DE2228117A1 - Hohlkathoden-duoplasmatron-ionenquelle - Google Patents
Hohlkathoden-duoplasmatron-ionenquelleInfo
- Publication number
- DE2228117A1 DE2228117A1 DE19722228117 DE2228117A DE2228117A1 DE 2228117 A1 DE2228117 A1 DE 2228117A1 DE 19722228117 DE19722228117 DE 19722228117 DE 2228117 A DE2228117 A DE 2228117A DE 2228117 A1 DE2228117 A1 DE 2228117A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cathode
- ion source
- anode
- hollow cathode
- hollow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/08—Ion sources; Ion guns using arc discharge
- H01J27/10—Duoplasmatrons ; Duopigatrons
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
2129/71 d XIIl/1567
Dipl.-Ing. Richard Müller-Bornef
Dip/.-ing. Hans-Heinrich Wiy ·
ι«.
Berlin, den 6. Juni 1972 25 031
EUROPAEISCHE ATOMGEMEINSCHAFT (EURATOM)
Patentanmeldung
Hohlkathoden-Duoplasmatron-Ionenquelle
Die Erfindung bezieht sich auf eine Ionenquelle nach dem Duoplasmatronprinzip
mit einer rohrförmigen Hohlkathode, durch die Metall- oder Gasatome eingeleitet werden, mit einer gekühlten Hohlanode,
durch die der Ionenstrom austritt, mit einer flaschenförmigen Zwischenelektrode, die die Kathode und einen Raum vor dieser
in Richtung auf die Anode umschließt und sich gegen die Anode verengt, mit Mitteln zur Erzeugung eines Magnetfelds in Strahlrichtung
innerhalb der Zwischenelektrode sowie mit einem Fokussiersystem, welches den Ionenstrahl im Bereich der Anode fokussiert.
209882/0641
Ionenquellen braucht man beispielsweise in der Kernphysik als Eingangsstufen von Teilchenbeschleunigern. Hierbei besteht vielfach
der Wunsch, eine hohe Stromstärke mit einer großen Stromdichte, d.h. Konzentration des Ionenbündels, zu verbinden. Den
Beinamen Duoplasmatron verwendet man für Ionenquellen besonders großer Stromdichte, welche durch Kombination zweier Mechanismen
der Entladungsverdichtung erzielt wird (siehe hierzu beispiels- . weise M. von Ardenne: Tabellen zur Elektronenphysik, Ionenphysik
und Uebermikroskopie 1958, Bd. I1 S. 531 ff).
Eine andere besonders leistungsfähige Ionenquelle ist in dem Bericht der Aerojet-General Corporation AGN TP-I98 beschrieben.
Diese Quelle wird mit einem Neutralgas gespeist, welches durch eine Hohlkathode in einen Entladungsraum eingeführt wird. Die
Atome des zugeführten Gases werden an der glühenden Kathodenoberfläche
ionisiert und anschließend mit Hilfe geeigneter elektrischer und magnetischer Felder in Richtung auf ein kleines
Austrittsloch beschleunigt. Zwischen der Kathode und diesem Austrittsloch bildet sich eine Plasmasäule aus, die im Bereich des
Austrittslochs mit Hilfe elektrostatischer Linsen gebündelt wird. Die Strahlstromdichte bei dieser Ionenquelle war im Mittel
130 mA/cm bei einem Strahldurchmesser von 2 cm.
Es ist Aufgabe der Erfindung, die Strahlstärke wesentlich^ zu
erhöhen. Dies wird bei einer Duoplasmatron-Ionenquelle der eingangs erläuterten Art dadurch erreicht, daß das Fokussiersystem
als magnetische Linse ausgebildet ist, welche zwei koaxial zum Ionenstrahl und hintereinanderliegende ringförmige Polschuhe
aufweist.
In einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen
Ionenquelle ist der von der Kathode weiter entfernte Polschuh zugleich als Hohlanode geschaltet. Weiter befindet sich in dieser
Ionenquelle eine Abschirmscheibe, die elektrisch und mecha-
2129/71 d xiii/1567 209882/0 641 _*
nisch mit der Zwischenelektrode verbunden ist und ein zentrales
Loch aufweist, durch welches die Hohlkathode frei hindurchragt. Diese Scheibe dient einerseits dem Schutz der Isolation zwischen
der Kathode und der Zwischenelektrode gegen den Niederschlag leitender'
Schichten und andererseits kann sie als Hilfselektrode zum Starten der Entladung verwendet werden. In einer weiteren
erfxndungsgemaßen Ausführungsform der Ionenquelle sind mehrere
rohrförmige Hohlkathoden parallel zueinander so angeordnet, daß'
der Strahlquerschnxtt nahezu ein Strich wird. In diesem Fall werden der Querschnitt der Zwischenelektrode und die Polschuhöff-'
nungen entsprechend oval ausgebildet.
Diese und weitere Merkmal:1 der erfxndungsgemaßen Hohlkathoden-Duoplasmatron-Ionenquelle
werden nachfolgend mit Hilfe zweier Figuren näher erläutert.
Es zeigen:
Figur 1 einen Querschnitt durch eine bevorzugte ,Ausführungsform der erfxndungsgemaßen Ionenquelle und
Figur 2 in schematischer Darstellung eine Alternativlösung
gemäß der Erfindung, bei der mehrere Kathoden vorgesehen sind.
Die in Figur 1 dargestellte Ionenquelle hat von außen eine im
wesentlichen tonnenförmige Gestalt, die hauptsächlich durch
große Magnetspulen bedingt ist. Mit Hilfe dieser Spulen werden Magnetfelder in Richtung der Tonnenachse 1 erzeugt. Eine säulenförmige
Entladungsstrecke 2 bildet sich entlang der Achse 1 von einer Hohlkathode 3 und einer Zwischenelektrode 5 zu einer Hohlanode
k aus, wenn eine Betriebspotuntial-Differenz von beispielsweise
100 Volt existiert. Die Plasmasäule besteht aus Ionen, die vorher in Form eines Neutralgases in die Hohlkathode 3 eingeleitet
worden waren.
ä xi 11/1567 20988 2/0641
Der Entladungsraum ist von einer flaschenfö'rmigen Zwischenelektrode
5 umgeben. Diese Elektrode liegt im Betrieb auf einem positiven Potential gegenüber der Kathode; der Potentialunterschi-ad
mit der Anode kann zur optimalen Ausbeute eingestellt werden. Mit Hilfe einer Spule 6 wird ein axiales Magnetfeld im
Entladungsraum erzeugt. Am Flaschenhals wird das Plasma weiter mit einer Magnetspule 7 komprimiert. Im Bereich jenseits des
Gasaustritts aus der Hohlkathode wird der Entladungsraum begrenzt von einer Abschirmscheibe 8. Diese Scheibe dient einerseits
als Schirm, der die Isolation 9 zwischen der Kathode und der Zwischenelektrode gegen Streupartikel schützt, und andererseits
kann diese Scheibe als Startelektrode für die Entladung verwendet werden.
Die dem Duoplasmatron-Prinzip entsprechende doppelte Einschnürung wird von der bereits geschilderten flaschenförmigen Zwischenelektrode
und von einer magnetischen Linse bewirkt, die in dem schmalen Bereich zwischen dem Ende der Zwischenelektrode 5 und
der Lochanode k wirksam wird. Die Linse besteht aus zwei in Achsrichtung
hintereinanderliegenden Weicheisen-Polschuhen 10 und 11, von denen der äußere mit der Anode integriert ist. Die magnetische
Energie für diese Linse wird in einer toroidfö'rmigen
Spul-'i 12 erzeugt, die diesen Bereich umschließt.
Im Betrieb wird der Entladungsraum mit Hilfe einer nicht darge-
_2 stellten Vakuumpumpe auf einen Unterdruck von etwa 10 Torr gebracht. Durch Kühlkanäle 13, l*f und 15, welche die Kathode,
die Zwischenelektrodenzuführung sowiu die Anode durchziehen, wird
ein Kühlmittel, z.B. Wasser oder ein Flüssigmetall, geleitet. Die mit den größten vorkommenden Temperaturen betriebenen Teile der
Kathode, der Zwischenelektrode und der Anode bestehen aus Wolfram oder Tantal.
2129/71 d xiii/1567 209887/0641
Die dargestellte Ionenquelle läßt wesentlich höhere Gasdurchsätze
zu als etwa Ionenquellen mit Glühkathoden und sie ergibt auch wegen der leistungsfähigen magnetischen Fokussierung wesentlich
höhere Ionenströme als Ionenquellen mit elektrostatischer Zweitfokussierung. Beispielsweise lassen sich Entladeströme
von 5 bis 50 Amp. ohne weiteres beherrschen und Ionenströme
von 10 Amp. aus der Quelle ziehen.
In einer alternativen Ausführungsform der erfindungsgemäßen
Ionenquelle, die in Figur 2 dargestellt ist, sind mehrere Hohlkathoden 31 parallel nebeneinander so angeordnet, daß sie einen Plasmakanal von ovalem oder nahezu strichförmigem Querschnitt erzeugen. Dieser Form der Plasmasäule sind die Zwischenelektrode 5' und die Anode V angepaßt.
Ionenquelle, die in Figur 2 dargestellt ist, sind mehrere Hohlkathoden 31 parallel nebeneinander so angeordnet, daß sie einen Plasmakanal von ovalem oder nahezu strichförmigem Querschnitt erzeugen. Dieser Form der Plasmasäule sind die Zwischenelektrode 5' und die Anode V angepaßt.
Die Erfindung ist nicht in allen Details auf die dargestellte Ausführungsform beschränkt. Eine vorteilhafte Ausgestaltung der
Ionenquelle würde beispielsweise darin bestehen, in bekannter Weise die Kathode mit einem mechanischen Nachführmechanismus
zu versehen, durch den unvermeidliche Verluste an Kathodenmaterial ausgeglichen werden können. Bei Umpolung der elektrischen Spannungen kann das Gerät auch als Elektronenquelle benutzt werden.
zu versehen, durch den unvermeidliche Verluste an Kathodenmaterial ausgeglichen werden können. Bei Umpolung der elektrischen Spannungen kann das Gerät auch als Elektronenquelle benutzt werden.
2129/71 d xiii/1567 20988 2/0641
Claims (6)
- PATENTANSPRÜCHE[ 1. JHohlkathoden-Duoplasmatron-Ionenquelle mit einer rohrförraige'n Hohlkathode, durch die Atome eingeleitet werden, mit einer ge- _ kühlten Hohlanode, durch die der Ionenstrom austritt, mit einer flaschenförmigen Zwischenelektrode, die die Kathode und einen Raum vor dieser in Richtung auf die Anode umschließt und sich gegen die Anode verengt, mit Mitteln zur Erzeugung eines Magnetfeldes in Strahlrichtung innerhalb der Zwischenelektrode sowie mit einem Fokussiersystem, welches den Ionenstrahl im Bereich der Anode fokussiert, dadurch gekennzeichnet, daß das Fokussiersystem als magnetische Linse ausgebildet ist, welche zwei koaxial zum Ionenstrahl und hintereinanderliegende ringförmige Polschuhe (10, 11) aufweist.
- 2. Hohlkathoden-Duoplasmatron-Ionenquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der von der Kathode weiter entfernte Polschuh zugleich als Hohlanode (4) geschaltet ist.
- 3. Hohlkathoden-Duoplasmatron-Ionenquelle nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Hohlkathode (3) frei durch ein zentrales Loch ±nx einer Abschirmscheibe (8) ragt, welche elektrisch und mechanisch mit der Zwischenelektrode (5) verbunden ist.
- 4. Hohlkathoden-Duoplasmatron-Ionenquülle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere rohrförmige Hohlkathoden (3 0 parallel zueinander so angeordnet sind, daß der Strahlquerschnitt nahezu ein Strich wird, und daß die Querschnitte der Zwischenelektrode (51) und der Polschuhöffnungen (dementsprechend oval sind.
- 5· Hohlkathoden-Duoplasmatron-Ionenquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens die Anodenelektrode flüssigkeitsgekühlt ist.
- 6. Hohlkathoden-Duoplasmatron-Ionenquelle nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode axial verschiebbar angeordnet ist,2129/71 d xiii/1567 20 98 32/0641
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LU63436 | 1971-06-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2228117A1 true DE2228117A1 (de) | 1973-01-11 |
Family
ID=19726750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19722228117 Pending DE2228117A1 (de) | 1971-06-29 | 1972-06-06 | Hohlkathoden-duoplasmatron-ionenquelle |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| BE (1) | BE785307A (de) |
| DE (1) | DE2228117A1 (de) |
| FR (1) | FR2143800A1 (de) |
| GB (1) | GB1383128A (de) |
| IT (1) | IT960285B (de) |
| LU (1) | LU63436A1 (de) |
| NL (1) | NL7209031A (de) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3739253A1 (de) * | 1987-11-19 | 1989-06-01 | Max Planck Gesellschaft | Mit kontaktionisation arbeitende einrichtung zum erzeugen eines strahles beschleunigter ionen |
| US7342236B2 (en) | 2004-02-23 | 2008-03-11 | Veeco Instruments, Inc. | Fluid-cooled ion source |
| US7425711B2 (en) | 2005-02-18 | 2008-09-16 | Veeco Instruments, Inc. | Thermal control plate for ion source |
| US7476869B2 (en) | 2005-02-18 | 2009-01-13 | Veeco Instruments, Inc. | Gas distributor for ion source |
| US7566883B2 (en) | 2005-02-18 | 2009-07-28 | Veeco Instruments, Inc. | Thermal transfer sheet for ion source |
-
1971
- 1971-06-29 LU LU63436D patent/LU63436A1/xx unknown
-
1972
- 1972-06-06 DE DE19722228117 patent/DE2228117A1/de active Pending
- 1972-06-23 BE BE785307A patent/BE785307A/xx unknown
- 1972-06-25 IT IT5113672A patent/IT960285B/it active
- 1972-06-27 GB GB3011572A patent/GB1383128A/en not_active Expired
- 1972-06-27 FR FR7223241A patent/FR2143800A1/fr not_active Withdrawn
- 1972-06-29 NL NL7209031A patent/NL7209031A/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1383128A (en) | 1975-02-05 |
| LU63436A1 (de) | 1972-08-23 |
| BE785307A (de) | 1972-10-16 |
| IT960285B (it) | 1973-11-20 |
| FR2143800A1 (de) | 1973-02-09 |
| NL7209031A (de) | 1973-01-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3689349T2 (de) | Ionenquelle. | |
| DE69019741T2 (de) | Ionenstrahlkanone. | |
| DE69830664T2 (de) | Vorrichtung zum emittieren eines geladenen teilchenstrahls | |
| DE3429591A1 (de) | Ionenquelle mit wenigstens zwei ionisationskammern, insbesondere zur bildung von chemisch aktiven ionenstrahlen | |
| DE882769C (de) | Verfahren und Einrichtung zur Trennung geladener Teilchen von verschiedenem e/m-Verhaeltnis | |
| DE3328423A1 (de) | Negative ionenquelle | |
| DE2151167C3 (de) | Elektronenstrahl-Mikroanalysator mit Auger-Elektronen-Nachweis | |
| DE1439828B2 (de) | Elektronenmikroskop | |
| DE69112166T2 (de) | Plasmaquellenvorrichtung für Ionenimplantierung. | |
| DE3782789T2 (de) | Elektronenkanone mit plasmaanode. | |
| DE1156515B (de) | Vorrichtung zur Erzeugung negativer Ionen | |
| DE2445603C3 (de) | Ionenquelle | |
| DE68922364T2 (de) | Mit einer multizellulären Ionenquelle mit magnetischem Einschluss versehene abgeschmolzene Neutronenröhre. | |
| DE3424449A1 (de) | Quelle fuer negative ionen | |
| DE3881579T2 (de) | Ionenquelle. | |
| DE69303409T2 (de) | Ionenimplantergerät | |
| DE3688860T2 (de) | Mittels Elektronenstrahl angeregte Ionenstrahlquelle. | |
| DE69609358T2 (de) | Ionenquelle zur erzeugung von ionen aus gas oder dampf | |
| DE2608958A1 (de) | Vorrichtung zum erzeugen von strahlen aus geladenen teilchen | |
| DE69207616T2 (de) | Schnelle Atomstrahlquelle | |
| DE2228117A1 (de) | Hohlkathoden-duoplasmatron-ionenquelle | |
| DE1179309B (de) | Hochfrequenz-Ionenquelle | |
| DE4214417C1 (en) | Plasma lens e.g. for focussing charged particle beam - has insulating wall enclosing cylindrical discharge plasma between two opposing electrodes with aligned apertures for passage of particle beam | |
| DE1130083B (de) | Vorrichtung zur raeumlichen Begrenzung einer Vielzahl von geladenen Teilchen | |
| DE2527609C3 (de) | Ionenquelle |