DE2511281C2 - Fotothyristor - Google Patents
FotothyristorInfo
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10F30/20—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors
- H10F30/21—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
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- H10F30/263—Photothyristors
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Description
dringende Kurzschlußöffnungen (2) oh misch kontaktiert ist dadurch gekennzeichnet, daß
eine oder mehrere Kurzschlußöffnungen (2') die der Lichteintrittsfläche zugewandte Emitterzone (NE)'m
einen äußeren Abschnitt (7) und in einen im wesentliehen von diesem getrennten und umgebenen, die
Lichteintrittsfläche beinhaltenden und von der zweiten Elektrode (4) am Randbereich kontaktierten inneren Abschnitt (8) unterteilt bzw. unterteilen, dessen Außenrad: :s
— +
- 9,153
ist, wobei D der Abstand der im wesentlichen gleichförmig verteilten Kurzschlußöffnungen (2) voneinander und d der Durchmesser der Kurzschlußöffnungen (2) ist.
2. Fotothyristor nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, daß die Fläche des inneren Abschnitts
(8) kleiner ist als die des äußeren Abschnitts (7).
3. Fotothyristor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der innere Abschnitt (8) von dem
äußeren Abschnitt (7) vollständig umgeben ist.
4. Fotothyristor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke des die Lichteintrittsfläche bildenden Teils des inneren Abschnitts (8) gegenüber der Dicke des restlichen Teils der anderen
Emitterzone (NE)verringert ist.
5. Fotothyristor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die an die andere Emitterzone
(NE) angrenzende Basiszone (PB) in der Mitte des inneren Abschnitts (8) freiliegt.
6. Fotothyristor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der innere Abschnitt (8) durch die
an die andere Emitterzone (NE) angrenzende Basiszone (PB) vollständig vom äußeren Abschnitt (7) getrennt ist.
60
Die Erfindung bezieht sich auf einen Fotothyristor der im Oberbegriff des Patentanspruchs I genannten
Art, wie er anhand der Fig. 1 und 2 im folgenden beschrieben ist.
Der Stand der Technik und die Erfindung werden anhand der Zeichnung erläutert. Es zeigt
F i g. 1 die Draufsicht auf einen bekannten Fotothyristor,
F i g. 3 den Teilschnitt einer ersten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Fotothyristors,
F i g. 4 die Verteilung des Fotostromes und des Ve.rschiebungsslromes in einem Fotothyristor,
F i g. 5a und 5b im Vergleich den Aufbau des bekannten und des erfindungsgemäßen Fotothyristors,
F i g. 7 eine dritte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Fotothyristors,
F i g. 8 eine Draufsicht auf den die Lichteintrittsfläche enthaltenden Bereich einer weiteren Ausführungsform
des erfindungsgemäßen Fotothyristors.
Der in den F i g. 1 und 2 gezeigte, als aus der US-PS
35 85 454 bekannte vorausgesetzte Fotothyristor weist einen Halbleiterkörper 1 mit vier Schichten abwechselnd unterschiedlichen Leitungstyps auf, nämlich einer
p-leitenden Emitterzone PE, einer η-leitenden Basiszone NB, einer p-leitenden Basiszone PB und einer n-Ieitenden Emitterzone NE, die jeweils pn-Obergänge J\, J2
bzw. J3 bilden. Eine als Anode dienende erste Elektrode
3 kontaktiert an der ersten Hauptfläche 11 des Halbleiterkörpers 1 die eine Emitterzone PE Eine als Katode
dienende zweite Elekt.Ode 4 kontaktiert an der zweiten Hauptftäche 12 die andere Emitterzone NE und über in
deren äußerem Bereich gleichmäßig verteilte Kurzschlußöffnungen 2 die- an die andere Emitterschicht NE
angrenzende Basisschicht PB. Die Kurzschlußöffnungen 2 sind zwar in der US-PS 35 85 454 weder gezeigt noch
ausdrücklich beschrieben; sie müssen jedoch vorhanden sein, da der bekannte Fotothyristor sonst nicht funktionieren könnte. Sie sind im übrigen bei Thyristoren, beispielsweise aus der DE-OS 23 39 440 und der US-PS
37 58 832, an sich bekannt. Fällt aus einer Lichtquelle 5 Licht auf die die Lichteintrittsflächc bildende frei liegende Oberfläche der Basiszone Pf? und i.^gt zwischen den
Elektroden 3, 4 eine Spannung, die die Anode gegenüber der Katode positiv vorspannt, so wird in der Basiszone PB ein zu den der Lichteintrittsfläche am nächsten
liegenden Kurzschlußöffnungen 2 und zur zweiten Elektrode 4 fließender Fotostrom 6 erzeugt (in F i g. 2 durch
Pfeile angedeutet). Der Fotostrom spannt den innersten Rand des dritten pn-Überganges /3 zwischen den Zonen
NE und PB in Durchlaßrichtung vor, wobei aus der Emitterzone NE Elektronen in die Basiszone PB injiziert werden. Damit gelangt der Fotothyristor aus dem
sperrenden in den leitenden Zustand und wird durchgeschaltet.
Lt bei dem bekannten Fotothyristor der Radius Rt
der Lichteintrittsfläche verhältnismäßig klein, so ist zwar die Zündempfindlichkeit verhältnismäßig hoch, da
der innerste Rand des pn-Überganges Jj bei hoher
Stromdichte durch einen verhältnismäßig geringen Fotostrom stark in Durchlaßrichtung vorgespannt wird.
Der innerste Rand des pn-Übergar.ges./3 wird aber auch
leicht durch Verschiebungs- und Leckströme des pn-Überganges Jz in Durchlaßrichtung vorgespannt, d. h.,
die kritische Anstiegsgeschwindigkeit dv/df der angelegten Spannung, im folgenden als dv/di-Vermögen bezeichnet, und die Durchbruchspannung bei hohen Temperaturen sind verhältnismäßig klein. Bei Vergrößerung
des Radius R\ der Lichteinlriitsfläche ist die Dichte des
den innersten Rand des dritten pn-Überganges /j in Durchlaßrichtung vorspannenden Fotostromes und damit seine Zündempfindlichkeit entsprechend gering. Es
ist also ein hoher Fotostrom erforderlich, um den Foto-
thyristor einzuschalten. Ebenso wird die Zündempfindlichkeit des Fotothyristors verschlechtert, wenn zur
Verbesserung des dv/dr-Vermögens die Dichte der Kurzschlußöffnungen 2 erhöht wird.
Der im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1
beschriebenen Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, bei dem gattungsgemäßen Fotothyristor einerseits
eine m&^ächst hohe Zündempfindlichkeit und andererseits
ein möglichst hohes dv/df-Vermögen und eine möglichst hohe Durchbruchspannung bei hohen
Temperaturen zu erreichen.
Ein erfindungsgemäßer Fotothyristor (1200 V, 100 A) mit einem dv/dr-Vermögen von 400 V/ps kann mit einer
GaAS-LED gezündet werden, deren Lichtausgangslcistung ein Fünftel dessen beträgt, was für herkömmliche
Fotothyristoren erforderlich ist.
Bevorzugte Weiterbildungen und Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Fotothyristors sind Gegenstand
der Patentansprüche 2 bis 6. Dabei wird durch die Ausgestaltungen der Patentansprüche 4 und 5 die Lichtdurchlässigkeit
des inneren Abschnittes erhüht und dadurch die Zündempfindlichkeit weiter verbessert.
Bei dem in F i g. 3 gezeigten ersten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Fotothyristors weist die
η-leitende Emitterschicht NEeinen äußeren Abschnitt 7
mit mehreren im wesentlichen gleichförmig verteilten durchgehenden Kurzschlußöffnungen 2, über die die ρ leitende
Basiszone PB mit der Hauptfläche 12 in Verbindung steht, sowie einen von dem äußeren Abschnitt 7
umgebenen inneren Abschnitt 8 auf, der von dem äußeren Abschnitt 7 durch die Basiszone PB innerhalb der
Kurzschlußöffnung 2' getrennt ist, keine durchgehenden
Öffnungen aufweist und eine kleinere Fläche hat als der äußere Abschnitt 7, wobei das Licht auf den inneren
Abschnitt 8 fällt. Die zweite Elektrode 4 steht in ohmschem Kontakt mit dem äußeren Abschnitt 7, den Kurzschlußöffnungen
2, dem Rand des inneren Abschnitts 8 und der Oberfläche der zwischen dem äußeren und dem
inneren Abschnitt 7 bzw. 8 frei liegenden Basiszone PB.
Um einen Fotothyristor mit diesem Aufbau einzuschallen, wird auf die Lichteintrittsfläche des inneren
Abschnitts 8 ein Lichtsignal gerichtet. Bei Bestrahlung mit diesem Lichtsignal entsteht unmittelbar an oder in
der Nähe des dem inneren Abschn'tt 8 entsprechenden Abschnittes des zweiten pn-Übergangs J2 ein Fotostrom,
der, wie durch den Pfeil 9 angedeutet, in der Basiszone PB seitlich, d. h. parallel zu dem zweiten pnübergang
J2, fließt, bis er die zweite Elektrode 4 durch
den zwischen dem äußeren und dem inneren Abschnitt 7 bzw. 8 gelegenen Teil de· Basiszone PB erreicht. Dieser
Fotostrom bewirkt innerhalb der Basiszone PB einen Spannungsabfall, der wiederum denjenigen Teil des
dritten pn-Übergangs /j in Durchlaßrichtung vorspannt,
der im wesentlichen der Mitte des inneren Abschnitts 8 entspricht. Damit ist der Einschaltvorgang in diesem
speziellen Teil eingeleitet. Der Radius R 2 des inneren Abschnitts 8 wird aufgrund der folgenden Überlegungen
bemessen:
Generell werden das dv/df-Vcrmögen und die Durchbruchsspannung
des Thyristors durch die Anordnung e>o der Kurzschlußöffnungen 2 in dem dritten pn-übergang
/1 bestimmt, wobei das maximale dv/dt-Vermögen
durch die Gleichung
dv/df,™
■ i>s ■ K
Übergangs J2. an dem der Verschiebungsstrom auftritt,
Ps den Schichtwiderstand der der Emitterzone NE benachbarten Basiszone PB, VD die Diffusionsspannung
des dritten pn-Überganges /j und K einen durch die Kurzschlußstruktur des Thyristors bestimmten Kurzschlußkoeffizient,
der angibt, in welchem Maße der pn-Übergang /j kurzgeschlossen ist. Bei gewöhnlicher
Kurzschlußstruktur, bei der die Kurzschiußöffnungen jeweils einen Durchmesser d haben und an den Schnittpunkten
eines rechtwinkligen Gitters in Abständen von D angeordnet sind, ist der Kurzschlußkoeffizient Ko
durch die Gleichung
— +
- 0,153
gegeben. Andererseits ist der Kurzschlußkoeffizient K\
des dem inneren Abschnitt 8 entsprechenden Teils des PN-Übergangs/j durch
"2
_ Γ JL
J 2
r-O
dr
gegeben, wobei r der Abstand von der Mitte des pn-Übergangs
J2 in Richtung seiner Ausdehnung ist.
In den obigen Gleichungen ist angenommen, daß der Verschiebungsstrom im zweiten pn-übergang J2 gleichförmig
erzeugt wird. Soll das dv/dr-Vermögen des in F i g. 3 gezeigten Fotothyristors verbessert werden, so
muß dafür gesorgt werden, daß das dv/di-Vermögen der Lichteintrittsfläche, d.h. im wesentlichen des inneren
Abschnitts 8 dem des äußeren Abschnitts 7 entspricht. Mit anderen Worten muß K1 = Ko sein. Der Wert, der
diese Beziehung erfüllt, läßt sich ausdrücken als
D \ !n —
-0,153.
gegeben ist. in dieser Gleichung bedeuten A und Cdie
Fläche bzw. die Sperr fhichlkapaziläi des zweiten pn-Betragen
beispielsweise d=0,2 mm und D= 1,5 mm, so
ist R2 ungefähr 2 mm; wird also der Radius R2 des inneren
Abschnitts 8 mit 2 mm gewählt, so ist es möglich, für den inneren Abschnitt 8 den gleichen Kurzschlußzustand
wie für den äußeren Abschnitt 7 mit den Kurzschlußöffnungen 2 zu erreichen, wobei Verschiebungsstrom
und Leckstrom gleichförmig von dem zweiten pn-übergang J2 erzeugt werden und somit das dv/di-Vermögen
und die Durchbruchspannung bei hohen Temperaturen auf gleichem Wert gehalten werden.
Es ist zu beachten, daß der Fotostrom nicht gleichförmig an dem zweiten PN-Übergang J2 erzeugt wird, son-■ien.
von der Intensitätsverteilung des ausgestrahlten Lichts abhängt. Ein Beispiel für die Verteilung des Fotostroms
ist in F i g. 4 dargestellt. Anders als bei der zum Vergleich gezeigten Verteilung des Verschiebungsstroms hat der Fotostrom ein Maximum an der Stelle
der stärksten Beleuchtung und nimmt mit zunehmender Entfernung vom Maximum ab. Im Falle eines Foto-Stroms
mit einer derarligen Verteilung läßt sich der der Mitte des inneren Abschnitts 8 entsprechende Teil des
dritten pn-Übergangs /3 wirksamer in Durchlaßrichtung vorspannen, indem die Mitte des zweiten Abschnitts 8
an diejenige Stelle gelegt wird, an der der Fotostrom sein Maximum hat.
In der schematischen Darstellung nach Fig. 5 sind
Draufsichten auf den Bereich der Lichteintrittsfläche eines herkömmlichen Folothyristors (Fig.5a) beziehungsweise
des erfindingsgemäße.i Fotothyristors
(Fig. 5b) gezeigt. Wie aus dieser Darstellung ersichtlich,
ist anders als bei dem bekannten Fotothyristor, bei dem
die Kurzschlußöffnungen 2 in Abständen von etwa 13 mm über die gesamte Oberfläche verteilt sind, der
erfindungsgemäße Fotothyristor mit einem inneren Ab- 5 schnitt 8 versehen, der einen Durchmesser von 4 mm hat
und keine Kurzschlußstellen aufweist; infolgedessen ist die Lichteintrittsfläche um etwa das Zehnfache vergrößern, und der Abstand von der dem Maximum des Fotostroms zugeordneten Stelle zu der Kurzschlußstelle des io
nächsten pn-Übergangs ist im wesentlichen verdoppelt. Daher wird der Kurzschluß vergrößert und sein
Strompfad verlängert, so daß der dem inneren Abschnitt 8 entsprechende Teil des dritten pn-Übergangs
/3 wirksam in Durchlaßrichtung vorgespannt wird. 15
Das in F i g. 6 dargestellte zweite Ausführungsbeispiel unterscheidet sich von dem ersten Ausführungsbeispiel
insofern, als die Basiszone PB etwa in der Mitte des inneren Abschnitts 8 der Emitterzone NE bis an die
Oberfläche reicht. Da die Emitterzone NE eine hohe 20 Störstellenkonzentration und daher eine geringe Lichtdurchlässigkeit aufweist, ist bei dem Ausführungsbeispiel nach F i g. 6 die Zündempfindlichkeit dadurch verbessert, daß die Basiszone BP etwa in der Mitte des
inneren Abschnitts 8, wo das auftreffende Licht am 25 stärksten ist, freiliegt.
Das in F i g. 7 gezeigte dritte Ausführungsbeispiel unterscheidet sich von dem ersten Ausführungsbeispiel dadurch, daß die Lichteintrittsfläche des inneren Abschnitts 8 der Emitterzone NE dünner ist als bei dem jo
ersten Ausführungsbeispiel. Bei dem Ausführungsbeispiel nach F i g. 7 wird der Nachteil der geringen Lichtdurchiässigkeit der Fmitterzone NE beseitigt, ohne den
seitlichen Abstand des inneren Abschnitts 8. längs dem der Fotostrom fließt, zu verringern. Da die Emitterzone 35
NE, die gewöhnlich durch Eindiffundiercn von
Phosphor erzeugt wird, ihre höchste Störstellcnkonzcntration an oder in der Nähe ihrer Oberfläche aufweist,
wird der Teil hoher Störstellenkonzentration und hoher Lichtabsorption beseitigt 40
Der innere Abschnitt 8 der Emitterzone NE braucht nicht notwendigerweise exakt kreisförmig zu sein. Die
Vorteile lassen sich ferner auch dann erreichen, wenn der innere Abschnitt 8 nicht vollständig durch die Basiszone PB von dem äußeren Abschnitt 7 der Emitterzone
NE getrennt ist sondern teilweise mit ihm in Verbindung steht Eine derartige Variante ist in F i g. 8 veranschaulicht Der Vorteil dieser Variante besteht darin,
daß sich der Einschaltbereich durch die teilweise Verbindung des äußeren Abschnitts 7 mit dem inneren Ab-
schnitt 8 rascher ausbreitet Außerdem ist es nicht unbedingt erforderlich, daß der innere Abschnitt 8 vollständig vor. dem äußeren Abschnitt 7 umgeben wird. Es
genügt vielmehr, wenn ein gewisser Teil des inneren Abschnitts 8 dem äußeren Abschnitt 7 benachbart ist
Auch in diesem Fall hat die zweite Elektrode 4 ohmschen Kontakt mit dem äußeren Abschnitt 7, den Kurzschlußöffnungen 2, dem Rand des inneren Abschnitts 8
und der den inneren Abschnitt 8 umgebenden Basiszone PB.
Claims (1)
1. Fotothyristor, bestehend aus einem scheibenförmigen Halbleiterkörper (1) mit vier Schichten ab-
wechselnd unterschiedlichen Leitungstyps, von denen die beiden Außenschichten die Emitterzonen
(PE, NE) und die beiden Innenschichten die Basiszonen (NB, PB) bilden, auf dessen einer Hauptfläche
(11) eine mit der einer Emitterzone (PE) in ohm- ι ο
schem Kontakt stehende, als Anode dienende erste Elektrode (3) und auf dessen anderer Hauptfläche
(12) eine mit der anderen Emitterzone (NE) in ohmschem Kontakt stehende, eine Lichteintrittsfläche
und einen Teilbereich des anderen Emitters (NE) freilassende, als Katode dienende zweite Elektrode
(4) vorgesehen ist, die zusätzlich mit der der Lichteintrittsfläche zugewandten Basiszone (PB) Ober im
wesentlichen gleichförmig verteilte, die der Lichtein-
i ϊ /λ/Cl ll
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP49029135A JPS50123282A (de) | 1974-03-15 | 1974-03-15 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2511281A1 DE2511281A1 (de) | 1975-09-25 |
| DE2511281C2 true DE2511281C2 (de) | 1985-03-21 |
Family
ID=12267834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2511281A Expired DE2511281C2 (de) | 1974-03-15 | 1975-03-14 | Fotothyristor |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4016592A (de) |
| JP (1) | JPS50123282A (de) |
| DE (1) | DE2511281C2 (de) |
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| GB1434905A (en) * | 1972-08-04 | 1976-05-12 | Aei Semiconductors Ltd | Thyristors and the method of manufacture thereof |
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-
1974
- 1974-03-15 JP JP49029135A patent/JPS50123282A/ja active Pending
-
1975
- 1975-03-04 US US05/555,279 patent/US4016592A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-03-14 DE DE2511281A patent/DE2511281C2/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2511281A1 (de) | 1975-09-25 |
| JPS50123282A (de) | 1975-09-27 |
| US4016592A (en) | 1977-04-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: VON FUENER, A., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. EBBINGHAUS |
|
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition |