DE2334752A1

DE2334752A1 - METHOD OF MANUFACTURING COLOR SELECTING ELECTRODES FROM COLOR TUBES

Info

Publication number: DE2334752A1
Application number: DE19732334752
Authority: DE
Inventors: Yoshihiko Miyata; Kenji Nakamura; Takeo Takemoto; Yoshiyuki Tsujita; Yoshihiro Yashima
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1972-07-14
Filing date: 1973-07-09
Publication date: 1974-01-31
Also published as: JPS4929566A

Description

Verfahren zur Herstellung von Farbauswahlelektroden von Farbbildröhren Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von Farbauswahlelektroden von Farbbild (Wiedergabe )röhren mit einem sog. "Schwarzmatrix"-Leuchtschirm. Process for the production of color selection electrodes for color picture tubes The present invention relates to a method of making color selection electrodes of color image (reproduction) tubes with a so-called "black matrix" fluorescent screen.

Bei der Herstellung der herkömmlichen Farbbildröhren (vgl. US-PS 3 146 368), die so aufgebaut sind, daß der Durchmesser der durch die Schattenmaske verlaufenden Elektronenstrahlen größer ist als der Durchmesser der Ieuchtpunkte, müssen die T£cher (Aperturen) der Schattenmaske erneut geätzt und auf eine gewünschte Abmessung vergrößert werden, um eine Schattenmaske nach der Herstellung eines Musters von Leuchtpunkten durch die Maskenöffnungen fertigzustellen. In the manufacture of conventional color picture tubes (see US Pat 3 146 368), which are constructed so that the diameter of the through the shadow mask traveling electron beams is larger than the diameter of the light points, the holes (apertures) of the Shadow mask etched again and can be enlarged to a desired dimension to create a shadow mask according to the To complete the production of a pattern of luminous dots through the mask openings.

Es wurde bereits ein Verfahren zur erneuten Ätzung der Schattenmaske diskutiert, bei dem die ganze Schattenmaske oder ein Teil der Schattenmaske in eine Atzlösung eingetaucht wird, ohne daß eine ätzfeste Beschichtung auf ihr vorgesehen ist. Dieses Verfahren bewirkt jedoch eine unerwünschte Verringerung der Dicke der Schattenmaske, was die mechanische Stärke der Schattenmaske herabsetzt und damit diese für eine Deformation aufgrund mechanischer und thermischer Ursachen empfänglich macht. A method of re-etching the shadow mask has already been established discussed, in which the whole shadow mask or part of the shadow mask into one Etching solution is immersed without an etch-resistant coating being provided on it is. However, this method causes an undesirable reduction in the thickness of the Shadow mask, which reduces the mechanical strength of the shadow mask and thus these are susceptible to deformation due to mechanical and thermal causes power.

Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung einer Farbauswahlelektrode einer Farbbildröhre mit einem Schwarzmatrix-Leuchtschirm anzugeben, bei dem die löcher für den Durchgang der Elektronenstrahlen ohne Verringerung der Dicke der Farbauswahlelektrode ausreichend vergrößert werden, wobei dieses Verfahren nicht die oben aufgezeigten Nachteile besitzen soll. It is therefore the object of the present invention to provide a method for Manufacture of a color selection electrode of a color picture tube with a black matrix phosphor screen indicate at which the holes for the passage of the electron beams without reduction the thickness of the color selection electrode can be increased sufficiently using this method should not have the disadvantages indicated above.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch die folgenden Verfahrensschritte: Aufbringen der mit Ukhern versehenen Metallplatte auf eine Unterlage mit einer Oberfläche der gleichen Krümmung wie die mit den löchern versehene Metallplatte, Aufbringen eines Ätzwiderstandsmittels auf ein Übertragungsmedium, Druckeinwirkung des Übertragungsmediums auf die mit den Löchern versehene Platte, so daß das Ätzwiderstandsmittel einheitlich übertragen wird und die Platte mit Ausnahme der Wände der Löcher beschichtet, Trocknen und Verfestigen der Schicht aus dem Ätzwiderstandsmittel auf der Platte, Ätzen der mit den löchern versehenen und so mit dem Ätzwiderstandsmittel beschichteten Platte zur Vergrößerung der löcher, und Entfernen der Schicht aus dem Ätzwiderstandsmittel von der Platte. According to the invention, this object is achieved by the following process steps: Applying the metal plate provided with a core to a base with a surface the same curvature as the perforated metal plate, Apply an etching resistance agent on a transmission medium, pressure applied to the transmission medium on the plate provided with the holes so that the etching resistance agent becomes uniform is transferred and the plate is coated with the exception of the walls of the holes, drying and solidifying the layer of the etching resist on the plate, etching the with the holes provided and thus coated with the etching resistance agent to enlarge the holes, and to remove the layer of the etching resistance agent from the plate.

Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen: Fig. 1 einen Schnitt eines Teiles einer Schattenmaske zur Erläuterung des Ätzens bei dem bereits diskutierten Verfahren, Fig. 2 einen zur Fig. 1 ähnlichen Schnitt gemäß der vorliegenden Erfindung, Fig. 3 ein Diagramm eines Ausführungsbeispieles der Erfindung, und Fig. 4 und 5 Diagramme von anderen Ausführungsbeispielen der Erfindung. The invention is explained in more detail below with reference to the drawing. 1 shows a section of part of a shadow mask for the purpose of explanation of the etching in the process already discussed, FIG. 2 shows a similar one to FIG Section according to the present invention, FIG. 3 shows a diagram of an exemplary embodiment of the invention, and Figs. 4 and 5 are diagrams of other embodiments of the invention Invention.

Zunächst wird ein bereits diskutiertes Verfahren zur erneuten Ätzung einer Schattenmaske näher anhand der Fig. 1 erläutert. Ein ähnliches Verfahren ist bereits in der JA-OS 819/72 beschrieben. First, a previously discussed method for re-etching will be discussed a shadow mask explained in more detail with reference to FIG. 1. A similar procedure is already described in JA-OS 819/72.

In Fig. 1 ist ein Teil einer Schattenmaskenplatte 1 dargestellt, in der eine Anzahl von löchern ausgebildet sind, wobei die löcher im allgemeinen kreisförmige Kegelstümpfe bilden. Ein nicht dargestellter Leuchtschirm befindet sich in einer Lage näher zur Seite A der Schattenmaskenplatte, während die ebenfalls nicht dargestellten Elektronenstrahlerzeuger auf der anderen Seite B der Platte vorgesehen sind. Während der Herstellung der Leuchtpunkte auf dem Schirmträger der Farbbildröhre durch die Löcher 2 der Schattenmaskenplatte werden die Durchmesser der löcher 2 auf der Seite B bei d gehalten, während sie nach der Herstellung der Leuchtpunkte auf D vergrößert werden, was für den Durchgang der Elektronenstrahlen bei einem tatsächlichen Betrieb der Farbbildröhre ausreichend groß ist. Zu diesem Zweck wird die gesamte Schattenmaskenplatte 1 ohne Aufbringung einer Schicht in eine Ätzlösung eingetaucht, die bewirkt, daß die Dicke t der Schattenmaskenplatte 1 auf t" verringert wird, wie dies durch Strichlinien dargestellt ist, da alle freiliegenden Teile der Schattenmaskenplatte einschließlich der Innenwände der löcher 2 und der Seiten A und B geätzt werden. Wenn andererseits eine XFtzlösung nur auf die Seite A aufgesprüht wird, dann wird die Seite A in unerwünschter Weise zusätzlich zur Innenwand des Loches 2 geätzt, wodurch die Plattendicke von t auf t' verringert wird. In jedem Fall schwächt die Verringerung der Dicke der Maskenplatte die mechanische Stärke der sich ergebenden Schattenmaske, und deshalb neigt die Schattenmaske zu einer Deformation bei den folgenden Verfahrensschritten zur Herstellung der Farbbildröhre. Ein anderer Nachteil des betrachteten Verfahrens liegt darin, daß das Ätzen eine Deformation bewirkt, wenn eine mechanische Spannung in der Schattenmaske vorhanden ist. Da weiterhin drei verschiedene, von drei verschiedenen Elektronenstrahlerzeugern ausgesandte Elektronenstrahlen auf einen kleinen Teil der Oberfläche der in einer Farbbildröhre vorgesehenen Schattenmaske gesammelt werden, nimmt die Schattenmaske 1 mit einer verringerten Dicke und daher einer kleineren Wärmekapazität stark in ihrer Temperatur zu, was oft eine thermische Deformation an einem Teil mit erhöhter Temperatur aufgrund von dessen geringer thermischer Leitfähigkeit bewirkt. Diese Deformationen führen oft zu ernsten Mängeln der Farbverschiebung bei einem praktischen Betrieb der Farbbildröhre. In Fig. 1 a part of a shadow mask plate 1 is shown, in which a number of holes are formed, the holes generally Form circular truncated cones. A luminescent screen, not shown, is located in a position closer to side A of the shadow mask plate, while the also electron gun, not shown, on the other side B of the plate are provided. During the production of the luminous dots on the faceplate of the Color picture tube through the holes 2 of the shadow mask plate will be the diameter the holes 2 on side B are kept at d while after making the Luminous dots are enlarged to D, which means for the passage of the electron beams is sufficiently large in actual operation of the color picture tube. To this Purpose is the entire shadow mask plate 1 without applying a layer in an etching solution is immersed, which causes the thickness t of the shadow mask plate 1 is reduced to t ", as shown by dashed lines, since all of the exposed Parts of the shadow mask plate including the inner walls of the holes 2 and the Sides A and B are etched. If on the other hand an XFtz solution only on the side A is sprayed on, then the side A is undesirably in addition to the Etched inner wall of hole 2, reducing the plate thickness from t to t ' will. In either case, reducing the thickness of the mask plate weakens the mechanical one Strength of the resulting shadow mask, and therefore tends the Shadow mask to deformation in the following manufacturing process steps the color picture tube. Another disadvantage of the method under consideration is that that the etching causes deformation when a mechanical stress in the shadow mask is available. There are also three different electron guns from three different ones emitted electron beams on a small part of the surface of the in one Color picture tube provided shadow mask are collected, the shadow mask takes 1 with a reduced thickness and therefore a smaller heat capacity strongly in their temperature increases, which often results in thermal deformation on a part with increased Temperature caused due to its low thermal conductivity. These Deformations often lead to serious color shift imperfections in a practical one Operation of the color picture tube.

Das Prinzip, nach dem eine Farbauswahlelektrode einer Farbbildröhre mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt wird, soll im folgenden anhand der Zeichnung näher erläutert werden. Zur Vereinfachung sind die folgenden Erläuterungen auf eine Schattenmaske für eine Farbauswahlelektrode beschränkt. In Fig. 2, die entsprechend zur Fig. 1 einen vergrößerten Schnitt der wesentlichen Teile zur Erläuterung der erfindungsgemäßen Vergrößerung der Schattenmaskenlöcher zeigt, wird zunächst auf die Oberfläche eines Übertragungs mediums eine Abdecktinte oder -mittel (Maskierungsmittel) aufgebracht, und dann wird ein Teil des Abdeckmittels oder das gesamte Abdeckmittel auf dem Medium zur Oberfläche A' der Schattenmaske 1 übertragen. Die beschichtete Oberfläche der Schattenmaske wird getrocknet und ausreichend verfestigt, um eine Ätzwiderstandsschicht (Markierungsschicht) 3 zu bilden, die einer Ätzlösung widersteht. The principle according to which a color selection electrode of a color picture tube is produced with the method according to the invention, is to be used in the following with reference to the Drawing will be explained in more detail. For the sake of simplicity, the following explanations are given limited to a shadow mask for a color selection electrode. In Fig. 2, the Corresponding to FIG. 1, an enlarged section of the essential parts for explanation shows the enlargement of the shadow mask holes according to the invention, is first a masking ink or agent (masking agent) on the surface of a transfer medium applied, and then some or all of the covering agent is applied on the medium to the surface A 'of the shadow mask 1 transferred. The coated The surface of the shadow mask is dried and sufficiently solidified, to form an etching resistance layer (marking layer) 3 containing an etching solution resists.

Als nächstes wird eine Ätzlösung auf die Schattenmaske von deren Seite A' aus durch eine geeignete Einrichtung aufgesprüht, so daß nur die freiliegenden Teile der löcher in der Schattenmaske erneut geätzt und auf vorbestimmte Abmessungen vergrößert werden. Schließlich wird die Ätzwiderstandsschicht auf der Schattenmaske durch Waschen entfernt. Auf diese Weise werden die Innenwände der löcher 2 ohne Verringerung der Dicke der Schattenmaskenplatte 1 geätzt, während gleichzeitig der Durchmesser von d auf D zunimmt, wie dies durch Strichlinien in Fig. 2 dargestellt ist, so daß schließlich eine Schattenmaske auf zufriedenstellende Weise hergestellt ist.Next, apply an etching solution to the shadow mask from its side A 'sprayed out by a suitable device so that only the exposed Parts of the holes in the shadow mask are etched again and to predetermined dimensions be enlarged. Finally, the etch resist layer becomes on top of the shadow mask removed by washing. In this way, the inner walls of the holes 2 without Reducing the thickness of the shadow mask plate 1 etched while at the same time the Diameter increases from d to D, as shown by dashed lines in FIG so that a shadow mask is finally produced in a satisfactory manner is.

Im folgenden wird ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Eine Vorrichtung zur Anbringung oder Beschichtung des Abdeckmittels auf einer Oberfläche der Schattenmaskenplatte mittels drehbarer Walzen sowie eine Schattenmaskenplatte sind in Fig. 3 dargestellt. In dieser Figur ist der gesamte Abschnitt einer Schattenmaskenplatte 1' mit löchern 2 (nicht dargestellt) gezeigt. Die Schattenmaskenplatte 1', die im allgemeinen eine Metallplatte aus 0,1 bis 0,3 mm dickem Weichstahl umfaßt, ist leicht mechanisch deformierbar. Zur Verhinderung einer Deformation aufgrund des von den Walzen 2 während der Beschichtung mit dem Abdeckmittel 5 einwirkenden Druckes ist die Schattenmaskenplatte 1' auf einer Unterlage 4 mit der gleichen Krümmung wie die Oberfläche B' der Schattenmaskenplatte 1' so gelagert, daß die Oberfläche B' die Unterlage 4 berührt. The following is an embodiment of the present invention explained in more detail with reference to the drawing. A device for application or coating of the covering means on a surface of the shadow mask plate by means of rotatable Rollers and a shadow mask plate are shown in FIG. In this figure is the entire section of a shadow mask plate 1 'with holes 2 (not shown) shown. The shadow mask plate 1 ', which is generally a metal plate of 0.1 up to 0.3 mm thick mild steel is easily mechanically deformable. To prevent a deformation due to the from the rollers 2 during the coating with the Covering means 5 of acting pressure is the shadow mask plate 1 'on a base 4 with the same curvature as the surface B 'of the shadow mask plate 1' so stored so that the surface B 'touches the base 4.

Im folgenden wird die Beschichtung der Oberfläche A' der Schattenmaskenplatte 1' mit dem Abdeckmittel näher erläutert. The following is the coating of the surface A 'of the shadow mask plate 1 'explained in more detail with the covering means.

Das in einem Behälter gespeicherte Abdeckmittel 5 wird zu einer Auftragungsanordnung gespeist. Insbesondere wird es zuerst auf eine Mittelzuführwalze 6 gespeist und dann über eine Schwingwalze 7 zu Reiterwalzen 8 übertragen, von wo das Abdeckmittel zu Walzen 9 und einem Verteilungszylinder 10 gebracht wird, wo ihn eine geeignete Viskosität und Dicke von beispielsweise 50 bis 5000 Poise und 2 bis 15 mji verliehen wird. Weiterhin wird eine vorbestimmte Menge an Abdeckmittel zu Formwalzen 13 über Übertragungswalzen 11 und 12 gespeist. Wenn die Formwalze 13 vom Punkt E' zum Punkt F' auf der Oberfläche A' der Schattenmaskenplatte zusammen mit den anderen Walzen rollt, dann bewegt sich die Achse der Formwalze 13 vom Punkt E zum Punkt F entlang der Kurve 14, die durch eine Strichlinie dargestellt ist, um so eine Beschichtung der Ätzwiderstandsschicht 3 auf der Oberfläche A mit einheitlicher Dicke zu erhalten. The covering means 5 stored in a container becomes an application arrangement fed. In particular, it is first fed onto a center feed roller 6 and then transferred via an oscillating roller 7 to rider rollers 8, from where the covering agent is brought to rollers 9 and a distribution cylinder 10, where it is a suitable one Viscosity and thickness of, for example, 50 to 5000 poise and 2 to 15 mji are imparted will. Furthermore, a predetermined amount of masking agent is applied to forming rollers 13 Transfer rollers 11 and 12 fed. When the forming roller 13 from point E 'to point F 'on surface A' of the shadow mask plate along with the other rollers rolls, then the axis of the forming roller 13 moves from point E to point F along of the curve 14, which is represented by a dashed line, to such a coating of the etching resistance layer 3 on the surface A with a uniform thickness.

Die Formwalze ist im allgemeinen zylinderförmig und besteht vorzugsweise aus einem solchen Material, daß ihr Wandteil durch den im wesentlichen rechtwinklig auf die Oberfläche A' einwirkenden Druck einer elastischen Deformation bis zu einem gewissen Grad unterworfen ist, so daß die Formwalze 13 in einem möglichst engen Kontakt mit der gekrümmten Oberfläche A gehalten werden kann. Ein derartiges für den Randteil der Formwalze 13 geeignetes Material umfaßt Gummi mit einer Härte von 100 bis 900 (japanische Industrienorm -JIS K 6301-1962), wie beispielsweise Butadien-Acrylnitrilgummi oder ein dazu gleichwertiges Material, das ausreichend ätzbeständig ist. Da eine zu große Deformation des Randteiles der Formwalze 13 bewirken kann, daß die Innenwand der Löcher 2 der Schattenmaskenplatte 1 in unerwünschter Weise mit dem Abdeckmittel beschichtet wird, ist es erforderlich, daß die Festigkeit des Randteiles der Formwalze 13 über einem bestimmten Pegel liegt. Weiterhin darf das Abdeckmittel nicht in die Löcher 2 einfließen, während es einheitlich auf der Oberfläche A der Schattenmaskenplatte 1' vorgesehen ist. Weiterhin muB das Abdeckmittel gut ätzbeständig sein und vorzugsweise aus einem Material bestehen, das vollständig von der Oberfläche der Schattenmaske mit einem chemischen Mittel entfernbar ist oder keine Schäden auf der Oberfläche der Schattenmaske während der Wärmebehandlung nach dem Ätzen hervorruft. Es ist auch möglich, ein Abdeckmittel zu verwenden, das vollständig verbrennbar oder zu Asche reduzierbar und auf der Oberfläche der Schattenmaske ohne nachteilige Einwirkung auf die Eigenschaften der Farbbildröhre anbringbar ist. Da es schwierig ist, das Ätzwiderstandsmittel über dem gesamten gekrümmten Bereich der Oberfläche A gleichzeitig mit einer einzigen zylinderförmigen Form walze aufzubringen, ist es, erforderlich, entweder sicherzustellen, daß kein Teil der Oberfläche A der Schattenmaskenplatte 1 unbeschichtet bleibt, in dem eine einzige Formwalze in vier Richtungen bewegt wird, oder verschiedene Formwalzen vorzusehen, die gleichzeitig betrieben werden können, um in einer kurzen Zeit durchgehend die Oberfläche A zu beschichten. Obwohl in Fig. 3 lediglich eine einzige Formwalze verwendet wird, ist die oben erwähnte Alternative auf ähnliche Weise anwendbar. The forming roll is generally cylindrical and is preferably made made of such a material that its wall part through the substantially rectangular on the surface A 'acting pressure of an elastic deformation up to a is subjected to a certain degree, so that the forming roller 13 in a narrow as possible Contact with the curved surface A can be maintained. One such for material suitable for the edge portion of the forming roller 13 comprises rubber having a hardness of 100 to 900 (Japanese Industrial Standard -JIS K 6301-1962) such as butadiene-acrylonitrile rubber or one to it equivalent material that is sufficiently resistant to etching is. Since too great a deformation of the edge part of the forming roller 13 can cause, that the inner wall of the holes 2 of the shadow mask plate 1 in an undesirable manner is coated with the covering agent, it is necessary that the strength of the Edge portion of the forming roller 13 is above a certain level. Furthermore, this is allowed Covering agent does not flow into the holes 2 while it is uniform on the surface A of the shadow mask plate 1 'is provided. Furthermore, the covering agent must be good Be etch-resistant and preferably consist of a material that is completely is removable from the surface of the shadow mask with a chemical agent or no damage on the surface of the shadow mask during the heat treatment after etching. It is also possible to use a covering means that completely combustible or reducible to ash and on the surface of the shadow mask can be attached without adversely affecting the properties of the color picture tube. Since it is difficult to apply the etching resistance over the entire curved area to apply the surface A simultaneously with a single cylindrical form roller, it is necessary to ensure either that no part of the surface A of the Shadow mask plate 1 remains uncoated, in which a single forming roller in four Directions is moved, or to provide different forming rollers at the same time can be operated to continuously surface A in a short time coat. Although only a single forming roller is used in FIG the above alternative can be applied in a similar manner.

Wenn ein Abschnitt der Beschichtung keine ausreichend dicke Abdeckmittelschicht auf der Oberfläche A der Schattenmaskenplatte 1 erzeugen kann, die ätzbeständig ist, so ist es möglich, mehrere Beschichtungsabschnitte vorzusehen, um eine gewünschte Dicke zu erzielen. Aus wirtschaftlichen Gründen ist es jedoch wünschenswert, die Menge des eingespeisten Abdeckmittels so einzustellen, daß die gewünschte Dicke mit einem oder zwei Beschichtungsabschnitten erreicht wird. If a section of the coating does not have a sufficiently thick layer of masking agent on the surface A of the shadow mask plate 1 can produce the etch-resistant is, it is possible to provide a plurality of coating sections around a desired one To achieve thickness. For economic reasons, however, it is desirable that the Adjust the amount of covering agent fed in so that the desired thickness is achieved with one or two coating sections.

In Fig 4 ist ein Schnitt durch ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung dargestellt, bei dem die Abdecktinte auf die Oberfläche der Schattenmaskenplatte mittels eines elastischen Druck- oder Filzblockes 15 aufgebracht wird. In dieser Figur gleichen die Schattenmaskenplatte 1£ und die Unterlage 4 den entsprechenden Teilen der Fig. 3. In Fig. 4 is a section through another embodiment of the Invention illustrated, in which the masking ink on the surface of the shadow mask plate is applied by means of an elastic pressure or felt block 15. In this Figure the shadow mask plate 1 £ and the base 4 resemble the corresponding Parts of FIG. 3.

Zunächst wird eine vorbestimmte Menge an Abdeckmittel auf die Oberfläche einer Abdeckmittel- oder Arbeitsplatte 16 mittels einer Verteilerwalze 17 aufgebracht, um dadurch eine Ätzwiderstandsschicht (Maskierungsschicht) 3' einer vorbestimmten Dicke herzustellen. Von oberhalb der Ätzwiderstandsschicht 3' wird der Filzblock 15 nach unten gedrückt, um mit einem vorbestimmten Druck 2 von beispielsweise 0,1 bis 60 kg/cm2 rechtwinklig auf die Oberfläche der Arbeitsplatte einzuwirken, so daß eine vorbestimmte Menge an Ätzwiderstandsmittel (Maskierungsmittel) auf den Boden oder die untere Oberfläche des -Filzblockes übertragen wird. Dieser Filzblock 15 wird in eine Lage oberhalb der Oberfläche A' der Schattenmaskenplatte 1' gebracht und rechtwinklig gegen deren Oberfläche gedrückt, so daß das am Boden des Filzblockes haftende Ätzwiderstandsmittel ganz oder teilweise auf die Oberfläche A' der Schattenmaskenplatte 1' übertragen wird, um die Beschichtung abzuschließen. Der Filzblock 15 besteht vorzugsweise aus Silikonkautschuk, Gelatine mit einem Zusatz, Polyvinylchloridharz oder einem gleichwertigen Material einer hohen Übertragungsgeschwindigkeit des Abdeckmittels, das unter Druck elastisch deformierbar ist. Es ist anzustreben, daß die untere Oberfläche des Filzblockes 15 und die Oberfläche der Arbeitsplatte die gleiche Krümmung wie die Oberfläche A' der Schattenmaskenplatte aufweisen, um einen einheitlichen Kontakt an jedem Punkt zwischen dem Boden des Filzblockes und der Oberfläche A' der Schattenmaskenplatte zu gewährleisten, selbst wenn diese abhängig von der Eigenschaft des Filzblockes 15 eben sind. Aus wirtschaftlichen Gründen sollte die untere Oberfläche des Filzblockes so groß wie möglich sein, solange im wesentlichen der gleiche Druck zwischen jedem Punkt der Zwischenfläche zwischen dem Filzblock und der Schattenmaskenplatte einwirkbar ist. First, a predetermined amount of masking agent is applied to the surface a cover or work plate 16 applied by means of a distributor roller 17, to thereby an etching resistance layer (masking layer) 3 'of a predetermined To manufacture thickness. From above the etching resistance layer 3 ', the felt block 15 pressed down to a predetermined pressure 2 of for example 0.1 to act at right angles to the surface of the worktop up to 60 kg / cm2, see above that a predetermined amount of etching resist (masking agent) on the Floor or the lower surface of the felt block is transferred. This block of felt 15 is in a position above the surface A 'of the shadow mask plate 1' brought and pressed at right angles against the surface, so that the bottom of the Felt block adhering etching resistance to the surface in whole or in part A 'of the shadow mask plate 1' is transferred to complete the coating. The felt block 15 is preferably made of silicone rubber, gelatin with an additive, Polyvinyl chloride resin or equivalent material of high transfer speed of the covering means, which is elastically deformable under pressure. The aim is to that the lower surface of the felt block 15 and the surface of the countertop have the same curvature as the surface A 'of the shadow mask plate uniform contact at every point between the bottom of the block of felt and of the surface A 'of the shadow mask plate even if it depends of the property of the felt block 15 are flat. For economic reasons, it should the bottom surface of the block of felt should be as large as possible, as long as substantially the same pressure between each point of the interface between the block of felt and the shadow mask plate can be acted upon.

Im allgemeinen ist es schwierig, die Beschichtung des Xtzwiderstandsmittels (Maskierungsmittels) auf dem gesamten Bereich der Oberfläche A' der Schattenmaskenplatte mit einem einzigen Filzblock in einer Übertragungsrichtung durchzuführen, und deshalb ist es erforderlich, die Übertragung verschiedene Male mit einem oder mit mehreren Filzblöcken durchzuführen. Die erforderliche hohe Leistungsfähigkeit wird in der Praxis durch MeEhanisierung jedes Verfahrensschrittes der Beschichtung auf der Grundlage des in der Fig. 4 dargestellten Prinzips erzielt. Die Eigenschaft des Ätzabdeckmittels sollte so sein, daß dieses nicht nur ätzfest und entfernbar ist, sondern auch eine Leichtfltissigkeit und Trocknungsgeschwindigkeit aufweist, was insbesondere bei dem Verfahren mittels eines Filzblockes erforderlich ist. In general, it is difficult to coat the Xtz resistor (Masking agent) on the entire area of the surface A 'of the shadow mask plate to be carried out with a single block of felt in one transfer direction, and therefore it is necessary to do the transfer several times with one or more To carry out felt blocks. The required high performance is achieved in the Practice by MeEhanizing each process step based on the coating that shown in FIG Principle achieved. The property the etch masking agent should be such that it is not only etch-resistant and removable is, but also has an easy liquidity and drying speed, which is particularly necessary in the method using a felt block.

Ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei dem die Übrtragung mittels eines Filmes erfolgt, ist in der Fig. 5 dargestellt. In dieser Figur entsprechen die Schattenmaskenplatte 1 ' und die Unterlage 4 den gleichen Teilen in den Ausführungsbeispielen der Figuren 3 und 4. Der Übertragungsfilm 18, der ein Übertragungsmedium ist, dessen eine Seite mit einer Ätzwiderstandsschicht (Maskierungsschicht) 3 einer einheitlichen Dicke mittels Walzen beschichtet ist, hat eine untere Seite, die in engem Kontakt mit der Oberfläche A' der Schattenmaskenplatte 1' ist. Ein einheitlicher Druck von bei-2 spielsweise 0,1 bis 60 kgocm wirkt auf alle Punkte der Zwischenfläche zwischen dem Übertragungsfilm 18 und der Schattenmaskenplatte 1' mittels eines Druckwerkzeuges 19 in einer kurzen Zeit ein, und dann wird der Übertragungsfilm 18 mit dem Ergebnis entfernt, daß eine Ätzwiderstandsschicht einer vorbestimmten einheitlichen Dikke auf der Oberfläche A' der Schattenmaskenplatte 1' ausgebildet ist. Another embodiment of the invention in which the transfer takes place by means of a film, is shown in FIG. In this figure correspond the shadow mask plate 1 'and the base 4 have the same parts in the embodiments of Figs. 3 and 4. The transfer film 18, which is a transfer medium, of which one side with an etching resistance layer (masking layer) 3 of a uniform Thickness is coated by means of rollers, has a lower side that is in close contact with the surface A 'of the shadow mask plate 1'. A uniform print from for example 0.1 to 60 kgocm acts on all points of the interface between the transfer film 18 and the shadow mask plate 1 'by means of a printing tool 19 in a short time, and then the transfer film 18 becomes with the result removes an etch resist layer of a predetermined uniform thickness is formed on the surface A 'of the shadow mask plate 1'.

Der Übertragungsfilm 18 hat vorzugsweise die gleiche Krümmung wie die Oberfläche A auf der einen Seite der Schattenmaskenplatte 1' und ist ausreichend dick, beispielsweise 0,1 bis 2 mm, und elastisch, um in engem Kontakt mit der Oberfläche A' der Schattenmaskenplatte 1' zu sein. Ein geeignetes Material für den Übertragungsfilm 18 ist Polyamid, Teflon (Wz), Polyester oder dgl. Wenn ein einziger Film nicht die gesamte Oberfläche der Schattenmaske 1' bei einer Beschichtung bedecken kann, dann kann ein kleinerer Film als die Fläche der Oberfläche A verwendet werden, um die Beschichtungen zu wiederholen, so daß sichergestellt ist, daß die gesamte Oberfläche A ausreichend beschichtet ist.The transfer film 18 preferably has the same curvature as the surface A on one side of the shadow mask plate 1 'and is sufficient thick, e.g. 0.1 to 2 mm, and elastic to be in close contact with the surface A 'of the shadow mask plate 1'. A suitable material for the transfer film 18 is polyamide, Teflon (TM), polyester or the like. If a single film not can cover the entire surface of the shadow mask 1 'with a coating, then a smaller film than the area of surface A can be used to Repeating the coatings so that it is ensured that the entire surface A is sufficiently coated.

Bei dem betrachteten Ausführungsbeispiel kann ein Abdeckmittel mit der gleichen Eigenschaft wie das bei den vorherigen Ausführungsbeispielen verwendete Abdeckmittel vorgesehen werden. In the exemplary embodiment under consideration, a covering means can also have the same property as that used in the previous embodiments Cover means are provided.

Die nach dem oben beschriebenen, erfindungsgemäßen Verfahren mit drehbaren Walzen hergestellte Schattenmaske wird nun mit der nach dem herkömmlichen Verfahren hergestellten Schattenmaske verglichen. According to the method according to the invention described above with rotatable rollers produced shadow mask is now with the after the conventional Process produced shadow mask compared.

In der Fig. 1 wurde eine mit Öffnungen versehene Schattenmaskenplatte aus Weichstahl, die 0,18 mm dick ist und Öffnungen von 0,23 mm Durchmesser aufweist, ohne Abdeck- oder Maskierungs- oder Widerstandsbeschichtung auf der Oberfläche A durch Besprühung mit einer Eisenchloridlösung von der Seite A aus geätzt. Als Ergebnis ist der Durchmesser auf 0,33 oder 0,34 mm vergrößert, während die Dicke t auf 0,13 oder 0,14 mm verringert ist. In Fig. 1, an apertured shadow mask plate has been shown Made of mild steel that is 0.18 mm thick and has openings of 0.23 mm in diameter, without masking or masking or resistive coating on surface A etched from side A by spraying with a ferric chloride solution. As a result the diameter is increased to 0.33 or 0.34 mm, while the thickness t is increased to 0.13 or 0.14 mm is reduced.

Andererseits wurde die Oberfläche A einer mit Öffnungen versehenen Schattenmaskenplatte 1' aus Weichstahl, die 0,18 mm dick ist und Öffnungen von 0,23 mm Durchmesser aufweist, mit einem Ätzwiderstandsmittel (Maskierungsmittel) M-81 (hergestellt von der Fa. On the other hand, the surface A became an apertured one Shadow mask plate 1 'made of mild steel, which is 0.18 mm thick and openings of 0.23 mm in diameter with an etching resist (masking agent) M-81 (manufactured by the company

TAIYO INK MFG Co., LTD., Tokio, Japan) durch Siebdrucken mit drehbaren Walzen (Fig. 3) beschichtet und dann durch Wärmeeinwirkung bei 700 Celsius während 30 min getrocknet. Danach wurde eine Abkühlung und Ätzung in der oben beschriebenen Weise durchgeführt. Der Durchmesser d vergrößerte sich auf 0,33 oder 0,34 mm, während die Dicke der Schattenmaskenplatte zwischen 0,175 und 0,180 mm verblieb, was im wesentlichen der ursprünglichen Abmessung entspricht.TAIYO INK MFG Co., LTD., Tokyo, Japan) by screen printing with rotatable Rolls (Fig. 3) and then coated by the action of heat at 700 Celsius during Dried for 30 min. Thereafter, cooling and etching were carried out in the manner described above Way done. The diameter d increased to 0.33 or 0.34 mm, while the thickness of the shadow mask plate remained between 0.175 and 0.180 mm, which in the substantially corresponds to the original dimensions.

Die ernsten Nachteile der herkömmlichen Verfahren, nämlich daß die Schattenmaske der Farbbildröhren leicht einer Deformation unterworfen ist, was eine Verschiebung der Farben bei einem praktischen Betrieb der Farbbildröhre bewirkt, werden, wie aus der obigen Beschreibung hervorgeht, durch die vorliegende Erfindung vermieden. The serious disadvantages of the conventional methods, namely that the The shadow mask of the color picture tubes is easily subjected to deformation, which is a Causes shifting of the colors in a practical operation of the color picture tube, as understood from the above description, are made by the present invention avoided.

Obwohl sich die obige Beschreibung auf eine Schattenmaske mit kegelförmigen Löchern bezieht, so braucht doch nicht besonders darauf hingewiesen zu werden, daß die Erfindung auch auf Löcher in der Form eines Schlitzes, einer Kombination aus einem Schlitz und einer Kugel oder dgl. anwendbar ist. Although the above description refers to a shadow mask with cone-shaped Relates to holes, it need not be particularly pointed out that the invention also applies to holes in the shape of a slot, a combination of a slot and a ball or the like. Applicable.

Claims

1. A method of manufacturing a color selection electrode for a Black matrix phosphor screen type color picture tube comprising a thin metal plate is made, in which holes are made, with the screen on the plate is applied to the faceplate of the tube, and in which the holes in the plate are enlarged for the production of the color selection electrode, g e k e n n drawn through the following process steps: Application of the holes (2) provided Metal plate (1) on a base (4) with a surface of the same curvature like the metal plate (1) provided with the holes (2), application of an Xtzwiderstan.lsmittel on a transmission medium (6, 7, 8, 9, 10, 11, 12; 13 19), the action of pressure Transmission medium on the plate (1) provided with the holes (2) so that the Etching resistance is uniformly transferred and the plate (1) with the exception the walls of the holes (2) coated, drying and solidification of the layer (13) from the Xtzwiderstandmittel on the Ylatte (1), etching the with the holes (2) and so coated with the etching resistance plate (1) to enlarge the Holes (2), and Removal of the layer (3) from the etching resistance means from the plate (1).

2. The method according to claim 1, characterized in that the transmission medium comprises an application arrangement of a central feed roller (6), a swing roller (7), rider rollers (8), a distribution cylinder (10), transfer rollers (11, 12) and a forming roll (13).

3. The method according to claim 1, characterized in that the transmission medium has an elastic felt (15).

4. The method according to claim 1, characterized in that the transmission medium comprises a pressure tool (19) with an elastic transfer film (18) on a surface of the tool (19) is applied, the surface of the tool (19) and the transfer film (18) have the same curvature as that with the holes (2) provided metal plate (1).