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DE2551372A1 - Verfahren zur herstellung einer lichtempfindlichen masse - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer lichtempfindlichen masse

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Publication number
DE2551372A1
DE2551372A1 DE19752551372 DE2551372A DE2551372A1 DE 2551372 A1 DE2551372 A1 DE 2551372A1 DE 19752551372 DE19752551372 DE 19752551372 DE 2551372 A DE2551372 A DE 2551372A DE 2551372 A1 DE2551372 A1 DE 2551372A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
weight
photosensitive
sensitizer
mass
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19752551372
Other languages
English (en)
Inventor
Josef Hasek
Josef Vinkovic
Eugen Werner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rio Tinto Switzerland AG
Original Assignee
Alusuisse Holdings AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Alusuisse Holdings AG filed Critical Alusuisse Holdings AG
Publication of DE2551372A1 publication Critical patent/DE2551372A1/de
Pending legal-status Critical Current

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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/016—Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/116—Redox or dye sensitizer

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Description

PATENTANWÄLTE
Dipl.-Ing. P. WIRTH · Dr. V. SCHMiED-KOVVARZiK Dipl.-Ing. G. DAN N EN BERG · Dr. P. WE! N HOLD · Dr. D. GUDEL
281134 6 FRANKFURT/M.
TELEFON C06IU ^ QR ESCHENHEIMEn STn.39
N.P..
Wd/Be
Robert Victor Neher A.G. Kreu zünden/ Schweiz
"Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Masse."
Eingaben BllndprSgung mit Kopf (lopan) 74
7 O Π Γ; ίΊ 8 / Γ) 7 O 3
i-r \M2
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Masse in Form einer auf einem Träger befindlichen, lichtempfindlichen Umkehr-Schicht.
Träger mit lichtempfindlichen Umkehr-Schichten sind an sich bekannt. Die bekannten, lichtempfindlichen Massen werden in Form wässriger Lösungen angewendet. Es bedarf hoher Energiemengen und langer Trocknungszeiten, um das Wasser zu verdampfen und die lichtempfindlichen Massen auf dem Träger zu trocknen.
Aufgabe der Erfindung war es, eine lichtempfindliche Masse für Umkehr-Lackschichten vorzuschlagen, die nicht in Wasser gelöst angewendet werden muss.
ORiGINAL INSPECTED
0 9 8 0 8/0703
- - — 2t —
Erfindungsgemäss wird das dadurch erreicht, dass man die lichtempfindliche Masse, enthaltend einen Filmbildner aus 0-90 Gew.% eines Vinylpyrrolidon-Vinylacetat-Copolymers und/oder 90-0 Gew.% eines Polyvinylpyrrolidon s und Io - 80 Gew.% eines Aryl-Sulfonamid-Formaldehydharzes, wenigstens einen Sensibilisator im Gewichtsverhältnis Filmbildner zu Sensibilisator von 1 zu 1 bis 10 zu 1, gelöst in organischem Lösungsmittel, auf den Träger aufbringt, trocknet und nach der Belichtung mit Wasser oder einer Wasser enthaltenden Lösung entwickelt.
Vorzugsweise enthält der Filmbildner 30 - 70 Gew.% eines Vinylpyrrolidon-Vinylacetat-Copolymers und/oder 30 - 70 Gew.% eines Polyvinylpyrrolidons und 30 - 70 Gew.% eines Aryl -Sulfonamid-Formaldehydharzes.
Im Vinylpyrrolidon-Vinylacetat-Copolymer beträgt das Verhältnis zwischen Vinylpyrrolidon und Vinylacetat zweckmässig 70 zu 30 bis 20 zu 80. Copolymerisate innerhalb dieses Verhältnisses der Komponenten zueinander weisen günstige Eigenschaften bezüglich der gewünschten Wasserlöslichkeit und Lichtempfindlichkeit auf.
09808/07-0
- it -
Zweckmässig v/erden der lichtempfindlichen Masse zusätzlich Farbstoffe und/oder Pigmente beigefügt.
Im weiteren kann der lichtempfindlichen Masse zusätzlich ein Sekundärstrah]or beigefügt v/erden.
Ale Sensibilisatoren können an sich bekannte Verbindungen angewendet werden. Zweckmässig vird. in der lichtempfindlichen Masse als Sensibilisator ein Gerbdiazo angewendet.
Vorzugsweise ist das Gerbdiazo aus der Gruppe der Diphenylamindiazoformaldehyd-Kondensate in einer wasserunlöslichen Form. Die Wasserunlöslichkeit kann durch -BF4-, -Molybdat-, Ferricyanat- oder Wolframatgruppen, vorzugsweise durch eine -BF.-Gruppe, erreicht werden.
Als Sensibilisatoren können auch UV-härtende, kurzölige Alkydharze, die einen Photoinitiator für säurehaltige Lacke enthalten, der bei Belichtung mit UV-Strahlen Chlorwasserstoff oder Sulfonsäure wirksam werden lässt, angewendet werden. Derartige Produkte sind z.B. bekannt unter dem Handelsnamen Alkydal der Firma Bayer.
7 0 9 8 0 8/0703
Weitere sensibilisierende Verbindungen sind 4,4'-Diazidostilben, 4,4'-Diazidostilben-2,2'-Disulfosäure, 4,4'-Diazidostilben-3,3'-Disulfosäuren, Phenyldiazoverbindungen, bekannt aus der DOS 2,203,389. 1,3-Diphenyltriazenverbindungen, bekannt aus dem englischen Patent 1,325,974.
£i\xs~ Erhöhung des Kontrastes der entwickelten Kopie, sowie um die Lichtempfindlichkeit der Scnicht zu steigern, können der lichtempfindlichen Masse an sich gebräuchliche Farbstoffe und/oder Pigmente beigemischt werden, die auch als optisches Filter funktionieren. Beispiele dafür sind Methylviolett, ausbleichbares Methylenblau, Viktoriablau, Nilblau, Brillantgrün, Smaragdgrün oder Heliogenblau-Pigmentpaste. Geeignet sind auch anorganische Stoffe mit deutlicher Fluorescenz. Mit Erfolg können komplexierte Salzlösungen in Dimethylsulfoxid von Uranverbindungen und weiter von Erbium, Didym und Lanthanverbindungen, die UV-Strahlen von 230 - 280 nm absorbieren und längerwelliges, immer noch unsichtbares Licht von 260 - 420 nm zurückstrahlen, verwendet werden. Diese Wellenlängen liegen gerade im Bereich der maximalen Diazoempfindlichkeit. Fluoreszierende organische Stoffe, vor allem Benzolderivate, z.B. Anthracen, eignen sich ebenfalls.
709808/0703
Als Farbstoffe für die Erhöhung des Kontrastes der Kopie können auch photochrome Farbstoffe verwendet werden, wie z.B. orangefarbenes Triphenylfulgid, das bei UV-Belichtung in intensives Blau umschlägt. Bei Rotbeiich·:-ng wechselt die Farbe wieder auf orange. Geeignet sind an"'" farblose Spirane, die bei UV-Belichtung durch Isomerisierung in sehr fi^ies Blau übergehen und bei Tageslicht wieder farblos werden. Weiter können öuf diese Wei?« derivate von Acetaniliden, Aldehydhydrazone, Fulgide als Derivate des 2,3-Dimethylbernsteinsäureanhydrids, Thioindigo, Antrachinonderivctte usw. benutzt werden. Auch für transparente Kopien, z.B. Montagefolien, können die erfindungsgemässen,lichtempfindlichen Massen mit Erfolg verwendet werden, indem man noch fluorescierendes Rubren zur Deckungserhöhung verwendet.
Die erfindungsgemässe, lichtempfindliche Masse kann einen Sekundärstrahler enthalten, der den unerwünschten Schnitt kanteneffekt bei Druckplatten, insbesondere bei der Anwendung der Masse anf einem Träger, verhindert. Geeignete organische Sekundär st rahler sind z.B. Acridinorange, Br il lantgrün, Brillantsulvoflavin» Fluoresceinderivate» Geranin, Thioflavin S, Thiazogelbj, Rhodamin,, Lumogen-Typen u.a.. Weiter sind gut brauchbar: Eosin, Silbereosin, Erytrosin, Bengalrosa. Ferner eignet sich 4,4 '-Diaruino-
709806/0703
stilben-2,2'-disulfonsäure und Derivate des Cumarins, Dihydrochinolinons, 1,3-Diarylpyrazolins, Naphthälsäureimids und über CH=CH-Bindungen verknüpfte Benzoxazol-, Benzisoxazol- und Benzinidazolsysterne. Dihydroxynaphthaldazin und Dihydroxybenza.1<~ci:<;.iii können auch angewendet werden.
Ausserordentlich wirksam sind die anorganischen Leuchtstoffe, die von radioaktiven Zusätzen frei sind, bekannt als Lenard-Phosphore und andere Phosphore, wie Sulfid-, Selenid-, Germanat-, Wolframat-, Borat-, Vanadat-, Aluminat- und Halophosphat-Phosphore. Ferner sind alkoholische Chininlösungen oder Chininlactatlösungen oder auch Zinksalicylat verwendbar.
Der Farbstoff und/oder das Pigment kann in Mengen von 0,1 bis 2 Gewichtsprozent, bezogen auf die licht empfi-ndliche Masse, angewendet werden.
Der Sekundärstrahler kann in Mengen von 0,1 bis 6 Gewichtsprozent, bezogen auf die lichtempfindliche Masse, angewendet werden.
Die Anwendung der lichtempfindlichen Masse kann in Form einer auf einem Träger befindlichen, lichtempfindlichen Schicht, vorzugsweise in Form von Druckplatten, erfolgen.
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Die lichtempfindliche Masse wird in den in der Lackchemie gebräuchlichen organischen Lösungsmitteln gelöst. Die Wahl der Lösungsmittel ist nicht kritisch, und. es können beispielsweise Alkohole, Glykoläther, Ketone, Aether, Ester, Dimethyl rorinamid, Dimethylsulfoxid usw. oder Gemische davon angewendet werden. Die gelöste, lichtempfindliche Masse kann auf bekannte Weise, wie Aufstreichen, Taichen, Aufwalzen, Aufbürsten oder Spritzen, durch Zentrifugieren oder auf elektrostatischem Wege, auf einen Träger, beispielsweise Aluminium, mechanisch, chemisch oder elektrolytisch gekörnt und/oder oxidiert, Zink, phosphatiertes Zink, Kupfer, Eisen, Kupfer und/oder Messing, z.B. oxalatiert, Mehrmetallplatten mit Cu-, Cr- oder Ni-Oberfläche, Magnesium, hydrophilisierte Kunststoff-Druckplatten, Montagefolien oder Kunststoff-Metalldruckplatten, aufgebracht werden.
Die auf den Träger aufgebrachte, lichtempfindliche Masse trocknet durch die Anwendung organischer Lösungsmittel sehr schnell bei wenig Energieaufwand. Durch die kurze Trocknungszeit ist auch der Staubanflug minimal. Wechselnde Temperaturen und Luftfeuchtigkeit und sich dadurch bildendes Kondenswasser führt nicht mehr zu Schichtbeschädigung.
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Die erfindungsgemässe, lichtempfindliche Masse eignet sich besonders für Umkehr-Kopierschichten. Bei Belichtung unter einer Vorlage werden die belichteten Stellen durch Gerbung quervernetzt, wodurch die Löslichkeit in Wasser, aber auch in vielen organischen Lösungsmitteln, verdünnten Säuren oder Salzlösungen abnimmt oder verloren geht.
Die unbelichteten Partien behalten die Löslichkeit und beim Entwickeln werden die unvernetzten Schichtteile mit Wasser abgelöst.
Bevorzugt wird die lichtempfindliche Masse mit Wasser entwickelt. Es ist aber auch möglich, Alkohol-Wasser-Gemische oder Wasser-Alkohol-Säure-Gemische anzuwenden.
Derart behandelte Druckplatten können entweder lackiert oder additiv verkupfert werden, wobei die lichtgehärtete Schicht mit Wasser und Bürste wieder entfernt werden kann. Im Falle von Mehrmetallplatten, bei denen Cr- oder Ni-Schichten zum Kupfer durchgeätzt werden sollen, verträgt die Schicht alle ZnCl -armen oder -freien, sogenannten ·
biologischen Aetzen oder elektrolytisches Wegätzen in Chromsäure-Elektrolyt mit Bleielektrode. Cu-Al-Bimetallplatten können chemisch oder auch elektrochemisch verarbeitet werden.
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Nach dem Entwickeln bekommt man eine negative differenzierte Schablone, bei der dann wie schon beschrieben, durch Lackieren oder Verkupfern oder Durchätzen die Druckelemente fixiert werden. Nach dieser Fixierung ist die ScrMäbione nicht mehr nötig oder sogar im"Druck störend und wird mit Wasser und durch leichtes Abbürsten entfernt. Die blossgelegten nirhtdruckenr^n Flächen werden wie üblich hydrophilisierend nachpräpariert, die Platte gummiert und getrocknet und für den Druck fertiggemacht.
Mit den erfindungsgemässen, lichtempfindlichen Massen können Druck- und, Aetzplatten oder -zylinder und transparente Montagefolien hergestellt werden, geeignet für Druckformen für Offsetdruck, Buchdruck, autotypischen Tiefdruck und Siebdruck, sowie in der elektronischen Industrie zur Herstellung von gedruckten und. integrierten Schaltungen, Transistoren usw. und für die Herstellung von Schildern.
Beispiel 1
50 g Aryl-Sulfonamid-Formaldehydharz und 100 g Polyvinylpyrrolidon gelöst in 1000 g Aethanol werden mit
150 g UV-härtendem kurzöligem Alkydharz 60 % in Iso-
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butanol/Xylol und
1000 g Isobutanol/Xylol 9 ; 1 sowie
6 g Triphenylfulgid-als Sekundärstrahler und gleichzeitig Farbstoff homogen vermischt.
Die Masse wird auf eine Kupfer-aluminiam-Bimetallplatte
nach üblichem Verfahren in Mengen von 2 bis 4 g/m aufgetragen und 3. MJmite bei ICO C getrocknet. Die Platte kann gelagert werden und nach beliebig langer Zeit unter UV-Licht, beispielsweise unter einem Negativ, belichtet und anschliessend unter einem Wasserstrahl und mit einem Tampon entwickelt werden. Nach dem Entwickeln kann, ohne vorher getrocknet zu werden, sofort mit einer Fe-haltigen Aetze Kupfer von den nichtdruckenden Stellen weggeätzt werden. Es kann auch im Elfers-Verfahren oder in einer Küvette elektrolytisch entkupfert werden. Anschliessend wird mit Wasser entschichtet und die nichtdruckende Oberfläche hydrophilisiert.
Beispiel 2
200 g Vinylpyrrolidon-Vinylacetat-Copolymer 50 % in Aethanol,
100 g Aryl-Sulfonamid-Formaldehydharz und 2000 g Aethanol werden mit
30 g Diazo-Formaldehydkondensat BF4 und
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300 g Dimethylformamid,
1 g Chinin in lOO ml Aethanol als Sekundärstrahler und 3 g Viktoriablau als Farbstoff gemischt.
Auf bekannte Weise wird diese lichtempfindliche Masse auf einer Chrom-Kupfer-Mehrmetallplatte in Mengen von 1 bis 3 g/m aufgetragen und bei 100 C getrocVr^t. Di^ lagerfähige Platte wird dann unter einer Positivvorlage unter UV-Licht belichtet und nachher mit Wasserstrahl und Tampon entwickelt. Für Korrekturen und zum Ausflecken wird zwischengetrocknet und dann kann mit den üblichen Chromätzen die Chromschicht bis auf das Kupfer durchgeätzt werden. Nach dem Aetzen kann sofort nur mit Wasser und Bürste entschichtet werden. Wie im Beispiel 1 ist auch hier keine Nachhärten der Schicht vor dem Aetzen nötig.
Beispiel 3
200 g Vinylpyrrolidon-Vinylacetat-Copolymer 100 g Aryl-Sulfonamid-Formaldehydharz 100 g Polyvinylpyrrolidon und
100 g l/S-Di-p-Tolyl-S-methyltriazen, als Sensibilisator werden in
500 g Dimethylformamid
1500 g Methylcellosolveacetat
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1500 g Aethanol gelöst, unter Zugabe von 4 g Methylviolett als Farbstoff und 1 g DMSO komplexierten Uranylnitrat als Sekundärstrahler.
Die lichtempfindliche Masse wird auf anodisch oxidiertes
Aluminium in Mengeu von 2 g/m aufgetragen und getrocknet, Nach einer Belichtung unter einem Diapusiriv wird mit Wasser und Tampon entwickelt, zum Ausflecken und für Korrekturen zwischengetrockent und anschliessend mit bekannten Druckbildlacken lackiert und nach dem Lacktrocknen mit Schutzfarbe eingerieben und wieder ohne Hilfsmittel nur mit Wasser und Bürste entschichtet.
Beispiel 4
100 g Aryl-Sulfonamid-Formaldehydharz 200 g Vinylpyrrolidon-Vinylacetat-Copolymer 50 g Polyvinylpyrrolidon
50 g UV-härtendes kurzöliges Alkydharz 70 % in Isopropanol/Xylol
3000 g Isopropanol/Xylol 8 :: 2
5 g Rhodamin und
2 g Silbereosin werden mit
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100 g 2,6-Dibromchinon-(l,4)~diazid-(4), gelöst in 500 g Dimethylformamid und
500 g Methylcellosolveacetat
zu einer homogenen, lichtempfindlichen Masse gemischt und auf eine anodisch oxidierte Aluminiumplatte in
Mengen von 2 g/m aiifgretjc&gen und getrocknet". Beliebig lange nach der Lagerung wird unter einem Diapositiv belichtet, mit Wasser und Tampon entwickelt und ohne notwendige Korrekturen und Zwischentrocknung additiv elektrolytisch mit Tampon verkupfert.
Es ist ohne weiteres möglich, die Platte in der Küvette zu verkupfern, reduktiv und/oder katalytisch zu vernickeln, wobei die Nickelschicht für Fettsäureauf nähme wie Kupfer aktiviert v/erden kann.
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Claims (1)

  1. Patentansprüche
    1. Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Masse, insbesondere in Form einer auf einem Träger befindlichen-, lichtempfindlichen Umkehr-Schicht, dadurch gekennzeichnet, dass man die lichtempfindliche Masse, enthaltend einen FiIm-
    709808/0703
    bildner aus O bis 90 Gew.% eines Vinylpyrrolidon-Vinylacetat-Copolymers und/oder 90 bis 0 Gew.% eines PoIyvinylpyrrolidons und 10 bis 80 Gew.% eines Aryl-Sulfonamid-Formaldehydharzes, wenigstens einen Sensibilisator im Gewichtsverhältnis FilmbildJie» zu Sensibilisator von 1 zu 1 bis 10 zu 1.. gelöst in organischem Lösungsmittel, auf den Träger aufbringt, trocknet und nach der Belichtung mit wasser oder einsr Wasser enthaltenden Lösung entwickelt.
    2· Verfahren gemäss Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche Masse 30 bis 70 Gew.% eines Vinylpyrrolidon-Vinylacetat-Copolymers und/oder 30 bis 70 Gew.% eines Polyvinylpyrrolidone und 30 bis 70 Gew.% eines Aryl-Sulfonamid-Formaldehydharzes enthält.
    3. Verfahren gemäss Patentanspruch I - 2 ,
    dadurch gekennzeichnet, dass als Sensibilisator ein Gerbdiazo angewendet wird.
    4. Verfahren gemäss Patentanspruch I ~ 3 »
    dadurch gekennzeichnet, dass als Gerbdiazo
    70 9808/0 70 3
    ein Diphenylamindiazoformaldehyd-Kondensat in wasserunlöslicher Form angewendet wird.
    5· Verfahren gemäss Patentanspruch 1-2, dadurch gekennzeichnet, dass als Sensibilisator UV-härtende kurzölige Alkydharze, die einen Photoinitiator für säurehaltige Lacke enthalten, der fofex Belichtung mic UV-Strahlen Chlorwasserstoff oder SuIfonsäure wirksam werden lässt, angewendet werden.
    6. Verfahren gemäss Patentanspruch 1-5,
    dadurch gekennzeichnet, dass laan zur lichtempfindlichen Masse zusätzlich Farbstoffe und/oder Pigmente zufügt.
    7. Verfahren gemäss Patentanspruch I - 6,
    dadurch gekennzeichnet, dass man zur lichtempfindlichen Masse zusätzlich einen Sekundärstrahler zufügt.
    8. Verfahren gemäss Patentanspruch I - 7»
    dadurch gekennzeichnet, dass man zur lichtempfindlichen Masse Farbstoffe und/oder Pigmente in Mengen von 0,1 bis 2 Gewichtsprozenten, bezogen auf die lichtempfindliche Masse, zufügt.
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    9· Verfahren gemäss Patentanspruch 1-8,
    dadurch gekennzeichnet, dass man zur lichtempfindlichen Masse Sekundärstrahler in Mengen von 0,1 bis 6 Gewichtspröaentfen, bezogen auf die lichtempfindliche Masse, zufügt.
    10.Lichtempfindliche Masse, insbesondere in Form einer auf einem Träger befindlichen, lichtempfindlichen Umkehr-Schicht, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche Masse einen Filmbildner aus 0 bis 90 Gew.% eines Vinylpyrrolidon-Vinylacetat-Copolymers und/oder 90 bis 0 Gew.% eines Polyvinylpyrrolidons und 10 bis 80 Gew.% eines Aryl-Sulfonamid-Formaldehydharzes und wenigstens einen Sensibilisator im Gewichtsverhältnis Filmbildner zu Sensibilisator von 1 zu 1 bis 10 zu 1 enthält.
    Lichtempfindliche Masse nach Patentanspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass diese 30 bis 70 Gew.% eines Viny!pyrrolidon-Vinylacetat-Copolymers und/oder
    709808/0703
    30 bis 70 Gew.JO eiiies Polyvinylpyrrolidons und 30 bis 70 Gew.% eines Aryl-Sulfonamid-Formaldehydharzes enthält.
    _12. Lichtempfindliche Masse nacn Patentanspruch 10 - 11,
    dadurch gekennzeichnet, dass diese als Sensibilisator ein 6c*t>diazo enthält.
    ^13. Lichtempfindliche Masse nach Patentanspruch 10-12,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass diese als Gerbdiazo ein Diphenylaminöiojoform aid ehyd-.kondensat in wasserunlöslicher Form enthält.
    ,14. Lichtempfindliche Masse nach Patentanspruch 10-11,
    dadurch gekennzeichnet, dass als
    Sensibilisator UV-härtende kurzölige Alkydharze, die einen Photoinitiator für säurehaltige Lacke enthalten, der bei Belichtung mit UV-Strahlen Chlorwasserstoff oder Sulfonsäure wirksam werden lässt, angewendet werden.
    .15. Lichtempfindliche Masse gemäss Patentanspruch 10-14, .
    dadurch gekennzeichnet, dass diese zusätzlich Farbstoffe und/oder Pigmente enthält.
    7 09808/0703
    χο
    _16. Lichtempfindliche Masse gemäss Patentanspruch' 10-15»
    . dadurch gekennzeichnet, dass diese zusätzlich einen Sekundärstrahler enthält.
    .17· Lichtempfindliche Masse gemäss Patentanspruch 10-16,
    dadurch gekennzeichnet, dass
    diese Farbstoffe une?/oder Pigmente in Mengen von 0,1 bis 2 Gewichtsprozent, bezogen auf die lichtempfindliche Masse, enthält.
    18. Lichtempfindliche Masse gemäss Patentanspruch- 10-17*
    dadurch gekennzeichnet, dass
    diese Sekundärstrahler in Mengen von 0,1 bis 6 Gewichtsprozent, bezogen auf die lichtempfindliche Masse, enthält.
    709808/0703
DE19752551372 1975-08-14 1975-11-15 Verfahren zur herstellung einer lichtempfindlichen masse Pending DE2551372A1 (de)

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