DE2362134A1 - Halbleiterbauelement - Google Patents
HalbleiterbauelementInfo
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Description
DIPL-ING. P. G. BLUMBACH · DIPL-PHYS. Dr. W. WESER · DIPL-ING. DR. JUR. P. BERGEN
£2 WIESBADEN · SONNENBERGER STRASSE 43 ■ TEL (06121) 562943, 561998
DlPL-ING. R. KRAMER MÖNCHEN
WESTERN ELECTRIC COMPANY Incorporated New York, N. Y. ν 1007, VStA
Hetherington 137
Halbleiterbauelement
Die Erfindung betrifft ein Halbleiterbauelement, insbesondere zur Verwendung als Schalter, mit einer Vielzahl im Leitungstyp auch
bezüglich des Substrates alternierender Halbleiter schichten (P-EPl, N. P. N, P),
bei dem ein Transistoreffekt durch Wechselwirkung zwischen
Substrat und zwei aufeinanderfolgenden benachbarten Schichten vorhanden ist.
Weil Halbleiterbauelemente in Kreuzpunkten von Vermittlungsnetzwerken
gegenüber ihren metallischen Gegenstücken Vorteile bieten, interessierte
man sich in den letzten Jahren sehr für dieses Gebiet, und es wurden
in der Literatur eine Reihe von Festkörper-Vermittlungsnwtzwerken beschrieben.
Der beispielsweise häufig als Kreuzpunktbauelement verwendete pnpn-Thyristor ist Schaltern mit Metallkontakten in einer
Reihe von wichtigen Punkten überlegen. Er ist beträchtlich schneller
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arbeitet energieärmer, ist billiger und kann, was wichtig ist, leicht
miniaturisiert und als integrierte Schaltung ausgeführt werden. Auf
der anderen Seite weisen die als Kreuzpunktbauelemente verwendeten Halbleiter mindestens eine Eigenschaft auf, aufgrund derer sie nur in
relativ kleinen Vermittlungsnetzwerken verwendet werden können. Denn
wenn sich der Halbleiter im Zustand "Ein" oder Leitzustand befindet
dann ist seine Impedanz, verglichen mit der Impedanz eines Kreuzpunkt bildenden metallischen Bauelementes, groß. Ein solches Impedanzverhalten
ist schon deshalb unerwünscht, weil es die durch das Netzwerk übertragenen Signale mit einem Verlust befrachtet. Dieser Verlust
ist ein Aspekt, auf den· sich die Erfindung richtet, und wird dadurch
überwunden, daß man vorteilhaft ausnützt, was bis jetzt ein unerwünschter
und sich-daraus ergebender Zustand war, daß man das Netzwerk als
integrierte Schaltung ausführte.
Integrierte Schaltungen werden in der Weise hergestellt, daß man
auf einem elektrisch leitenden Siliziunisubstrat Bauelemente bildet, die im allgemeinen sehr dicht beieinanderliegen. Daraus ergibt sich, daß einige Maßnahmen ergriffen werden müssen, um jedes Element elektrisch vom Substrat zu isolieren, damit keine Kopplung zwischen
auf einem elektrisch leitenden Siliziunisubstrat Bauelemente bildet, die im allgemeinen sehr dicht beieinanderliegen. Daraus ergibt sich, daß einige Maßnahmen ergriffen werden müssen, um jedes Element elektrisch vom Substrat zu isolieren, damit keine Kopplung zwischen
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ihnen auftreten kann. Ein bekanntes Isolationsverfahren ist das Diodenoder
pn-Übergangsverfahren. Bei diesem Verfahren wird jedes· Element
von einem in Sperrichtung vorgespannten pn-übergang umgeben, den man erhält, wenn man das p-Substrat der Schaltung mit dem am stärksten
negativen Potential des Systems verbindet. Es tritt also in jedem Übergang
ein hoher Widerstand auf. \Veil die Struktur der integrierten Schaltung physisch weder ergänzt noch geändert werden muß, ist darin
ein Vorteil gegenüber anderen Verfahren wie etwa dem Lüftisolationsverfahren zn sehen, bei dem in der-Grundstruktur Luftspalten vorgesehen
werden, um die Bauelemente zu trennen und so die Kopplung zu
minirnallsieren. Doch weisen integrierte Schaltungen mit pn-Über- ·
gangen einen Nachteil auf, wegen dem man alternative Isolationsyerfahreh
bevorzugt,
Die effektiven Dioden, die durch die in Sperrichtung vorgespannten
pn-Übergänge dargestellt werden, bilden häufig unerwünschte Schaltungskomponenten,
die die Wirkung der integrierten Schaltung stören. Zum Beispiel wird ein parasitärer pnp-Transistor durch das negativ
vorgespannte p-Substrät, eine η-und eine p-Schicht einer integrierten
pnpn-Halbleitersturktur gebildet. In einem Vermittlungsnetzwerk
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ti ,
kann dieser parasitäre Transistor so wirken, daß er Signalströme, die an einem Netzwerkdraht anliegen, mit dem Schaltμngssubstrat
kurzschließt. Diese parasitären Effekte sind bekannt, und es wurden
in der Vergangenheit Schritte unternommen, um sie zu eliminieren oder wenigstens zu reduzieren. So kann zum Beispiel die Stromverstärkung
(ß) des parasitären Transistors mit Absicht kleiner gemacht werden. Der parasitäre Effekt kann mit Hilfe der oben erwähnten
Luftisolierung reduziert werden. Diese Verfahren wird in bestimmten bekannten Festkörper-Vermittlungsnetzwerken verwendet.
Die erfindungsgemäße Aufgabe besteht darin, die bezeichneten Schwierigkeiten
und Nachteile zu beheben.
Zur Lösung der Aufgabe geht die Erfindung von einem Halbleiterbauelement
der eingangs genannten Art aus und ist dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat mit einer Spannungsquelle verbunden ist, deren
Spannung negativer als ein an das Halbleiterbauelement angelegtes Signal ist, und daß der effektive Transistor in seiner aktiven Zone
vorgespannt ist, wenn sich das Halbleiterbauelement im leitenden Zustand befindet, wodurch der Transistorstrom aus dem negativ vor-
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gespannten Substrat aufnimmt und Signale verstärkt, die vom .Halbleiterbauelement
geschaltet werden.
Der normalerweise unerwünschte parasitäre Transitoreffekt wird
erfindungsgemäß vorteilhaft nicht nur dazu benutzt, um den bereits
oben erwähnten, in Festkörper-Vermittlungsnetzwerken anzutreffenden
Übertragungsverlust zu überwinden, sondern tatsächlich auch dazu, um in Netzwerkkreuzpunkten den Strom zu verstärken. Es ist also
ein erfindungsgemäßes Merkmal,- daß in jedem. Kreuzpunkt eines
integrierten Vermittlungsnetzwerkes ein effektives Halbleiterverstärkungselement
realisiert wird, ohne daß die Bauelemente einer physischen Zusatzbehandlung unterzogen werden müssen, während
sie hergestellt werden.
Ein spezielles erfindungsgemäßes Festkörper-Vermittlungsnetzwerk ist elektrisch als ein xy-Koordinatenfeld von Kreuzpunktschaltern,
die irgendeinen Leiter aus einer Vielzahl von x-Koordinatenleitern
mit irgendeinem Leiter aus einer Vielzahl von y-Koordinatenleitern
verbinden, aufgebaut. Alle Kreuzpunktschalter sind pnpnTThyristoren,
deren Kathode bzw. -Anode mit einem x- bzw. y-Koordinatenleiter,
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236213Λ
dort wo sich die Koordinatenleiter im Koordinatenfeld schneiden, verbunden ist, wodurch auf konventionelle Weise ein einzelner Leiterweg zwischen jedem. x-Koordinatenleiter und irgendeinem y-Leiter
entsteht. Welcher spezielle Kreuzpunkt gewählt wird, hängt üblicherweise
von den Eigenschaften des pnpn-Thyristors ab. Der Thyristor wird leitend gemacht und durch einen Steuerimpuls, der an seine
"Basis angelegt wird, in den Zustand "Ein" geschaltet. Er bleibt solange
in diesem Zustand, wie ein Strom aus einer Vorspannungsquelle,
der größer als ein vorherbestimmter Schwellenwertpegel ist, durch
ihn hindurch fließt. Sobald der bezeichnete Strom unter diesen Pegel sinkt, kehrt der Thyristor in den Sperrzustand zurück. Bei dem für
Beschreibungszwecke angenommenen erfindungsgemäßen Aufbaubeispiel werden die Basen der in Richtung der χ-Koordinaten liegenden
Thyristoren mit Hilfe individueller Steuerleitungen für jede x-Koordinate zusammengeschaltet und so dafür gesorgt, daß eine der x-Koordinaten
ausgewählt werden kann. Eine y-Koordinate wird aufgesucht, indem man gleichzeitig mit der Auswahl eines x-Leiters einen Strom aus
der Vorspannungsquelle an einen ausgesuchten y-Leiter anlegt. Die erwähnte Vermittlungsnetzwerkorganisation und der Vorgang der.
Koordinatenwahl sind bereits bekannt. Netzwerke der bezeichneten Art wurden in verschiedener Weise als integrierte Schaltungen ausgeführt.
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Ein erfindungsgemäß als monolithische Schaltung ausgeführtes integriertes
Vermittlungsnetzwerk wird konventionell und nach bekannten Verfahren hergestellt. Dabei werden sowohl die aktiven als auch die "..
passiven Elemente in ein einer Siliziumscheibe gebildet, indem man
Verunreinigungen in vorherbestimmte Zonen eindiffundiert, um die elektrischen Eigenschaften zu verändern und pn-Übergänge herzustellen.
Bei einem Verfahren wird, kurz gesagt, eine n-Schicht in ein Siliziumsubstrat,
das mit einem p.-Dotierstoff dotiert ist, eingelassen, indem
man sie in vorherbestimmte Zonen des Substrates, eindiffundiert, wo
die Schaltungselemente gebildet werden sollen. Dann wird über der gesamten Oberfläche eine p-Epitaxieschicht aufwachsen gelassen und
danach η-Kanäle durch die Epitaxieschicht bis zur eingelassenen n-Schicht
eindiffundiert, damit an den Schaltungselementplätzen isolierte Zonen stehen bleiben. In diese isolierten p-Zonen werden nun Zonen
aus n-Material und schließlich, wenn pnpn-Halbleiter Verlangt sind,
Zonen aus prMaterial in die zuletzt erwähnten n-Zonen eindiffundiert.
Was die Struktur der Plätze pnpn-Halbleiter angeht, so besteht sie
offenbar aus einer η-Schicht, die eine ρ-Epitaxie schicht auf fünf
Seiten umgibt, welch letztere ganz ähnlich eine η-leitende Schicht umgibt, in der sich dann ganz entsprechend und abschließend eine
p-Schicht befindet. Die zuletzt-erwähnten drei Schichten sind also durch
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eine η-Schicht vom p-Substrat isoliert und durch einen pn-übergang
abgetrennt.
. Der pn-Über gang, der das Substrat von der benachbarten n-Schicht
des pnpn-Halbleiters abtrennt, wird nach dem erfindungsgemäß verwendeten
Übergangsisolationsverfahrens in Sperrichtung vorgespannt, indem das am meisten negative Potential der Schaltung an das p-'
leitende Substrat angelegt wird. Was die elektrische Verbindung
der beschriebenen Halbleiterzonen in einem beispielsweisen Netzwerkkreuzpunkt anbetrifft, so wird angenommen, daß die Anode die erste p-Schicht und die Kathode die die erste p-Schicht umgebende n-Schicht kontaktiert, und daß die Basis mit der verbleibenden n-Schicht verbunden ist. Diese elektrische Verbindung und die vorteilhaft angewendete
Isolation des pn-Übergangs, die durch Anlegen einer Vorspannung
in Sperrichtung zustande kommt, macht die erfindungsgemäße Signalverstärkung in einem Netzwerkkreuzpunkt möglich. Wenn ein pnpn-Kreuzpunkthalbleiter leitend gemacht wird, dann wird der pn-übergang zwischen der p-Epitaxieschicht und der Kathodenschicht in Durchlaßrichtung vorgespannt, und es fließt Strom zwischen der Anode und der Kathode des pnpn-Elementes. In dieser Zeit liegt ein weiteres
effektives Halbleiterelement in Form eines pnp-Transistors vor, der durch das p-Substrat, die eingelassene n-Schicht und die benachbarte
der beschriebenen Halbleiterzonen in einem beispielsweisen Netzwerkkreuzpunkt anbetrifft, so wird angenommen, daß die Anode die erste p-Schicht und die Kathode die die erste p-Schicht umgebende n-Schicht kontaktiert, und daß die Basis mit der verbleibenden n-Schicht verbunden ist. Diese elektrische Verbindung und die vorteilhaft angewendete
Isolation des pn-Übergangs, die durch Anlegen einer Vorspannung
in Sperrichtung zustande kommt, macht die erfindungsgemäße Signalverstärkung in einem Netzwerkkreuzpunkt möglich. Wenn ein pnpn-Kreuzpunkthalbleiter leitend gemacht wird, dann wird der pn-übergang zwischen der p-Epitaxieschicht und der Kathodenschicht in Durchlaßrichtung vorgespannt, und es fließt Strom zwischen der Anode und der Kathode des pnpn-Elementes. In dieser Zeit liegt ein weiteres
effektives Halbleiterelement in Form eines pnp-Transistors vor, der durch das p-Substrat, die eingelassene n-Schicht und die benachbarte
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ρ-Epitaxieschicht gebildet wird. Das bezeichnete Substrat ist der
Kollektor, die Kathode des pnp-Elementes die Basis und die p-Epitaxieschicht
der Emitter des bezeichneten Transistors. Weil der pn-übergang des Substrates in Sperrichtung vorgespannt ist,
spannt der das pnpn-Element durchfließende Strom den effektiven
Transistor in seiner aktiven Zone vor. Die Folge ist, daß Strom
aus dem Substrat aufgenommen wird, der den Signalstrom verstärkt,
der am Netzwerkpfad einschließlich des Kreuzpunktes anliegt, der
Gegenstand der Überlegungen ist.
Es liegt also eine neue und verbesserte Festkörper-Netzwerkanordnungen
mit einem verstärkend wirkeriden Halbleiter als integralem Teil eines Kreuzpunktes vor, der als Nebenprodukt des verwendeten
Isolationsverfahrens einfach realisiert wurde.
Man versteht mehr über Aufbau, Wirkungsweise und Merkmale .eines
erfindungs gemäß en Festkörper-Vermittlungsnetzwerkes, wenn man die weiter unten folgende spezielle Beschreibung in Verbindung mit
den beigefügten^-Zeichnungen betrachtet. Die Zeichnungen zeigen:
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Fig. 1 allgemein das Blockdiagramm des
elektrischen Aufbaus eines als Beispiel dienenden integrierten Vermittlungsnetz .
Werkes gemäß der Erfindung,
Fig. 2 in perspektivischer Schnittansicht die
Einzelheiten der Struktur der integrierten Schaltung eines der in Fig. 1 abgebildeten
Kreuzpunktes.
In der Fig. 1 ist ein erfindungsgemäßes Xachrichtenvermittlungsnetz werk
mit einem xy-Koordinatenfeld von Kreuzpunktschaltern 10, die
mit einem als Träger dienenden Substrat 11 ein vollständiges Ganzes bilden, dargestellt. Die integrierte Schaltung wird·so hergestellt, daß
in den Kreuzpunkten der Schalter 10 eine Vielzahl von Leitern 12 zur x-Koordinatenwahl und von Steuerimpulsleitern 13 sowie eine
Vielzahl von Leitern 14 zur y-Koordinatenwahl miteinander verbunden
werdend Weil die Schalter 10 identisch sind, sind die elektrischen
Details nur eines einzigen Schalters, des Schalters 10' , dargestellt,
der ein pnpn-Halbleiterthyristor 15a ist, dessen Schichten zur Erleichterung
der Identifizierung nachstehend als "p-epi", "n", "p"
und "n" (eingelassene Schicht) bezeichnet werden. Das verwendete
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Halbleitersymbol soll anzeigen, daß die eingelassene η-Schicht die
übrigen Schichten vollkommen vom Substrat 11 isoliert. Die Basis
des Thyristors 15a kontaktiert die η-Schicht und ist über eine Diode
15b mit dem Steuerimpulsleiter 13' verbunden. Die Kathode und
Anode des Thyristors 15a kontaktieren die eingelassene n-Schicht
bzw. die p-Schicht und sind mit einem x-Koordinatenleiter 12' bzw.
einem y-Koordinatenleiter 14' verbunden. Die Basis und die Anode
sind über einen Widerstand 15c miteinander verbunden. Die soeben beschriebenen elektrischen Verbindungen sind für Thyristorschalter
in Netzwerkkreuzpunkten allgemein kennzeichnend und sollen für das erfindungsgemäße Verfahren den SchaltungsZusammenhang eines
beispielsweisen Kreuzpunktes demonstrieren.
Das in. der Fig. 1 dargestellte Koordinatenfeld mit rechtwinkligen
Koordinaten zeigt nur Kreuzpunkt-Beispiele. Praktisch weist das Netzwerk eine beliebige Kreuzpunktzahl auf, die durch die Systembebindungen
sinnvoll festgelegt werden kann. Obwohl es für das Verständnis der Erfindung unwesentlich ist, soll kürz eine Periphereschaltung,
wie sie einem Vermittlungsnetzwerk der hier diskutierten Art in der Regel zugeordnet ist, betrachtet werden. Die x-Koordinatenleiter
sind über Wandler mit Eingangs signal quellen wie etwa der
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Quelle 16 verbunden, die über den Wandler 17 an den Leiter 12' •gekoppelt ist. Der Thyristor 15a wird von einer Vielzahl von
Steuerimpulsquellen, zum Beispiel der mit dem Leiter 13' verbundenen
Quelle 18, gesteuert. Alle y-Koordiantenleiter sind am Netzwerkausgang
mit einer Schaltung versehen, die die Thyristoren vorspannt und ihnen Strom zuführt. Ferner ist am Netzwerkausgang
eine Einrichtung vorgesehen, die Signale, die durch das Netzwerk übertragen, verfügbar macht. Stellvertretend für alle anderen y-Koordinatenleiter
ist der Leiter 14' so dargestellt, daß er über einen Ausgangsanschluß mit der Vorspannungsgebenden Stromquelle
19 (bias current source) verbunden ist. Weil die Details der Eingangs-Ausgangs-
und Steuer schaltungen bekannt sind, sind sie nur in Blockform dargestellt und brauchen nicht weiter beschrieben zu werden,
außer wenn es darum geht, die Art der erzeugten Ausgangssignale zu spezifizieren.
Wie die in der Fig. 1 dargestellten Netzwerkelemente als integrierte
Schaltung ausgeführt werden, demonstriert die in der Fig. 2 abgebrochen wiedergegebene Schnittansicht eines Aufbaubeispiels. Der
in der Sehnittansicht abgebildete Teil der integrierten Schaltung
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weist ein p-Siliziumsubstrat 21 auf, auf dem die pnpn-Thyristoren,
Dioden und Widerstände der Kreuzpunkte mit Hilfe bekannter Diffusionsverfahren als isolierte Schichten als Halbleitermaterial
gebildet sind. In der Figur ist eine einzelner Kreuzpunkt mit "zwei
kongitudinal verlaufenden Schichten 22 und 23 dargestellt, die-man
beide zuerst in das Substrat 21 eindiffundiert und mit einer in der
Zeichnung als ρ gekennzeichneten, aufwachsengelassenen ρ-Epitaxieschicht
25 überdeckt. Dann diffundiert man wieder Material in die Epitaxieschicht ein, um diese zu durchdringen, damit die ursprünglich
eindiffundierten, gerade erwähnten, η-Schichten als eingelassene
und von den p-Schichten 25a bzw. 25b, welch letztere innerhalb der n-Schiehten 22 bzw. 23 angeordnet sind, isolierte Schichten stehen
bleiben. In einem zweiten Verfahrensschritt werden die n-Schichten
26a bzw. 26b in die p-Epitaxieschichten 25a bzw. 25b und in einem
letzten Verfahrens schritt die p-Schicht 27 in die n-Schicht 26 a eindiffundiert.
Die so gekennzeichneten Halbleiterschichten können mit den in der Fig. 1 schematisch dargestellten Elementen wie
folgt in Verbindung gebracht werden: Die Schicht 22 bildet die n-leitende iS^chicht eines-Thyristors 15a und ist dessen Kathode,
die er mit anderen Kreuzpunkten seiner x-Koordinate, die in der
Fig. 1 schematisch durch den Leiter 12 wiedergegeben wird, gegemeinsam hat. Die Schicht 23 bildet mit der ρ-Epitaxieschicht 25b
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die Diode 15b und ferner einen Steuerimpulsleiter 13 in Richtung
der x-Koordinate. Die Schicht 26a stellt den n-Basiskontakt des
Thyristors 15a dar. Die Schicht 26b baut den Widerstand 15c auf. Die Metalleiter 28 und 29 komplettieren die Schaltungsverbindungen
des in der Fig. 2 als Beispiel angeführten Kreuzpunktes. Der Leiter
28 entspricht dem y-Koordinatenleiter 14 und stellt als solcher eine elektrische Verbindung mit der p-leitenden Anodenschicht 27
des Thyristors 15a und einem Ende der Widerstandsschicht 26b her.
Der metallische Leiter 29 kontaktiert die Basisschicht 26a und das
andere Ende der bezeichneten Widerstandsschicht 26b, um die Kreuzpunktverbindungen
zu vervollständigen.
Ausgehend von dem soeben beschriebenen Aufbau des als Beispiel angeführten erfindungsgemäßen Festkörper-Netzwerkes sollen
die Wirkungsweisen desselben und seine neuen Merkmale beschrie- ben werden. Für diesen Zweck wird angenommen, daß der Kreuzpunkt
10J des in der Fig. 1 abgebildeten Netzwerkes ausgewählt
wurde, um einen Übertragungsweg durch das Netzwerk aufzubauen. Normalerweise sind die Dioden 15b der Kreuzpunkte, die dem
Steuerimpulsleiter 13'in Richtung x-Koordinate zugeordnet sind, durch eine positive Spannung in Sperrichtung vorgespannt (back biased),
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die von einer Steuerimpulsquelle 19 angelegt wird, um sicherzustellen,
daß der Thyristor 15a keinen Basisstrom aufnimmt. Wenn der Steuerimpulsleiter 13' als eine der Koordinaten, die
den Kreuzpunkt 10* bestimmen, ausgewählt ist, legt die Quelle.
18 einen negativen Impuls an den Leiter 13' an, wodurch die Diode·
15b der ausgewählten Koordinaten in Durchlaßrichtung vorgespannt und ein Steuerimpuls an die Basen des Thyristors 15aangelegt
wird, dessen Amplitude größer als ein vorherbestimmter Sehwell wertpegel
ist, um die Thyristoren in den leitenden Zustand zu
überführen. Wenn die Thyristoren ,leiten, ist ihre Impedanz zwischen
Anode und Kathode klein. Sie bleiben auf den bezeichneten
Steuerimpuls hin solange leitfähig, wie der Anoden-Kathoden-Strom
größer als ein charakteristischer Strompegel, zum Vorspannen ist.
Dieser vorspannungserteilende Strom wird von der Quelle 19 selektiv
an den ausgewählten Leiter 14' in Richtung der y-Koordinate, die den Kreuzpunkt 10' der anderen Koordinate definiert, angelegt. Der
Thyristor 15a des Kreuzpunktes 10' ist nun leitend und bleibt auch
nach dem Eintreffen des von der Quelle 18 angelegten Steuerimpulses
in diesem Zustand, bis die Quelle 19 keinen vorspannungsbildenden
Strom (biasing current) mehr liefert.
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Wenn der pnpn-Thyristor 15a des Kreuzpunktes 10' in den leitenden
Zustand übergeht,, dann ist der pn-Übergang (Kathode) in Durchlaßrichtung
vorgespannt. Doch wird das Substrat entsprechend der erfindungsgemäß verwendeten Übergangsisolation mit dem negativsten
Systempunkt verbunden, d. h. im vorliegenden Falle mit 3rde. Der np-Übergang (Kathode-Substrat) ist also immer in Sperrichtung
vorgespannt. Es ergibt sich ein effektiver pnp-Transistor 15d, der
in der Fig. 1 dargestellt ist, dessen p-Kollektor (Substrat) auf Erdpotential
liegt. Der Emitter des Transistors 15d ist die p-epi-Schicht des Thyristors 15a und die Basis die eingelassene η-Schicht (Kathode)
des bezeichneten Thyristors. Wenn der pn-Übergang (Kathode) des Thyristors in Durchlaßrichtung vorgespannt wird, wird der effektive
Transistor 15d in seiner aktiven Zone vorgespannt. Die Folge ist,
daß Strom, aus dem Substrat 11 aufgenommen wird und den von der
Quelle IC angelegenten Signalstrom verstärkt. Man kann die von
dem effektiven Transistor Iod bewirkte Verstärkung aus den in ihm fließenden Augenblicksströmen herleiten. So besteht eine Beziehung
zwischen dem durch den Emitter des bezeichneten Transistors fließenden Augenblicksstrom i dem Augenblicksstrom i. aus
der Quelle 16 und dem augenblicklichen Substratstrom in . In
sub
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positivem Umlaufs sinn genommen, ist der Augenblicks strom i durch den Emitter des Transistors 15d gegeben als:
out+ in+ sub+ - (1)
In negativem Umlaufssinn genommen, ist der Augenblicksstrom i
durch den Emitter des Transistors 15d gegeben als:
out- in- sub- . (2)
Daraus folgt allgemein:
out in sub , (3)
i , = ß . x i. (4)
sub si in ·
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β . ist die Stromverstärkung des Transistors 15d. Die .Verstärkung
des Kreuzpunktes 10' ergibt sich also aus der Beziehung:
(ß . + 1) χ i.
= S1
= S1
Jeder in einem Festkörper-Kreuzpunkfclement auftretende Serienwiderstand
kann leicht durch Betas in der Größenordnung von 0, 1 kompensiert werden.
Es wurde nur ein spezielles erfindungsgemäßes Ausführungsbeispiel beschrieben. Fachleute können natürlich verschiedenartige und zahlreiche
andere Anordnungen entwerfen, ohne vom Inhalt und Schutzumfang, wie er durch die beigefügten Ansprüche definiert ist, abzuweichen.
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Claims (2)
1. J Halbleiterbauelement, insbesondere zur Verwendung als —'
Schalter, mit einer Vielzahl im Leitungstyp auch bezüglich des
Substrats (Fig. 2; 21) alternierenderHalbleiterschichten (Fig. 2; P-EPl/N, P, N, P)1 bei dem ein Transistoreffekt durch Wechselwirkung
zwischen Substrat und zwei aufeinanderfolgenden benachbarten Schichten vorhanden ist, ' -
dadurch gekennzeichnet,
daß das Substrat mit einer Spannungsquelle verbunden ist, deren
Spannung negativer als ein an das Halbleiterbauelement angelegtes Signal ist und daß der effektive Transistor in seiner aktiven Zone
vorgespannt ist, wenn sich das Halbleiterbauelement im leitenden Zustand befindet, wodurch der Transistor Strom aus dem negativ
vorgespannten SLibstrat aufnimmt und Signale verstärkt, die vom
Halbleiterbauelement geschaltet werden.
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- 20 - ■ .
2. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnez,
daß es mit mindestens einem weiteren derartigen Halbleiterbauelement
zum Erhalt eines Schalterfeldes kombiniert ist, daß eine Vielzahl von Eingängen selektiv mit einer Vielzahl von Ausgängen
verbindet.
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|---|---|---|---|---|
| JPS576833B2 (de) * | 1974-12-20 | 1982-02-06 | ||
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| US4125855A (en) * | 1977-03-28 | 1978-11-14 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Integrated semiconductor crosspoint arrangement |
| JP2910139B2 (ja) * | 1990-03-28 | 1999-06-23 | ソニー株式会社 | マトリクススイッチャ装置 |
| US5117207A (en) * | 1990-07-30 | 1992-05-26 | Lockheed Sanders, Inc. | Monolithic microwave airbridge |
| US5793126A (en) * | 1995-11-29 | 1998-08-11 | Elantec, Inc. | Power control chip with circuitry that isolates switching elements and bond wires for testing |
| US6552371B2 (en) * | 2001-02-16 | 2003-04-22 | Teraburst Networks Inc. | Telecommunications switch array with thyristor addressing |
| TWI307970B (en) * | 2005-12-13 | 2009-03-21 | Macroblock Inc | Light-emitting semiconductor device with open-bypass function |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL284363A (de) * | 1960-03-23 | 1900-01-01 | ||
| US3575646A (en) * | 1966-09-23 | 1971-04-20 | Westinghouse Electric Corp | Integrated circuit structures including controlled rectifiers |
-
1972
- 1972-12-18 US US00316284A patent/US3786425A/en not_active Expired - Lifetime
-
1973
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