DE2550706A1 - Verfahren zur herstellung von gegenstaenden aus quarzglas durch ziehen - Google Patents
Verfahren zur herstellung von gegenstaenden aus quarzglas durch ziehenInfo
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Description
PHN 7βΐ6
J Ii LM /MDH/ J V
30-10-1975·
.... PHN-7S16
.= 10. Κον. 1975
.= 10. Κον. 1975
Verfahren zur Herstellung von Gegenständen aus Quarzglas durch Ziehen.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Quarzglasgegenständen durch Ziehen
aus einer Schmelze.
Aus der schweizerischen Patentschrift 5^+0859
ist ein Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung langgestreckter Gegenstände aus geschmolzenem Quarz
bekannt, nach dem Ausgangsmaterial aus Siliciudioxid in Form von Teilchen kontinuierlich mit einer· vorbestimmten
Geschwindigkeit in den oberen Teil eines erhitzten Ofens
eingeführt wird, das Ausgangsmaterial in der oberen erhitzten Zone des Ofens kontinuierlich in einer Gasatmosphäre
von Wasserstoff und Helium in einem Volumen-
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PHN" 781 6
30- 10- 1975. ·
verhältnis von ^10-65% Wasserstoff zu 60-35$ Helium
und bei einer 20.5O0C nicht unterschreitenden Schmelztemperatur
geschmolzen wird die Erhitzung des geschmolzenen Materials in der unteren Zone mittels
einer gesonderten Erhitzungsvorrichtung fortgesetzt wii'd, wobei eine Temperatur aufrechterhalten wird,
die die Temperatur von 2050°C im geschmolzenen Material unterschreitet, und das geschmolzene
Material kontinuierlich aus der unteren Zone des Ofens mittels einer Formgebungsvorrichtung unter
Vorhandensein einer Wasserstoff in einem nichtoxidierenden Trägergas enthaltenden Atmosphäre
gezogen wird.
Dieses Verfahren hat den Effekt, dass
ein Quarzglas mit einer erheblich kleineren Anzahl eingeschlossener Gasblasen als nach älteren Verfahren
hergestelltes Quarzglas erhalten wird. Eingeschlossene Gasblasen rufen in dem gezogenen Erzeugnis Kanäle in
Ziehrichtung hervor, wodurch sich das Quarzglas weniger gut zur Anwendung als Umhüling, z.B. von Lampen, die
optischen Anforderungen entsprechen müssen, eignet. Der obenbeschriebene Vorgang wird in einer Atmosphäre
durchgeführt, die aus Gasen besteht, die leicht durch das geschmolzene Quarzglas hindurchdiffundieren und
sich gut darin lösen können. Das erhaltene Erzeugnis enthält daher eine erheblich kleinere Anzahl eingeschlossener
Gasblasen und weist ausserdeia eine besonders grosse Masshaltigkeit auf.
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30-1-7- 1975.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass das Auftreten der Gasblasen darauf zur-ückzuführen
ist, dass sich bei der Schmelztemperatur gelöste Gase infolge der Abkühlung während des Ziehvorgangs abscheiden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, auch die verbleibenden Gasblasen aus dem Quarzglas
zu beseitigen und auf diese Weise ein völlig blasenfreies
Quarzglas zu erhalten.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäss dadurch
gelöst, dass die Gegenstände nach Abkühlung zunächst in Luft oder im Vakuum auf eine Temperatur zwischen 800 und
14OO°C während einer Zeitdauer zwischen einigen Tagen
(800°C) und einigen Minuten (i^00°C) in Abhängigkeit
von der gewählten Temperatur und dann während einiger Minuten auf eine Temperatur von mindestens 16OO°C erhitzt
werden.
Erhitzung diffundieren die genannten verbleibenden Gasblasen heraus wobei Vakuumblasen
zurückgelassen werden, die bei der höheren Temperatur zusammengedrückt werden und auf diese Weise ein einwandfreies
Erzeugnis liefern. Das Erzeugnis hat sich sehr gut bewährt, wenn hohe Anforderungen an die optischen
Eigenschaften gestellt werden.
Die Zeitdauer, während deren die Erzeiignisse
bis in den Erweichungsbereich, d.h. auf eine Temperatur von mindestens 16OO°C, erhitzt werden müssen, hängt
von der Höhe derselben ab, aber beträgt in der Regel nicht mehr als einige Minuten. Im allgemeinen wird dafür
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- L·*- PHN 7816
30-10-1975.
gesorgt, class die Temperatur 190O0C nicht überschreitet,
weil sonst die Verformung der Erzeugnisse-unzulässig
wird. Bei einer Technik, bei der ein rohrförmiges Erzeugnis über einen Graphitdorn gezogen und kalibx-iert
wird, wird jedoch auf eine Temperatur von etwa 20000C erhitzt, bei der das Quarzglas geschmolzen ist.
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Claims (1)
- -5- PHN 781630-10-1975.PATENTANSPRUECHE:My Verfahren zur kontinuierlichen Herstellunglanggestreckter Quarzglasgegenstände, wobei Ausgangsmaterial aus Siliciumdioxid in Form von Teilchen kontinuierlich mit einer vorbestimmten Geschwindigkeit in den oberen Teil eines erhitzten Ofens eingeführt wird, das Ausgangsmaterial in der oberen erhitzten Zone des Ofens kontinuierlich in einer Gasatmosphäre von Wasserstoff und Helium in einen Volumenverhältnis von ^O - G^0O Wasserstoff zu 60 - 35^o Helium und bei einer 2O5O°C nicht unterschreitenden Schmelztemperatur geschmolzen wird, die Erhitzung des geschmolzenen Materials in der unteren Zone des Ofens mittels einer gesonderten Erhitzungsvorrichtung fortgesetzt wird, wobei eine Temperatur aufrechterhalten wird, die niedriger als die Temperatur von 205O0C im geschmolzenen Material ist, und das geschmolzene Material kontinuierlich aus der unterer. Zone des Ofens mittels einer 'Formgebungsvorrichtung unter Vorhandensein einer Wasserstoff in einem nichtoxidierenden Trägergas enthaltenden Atmosphäre gezogen wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände nach Abkühlung zunächst, in Luft oder im Vakuum auf eine Temperatur zwischen 800 und i400°C während einer Zeitdauer· zwischen einigen609822/0900PEN.7816 _ £ . 30.10.1975Tagen (8OO°C) und einigen Minuten (i4OO°C) in Abhängigkeit von der gewählten Temperatur und dann während einiger Minuten auf eine Temperatur von mindestens 16ÖOO°C erhitzt werden.609822/0900
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