verwendete photoempfindliche Filmmaterialien für Drucksiebe enthalten eine wäßrige Emulsionsmischung aus Polyvinylalkohol und Polyvinylacetat , zu der Ammoniumbichromat oder Diazoharze als Sensibilisatoren zugegeben werden. Diese photoempfindlichen Materialien sind für die Herstellung von Drucksieben gut geeignet. Sie besitzen jedoch den Nachteil, daß ihre Haltbarkeit oder Beständigkeit unzufriedend ist. Die Verwendung von photoempfindlichen,Bichromate als Sensibilisatoren enthaltenden Materialien ist wegen der durch das Chrom hervorgerufenen Umweltprobleme beschränkt. Gegenwärtig werden als Sensibilisatoren hauptsächlich Diazoharze verwendet.
Diazoharze rufen keine Umweltprobleme hervor, und ihre Beständigkeit ist, verglichen mit den Bichromaten, ausreichend. Werden sie auf ein Sieb aufgetragen und darauf unter Bildung eines photoempfindlichen Films getrocknet, so kann der Film an kalten und dunklen Stellen während etwa einer Woche gelagert werden. Bei normalen Temperatur- und Feuchtigkeitsbedingungen beim Lagern findet eine sog. Dunkelreaktion statt, die bewirkt, daß die nichtbelichteten Flächen des Films in Wasser unlöäich werden.Ein solcher Film wird nutzlos· Werden die zuvor beschriebenen photoempfindlichen Materialien verwendet, so müssen die Beschichtungs-, Belichtungs-, Auswaschentwicklungsverfahren so schnell wie möglich und kontinuierlich durchgeführt werden. Bei der Herstellung von Drucksieben tritt somit eine große Anzahl von Schwierigkeiten auf.
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. /14.
Wenn beispielsweise ein Siebdruckverfahren bei der
Herstellung von elektronischen Elementen an einem entfernten Ort erfolgt, so wird das Drucksieb im allgemeinen in situ hergestellt. Das Beschichten des photo empfindlichen Materials auf die Siebe wird jedoch bevorzugt und geeigneterweise von dem Lieferanten des photoempfindlichen Materials für die Drucksiebe durchgeführt. In diesem Falle müssen die Filme, die einen aufgetragenen photo empfindlichen Film enthalten (präsensibilisierte Drucksiebe), zu der Fabrik für elektronische Elemente an einem entfernten Ort transportiert werden. Es besteht somit ein Bedarf für photoempfindliche Filme für Drucksiebe, die sicher bei normalen Temperaturen und Feuchtigkeiten während langer Zeiten gelagert werden können.
Die vorliegende Erfindung betrifft einsphotoempfindliche Zusammensetzung, die bei einem direkten. Verfahren für die Herstellung von Drucksieben verwendet werden kann. Wird die photoempfindliche Zusammensetzung als photoempfindliche Flüssigkeit gelagert, so ist es nicht erforderlich, einen Sensibilisator und eine wäßrige Polymerlösung zu schaffen und beide getrennt zu lagern, wie dies bei den flüssigen photoempfindlichen Zusammensetzungen für Drucksiebe erforderlich ist, bei denen Bichromate oder Diazoharze als Sensibilisatoren verwendet werden. Die neue flüssige photoempfindliche Zusammensetzung kann als Gemisch aus einer äthylenisch ungesättigten Verbindung als Sensibilisator und einem Polymer gelagert werden und. ist für die praktische Anwendung gut geeignet.
Wird diese photoempfindliche Zusammensetzung zu einem photo empfindlichen Film verarbeitet, so kann der Film während langer Zeiten, ohne daß er sich verschlechtert, stabil gelagert werden. Verwendet man diese photoempfindliche Zusammensetzung, so kann man ein präsensibilisiertes (Druck)Sieb herstellen (aufgrund des angelsächsischen Ausdrucks "presensitized (printing). screen" wird es im folgenden als PSPS
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oder PSS abgekürzt). In der Vergangenheit hat man angenommen, daß es unmöglich sein würde, nach einem direkten Verfahren präsensibilisierte (Druck)Siebe herzustellen. Die Herstellung von PSPS und das Drucken können außerdem auf leichte Art und Weise erfolgen, selbst wenn der Verbraucher von PSPS von dem Lieferer von PSPS weit entfernt ist.
Gegenstand der Erfindung ist eine photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung für Drucksiebe, die enthält
(a) ein flüssiges Medium aus der Gruppe organischer, mit Wasser mischbarer Lösungsmittel und Lösungsmittelgemische aus diesen organischen Lösungsmitteln und Wasser,
(b) ein Polymer, das sowohl in den organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser löslich ist, und
(c) einen Sensibilisator, der in den organischen Lösungsmitteln löslich ist,' aus der Gruppe photoempfindliche Monomere und ihren Präpolymeren.
Gegenstand der Erfindung ist weiterhin ein präsensibilisiertes (Druck)Sieb, das erhalten wird, indem man die photoempfindliche Zusammensetzung auf einen Siebstoff aufträgt und sie trocknet. Dieses PSPS besitzt eine ausgezeichnete Lagerfähigkeit und Druckbeständigkeit.
Gegenstand der Erfindung ist somit ein präsensibilisiertes (Druck)Sieb, das enthält
(1) einen Siebstoff und
(2) eine feste Lösurigsschicht, die auf den Siebstoff aufgetragen ist, wobei die Schicht enthält
(a) ein Polymer, das sowohl in Wasser als auch in wasserlöslichen organischen Lösungsmitteln löslich ist, und
(b) einen Sensibilisator, der in den wasserlöslichen organischen Lösungsmitteln löslich ist, aus der Gruppe photoempfindlicher Monomerer und ihren Präpolymeren.
In dieser Anmeldung soll der Ausdruck "Siebstoff" irgendein für die Herstellung von Drucksieben geeignetes Material bedeuten.
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•V-
Gegenstand der Erfindung ist weiterhin ein sog. semidirektes Verfahren für die Herstellung eines präsensibilisierten (Druck)Siebs aus der oben beschriebenen Zusammensetzung. Erfindungsgemäß wird so ein Verfahren zur Herstellung von PSPS geschaffen, das die folgenden Stufen umfaßt
(1) Beschichten einer Oberfläche eines planaren Substrats mit einer photoempfihdlichen Zusammensetzung, wobei die Zusammensetzung enthält ,
(a) ein flüssiges Medium aus dsr Gruppe mit
Wasser mischbarer organischer Lösungsmittel und Lösungsmittelmischungen aus den organischen Lösungsmitteln und Wasser,
(b) ein Polymer, das sowohl in den organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser löslich ist, und
(c) einen Sensibilisator, der in den organischen Lösungsmitteln löslich ist, aus der Gruppe photoempfindlicher Monomerer und ihren Präpolymeren,
(2) Beschichten einer Oberfläche eines Siebstoffs mit der photoempfindlichen Zusammensetzung,
(3) Verbinden des beschichteten, planaren Substrats und des beschichteten Siebtuchs unter Druck auf solche Weise, daß die beschichteten Oberflächen der beiden Materialien einander gegenüberliegen, unter Herstellung eines Laminats, und
(4) Entfernung des planaren Substrats von dem Laminat.
Anhand der beigefügten Zeichnungen werden bevorzugte erfindungsgemäße Ausführungenformen näher erläutert; es zeigen
Fig. 1 bis 4 eine Reihe von Verfahrenestufen (bei einem semi-direkten Verfahren) für die Herstellung von PSPS unter Verwendung der erfindungsgemäßen photoempfindlichen Zusammensetzung in schematischer Darstellung.
Die erfindungsgemäße photoempfindliche Zusammensetzung enthält grundsätzlich drei Komponenten, nämlich ein flüssiges Medium, ein Polymer und einen Sensibilisator. Sie zeichnet
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sich dadurch aus, daß sie als einheitliches Gemisch in Lösung vorliegt.
Der Ausdruck "flüssiges Medium", wie er in der vorliegenden Anmeldung verwendet wird, bedeutet ein mit Wasser mischbares organisches Lösungsmittel per se oder ein Gemisch aus organischem Lösungsmittel und Wasser. Es ist bevorzugt, daß der Gehalt an organischem Lösungsmittel, in dem flüssigen Medium 30 Gew.?£ oder mehr beträgt, bevorzugt 40 bis 75 Gew.%. Beispiele von mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden, sind Alkohole mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, Methylcello solve, Äthylcellosolve, Butylcellosolve, Aceton, Methyläthylketon, Methylisobutylketon, Dioxan, Dimethylformamid und Dirnethylsulfoxid.
Polymere, die bei der vorliegenden Erfindung verwendbar sind, sind solche Polymeren, die sowohl in den oben erwähnten organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser löslich sind. Beispiele solcher Polymere sind die teilweise verseiften Produkte von Polyvinylacetat, Copolymere von Vinylacetat und ungesättigte Säuren (mit 3 bis 4 Kohlenstoffatomen) wie Crotonsäure und ihre teilweise verseiften Produkte, Polyäthylenoxid, Carboxymethylcellulose und Vinylpyrrolidon. Von diesen Verbindungen sind die teilweise verseiften Produkte von Polyvinylacetat, die Copolymeren von Vinylacetat und die ungesättigten Säuren und ihre teilweise verseiften Produkte besonders bevorzugt.
Damit die oben erwähnten Polymeren sowohl in Wasser als auch in organischen Lösungsmitteln löslich sind, sind die Polymeren hinsichtlich des Verseifungsgrades, des Polymerisationsgrades oder ihres Copolymerisationsverhältnisses begrenzt. Der Fachmann kann jedoch den Verseifungsgrad und den Polymerisationsgrad des Polymeren und das Copolymerisationsverhältnis leicht kontrollieren, so daß die Polymeren
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sowohl in Wasser als auch in den oben erwähnten organischen Lösungsmitteln löslich sind. Beispielsweise erfüllt Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 85 bis 4C$ die oben erwähnten Erfordernisse. Ein geeignetes Beispiel ist ein Polyvinylalkohol mit dem Warenzeichen Gosenol KH-17 (mit einem Verseifungsgrad von 78,5 bis 81,5%, hergestellt von Nippon Gosei Kagaku Kogyo K.K., Japan). Ein anderes geeignetes Polymer ist ein hO% hydrolysiertes Produkt eines Copolymeren aus 97 Mo 1-% Vinylacetat und 3 Mol-% Crotonsäure, das unter dem Warenzeichen Corponeel PK 40, hergestellt von Nippon Gosei Kagaku Kogyo K.K., bekannt ist.
Es ist bevorzugt,daß die oben beschriebenen Polymeren in der Zusammensetzung in solchen Verhältnissen verwendet werden, daß das oben erwähnte flüssige Medium 150 bis 800 Gew.Teile, bevorzugt 250 bis 650 Gewo?6, bezogen auf 100 Gew.Teile des Polymeren, beträgt.
Der Sensibilisator, der zu dem Polymeren gegeben wird, ist ein Monomer mit einer photoempfindlichen, . äthylenisch ungesättigten Gruppe, wie einer Acryloyl-5 Methacryloyl-, Allyl-, Vinyläther- und Acrylamidgruppe, oder ihren Präpolymeren mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad nicht über 5· Polyfunktionelle Sensibilisatoren, die zwei oder mehr dieser photoempfindlichen Gruppen enthalten, sind besonders bevorzugt. Beispiele solcher Sensibilisatoren sind Pentaerythrit-triacrylat, Pentaerythrit-tetraacrylat, Pentaerythrittrimethacrylat. Pentaerythrit-tetramethacrylat, 2,2-Dibrom- . methyl-1,3-propandiol-diacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-dimethacrylat, 2,3-Dibrompropylacrylat, Triallyliso-. cyanurat, Methoxyäthylvinyläther, t-Butylvinyläther und N,N'-Methylen-bis-acrylamid und ihre Präpolymeren. Von diesen Sensibilisatoren sind Pentaerythrit-triacrylat und -tetraacrylat besonders nützlich. Es ist bevorzugt, daß diese Sensibilisatoren in einer Menge von 20 bis 400 Gew.Teilen, insbesondere 50 bis 200 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, verwendet werden.
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Die oben erwähnte Beschränkung für das Verhältnis der oben erwähnten drei Komponenten wird bevorzugt verwendet, damit die erfindungsgemäße Zusammensetzung in einheitlichem Iiösungszustand vorliegt.
Bei der Bestrahlung mit ultravioletten Strahlen dissoziieren die Sensibilisatoren in Radikale, die selbst polymerisieren und vernetzen. Dadurch findet eine Photopolymerisation des Polymeren statt. Die Zugabe von Reaktionsinitiatoren, wie im folgenden beschrieben, aktiviert die Dissoziation der Sensibilisatoren in Radikale, und dabei wird der Sensibilisierungsgrad der Zusammensetzung erhöht. Reaktionsinitiatoren, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind solche Materialien, die bei der Einwirkung von Bestrahlung leicht Radikale bilden. Beispiele solcher Initiatoren sind Benzoinalkyläther, Michlers Keton, Di-tert.-butylperoxid, Dibenzothiazolyl-disulfid, Tribromacetophenon und Anthrachinonderivate wie tert.-Butylanthrachinon. Von diesen Verbindungen sind die Benzoinalkyläther mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe wie Benzoinmethyläther besonders bevorzugt. Es ist bevorzugt, daß der Initiator in einer Menge von 1 bis 20 Gew.Teilen bevorzugt 3 bis 15 Gew. Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Sensibilisator, verwendet wird.
Wird ein Acrylat als Sensibilisator verwendet, so wird die entstehende Zusammensetzung, wenn sie zu einem photoempfindlichen Film verarbeitet wird, durch den Sauerstoff in der Luft beeinflußt, wie dies bei allen anderen photoempfindlichen Harzzusammensetzungen der Acrylat-Art üblich ist. Es ist daher bevorzugt, in die photoempfindliche Zusammensetzung ein Antioxydans, z.B. Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Zinn(II)-chlorid oder Zinkchlorid,als Stabilisator oder ein Wachs einzuarbeiten. Die Zugabemenge dieser Zusatzstoffe liegt im allgemeinen nicht über 3 Gew.%, bezogen auf die gesamte Zusammensetzung.
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Die Verwendung von photoempfindlichen Harzen, die Polyvinylalkohole und dazu zugegeben einen Acrylat-Sensibilisator enthalten, als photoempfindliches Material für Reliefdruck, ist bekannt (vergl. z.B. JA-PSen 42450/71, 26848/71 und 8041/75 sowie US-PS 3 801 328). Photoempfindliche Harze, die Celluloseacetat-hydrosuccinat oder ein allcalilösliches Polyvinylalkohol-Derivat, vermischt mit einem Acrylat, enthalten, sind ebenfalls bekannt (vergl. z.B. JA-PSen 342/60, 8495/60, 4112/61, 16078/61, 14657/62, 15810/63, 1112/64 und 2204/65 der E.I.DuPont de Nemours & Co., Inc.).
Der Unterschied zwischen der vorliegenden Erfindung und dem bekannten Stand der Technik wird im folgenden näher erläutert. Entsprechend den JA-PSen 42450/71, 26848/71 und 8041/75 sowie der US-PS 3 801 328 der Nippon Paint K.K. wird nach der Entwicklung und dem Härten der photoempfindlichen Harzschicht die Auswaschentwicklung der nichtbelichteten Flächen unter Verwendung von Wasser durchgeführt. Dementsprechend müssen der Polyvinylalkohol und das Acrylat. in Wasser löslich sein. Zur Herstellung eines Gemisches aus wasserunlöslichem Initiator mit diesen Materialien wird der Initiator zuerst mit irgendeinem geeigneten organischen Lösungsmittel gelöst, und die Lösung wird dann mit der Harzlösung in Anwesenheit eines Dispersionsmittels unter Bildung einer Emulsion vermischt.
In den Patentschriften der E.I.DuPont de Nemours & Co., Ine*, wo eine wäßrige Alkalilösung bei der Auswaschentwicklung verwendet wird, wird das Celluloseacetat-hydrosuccinat oder der alkalilösliche Polyvinylalkohol mit den Acrylaten und Initiatoren unter Verwendung von zwei erhitzten Kautschukwalzen verknetet und mechanisch vermischt. Da die photoempfindliche Zusammensetzung, die nach diesem Vermischungsverfahren hergestellt wird, keine einheitliche Phase aus Harzkomponente, Sensibilisator und Initiator enthält, kann man ein Reliefbild ohne Schwierigkeiten bei einer photoempfindlichen Schicht, die
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an einer Metallplatte haftet, wie eine photoempfindliche Schicht für Reliefdruck, herstellen. Wenn diese photoempfindliche Zusammensetzung für Seidensiebe verwendet wird, ist die Haftung zwischen den Siebmaschen und dem photoempfindlichen Harz, bedingt durch Photohärtung, nicht ausreichend, so daß es unmöglich ist, ein Sieb mit guter Druckbeständigkeit (Abnutzungsbeständigkeit bei wiederholten Druckvorgängen) herzustellen, das beim "Drucken oder Textilbedrucken verwendet werden kann·
Bei der vorliegenden Erfindung, bei der ein Polymer verwendet wird, das sowohl in organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser löslich ist, und bei der die entstehende Lösung zu. dem Sensibilisator und Reaktionsinitiator zugegeben wird, haftet die photoempfindliche Zusammensetzung für das PSPS, wobei eine Auswaschentwicklung mit Wasser möglich ist, fest an dem Seidensieb. Diese kann während langer Zeiten als photoempfindliches Material für Seidensiebdruck gelagert werden. Auf diese Weise kann eine photoempfindliche Lösung aus organischem Lösungsmittel, worin die drei Komponenten vollständig gelöst sind und miteinander vermischt sind,
erhalten werden. Unter Verwendung dieser photoempfindlichen Lösung ist es möglich, eine photoempfindliche Schicht in fester Lösungsform herzustellen, die für das Seidensiebdrucken bzw. für Seidendrucksiebe gut geeignet ,ist.
Es wurde weiterhin gefunden, daß, wenn Schellack als solches oder z.B. Schellack in Form einer Emulsion, wie Shellac SA Nr.25 und Lacqcoat 50 (Warenzeichen), hergestellt von Nippon Shellac Kogyo K.K., Japan, zu der photoempfindlichen Zusammensetzung für das Seidendrucksieb gegeben wird, die Druckbeständigkeit des Drucksiebes wesentlich verbessert wird. Es ist bevorzugt, daß die Zugabe von Schellack erfolgt, wenn ein Alkohol als organisches Lösungsmittel verwendet wird· Der Schellack wird in einer Menge bis zu 500 Gew.Teilen, be-
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vorzugt 10 bis 100 Gew.Teile, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, verwendet.
Beim Drucken eines Musters aus einer integrierenden Schaltung als einen dicken Film ist eine Auflösekraft mit einer Linienbreite von etwa 50 Mikron bei dem Seidensiebdruckverfahren erforderlich. Das Filament, das die Maschen des Drucksiebs ergibt (das Filament kann aus feiner Seide, Polyester oder Stahl hergestellt sein), kann das einfallende" Licht während der Belichtung zerstreuen und* eine Lichthofbildung hervorrufen. Dadurch wird die Auflösekraft des ausgedruckten Musters vermindert. Es wurde gefunden, daß durch Zugabe eines geeigneten Antilichthof-Farbstoffs zu der erfindungsgemäßen Zusammensetzung die oben erwähnte Erscheinung verhindert wird und daß eine bemerkenswerte Steigerung in der Auflösekraft erreicht wird. Als Antilichthof-Farbstoffe können bei der vorliegenden Erfindung solche Farbstoffe verwendet werden, die in den oben erwähnten organischen Lösungsmitteln und ihren Gemischen mit Wasser leicht löslich sind. Die Verhinderung der Lichthofbildung ergibt keine wesentliche Verminderung in der Empfindlichkeit der Zusammensetzung, und man beobachtet keine Polymerisationsinhibitorwirkung. Beispiele solcher Farbstoffe sind CI Acid Yellow 25 (CI Nr. 18835), CI Acid Yellow 38 (CI Nr. 25135), CI Acid Orange 56 (CI. Nr. 22895), CI Acid Orange 74 (CI Nr. 18745), CI Acid Brown 13 (CI Nr. 10410) u.a. Die Menge an Antilichthof-Farbstoff, die zugegeben wird, liegt in der Größenordnung von 0,1 bis 5 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer.
Die erfindungsgemäße photoempfindliche Zusammensetzung kann ebenfalls bei dem sog. indirekten Verfahren verwendet werden, bei dem die Zusammensetzung auf einen geeigneten Substratfilm aufgebracht und getrocknet wird und der Überzug aus der Zusammensetzung auf dem Substrat mit Licht durch ein • Positiv belichtet wird und unter Bildung eines Bildes auf dem Substrat entwickelt wird. Anschließend wird das Bild übertra-
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gen iind auf einen Siebstoff unter Bildung eines Drucksiebs aufgebracht.Wenn die photoempfindliche Zusammensetzung auf einen geeigneten Siebstoff übertragen wird und unter Bildung yon PSPS getrocknet wird, so erhält man eine ausgezeichnete Beständigkeit bzw. Lagerfähigkeit. Das erfindungsgemäße PSPS enthält eine photoempfindliche Schicht auf einem Siebtuch, die erhalten wird, indem man die photoempfindliche Zusammensetzung darauf aufbringt und sie trocknet. Die photoempfindliche Schicht enthält eine feste Lösung aus den Komponenten der Zusammensetzung, aus der das flüssige Medium im wesentlichen entfernt wurde.
Der Siebstoff kann irgendeiner der bekannten Siebstoffe sein und kann aus Seide, Polyester oder Stahl bestehen. Die Dicke der photoempfindlichen Schicht kann innerhalb eines weiten Bereichs variieren, und sie kann z.B. zwischen 40 und 500 Mikron liegen. Die Dicke der photoempfindlichen Schicht entspricht der Farbdicke, wenn das Sieb als Drucksieb verwendet wird, und sie besitzt die Eigenschaft von Drucksieben bzw. Siebdrucken, d.h. die Dicke der photoempfindlichen Schicht, d.h. die Farbdicke, kann beliebig eingestellt werden. Bei der Anwendung bei dem sog. üblichen direkten Verfahren, bei dem die Dicke der photoempfindlichen Schicht progressiv durch wiederholte Anwendung und Trocknung zur Herstellung einer einheitlichen. .Dicke der photoempfindlichen Schicht erhöht wird, sind mehr als zehn Anwendungs-Trocknungs-Zyklen für die Herstellung einer photoempfindlichen Schicht mit einer Dicke von so viel wie 100 Mikron erforderlich. Dieses Verfahren ist daher ungeeignet und unwirtschaftlich.
Im Gegensatz dazu ermöglicht das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von PSPS die Herstellung einer photoempfindlichen Schicht mit einer Dicke in der Größenordnung von 100 Mikron, wobei die Anwendungs-Trocknungs-Zyklen nur eine wenige Male wiederholt werden müssen. Dieses Verfahren wird anhand der beigefügten Fig. 1 bis 4 erläutert.
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Die erfindungsgemäße photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung wird zuerst auf ein planares Substat 1, wie einen Polycarbonatfilm, einen Polyäthylenfilm oder einen Polyvinylchloridfilm, in einheitlicher Dicke von etwa 80 Mikron, wie in Fig. 1 dargestellt, aufgetragen. Der entstehende photoempfindliche Harzfilm 2 wird mit einem nichtgetrockneten Siebtuch 4,mit einem photoempfindlichen Harz 3 der gleichen Art darauf aufgetragen, wie in Fig. 2 dargestellt, verbunden. Das Verbinden erfolgt unter Druck unter Verwendung eines Quetschers 5, wie in Fig. 3 dargestellt.
Anschließend, wenn das Substrat 1 von dem Gefüge entfernt wird, wird ein PSPS erhalten, das die gleichen wertvollen Eigenschaften besitzt wie eines, das man erhält, wenn die photoempfindliche Lösung auf die Oberfläche des Siebtuchs 4 aufgetragen wird. Gegebenenfalls kann nach der Anwendung der photoempfindlichen Harzzusammensetzung auf das Substrat oder dem Verbinden unter Druck unter Verwendung des Quetschers, wie in Fig. 3 dargestellt,'der Verbundstoff zur Erleichterung der Abtrennung des Substrats 1 getrocknet werden. Ein solches Trocknen ist bevorzugt. Das Trocknen wird bevorzugt bei einer Temperatur nicht über '600C, bevorzugt in der Größenordnung von 30 bis 500C, durchgeführt. Die Zusammensetzung kann nach irgendwelchen bekannten Verfahren, wie durch Aufbürsten, Eintauchen und Sprühen, aufgetragen ..werden; gegebenenfalls können zur Einstellung der Dicke ein oder mehrere weitere Überzüge zusätzlich auf den ersten Überzug aufgetragen werden. Während der Anwendungsstufe ist es nicht erforderlich, die Dicke zu beachten.
Aus dem oben beschriebenen Verfahren geht hervor, daß bei der Herstellung von Drucksieben die photoempfindliche Schicht sogar nach einem sog. semi-direkten Verfahren aufgetragen werden kann. Bei dem bekannten semi-direkten Verfahren wird ein Film auf das Drucksieb übertragen,;.-wobei auf dem film
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eine nicht-photoempfindliche Emulsionsmischung aus Polyvinylalkohol und Polyvinylacetat aufgetragen ist. Die Photosensibilisierung erfolgt, indem man eine wäßrige Polyvinylalkohollösung zuvor mit einer wäßrigen Bichromat- oder Diazoharzlösung sensibilisiert und auf die Oberfläche des Siebs aufträgt und eine nicht-sensibilisierte Polymerschicht in Form eines Films auf die nichtgetrocknete Oberfläche des Siebs überträgt. Der in der photoempfindlichen Schicht, die auf das Sieb aufgetragen wurde, enthaltene Sensibilisator diffundiert und penetriert in die übertragene, nicht-sensibilisierte Polymerschicht, wodurch eine Sensibilisierung des Polymeren erfolgt.
Bei dem bekannten semi-direkten Verfahren kann eine zufriedenstellende Diffusion und Penetration der Dichromate oder Diazoverbindungen in die Polymerschicht nicht leicht erreicht werden. Aus diesem Grund ist die Dicke des Polymeren, das übertragen werden soll, auf etwa 70 Mikron bei Dichromaten und etwa 30 Mikron bei Diazosensibilisatoren beschränkt.
Zur Herstellung eines Drucksiebs mit dickerer Harzschicht nach dem semi-direkten Verfahren ist es erforderlich, die Polymerschicht auf dem Substrat vorher zu sensibilisieren. Durch die schlechte Beständigkeit der Bichromate oder der Diazoharze als Sensibilisator kann ein diese Sensibilisatoren enthaltender, auf ein Substrat aufgetragener Harzfilm nicht während langer Zeit gelagert werden.
Wird dagegen die erfindungsgemäße photoempfindliche Zusammensetzung als Übertragungsschicht verwendet, so ist es möglich, eine übertragene, photoempfindliche Schicht unter Verwendung des semi-direkten Verfahrens herzustellen, unabhängig von der Dicke der Schicht. Die photoempfindliche Schicht kann außerdem vor dem Übertragen lange Zeit gelagert werden. Da ein Vinylmonomer oder ein Vinylpräpolymer, das eine photo-
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empfindliche VInylgruppe enthält, als Sensibilisator In dem erfindungsgemäßen photoempfindlichen Drucksieb verwendet wird, so wird dies durch Umgebungstemperatur und Feuchtigkeit nicht beeinflußt, und verschlechtert sich während mehrerer Monate nicht, wenn es In der Dunkelheit gelagert wird· Die erfindungsgemäßen photoempfindlichen Drucksiebe können daher wirksam als PSPS verwendet werden.
Das so hergestellte PSPS wird den-gleichen Drucksiebherstellungsverfahren unterworfen, wie es bei dem bekannten Verfahren üblich ist« Ein Positiv wird auf den photo empfindlichen Film gelegt und mit einer Quecksilber-Bogenlampe oder auf ähnliche Art belichtet. Wenn z.B. das Laminat mit einer Lichtquelle von einer 3 kW-Quecksilber-Bogenlampe in einer Entfernung'von 1 m während 2 Minuten belichtet wird, härten die belichteten Harze des Laminats und Werden wasserunlöslich. Die Entwicklung erfolgt mit Wasser von einer Temperatur von 5 bis 40°C, und gegebenenfalls wird sie durch Aufsprühen von Wasser zur vollständigen Entfernung von irgendwelchem restlichen Harz von den nichtbelichteten Flächen vervollständigt. Nach· dem Trocknen des entwickelten Laminats wird ein Drucksieb erhalten. Das Drucksieb kann bei den gleichen Anwendungen verwendet werden, wo die bekannten Drucksiebe eingesetzt werden.
Wird, wie zuvor angegeben, ein Acrylat als Sensibilisator verwendet, nimmt die Empfindlichkeit des photoempfindlichen Films unweigerlich während der Belichtung, bedingt durch den Einfluß von Sauerstoff, ab. Wenn daher das erfindungsgemäße PSPS nicht sofort für die Herstellung von Drucksieben verwendet wird, wird das PSPS bevorzugt in einem· Strom aus Inertgas, wie Kohlendioxid oder Stickstoff, während etwa 2 bis 3 Stunden vor dem Drucken des Bildes zur Entfernung von Sauerstoff aus dem photo empfindlichen Film konditioniert. Um zu verhindern, daß Sauerstoff den photoempfindlichen Film
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beeinflußt, kann man ebenfalls beide Oberflächen des photoempfindlichen Films mit einem dünnen Kunststoffilm abdecken, oder man kann einen Film aus einem wasserlöslichen Polymer, wie Polyvinylpyrrolidon und Polyvinylalkohol, auf der Oberfläche des photoempfindlichen Films herstellen. Zu diesem Zweck reicht ein Schutzfilm mit einer Dicke von 1 bis 10 Mikron aus.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. Alle Mengen, die in Teilen angegeben werden, sind Gewichtsteile·
Bei spiel 1
Corponeel PK-40 (hergestellt von Nippon Gosei Kagaku Kogyo K.K.) [eine 40%ige Lösung eines Copolymeren aus hO% verseiftem Polyvinylacetat und Crotonsäure (97:3) in einem Methanol-Wasser-Lösungsmittel] 30 Teile (als Harz) ·
Pentaerythrit-triacrylat 40 Teile
Benzoinmethylather 4 Teile
Methanol 40 Teile
Wasser 30 Teile
Die oben angegebenen, photoempfindlichen Bestandteile werden bei Zimmertemperatur gerührt und vollständig aufgelöst und dann miteinander vermischt. Die entstehende Lösung wird mit einem Becher auf Polyestersiebe (ca. 0,068 mm = 225 mesh, Spannung 8 kg/cm), die über einen Metall- oder Holzrahmen gespannt sind, angewendet. Diese Anwendung umfaßt zwei oder drei übereinanderliegende Überzüge nach bekanntem Verfahren. Anschließend wird der Überzug mit warmer Luft bei 30 bis 40°C getrocknet; dabei wird ein 90 Mikron dicker, photoempfindlicher Film gebildet. Wird das entstehende, photoempfindliche Sieb mehrere Monate in der Dunkelheit gelagerts so zersetzt er sich nicht und kann somit als PSPS verwendet werden.
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Ein positiver Film wird auf den photo empfindlichen Film unter Verwendung eines Vakuumdruckrahmens gelegt und mit einer Superhochdruck-Quecksilberbogenlampe von 8 kW in .einer Entfernung von 1 m während 2 min belichtet· Die Auswaschentwicklung des so erhaltenen Widerstandsbildes bzw. Deckbilds erfolgt auf folgende Weise. Das belichtete Sieb wird zuerst in Wasser bei 25°C während 3 min für die Auflösung des Hauptanteils der nichtbelichteten Flächen des photoempfindlichen Films eingetaucht. Dann wird Wasser von 200C auf die Oberfläche des photo empfindlichen Films mit einem Druck von 6 kg/cm und einer Entfernung von 30 cm mit einer Sprühkanone zur vollständigen Entfernung von restlichen, nichtbelichteten Flächen aufgesprüht. Das Sieb wird dann mit Warmluft 30 min bei 450C unter Herstellung eines Drucksiebs getrocknet.
Beispiel 2
Corponeel PK-40 (hergestellt von Nippon Gosei Kagaku Kogyo K.K.) [eine 40%ige Lösung eines Copolymeren aus 40% verseiftem Polyvinylacetat und Crotonsäure (97:3) in einem Methanol-Wasser-Lösungsmittel] 80 Teile (als Harz)
Pentaerythrit-triacrylat 40 Teile
Schellack (SA Nr.25, hergestellt von
Nippon Shellac . K.K.) 20 Teile
Benzoinmethyläther 4 Teile
Methanol 50 Teile
Wasser 80 Teile
Die oben aufgeführten Bestandteile werden unter Herstellung einer photoempfindlichen Zusammensetzung in Lösung verarbeitet. Gemäß dem gleichen Verfahren, wie in Beispiel 1 beschrieben, wird die entstehende Lösung auf ein Seidensieb unter Herstellung eines Seidendrucksiebs aufgetragen.
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Beispiel 5
Gosenol KH-17 (hergestellt von Nippon Gosei Kagaku Kogyo K.K.) (Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 78,5 bis 81,4# und einem Polymerisationsgrad von 1700)
10 Teile
Pentaerythrit-tetraacrylat 10 Teile
Natriumlaurylsulfat 0,2 Teile
Benzoinmethyläther 1 Teil
Methylcellosolve 45 Teile
Wasser 20 Teile
Eine photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung wird aus den obigen Bestandteilen hergestellt und auf ein Seidensieb gemäß dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren unter Herstellung eines Seidendrucksiebs aufgetragen.
Beispiel 4
Polyäthylenoxid mit einem Molekulargewicht von 30 (im Handel unter dem Warenzeichen PSO No.3 von der Seitetsu Kagaku Kogyo K.K. erhältlich) 15 Teile
Pentaerythrit-trimethacrylat 14 Teile
Michlers Keton 1,4 Teile
Zinn(ll)-Chlorid (oder Zinkchlorid oder
Wachs) 0,15 Teile
Natriumlaurylsulfat 0,3 Teile
Methylcellosolve . 4,5 Teile
Wasser . 22 Teile
Eine photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung wird aus den obigen Bestandteilen hergestellt und auf ein Seidensieb gemäß dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren unter Herstellung eines Seidendrucksiebs aufgetragen.
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Bei s ρ i e 1 5
Gosenol KP-08 (hergestellt von Nippon Gosei Kagaku Kogyo K.K.) (Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 71,5% und einem Polymerisationsgrad von 800) 12 Teile Dibromneopentyl-glykol-diacrylat 5 Teile
N-Methylolacrylamid (oder Diacetonacrylamid) 5 Teile Benzoinisopropyläther 1S2 Teile
Natriumlaurylsulfat , 0,2 Teile
Methylcellosolve 25 Teile
Wasser - ."-"■■■ 18 Teile
Eine photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung wird aus den obigen Bestandteilen hergestellt und auf ein Seidensieb gemäß dem in Beispiel Λ beschriebenen Verfahren unter Herstellung eines Seidendrucksiebs aufgetragen«
Beispiel 6
In diesem Beispiel wird noch ein Antilichthof-Farbstoff zu der Zusammensetzung von Beispiel 5 zugegeben»
Gosenol KP-08 (hergestellt von Nippon Gosei Kagaku Kogyo K.K.) (Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 71,5% und einem Polymerisationsgrad von 800) 12 Teile
Dibrompentylglykol-diacrylat 5 Teile
N-Methylolacrylamid (oder Diacetonacrylamid) 5 Teile
Benzoinisopropyläther ' 192 Teile
Natriumlaurylsulfat O52 Teile
Kayanol Meeling Orange G (hergestellt von
Nippon Kayaku K.K.; CI Hr.22895) 0,1 Teil
Methylcellosolve 25 Teile
Wasser 18 Teile
Eine photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung wird aus den obigen Bestandteilen hergestellt und auf ein
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Seidensieb gemäß dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren unter Herstellung eines Seidendrucksiebs aufgetragen.
Die Haltbarkeit der vorsensibilisierten Drucksiebe und die Druckbeständigkeit der Drucksiebe, hergestellt gemäß den Beispielen 1 bis 6, sind in der folgenden Tabelle I angegeben.
Tabelle I
Bei
spiel
Beständigkeitsverhalten
(Linien/mm)
I nach Z
Monaten
nach ö
Monaten
Druckbeständigkeit++
(Anzahl der Druckvorgän,
Nr. nach '
Monat
50 50
1 50 45 40 20 000
2 45 50 50 30 000
3 50 45 45 35 000
4 45 50 50 20 000
5 50 70 70 30 000
6 70 30 000
Das Beständigkeitsverhalten in Tabelle· I wird unter Verwendung der Auflösekraft in Linieneinheiten/mm des Drucksiebs,hergesteilt.. nach dem in den Beispielen beschriebenen Verfahren,an dem PSPS gemessen, nachdem es in der Dunkelheit während der angegebenen Zeit gelagert wurde.
j ι
Als Druckbeständigkeit wird die Anzahl der wiederholten Druckvorgänge beschrieben, die mit jedem Drucksieb durchgeführt werden konnten, bevor die Auflösekraft praktisch unannehmbar wurde.
Beispiele 7 bis 12
Jede der photoempfindlichen Zusammensetzungen, hergestellt gemäß den Beispielen 1 bis 6, wird in einheitlicher Dicke auf einen Polyesterfilm mit einer Walzenbeschichtungsvorrichtung oder einem Rotationsapplikator aufgebracht und getrocknet. Anschließend wird der beschichtete Film in der Dunkelheit gelagert. Jeder Film wird zu Siebgröße geschnitten
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und auf das Sieb von außen eines Siebrahmens unter Druck aufgelegt.
Wird eine photoempfindliche Lösung der gleichen Zusammensetzung, wie in den Beispielen beschrieben,zuerst auf die Oberfläche, auf die das Sieb gelegt wird, in einheitlicher Dicke aufgetragen und wird die photoempfindliche Schicht auf den Polyesterfilm unter Druck auf die beschichtete Oberfläche in nassem Zustand aufgelegt, so haftet die photoempfindliche Schicht vollständig an dem Sieb* Nach der Entfernung des Polyesterfilms wird ein negativer Film auf die photoempfindliche Schicht aufgelegt und dann wird mit Licht belichtet. Die photoempfindliche Schicht wird anschließend einer Auswaschentwicklung unterworfen. Man erhält ein gutes Drucksieb.
Es wird festgestellt, daß die präsensibilisierten Drucksiebe und die Drucksiebe, die gemäß den Beispielen 7 bis 12 erhalten wurden, eine gute Haltbarkeit und Lagerbeständigkeit besitzen, die fast gleich ist denjenigen, die in den Beispielen 1 bis 6 erhalten wurden.
Die photoempfindlichen Zusammensetzungen der Beispiele 7 bis 12 werden auf einen Polyesterfilm aufgetragen, und dieser wird in der Dunkelheit gelagert und anschließend für die Herstellung eines PSPS verwendet.
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Leerseite

Claims (41)

  1. - ar-
    Patentansprüche
    Photoempfindliche Zusammensetzung in Lösung für )rucksiebe, dadurch gekennzeichnet, daß sie enthält
    (a) ein flüssiges Medium aus der Gruppe mit Wasser mischbarer organischer Lösungsmittel und Lösungsmittelgemische aus diesen organischen Lösungsmitteln und. Wasser,
    (b) ein sowohl in den organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser lösliches Polymer und
    (c) einen in den organischen Lösungsmitteln löslichen Sensibilisator aus der Gruppe photoempfindlicher Monomerer und ihren Präpolymeren.
  2. 2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das flüssige Medium in einer Menge im Bereich von 150 bis 800 Gew.Teilen und der Sensibilisator in einer Menge im Bereich von 20 bis 400 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew,-Teile 'Polymer, vorhanden sind.
  3. 3. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das flüssige Medium in einer Menge im Bereich von 250 bis 650 Gew.Teilen und der Sensibilisator in einer Menge im Bereich von 50 bis 200 Gew.-Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, vorhanden sind.
  4. 4.' Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie als organisches Lösungsmittel Alkohole mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, Methylcellosolve, Äthylcellosolve, Butylcellosolve, Aceton, Methyläthylketon, Methylisobutylketon, Dioxan, Dimethylformamid und/oder Dimethylsulfoxid enthält.
  5. 5. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Polymer teilweise verseifte Produkte von Polyvinylacetat, Copolymere von Methyl-
    7 0 9 8 15/0898
    vinylather und Maleinsäureanhydrid, Polyäthylenoxid, Carboxymethylcellulose, Polyvinylpyrrolidon und/oder teilweise verseifte Produkte von Copolymeren aus Vinylacetat und Crotonsäure enthält.
  6. 6. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Monomer eine photoempfindliche, äthylenisch ungesättigte Gruppe wie eine Acryloyl-, Methacryloyl-, Allyl-, Vinyläther- und/oder Acrylamidgruppe enthält.
  7. 7. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Sensibilisator Pentaerythrit-triacrylat, Pentaerythrit-tetraacrylat, Pentaerythrit- trimethacrylat, Pentaerythrit-tetramethacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-diacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-dimethacrylat, 2,3-Dibrompropylacrylat, Triallylisocyanurat, Methoxyäthyl-vinyläther, tert.-Butylvinyläther, Ν,Ν'-Methylen-bis-acrylamid und/oder ihre Präpolymeren mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad nicht über 5 enthält.
  8. 8. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich einen in den organischen Lösungsmitteln löslichen Initiator, der bei der Einwirkung von Licht Radikale bildet, enthält.
  9. 9. Zusammensetzung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Initiator Benzoinalkyläther mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe, Michlers Keton, Di-tert.-butylperoxid, Dibenzothiazolyl-disulfid, Tribromacetophenon und/oder tert.-Butylanthrachinon enthält.
  10. 10. Zusammensetzung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Initiator in einer Menge von 1 bis
    709815/0898
    20 Gew.Teilen, "bezogen auf 100 Gew.Teile Sensibilisator, vorhanden ist.
  11. 11. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiter ein Antioxydans in einer Menge von 0,01 Ms 5 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.-Teile Polymer, enthält.
  12. 12. Zusammensetzung nach Anspruch 11,-dadurch gekennzeichnet, daß sie als Antioxydans Hydrochinon, p-Methoxyphenon, Zinn(Il)-Chlorid, Zinkchlorid und/oder Wachs enthält.
  13. 13. Zusammensetzung nach mindestens einem der Ansprüche bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiter Schellack in einer Menge von 10 bis 100 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.-Teile Polymer, enthält.
  14. 14. Präsensibilisiertes Drucksieb, dadurch gekennzeichnet, daß es enthält
    (1) einen Siebstoff und
    (2) eine feste Lösungsschicht, aufgetragen auf den Siebstoff, wobei die Schicht enthält
    (a) ein Polymer, das sowohl in Wasser als auch in wasserlöslichen organischen Lösungsmitteln löslich ist, und
    (b) einen Sensibilisator, der in den wasserlöslichen organischen Lösungsmitteln löslich ist, aus der Gruppe photoempfindlicher Vinylmonomerer und ihren Präpolymeren.
  15. 15. Präsensibilisiertes Drucksieb nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Polymer ausgewählt wird aus der Gruppe teilweise verseifter Produkte von Polyvinylacetat, Copolymer en von Methylvinyläther und Maleinsäureanhydrid, Polyäthylenoxid, Carboxymethylcellulose, Polyvinylpyrrolidon und/oder teilweise verseifter Produkte von Copolymeren aus Vinylacetat und Crotonsäure.
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    - 2g -
  16. 16. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, daß das Monomer eine photoempfindliche, äthylenisch ungesättigte Gruppe wie Acryloyl-, Methacryloyl-, Allyl-, Vinyläther-.und/oder Acrylamidgruppen enthält.
  17. 17. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Sensibilisator ausgewählt wird aus der Gruppe Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrit-tetraacrylat, Pentaerythrit-trimethacrylat, Pentaerythrit-tetramethacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-diacrylat, 2,2-Dibrom-methyl-1,3-propandioldimethacrylat, 2,3-Dibrompropylacrylat, Triallylisocyanurat, Methoxy-äthylvinyläther, tert.-Butylvinyläther, N,N'-Methylenbis-acrylamid und/oder ihren Präpolymeren mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad nicht über 5.
  18. 18. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die feste Lösung den Sensibilisator in einer Menge von 20 bis 400 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.
  19. 19. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung weiterhin einen Initiator in einer Menge von 1 bis 20 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Sensibilisator, enthält, der in den organischen Lösungsmitteln löslich ist und bei der Einwirkung von Licht Radikale bildet.
  20. 20. Präsensibilisiertes Drucksieb nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß der Initiator ausgewählt wird aus der Gruppe Benzoinalkyläther mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe, Michlers Keton, Di-tert.-butyloxid, Dibenzo thiazolyl-disülf id, Tribromacetophenon und/oder tert.-Butylanthrachinon.
    709815/0898
  21. 21. Präsensibilisiertes Drucks!et> nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß die feste Lösungsschicht weiterhin ein Antioxydans in einer Menge von 0,01 bis 5 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.
  22. 22. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß das Antioxydans ausgewählt wird aus der Gruppe Hydrochinon, p-Methoxyphenon, Zinn(II)-chlorid, Zinkchlorid und Wachse.
  23. 23. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß die feste Lösungsschicht weiterhin Schellack in einer Menge von 10 bis 100 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.
  24. 24. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß eine Kunststoffilmschicht auf der festen Lösungsschicht aufgebracht ist.
  25. 25. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 24, dadurch gekennzeichnet, daß eine Filmschicht, die aus dem Polymer gebildet ist, auf der festen Lösungsschicht aufgebracht ist.
  26. 26. Präsensibilisiertes Drucksieb nach mindestens einem der Ansprüche 14 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß die feste Lösungsschicht 40 bis 500 Mikron dick ist.
  27. 27. Präsensibilisiertes Drucksieb nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Filmschicht aus dem Polymer 1 bis 10 Mikron dick ist.
    7098 15/08 9 8
  28. 28. Verfahren zur Herstellung eines präsensibilisierten Drucksiebs, dadurch gekennzeichnet, daß man
    (1) eine Oberfläche eines planaren Substrats mit einer photoempfindlichen Zusammensetzung beschichtet, wobei die Zusammensetzung die folgenden Komponenten enthält
    (a) ein flüssiges Medium aus der Gruppe mit
    Wasser mischbarer organischer Lösungsmittel und Lösungsmittelgemischen aus den organischen Lösungsmitteln und Wasser,
    (b) ein Polymer, das sowohl in organischen Lösungsmitteln als auch in Wasser löslich ist, und
    (c) einen Sensibilisator, der in organischen Lösungsmitteln löslich ist, aus der Gruppe photoempfindlicher Monomerer und ihren Präpolymeren,
    (2) eine Oberfläche eines Siebstoffs mit der photoempfindlichen Zusammensetzung beschichtet,
    (3) das beschichtete, planare Substrat und das beschichtete Siebtuch auf solche Weise zur Herstellung eines Laminats miteinander verbindet, daß die beschichteten Oberflächen der beiden Materialien einander gegenüberliegen, und
    (4) das planare Substrat aus dem Laminat entfernt, wobei das präsensibilisierte Drucksieb zurückbleibt.
  29. 29. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß die aufgetragene, photoempfindliche Schicht getrocknet wird, indem man das Produkt der Stufe (1) Trocknungsbedingungen aussetzt.
  30. 30. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß das Laminat zwischen den Stufen (3) und (4) getrocknet wird.
  31. 31. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 30, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung das flüssige Medium und den Sensibilisator in einer Menge von 150 bis 800 Gew.Teilen bzw. 20 bis 400 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.
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    Λ-
  32. 32. . Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 31, dadurch gekennzeichnet, daß als organisches Lösungsmittel Alkohole mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, Methylcellosolve, Äthylcellosolve, Butylcellosolve, Aceton, Methyläthylketon, Methylisobutylketon, Dioxan, Dimethylformamid und/oder Dimethylsulfoxid verwendet werden.
  33. 33. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 32, dadurch gekennzeichnet, daß als Polymer teilweise verseifte Produkte von Polyvinylacetat, Copolymere aus Methylvinyläther und Maleinsäureanhydrid, Polyäthylenoxid, Carboxymethylcellulose, Polyvinylpyrrolidon und/oder teilweise verseifte Produkte von Copolymeren aus Vinylacetat und Crotonsäure verwendet werden.
  34. 34. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 33, dadurch gekennzeichnet, daß das Monomer eine photoempfindliche, äthylenisch ungesättigte Gruppe, bevorzugt eine Acryloyl-, Methacryloyl-, Allyl-, Vinyl-äther und/oder Acrylamidgruppe, enthält.
  35. 35. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 34, dadurch gekennzeichnet, daß als Sensibilisator Pentaerythrit-triacrylat, Pentaerythrit-tetraacrylat, Pentaerythrit- trimethacrylat, Pentaerythrit-tetramethacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-diacrylat, 2,2-Dibrommethyl-1,3-propandiol-dimethacrylat, 2,3-Dibrompropylacrylat, Triallylisocyanurat, Methoxyäthyl-vinyläther, tert.-Butylvinyläther, Ν,Ν'-Methylen-bis-acrylamid und/oder ihre Präpolymeren mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad nicht über verwendet werden.
  36. 36. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 35, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung weiterhin einen Initiator enthält, der in den organischen Lo-
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    sungsmitteln löslich ist und bei der Einwirkung von Licht Radikale bildet.
  37. 37. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 36, dadurch gekennzeichnet, daß als Initiator Benzoinalkyläther mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe, Michlers Keton, Di-tert.-butylperoxid, Dibenzothiazolyl-disulfid, Tribromacetophenon und/oder tert.-Butylanthrachinon verwendet werden.
  38. 38. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 36 oder 37» dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung den Initiator in einer Menge von 1 bis 20 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Sensibilisator, enthält.
  39. 39. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 38, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung ein Antioxydans in einer Menge von 0,01 bis 5 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.
  40. 40. Verfahren nach Anspruch 39, dadurch gekennzeichnet, daß als Antioxydans Hydrochinon, p-Methoxyphenon, Zinn(II)-chlorid, Zinkchlorid und/oder Wachse verwendet werden.
  41. 41. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 28 bis 40, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung Schellack in einer Menge von 10 bis 100 Gew.Teilen, bezogen auf 100 Gew.Teile Polymer, enthält.
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