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DE2555033A1 - Verfahren zum beruehrungslosen messen und pruefen von oberflaechen und einrichtung zur durchfuehrung des verfahrens - Google Patents

Verfahren zum beruehrungslosen messen und pruefen von oberflaechen und einrichtung zur durchfuehrung des verfahrens

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Publication number
DE2555033A1
DE2555033A1 DE19752555033 DE2555033A DE2555033A1 DE 2555033 A1 DE2555033 A1 DE 2555033A1 DE 19752555033 DE19752555033 DE 19752555033 DE 2555033 A DE2555033 A DE 2555033A DE 2555033 A1 DE2555033 A1 DE 2555033A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
grid
structures
signals
measured
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE19752555033
Other languages
English (en)
Inventor
Joerg Dipl Ing Willhelm
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ernst Leitz Wetzlar GmbH
Original Assignee
Ernst Leitz Wetzlar GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ernst Leitz Wetzlar GmbH filed Critical Ernst Leitz Wetzlar GmbH
Priority to DE19752555033 priority Critical patent/DE2555033A1/de
Publication of DE2555033A1 publication Critical patent/DE2555033A1/de
Ceased legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G01B11/303Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

  • Verfahren zum berührungslosen Messen und
  • Prüfen von Oberflächen und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum berührungslosen Messen und Prüfen von insbesondere bei der Bearbeitung eines Gegenstandes anfallenden Oberflächen im Hinblick auf deren mittlere Grobgestalt (Welligkeit) sowie Einrichtungen zur Durchführung des Verfahrens.
  • Verfahren und Einrichtungen der genannten Art sollen im Besonderen dem Erkennen von Form und Größe der Strukturen technischer Oberflächen dienen und werden zur Beurteilung von Werkstücken verwendet, welche zum Beispiel Walz- und Ziehprozessen oder alLen Arten von Oberflächenbearbeitung unterliegen und deren Oberflächenbeschaffenheit, wie etwa die Rauhigkeit, durch Messungen kontrolliert werden soll.
  • In diesem Zusammenhang ist es üblich, die mittlere quadratische Abweichung von einer Referenz als Maßzahl für die Güte der FLäche zu verwenden.
  • Es ist bekannt, mittels Vergleichsmikroskopen zwei Oberflächen miteinander visuell zu vergleichen. Dazu wird die zu untersuchende Oberfläche und die Vergleichs oberfläche nebeneinander im Okular des Vergleichsmikroskops abgebildet.
  • Eine Messung der Oberflächengüte mit einem derartigen Gerät ist jedoch nicht möglich.
  • Weiterhin ist es bekannt, Oberflächen im Lichtschnittverfahren oder mittels Lichtinterferenzen zu untersuchen.
  • Im ersten Fall wird ein Lichtspalt auf die Oberfläche abgebildet und mit einem Mikroskop beobachtet. Im allgemeinen erfolgt die Beobachtung senkrecht zur Ebene, in welcher der Lichtspalt auf die Oberfläche trifft. Dadurch wird die Profilform als Lichtband sichtbar.
  • Am günstigsten ist dafür eine Anordnung, bei der die Winkelhalbierende der optischen Achsen von Beleuchtung- und Beobachtungssystemen mit der Normalen der Oberfläche zusammenfallen.
  • Ist diese Voraussetzung nicht gegeben, ist eine Beobachtung nur möglich, wenn die Oberfläche diffus streut.
  • Bei der Prüfung mit Lichtinterferenz entspricht der Grundaufbau des Prüfgerätes einem Interferometer, kombiniert mit einem Mikroskop. Die entstehenden Interferenzstreifen lassen in Art von öhenschichtlinien die dritte Dimension erkennen und messen.
  • Ferner sind auch Verfahren bekannt, mit denen eine zu prüfende Oberfläche unter Verwendung pneumatischer Mittel untersucht wird.
  • Dazu wird auf die zu prüfende Oberfläche eine besondere Meßdüse gesetzt, welche einen Stützring mit einer scharfen ringförmigen Kante besitzt, der den eigentlichen Abstand der eigentlichen Düse von der zu Wüfenden Oberfläche bestimmt. Der freie Querschnitt zwischen gerader Kante des Meßkopfes und der Oberfläche des Prüflings ist das Maß für den Lichtwiderstand der Meßdüse und damit für die Beschaffenheit der Prüflingsoberfläche.
  • Diese ängegebenen Verfahren sowie die zur Durchführung erforderlichen Anordnungen liefern Ergebnisse höchster Genauigkeit und sind daher im Aufbau aufwendig, kostspielig und kompliziert in der Anwendung.
  • Zum bloßen Erkennen von Oberflächenstrukturen und deren Größe, insbesondere im Hinblick auf die Ermittlung von deren mitt-Leerer Grobgestalt (Welligkeit) sind aber Geräte derartiger Genauigkeit nicht erforderlich.
  • Es ist daher Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zur berührungslosen WeLligkeitsmessung anzugeben, mit welchem in einfacher Weise Oberflächenstrukturen geprüft und gemessen werden können, und eine Einrichtung zu finden, die kostengünstig herstellbar und in der Anwendung unkompliziert ist.
  • Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe für ein Verfahren der eingangs genannten Art gelöst durch a) Überlagern der zu messenden und/oder zu prüfenden Oberflächenstruktur mit entsprechenden Referenzstrukturen, b) Bewegen der Oberflächenstruktur zu den Referenzstrukturen, c) Umformen der aus der Überlagerung resultierenden Lichtflußanteile in entsprechende elektrische Signale und d) Auswerten dieser Signale zur Darstellung der gemessenen Grobgestaltwerte.
  • Die Ausgestaltung einer Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens der eingangs genannten Art ist dadurch gekennzeichnet, daß als Referenzstrukturen ein Raster oder ein Bild des Rasters vorgesehen ist, welche dicht über der zu messenden und zu prüfenden Oberfläche lagert, und daß in Lichtrichtung gesehen dem Raster mindestens ein fotoelektrisoher Empfänger nachgeordnet ist, welcher dis das Raster verlassenden Lichtflußanteile in elektrische Signale umformt, aus deren Größe die Übereinstimmung zwischen den Referenzstrukturen und Oberflächenstrukturen bestimmbar ist.
  • Für eine andere Ausbildung einer solchen Einrichtung ist ein optischer Korrelator vorgesehen, welcher aus einem Abbildungssystem, einem mindestens in der Nähe der Bildebene des Abbildungssystems befindlichen Raster als Referenzstrukturen und einem mindestens einen Empfänger enthaltenden fotoelektrischen Empfängersystem besteht, dessen aus der Überlagerung der Strukturen abgeleiteten elektrische Signale ein Maß für die Übereinstimmung von Referenz und Oberflächenstruktur sind.
  • Es erweist sich als für die Erfindung als vorteilhaft, wenn das als Referenz eingesizte Raster mit variabler Rasterkonstante ausgestattet ist.
  • Zur Erzeugung eines Rasters mit variabler Konstante wird in der Erfindung vorgeschlagen, zwei übereinander und beweglich gelagerte Rasterstrukturen zu verwenden, mit welchen durch Verdrehung gegeneinander eine veränderbare Konstante herstellbar ist.
  • Diese Änderung der Konstanten ist sowohl mit Raster gleicher als auch mit Rastern mit untereinander unterschiedlichen Konstarten durchführbar.
  • Ein ordnungsgemäßes Funktionieren der erfindungsgemäßen Einrichtung ist auch mit Rasterstrukturen sichergestellt, die als Amplituden- oder als Phasengitter ausgebildet sind.
  • Als weitere Möglichkeit, Rasterstukturen mit variabler Konstante zu erzeugen, bietet sich der Einsatz von Fresnel'schen Zonenplatten an, welche zwecks Erstellung eines Rasters mit veränderbarer Konstanten paarweise übereinanderlagern und gegeneinander verschoben werden und welche gleichzeitig der Sammlung der vom Prüfling-ausgehenden Ljchtflüsse dienen.
  • Ferner wird zur Darstellung veränderbarer Rasterkonstanten vorgeschlagen, daß Prüfling, Abbildungssystem und Rasterstruktur der Scheimpflug-Bedingung gemäß angeordnet sind, nach welcher sich - zur Erzeugung unterschiedlicher Abbildungsmaßstäbe für unterschiedliche Bildpunkte - Bildebene, Abbildungs-System-Mittelebene und die Ebene der zu messenden und zu prüfenden Oberfläche in einer Geraden schneiden müssen.
  • Da liattermarken vorw iegend gleichmäßige Muster sind, die durch Schwingungen bei der Bearbeitung eines Werkstückes entstehen, ist deren Verwendung als Referenz durchaus denkbar.
  • Nach Art der Schrittgeber ist es daher erfindungsgemäß auch moglich, ein Bild der zu messenden und zu prüfenden Oberflächenstruktur zu verwenden.
  • Dazt: wird als eine weitere Ausführungsform für eine Einrichtung zur berührungslosen Messung und/oder Prüfung von Oberflächen im Hinblick auf deren mittlere Grobgestalt (Welligkeit) vorgeschlagen, daß ein im Abbildungsmaßstab 1 : 1 abbildendes System die zu messende und/oder zu prüfende Oberflächenstruktur des Werkstückes gegenläufig auf sich selbst abbildet und das aus den aus der Überlagerung von Oberflächenstruktur und deren Bild resultierenden Lichtflußanteilen elektrische Signale liefert, die ein Maßstab für die Oberflächenqualität sind.
  • Hierbei wird das Prinzip der "Eigenfaltung" durchgeführt, Darunter versteht man im optischen Sinne die gegenläufige Abbildung des Objektes auf sich selbst. Sorgt man dann noch für eine konstante Bewegungsgeschwindigkeit der zu untersuchenden Oberflächenstruktur, so daß anstelle des Bewegungsfaktors ein Zeitfaktor treten kann, stehen Signale in elektronisch einfach aus wertbarer Form zur Verfügung.
  • Für die beschriebene Ausführungsform erweist es sich als besonders vorteilhaft, daß in der Fourrier-Ebene des abbildenden Systems Mittel enthalten sind, deren Eigenschaften die Unterdrückung der Signalbildung aus störenden Strukturen bewirken.
  • Um dieses zu erreichen, sind bei einer solchen Ausführungsform der Erfindung lediglich bestimmte Teile des abbildenden Systems und zwar die in Wirkrichtung der Rattermarken liegenden, verspiegelt. Da die Restfläche verspiegelungsfrei bleibt, wird die Bildung optischer Signale aus den senkrecht zur Richtung der Rattermarken verlaufenden Bearbeitungsriefen unterdrückt.
  • Erfindungsgemäß ist weiter vorgesehen, daß den die Lichtflußanteile in elektrische Signale umsetzenden fotoelektrischen Empfängern eine Schaltung zur Auswertung dieser Signale nachgeordnet ist, die anzeigt, daß starke Modulation ein Zeichen für vorhandene, stark ausgeprägte Welligkeit ist. Es kann sich dabei z.B. um eine Schaltung zur Anzeige des ermittelten Wertes oder um eine Sortierschaltung oder um beides in Kombination handeln.
  • In der Zeichnung ist die Erfindung in mehreren Ausfuhrungsbeispielen dargestellt. Es zeigen: Fig. 1 die schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen Einrichtung als Kontaktgitter, Fig 2 eine schematische Darstellung einer erfindungsgemaß'en: Einrichtung als optischer Korrelator, Fig. 3 eine Rasterstruktur, mit veränderbarer Raeterkonstante in Einzelheit, Fig.4 zur Variation der Rasterkonstanten gegeneinander ver schiebbare Fresnel'sche Zonenplatten, Fig. 5 im Schema die Anordnung des optischen Korrelators gemäß Fig. 2 nach der Scheimpflug-Bedingung, Fig. 6 ein schematisches Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Einrichtung in Form eines Spiegelschrittgebers, Fig. 7 eine Einrichtung gemäß Fig. 6 mit Filtern zur Unterdrückung Störsignale erzeugender Strukturen.
  • In Fig. 1 ist mit 1 ein auf seine mittlere Grobgestalt zu untersuchendes Werkstück bezeichnet, über dem dicht eine Rasterstruktur 2 mit vorgegebener Rasterkonstanten als Referenz lagert. Die die Raserstruktur 2 verlassenden Lichtflußanteile werden von einem Kondensor 3 au fotoelektrische Empfänger 4, 5 konzentriert, welche daraus elektrische Signale erzeugen, die ein Maß für die Übereinstimmung von Struktur des Werkstückes 1 mit der Rasterstruktur 2 und damit auch für die Oberflächenqualität des Werkstückes 1 (Grobgestalt, Welligkeit) sind.
  • Stimmt die Welligkeitskonstante, die als regelmäßiges, unerwünschtes Muster z.B. durch Schwingungen von Werkstück und Werkzeug bei spanabhebender Bearbeitung entsteht, mit der Gitterkonstanten überein, so tritt eine stärkere Modulation der vom Werkstück ausgehenden Lichtflüsse durch die Raterstruktur 2 auf, als wenn nur eine rauhe Fläche ohne Welligkeitsmuster vorhanden wäre. Mehr oder weniger gute Übereinstimmung ergibt in dem entstehenden Signal Schwebungen, deren Frequenzen dem Unterschied zwischen der Strukturkonstanten des Rasters 2 und der Welligkeitskonstanten des Werkstückes 1 proportional sind.
  • In Fig. 2 ist ein optischer Korrelator dargestellt, der aus einer Abbildungsoptik 6, einer Rasterstruktur 7 und fotoelektrischen Empfängern 8, 9 besteht. Die Oberflächenstruktur des Werkstückes 1 wird von der Abbildungsoptik 6 - angedeutet durch a und a' - auf die die Referenz darstellende Rasterstruktur 7 abgebildet. Die vom Bild der Oberflächenstruktur des Werkstükkes 1 ausgehenden Lichtflußanteile werden durch die Rasterstruk- tur 7 überlagert und gelangen über ein Kondensorsystem lo auf die fotoelektrischen Empfänger 8 und 9. Diese erzeugen aus den überlagerten Lichtflußanteilen elektrische Signale, welche ein Maß für die Übereinstimmung zwischen Raster und Oberflächenstruktur darstellen.
  • Mit Vorteil können Rasterstrukturen eingesetzt werden, deren Rasterkonstante zwecks Anpassung an unterschiedliche Oberflächenstrukturen variabel ist. In Fig. 3 ist eine Anordnung gezeigt, mit welcher die Konstante einer Rasterstruktur innerhalb eines gewissen Bereiches veränderbar ist. Dazu lagert ein Raster 11 mit einer Konstanten g1 verschieb- oder verdrehbar unter einem zweiten Raster 12 mit einer Konstanten g2.
  • Durch Gegeneinanderverdrehen der beiden Raster 11 und 12 entsteht eine dritte Rasterstruktur mit der Konstanten g. Um diese Wirkung zu erzielen, ist es nicht zwingend erforderlich, Raster gleicher Konstanten zii verwenden.
  • Bin gleicher Effekt ist mit den in Fig. 4 gezeigten FresZnel-Zonenplatten 13 und 14 erreichbar. Der besondere Vorteil bei Verwendung derartiger optischer Bauelemente besteht darin, daß diese gleichzeitig noch zur Konzentration der Lichtflußanteile benutzt werden können.
  • Eine weitere MögLichkeit mit variablen Rasterkonstanten als Referenz zu arbeiten, ist in Fig. 5 dargestellt. Hierin sind die Bauelemente des optischen Korrelators aus Fig. 2 der Scheimpflug-Bedingung gemäß angeordnet. Dementsprechend ist das Werkstück 1 dergestalt angeordnet, daß sich dessen zu untersuchende Oberfläche 1t und die Mittelebene 6 der Abbildungsoptik 6 sowie eine Bildebene 7' der Abbildungsoptik 6, in welcher die Rasterstruktur 7 angeordnet ist, in einer Geraden schneiden.
  • Da durch die schiefe Abbildung unterschiedliche Bildpunkte aus der Oberfläche 1' des Werkstückes 1 mit unterschiedlichen Maßstäben auf die Itasterstruktur 7 abgebildet werden, wirkt diese als Raster mit sich kontinuierlich ändernder Gitterkonstante.
  • Eine bewegbare Blende 34 dient der Auswahl der günstigsten Gitterkonstante.
  • In Fig. 6 ist ein Ausführungsbeispiel einer Einrichtung in Form eines Spiegelschrittgebers dargestellt. Die Oberfläche 1 des Werkstückes 1 reflektiert und streut das von einer nicht gezeigten Lichtquelle ausgehende Licht auf die Fläche 15 eines Hohlspiegels 17. Von dort wird das Bild der Oberfläche 1 durch Reflexion gegenläufig auf eine andere Stelle der Oberfläche 1 projeziert, wodurch deren Struktur durch das Bild der Struktur überlagert wird und die von der Struktur und deren Bild ausgehenden Lichtflüsse miteinander modulieren.
  • Die von der Oberfläche 1 erneut reflektierten, modulierten Lichtflußanteile fallen durch eine Öffnung 18 im Hohlspiegel 17 auf einen fotoelektrischen Empfänger 19, der elektrische Signale erzeugt, welche einen Maßstab für die Qualität der Oberfläche 1 1 des Werkstückes 1 darstellen.
  • Es ist leicht einzusehen, daß je gleichmäßiger das Muster ist, desto besser wird die Übereinstimmung der "Verzahnung" bei der igenfaltung" stimmen und um so größer wird der Nodulationsgrad sein, der für die Qualitätsbestimmung ausgewertet wird.
  • Eine weitere Variante der Einrichtung, und zwar mit einem Meßkopf nach Dyson, ist schematisch in Fig. 7 wiedergegeben.
  • Hierfür sorgt für die Beleuchtung der Oberfläche 1' des Werk stückes 1 eine Lichtquelle 20. Deren-Licht gelangt über einen Kondensorspiegel 21 und eine Öffnung 22- in einem Hohlspiegel 23 in den eigentlichen Meßkopf der Einrichtung, der außer dem HoBlspiegel 23 noch aus einer Korrekturlinie 24 besteht. Hohlspiegel 23 und Korrekturlinse 24 sind in einem Gehäuse 25 untergebracht.
  • Wie bereits in Fig. 6 beschrieben, reflektiert und beugt auch hier die Oberfläche 1 des Werkstückes 1 das auf sie fallende Licht zum Hohlspiegel 23, der in dieser Ausführung nur an vorausbestimmten Flächenanteilen 26 und 27 verspiegelt ist.
  • Vorzugsweise handelt es sich hierbei um Flächenanteile, die in Richtung der zu prüfenden Rattermarken verlaufen, so daß nur von diesen ausgehende Strahlung zur Erzeugung von Signalen herangezogen wird und Strahlung, die von den senkrecht zu den Rattermarken verlaufenden Bearbeitungsriefen erzeugt wird, dafür unwirksam bleibt.
  • Mittels der verspiegelten Flächenanteile 26 und 27 wird über die Korrekturlinse 24 die Struktur der Oberfläche 1' des Werkstückes 1 auf einen anderen Teil der Oberfläche 1' abgebildet und von dort erneut in Richtung Hohlspiegel 23 gebeugt und reflektiert. Die itückstrahtung erfolgt in der Weise, daß die zurücklaufenden Lichtflußanteile aus dem Mekopf durch die Öffnung 22 im Hohlspiegel 23 austreten.
  • Nach dem Austreten werden die Lichtflußanteile über ein Kondensorsystem 28 einem fotoelektrischen Empfänger 29 zugeführt, der aus den ihn beaufschlagenden Lichtflußanteiien elektrische Signale erzeugt, die wechselstrommäßig angekoppelt in einem Verstärker 30, verstärkt und dann mit Gleichrichter 31 und Integrator (Mittelwertbildner) 32 bestehenden Schaltung ausgewertet werden. Die aus der Auswertung hervorgehenden Größen werden einem Anzeigegerät 33 zugeführt und es ist vorstellbar, daß dieses eine Selektivschaltung steuern kann, mittels welcher die zu prüfenden Werkstücke automatisch in "Qut"- bzw. "Ausschuß"-Stücke unterschieden werden.
  • L e e r s e i t e

Claims (8)

  1. Ansprüche 1. Verfahren zum berührungslosen Messen und/oder Prüfen von Oberflächen, wie sie insbesondere bei Bearbeitung von Gegenständen entstehen, im Hinblick auf deren mittlere Grobgestalt, gekennzeichnet durch a) UberLagern der zu messenden und/oder zu prüfenden Oberflächenstrukturen mit entsprechenden Referenzstrukturen, b) Bewegen der Oberflächenstruktur zu den Referenzstrukturen, c) Umformen der aus der Überlagerung resultierenden Lichtflußanteile in elektrische Signale, und d) Auswerten dieser Signale zur Darstellung der gemessenen Grobgestaltwerte.
  2. 2. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Referenstrukturen ein Raster (2; 11; 12; 13; 14) oder das Bild eines Rasters mrgesehen ist, welches auf oder dicht über der zu messenden und zu prüfenden Oberfläche lagert, und daß in Lichtrichtung gesehen dem Raster (2; 11; 12; 13; 14) mindestens ein fotoelektrischer Empfänger (4, 5) nachgeordnet ist, welcher die das Raster (2; 11; 12; 13; 14) verlassenden Lichtflußanteile in elektrische Signale umformt, aus deren Größe die Übereinstimmung zwischen den Referenzstrukturen und Oberflächenstrukturen bestimmbar ist.
  3. 3. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß dieselbe als optischer Korrelator (6 ois 9) ausgebildet ist, welcher aus einem Abbildungssystem (6), einem mindestens in der Nähe der Bildebene des Abbildungssystems befindlichen Raster (7) als Referenzstrukturen und einem mindestens einen Empfänger (8, 9) enthaltenden fotoelektrischen Empfängersystem besteht, dessen aus den aus der Überlagerung der Strukturen abgeleiteten elektrische Signale ein Maß für die Ubereinstimmung von Referenz- und Oberflächenstruktur sind.
  4. 4. Einrichtung nach den Ansprüchen 2 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß das als Referenz eingesetzte Raster (2 ;7) mit variabler Rasterkonstante ausgestattet ist.
  5. 5. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Referenz ein Bild der zu messenden und zu prüfenden Oberflächenstruktur verwendet wird.
  6. 6. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 und 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein im Abbildungsmaßstab 1 : 1 abbildendes System (16; 23) die zu messende und/oder zu prüfende Oberflächenstruktur (1') des Werkstückes (1) gegenläufig auf sich selbst abbildet und das aus den aus der Überlagerung von Oberflächenstruktur und deren Bild resultierenden Lichtflußanteilenelektrische Signale liefert, die ein Maßstab für die Oberflächenqualität sind.
  7. 7. Einrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß in der Fourrier-Ebene des abbildenden Systems (23) Mittel (26; 27) enthalten sind, deren Eigenschaften die Signalbildung aus störenden Strukturen unterdrücken.
  8. 8. Einrichtung nach den Ansprüchen 1, 2, 3 und 6, dadurch gekennzeichnet, daß den die LichtfLußanteile in elektrische Signale umsetzenden fotoelektrischen Empfängern (4; 5; 8; 9; 19; 29) eine Schaltung (30 bis 33) zur Auswertung dieser Signale nachgeordnet ist, die anzeigt, daß starke Modulation ein Zeichen für vorhandene stark ausgeprägte Welligkeit ist.
DE19752555033 1975-12-06 1975-12-06 Verfahren zum beruehrungslosen messen und pruefen von oberflaechen und einrichtung zur durchfuehrung des verfahrens Ceased DE2555033A1 (de)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2413632A1 (fr) * 1977-12-27 1979-07-27 Ibm Procede interferometrique a resolution 1/4 servant notamment pour la fabrication des circuits integres
DE3021448A1 (de) * 1980-06-06 1981-12-24 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren und anordnung zur erfassung raeumlicher abweichungen von einer glatten ebene an oberflaechen von gegenstaenden
EP0105209A1 (de) * 1982-09-06 1984-04-11 Siemens Aktiengesellschaft Optische Anordnung zur Erkennung und Auswertung der Lage eines Objekts

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Generation of Surface Contours by MoirE Patterns, Applied Optics, Vol. 9, Nr. 4, 1970 *
Generation of Surface Contours by Moiré Patterns, Applied Optics, Vol. 9, Nr. 4, 1970
In Betracht gezogenes älteres Patent: DE-PS 24 48 288 *

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