[go: up one dir, main page]

DE2400783A1 - Widerstandskoerper - Google Patents

Widerstandskoerper

Info

Publication number
DE2400783A1
DE2400783A1 DE19742400783 DE2400783A DE2400783A1 DE 2400783 A1 DE2400783 A1 DE 2400783A1 DE 19742400783 DE19742400783 DE 19742400783 DE 2400783 A DE2400783 A DE 2400783A DE 2400783 A1 DE2400783 A1 DE 2400783A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
resistance
value
per square
layer
alloy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19742400783
Other languages
English (en)
Inventor
Martinus Gerard Jen Heijenbrok
Johannes Adrianus Van Reekum
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of DE2400783A1 publication Critical patent/DE2400783A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/06Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
    • H01C17/075Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thin film techniques
    • H01C17/14Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thin film techniques by chemical deposition
    • H01C17/18Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thin film techniques by chemical deposition without using electric current
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/48Coating with alloys
    • C23C18/50Coating with alloys with alloys based on iron, cobalt or nickel
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/006Thin film resistors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Measurement Of Force In General (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich auf einen Widerstandskörper, der aus einem elektrisch isolierenden Substrat und einer darauf liegenden Schicht aus einer phosphorhaltigen Nickellegierung besteht.
Diese ViderStandskörper sind aus der deutschen Auslegeschrift 1 27Ο 661 bekannt, in der ein Verfahren zur Herstellung solcher Körper beschrieben ist.
Sie weisen jedoch den Nachteil auf, dass sie nur bis zu Quadratswerten von höchstens ΙΟ,Ω. pro Quadrat auf reproduzierbare Weise hergestellt werden können.
Diese Widerstandsschichten werden durch das Einschneiden eines Musters, z.B. durch das Einschneiden einer Spirale, in einen zylindrischen Widerstandskörper auf einen Wert von höchstens 5000Ä pro Quadrat gebracht.
Die Erfindung schafft nun einen Widerstandskörper nit
40983 1/0864
einem Widerstandswert von 100 bis 10.000Xl pro Quadrat mit einem Temperaturkoeffizienten des Widerstandswertes von -100 bis +200 χ 10 /°C, welcher Körper durch Einschneiden auf Werte bis 500 k,£l» gebracht werden kann.
Bekannte Widerstandskörper dieses Widerstandspegels
weisen einen viel grösseren Temperaturkoeffizienten des Widerstandes auf, als aufgedampfte Kohlewiderstände, die z.B,.einen Temperaturkoeffizienten in der Grössenordnung von -1000 χ 10~ /0C aufweisen. Pur eine Anzahl Anwendungen lag jedoch ein Bedarf an einem viel niedrigeren Temperaturkoeffizienten des Widerstandes vor.
Der Widerstandskörper, der aus einem elektrisch isolierenden Substrat und einer darauf liegenden Schicht einer phosphorhaltigen Nickellegierung besteht, ist nach der Erfindung dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht eine Zusammensetzung in Gew.^o innerhalb der folgenden Grenzen aufweist:
Ki 74 - 90
Zn 5-12
P 5 - H
Es wurde festgestellt, dass eine Anzahl Metalle, die als Legierungsbestandteil einer lli-P-Legierung zugesetzt werden, einen unvoraussagbaren Einfluss auf deren spezifische Leitfähigkeit ausüben. Ausser dem im Rahmen der Erfindung brauchbaren Bestandteil Zn wurden noch andere Elemente untersucht. Es wurde gefunden, dass Gd und Mn auch den Widerstandswert steigern, aber auf sehr unreproduzierbare Weise, während auch Pe diesen Wert steigert, aber in unwesentlichem Masse. Weiter wurde gefunden, dass Wolfram und Aluminium den Widerstandswert herabsetzen, während Ca und Ba überraschenderweise gar kein Widerstandsmaterial liefern.
Eine bevorzugte Ausführungsform eines Verfahrens zur Herstellung· von Widerstandskörpern nach der Erfindung besteht darin,
409831/0984
■ 24Q0783
dass das Substrat, nachdem es auf bekannte V/eise mit Keimen versehen ist, mit einer Lösung mit einem pH-Wert zwischen 8 und 11 eines Nickelsalzes, eines Zinksalzes und eines Hypophosphits in Berührung gebracht wird, aus der die obenstehende Legierung mit einem Widerstandswert zwischen 100 und 10.000X1 pro Quadrat in einer Zeitspanne von etwa 30 Minuten bei einer Badtemperatur zwischen 85 und 950C niederschlägt.
Wie an sich für Ni-P-Widerstandsschichten bekannt ist, wird ein stabilisierender Effekt erhalten, wenn diese Schichten einer thermischen Behandlung unterworfen werden. Die für die 'widerstandskörper nach der Erfindung benötigte Behandlung erfolgt bei einer Temperatur zwischen 220 und 3000C während einer Zeitdauer zwischen 5 Minuten und 16 Sttfnden.
Die Erfindung wird nunmehr an Hand einiger .Ausführungsbeispiele näher erläutert.
Keramischer Träger, die aus Stäben mit einer Länge von 15 mm und einem Durchmesser von 4>1 mm aus Steatit bestehen, werden gereinigt, dann jeweils 1 Hinute lang mit nacheinander einer Aiässrigen Lösung mit pro Liter 10 g SnCl_.2H20, einer wässrigen Lösung mit pro Liter 1 g AgNO, und einer wässrigen Lösung mit pro Liter 0,10 g PdCl„ in Berührung gehalten und in entmineralisiertem Wasser gespült.
Dann werden sie 30 Minuten lang mit einem auf 90°0 erhitztenden Vernicklungsbad -der nachstehenden Zusammensetzung pro Liter:
7 g'NiSO .6H2O
10 g NaH2PO2.H2O
40 g Na-Zitrat
und dem angegebenen Zusatz in Berührung gehalten. . ■
Anschliessend werden die Widerstandskörper gespült, ge'trocknet und danach 16 Stunden lang auf 23O0C in Luft gealtert.
409831/0964
Die Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle
angegeben:
Zusatz zu
Basisbad
PH R(0hm) TK ,
χ ΙΟ"6/
6C
R(Ohm)
nach
Alterung
TK c
χ ΙΟ"6/
0C
Analyse Ni P Zn
1
2
3
4
5
5 β ZnSO4.7H2C
10 g "
15 g "
15 g "
15 g "
9,2
9,2
8,2
9,2
10,2
42O
96O
1910
2860
695O
-56
+55
-27
-62
-69
180
550
2050
277O
5880
+87
+187
-6
-22
-51
80,9
82,2
84,2
85,5
81,5
10,7
7,5
7,9
6,6
7,4
8,4
10,5
7,9
9,9
Λ Λ 1
■ ι , I I
Die erhaltenen Widerstände weisen eine sehr grosse Stabilität auf. In die Widerstandsschicht nach 4) wird z.B. eine Spirale eingeschnitten bis ein Wert von 200 kil erreicht. Bei Belastung unter 0,5 W auf 70oC während 1000 Stunden ist die Abweichung weniger als 1^=.
409831/0964

Claims (2)

  1. ΡΗΪί. 6702
    Va/WH/Jeln
    7-12-1973
    2Α00783
    Patentansprüche 1
    Widerstandskörper, der aus einem elektrisch isolierenden Substrat mit einer darauf liegenden Schicht aus einer phosphorhaltig en Nickellegierung mit einem Widerstandswert von 100 - 10.000.i2 pro Quadrat besteht, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht eine Zusammensetzung in Gev.fo innerhalb der folgenden Grenzen aufweist:
    Ni 74 - 90
    P 5 - 12
    Zn 5-14
  2. 2. Verfahren zur Herstellung von Widerstandskörpern nach
    Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat, nachdem es auf bekannte Weise mit Keimen versehen ist, mit einer Lösung mit einem pH-Wert zwischen 8 und 11 eines Nickelsalzes, eines Zinksalzes und eines Hypophosphits in Berührung gebracht wird, aus der eine Legierung mit einem Widerstandswert zwischen 100 und 10.000.Ω-pro Quadrat in einer Zeitspanne von etwa 30 Minuten bei einer Badtemperatur zwischen 85 und 950C niederschlagt.
    409831/0964
DE19742400783 1973-01-25 1974-01-09 Widerstandskoerper Pending DE2400783A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL7301044A NL7301044A (de) 1973-01-25 1973-01-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2400783A1 true DE2400783A1 (de) 1974-08-01

Family

ID=19818079

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19742400783 Pending DE2400783A1 (de) 1973-01-25 1974-01-09 Widerstandskoerper

Country Status (7)

Country Link
JP (1) JPS49109897A (de)
AT (1) AT329682B (de)
DE (1) DE2400783A1 (de)
FR (1) FR2215679B1 (de)
GB (1) GB1436906A (de)
IT (1) IT1004761B (de)
NL (1) NL7301044A (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5219297A (en) * 1975-08-06 1977-02-14 Tadashi Hiura Method of manufacturing a metal film resistor
JPS53142698A (en) * 1977-05-17 1978-12-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing resistor
JPS5453629A (en) * 1977-10-07 1979-04-27 Hitachi Ltd Resistance chemical plating method
JPS55123102A (en) * 1979-03-16 1980-09-22 Kitsunezaki Denki Kk Method of manufacturing metal coating resistor

Also Published As

Publication number Publication date
AT329682B (de) 1976-05-25
FR2215679B1 (de) 1976-11-26
ATA55074A (de) 1975-08-15
NL7301044A (de) 1974-07-29
FR2215679A1 (de) 1974-08-23
GB1436906A (en) 1976-05-26
JPS49109897A (de) 1974-10-18
IT1004761B (it) 1976-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1446161C3 (de) Supraleitendes Bauelement und Verfahren zu seiner Herstellung
DE1253627B (de) Verfahren zur Herstellung eines keramischen Dielektrikums
EP0394875A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Leiterbahnmustern
DE2052148B2 (de) Widerstandsmasse und deren Verwendung
DE3631632C2 (de)
DE69402319T2 (de) Verfahren zur metallisierung von nichtleitenden substraten
DE2400783A1 (de) Widerstandskoerper
DE3101015C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Cermet-Widerstandsschicht, insbesondere für Potentiometer
DE2353942A1 (de) Verfahren zur herstellung einer loetfesten kupferschicht
DE1204738B (de) Elektrischer Schichtwiderstand
DE2846577C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Widerstandsmaterial und durch dieses Verfahren hergestellte Widerstandskörper
DE2900298C2 (de)
DE2433419C3 (de) Keramisches elektrisches Bauelement und Verfahren zu seiner Herstellung
DE593931C (de) Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Widerstandes mit einer metallischen Siliciumschicht auf isolierendem Traeger
DE1765090C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Nickel-Phosphor-Schichtwiderstandseiementen
DE2604839A1 (de) Elektrisches, niederohmiges schicht- widerstandselement und verfahren zu seiner herstellung
DE2634232C2 (de) Verfahren zur stromlosen reduktiven Abscheidung von Nickel-Phosphor-Schichten, insbesondere für elektrische Widerstände
DE914748C (de) Elektrisches Widerstandsmaterial
DE1690507C (de) Elektrisches Schicht-Widerstandselement und Verfahren zu dessen Herstellung
DE699113C (de) mit niedrigem Temperaturkoeffizienten
DE1191921B (de) Induktionsheizelement fuer Zonenschmelz- bzw. -reinigungsvorrichtung sowie Verfahrenzur Herstellung desselben
DE2540999B2 (de) Elektrischer Steckkontakt mit einer Kontaktschicht aus einer Silber-Palladium-Legierung
DE2433458C3 (de) Keramischer elektrischer Widerstand mit positivem Temperaturkoeffizienten und Verfahren zu seiner Herstellung
DE1910081A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Lagern,insbesondere von Klein- und Kleinstlagern
DE591735C (de) Verfahren zur Herstellung hoch- und niederohmiger Widerstaende

Legal Events

Date Code Title Description
OHJ Non-payment of the annual fee