DE202004019968U1

DE202004019968U1 - Polishing disk made of foam material is for use with liquid polishing material has flat circular front surface with regular array of conically tapered circular- or hexagonal-section blind bores

Info

Publication number: DE202004019968U1
Application number: DE200420019968
Authority: DE
Original assignee: Kolthoff & Co Flueelen; KOLTHOFF AND Co
Current assignee: Kolthoff & Co Flueelen; KOLTHOFF AND Co
Priority date: 2004-12-24
Filing date: 2004-12-24
Publication date: 2005-05-25
Anticipated expiration: 2014-12-25

Abstract

The polishing disk (1) is circular with cylindrical sides (5). It is made of foam material and may have a flat circular front surface (2) with a regular array of conically tapered circular- (4) or hexagonal-section blind bores. The bores are arranged in a hexagonal array. The width of the walls (7) between adjacent bores is approximately equal to the diameter of the bores at the surface.

Description

Die Erfindung betrifft eine Polierscheibe nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.The The invention relates to a polishing pad according to the preamble of the claim 1.

Eine Polierscheibe dieser Art ist beispielsweise aus der EP 0 379 361 B1 bekannt, bei der diese eine Vielzahl voneinander beabstandeter hervorstehender Abschnitte und eine Vielzahl von vertieften Abschnitten aufweist. Der offenzellige Schaum soll dabei elastisch komprimierbar sein und die Möglichkeit erbringen, durch die Andruckkraft die anteilige Anlagefläche der Polierscheibe zu verändern. Beim Auftrag von flüssigem Poliermittel setzt sich dies großenteils in den Vertiefungen wie auch in hohlliegenden Bereichen zwischen hervorstehenden Abschnitten fest und wird von daher auf die bearbeitete Werkstückoberfläche aufgebracht. Allerdings treten dabei auch erhebliche Schleuderverluste auf, die von den vorstehenden Abschnitten oder Noppen noch stärker und leichter zentrifugal bzw. tangential zur rotierenden Bewegung verstreut werden als etwa bei einer herkömmlichen unprofilierten Schaumstoff-Polierscheibe.A polishing pad of this kind is for example from the EP 0 379 361 B1 in which it has a plurality of spaced-apart projecting portions and a plurality of recessed portions. The open-cell foam should be elastically compressible and provide the opportunity to change the proportionate contact surface of the polishing pad by the pressing force. When applying liquid polishing agent, this largely settles in the recesses as well as in hollow areas between protruding portions and is therefore applied to the machined workpiece surface. However, there are also considerable spin losses, which are scattered more strongly and more easily by centrifugal or tangential centrifugal or tangential to the rotating movement of the protruding sections or nubs than in a conventional unprofiled foam polishing pad.

In der deutschen Gebrauchsmusterschrift DE 203 05 995 U1 wird ferner eine Polier scheibe vorgeschlagen, die zur Minderung übermäßiger Schleuderverluste an Politur um einen mittleren Polierbereich herum ringförmig angeordnete Aufnahmelöcher in einem Randbereich in der Oberseite der Polierscheibe aufweist. Soweit dabei überhaupt aus dem Polierbereich geschleuderte Politur aufgefangen werden kann, steht diese nicht mehr für den Polierbereich zur Verfügung und kann allenfalls an anderer Stelle durch eine Seitwärtsbewegung der Polierscheibe wieder in den Polierbereich gelangen. Auch eine andruckabhängige Veränderung der Anlagefläche ist bei dem von Ausnehmungen freien Polierbereich nicht möglich.In the German utility model DE 203 05 995 U1 Further, a polishing disc is proposed, which has to reduce excessive spin losses of polishing around a central polishing area around annularly arranged receiving holes in an edge region in the top of the polishing pad. As far as it can be collected at all from the polishing area thrown polish, this is no longer available for the polishing area and can possibly reach the polishing area at another point by a sideways movement of the polishing pad. Even a pressure-dependent change in the contact surface is not possible with the polishing area free of recesses.

Aufgabe der Erfindung ist es dementsprechend, eine Polierscheibe zu schaffen, die durchaus andruckabhängig variable Anlageflächen zu erzielen erlaubt und auch eine gute Aufnahme von Poliermittel für ausgedehnte Arbeitsphasen ermöglicht, die aber den Mittelauftrag besser zu kontrollieren erlaubt und insbesondere Schleuderverluste reduziert.task Accordingly, the invention is to provide a polishing pad, the quite pressure-dependent variable contact surfaces to achieve and also a good intake of polish for extended Allows working phases, but which allows the agent to better control and in particular Slingshot losses reduced.

Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe von einer Polierscheibe nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 ausgehend durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.According to the invention This task is performed by a polishing pad according to the generic term of claim 1, starting from the characterizing features of Claim 1 solved.

Es hat sich als wirksam herausgestellt, in einer solchen Polierscheibe ausschließlich Vertiefungen vorzusehen, die in an sich bekannter Weise zur Aufnahme und Bevorratung flüssiger Mittel auch dann zweckmäßig sind, wenn der Schaumstoff offenporig ausgebildet und damit saugfähig ist, diese Vertiefungen aber strikt flächenbündig allseitig abzuschließen. Die die Vertiefungen umgebenden Randbereiche werden in einer gemeinsamen Anlageebene liegend vorgesehen.It has proven effective in such a polishing pad exclusively To provide depressions, which in a conventional manner for receiving and storage liquid Funds are also appropriate, if the foam is open-pored and thus absorbent, but to close these wells completely flush on all sides. The The recesses surrounding edge areas are in a common Plant level lying provided.

Die in den Vertiefungen enthaltenen flüssigen Mittel sind bei Andruck der Polierscheibe gegen eine Werkstückoberfläche eingeschlossen und bewegen sich nur in dem Maße aus dem Bereich der jeweiligen Vertiefungen heraus, wie sie auf die Werkstückoberfläche aufgetragen werden. Dieser Auftrag erfolgt dann nicht nur mit einer einfachen Fließbewegung des flüssigen Mittels, sondern mit Andruck- und Scherkräften seitens der mit Randbereichen fest aufliegenden Polierscheibe. Dies ergibt auch einen verbesserten Auftrag.The in the wells contained liquid funds are under pressure enclosed and move the polishing pad against a workpiece surface only to the extent out of the area of the respective wells as they are on the workpiece surface is applied become. This job is then not just a simple one flowage of the liquid By means of, but with pressure and shear forces on the part of the edges firmly attached polishing pad. This also gives an improved Assignment.

Vor allem aber werden offene Streu- und Schleuderbahnen zwischen Polierscheibe und Werkstückoberfläche vermieden mit einer entsprechenden Vermeidung oder jedenfalls Reduzierung von Schleuderverlusten und der Verteilung von Mitteln in Bereiche, in denen diese unerwünscht oder sogar schädlich sind.In front But all in all, there are open spreading and spinning tracks between the polishing pad and workpiece surface avoided with a corresponding avoidance or at least reduction of slingshots and the distribution of resources into areas, where these are undesirable or even harmful are.

Grundsätzlich können die Randbereiche in Form schmaler Ringrippen ausgebildet sein, doch entspricht es im allgemeinen dem Interesse nach einer einfachen Herstellung solcher Polierscheiben wie auch nach ausreichenden Anlageflächen, wenn die Randbereiche eine ebene, durchgehende, lediglich durch die Vertiefungen unterbrochene Fläche bilden.Basically, the Edge regions in the form of narrow annular ribs be formed, but corresponds it is generally in the interest of simple manufacture such polishing wheels as well as after sufficient contact surfaces, if the edge areas a flat, continuous, only through the wells broken surface form.

Die Vertiefungen können vorteilhaft in einem gleichförmigen Raster angeordnet sein und vorteilhaft auch untereinander eine einheitliche Form und Größe aufweisen. Für die Form des Rasters kommt ein Orthogonalraster und vor allem ein Hexalgonalraster mit einander unter 120° kreuzenden Rasterlinien in Betracht. Insbesondere letzteres erlaubt es, die Vertiefungen besonders dicht aber gleichmäßig zu verteilen.The Wells can advantageous in a uniform Grid can be arranged and advantageous also with each other a uniform Have shape and size. For the Form of the grid comes an orthogonal grid and especially a Hexalgonalraster with each other under 120 ° crossing Grid lines into consideration. In particular, the latter allows the wells especially dense but evenly distributed.

Eine solche Polierscheibe kann rückseitig mit einer Haftfläche zur lösbaren Anbringung auf einem Andruckteller versehen sein, beispielsweise einer Klebefläche, die etwa vor der Anbringung durch Abziehen einer Schutzfolie freizulegen ist. Ebenso kann die Haftfläche als lösbarer Teil einer Klettverbindung ausgebildet sein, wobei der als Polierscheibenträger vorgesehene Andruckteller das Gegenstück der Klett verbindung aufweist. Im allgemeinen wird dann die Kletthakenseite an dem Andruckteller vorgesehen, während die Schlaufenseite durch die Polierscheibe gebildet wird.A Such polishing pad can back with an adhesive surface for releasable Attachment be provided on a Andruckteller, for example an adhesive surface, To expose the about before attaching by peeling off a protective film is. Likewise, the adhesive surface as a detachable Part of a Velcro connection be formed, wherein the intended as a polishing pad carrier Printed plate the counterpart of the Velcro connection has. In general, then the Velcro side provided on the Andruckteller while the loop side by the polishing pad is formed.

Die Polierscheibe kann grundsätzlich fest oder lösbar mit ganz verschiedenen Andrucktellern für rotierende Werkzeuge verbunden sein. Vorteilhaft ist dabei auch eine Wechselplatte, wie sie zum besonders schnellen und einfachen Austausch in der EP 1 050 376 A2 beschrieben ist.The polishing pad can basically be permanently or detachably connected to completely different pressure plates for rotating tools. It is also advantageous a removable disk, as to be especially fast and easy exchange in the EP 1 050 376 A2 is described.

Für die Gestaltung einer solchen Polierscheibe sind fertigungstechnische Gesichtspunkte überaus wichtig, zumal es sich um Massenartikel handelt. Eine Polierscheibe der hier betrachteten Art läßt sich zwar grundsätzlich mit den Vertiefungen bereits bei der Formgebung für den Schaumstoff ausgestalten. Dazu sind allerdings besondere Formen und Verfahrensschritte bei der Formgebung nötig.For the design such a polishing disc production engineering aspects are extremely important especially since it is mass-produced. A polishing pad here indeed, it is possible to examine the species considered in principle with the depressions already in the molding for the foam embellish. However, these are special forms and process steps necessary in the shaping.

Es hat sich allerdings herausgestellt, daß eine Polierscheibe der hier betrachteten Art auch aus plattenförmigem Schaumstoffmaterial gefertigt werden kann, welches also ohne Vertiefungen geliefert wird. Wird dieses Material durch ein Auflagegitter flach zusammengepreßt, welches die Randbereiche um die Vertiefungen niederdrückt, die Vertiefungen selbst aber frei hochziehen läßt, dann kann ein Abschneiden oder Abfräsen des im Bereich der Vertiefungen überstehenden Schaummaterials einen gezielten Materialabtrag dort erreichen. Nach der Abnahme des Gitters für das Zusammendrücken kehren die Randbereiche zu ihrer ursprünglichen Höhe zurück, während die zwischenliegenden Bereiche aufgrund der abhebenden Bearbeitung Vertiefungen bilden.It However, it has been found that a polishing pad here also considered type of plate-shaped foam material can be made, which is thus supplied without recesses. If this material is pressed flat by a support grid, which the edge areas around the depressions depresses the depressions themselves but let it hoist freely, then may be a truncation or milling of the projecting in the region of the wells Foam material to achieve a targeted removal of material there. To the removal of the grid for the squeezing the margins return to their original height, while the intermediate ones return Forming areas due to the lifting processing depressions.

Zwei Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden nachfolgend näher beschrieben. In der Zeichnung zeigen:Two embodiments The invention are illustrated in the drawings and will be described below described in more detail. In the drawing show:

1 Frontansicht einer Polierscheibe mit runden Vertiefungen 1 Front view of a polishing disc with round recesses

2 Schnitt nach Linie II–II in 1 2 Section along line II-II in 1

3 Frontansicht einer Polierscheibe mit Sechseck-Vertiefungen und 3 Front view of a polishing pad with hexagonal recesses and

4 Schnitt nach Linie IV–IV in 3. 4 Section according to line IV-IV in 3 ,

Eine in 1 und 2 insgesamt mit 1 bezeichnete Polierscheibe mit rundem Grundriß besteht aus einem offenporigen Schaumstoff gleichförmiger Stärke mit einer vorderseitigen Arbeitsfläche 2 und einer dazu parallelen Rückseite 3. Die Arbeitsfläche 2 weist im Querschnitt runde, sich in die Tiefe verjüngende Vertiefungen 4 auf, die auf der die Arbeitsfläche 2 bis nahe an einen umlaufenden Rand 5 hin gleichförmig verteilt sind. Die Verteilung ist rasterförmig ist einem Hexagonal-Raster, bei dem jeweils drei benachbarte Vertiefungen untereinander den gleichen Abstand aufweisen. Die Gesamtausführung der Polierscheibe ist symmetrisch bezüglich einer Rotationsachse 6, um die die Polierscheibe beim Einsatz mit Hilfe eines motorischen Polierwerkzeugs umlaufen soll, sofern nicht eine schleifenförmige exzentrische Bewegung vorgesehen wird.An in 1 and 2 in total with 1 The round bottom polishing pad consists of an open-cell foam of uniform thickness with a front working surface 2 and a parallel back side 3 , The work surface 2 has round in cross section, deepening in the depth recesses 4 on that on the the work surface 2 close to a surrounding edge 5 are uniformly distributed. The distribution is grid-shaped is a hexagonal grid in which each three adjacent wells have the same distance from each other. The overall design of the polishing pad is symmetrical with respect to a rotational axis 6 around which the polishing pad should rotate in use with the aid of a motorized polishing tool, unless a loop-shaped eccentric movement is provided.

Flüssige Mittel zum Polieren, die auf die Arbeitsfläche 2 der Polierscheibe oder aber auf die zu bearbeitende Werkstückoberfläche aufgebracht werden, lagern sich dabei in die Vertiefungen 4 ein und gelangen von dort auf die Werkstückoberfläche entsprechend dem Verbrauch bzw. der Abnahme von Mitteln durch die Werkstückoberfläche.Liquid means of polishing, on the work surface 2 the polishing pad or are applied to the workpiece surface to be machined, outsourced thereby in the wells 4 from there on the workpiece surface according to the consumption or the decrease of funds through the workpiece surface.

Die sich nach innen hin verjüngenden Vertiefungen erlauben es, mit dem Andruck der Polierscheibe gegen eine solche Werkstückoberfläche auch die wirksame Arbeitsfläche zu verändern.The rejuvenating towards the inside Recesses allow it, with the pressure of the polishing pad against such a workpiece surface too the effective work surface to change.

Besonders wichtig ist, daß die Vertiefungen durch Randbereiche 7 umschlossen sind, die flächenbündig in einer gemeinsamen Anlageebene liegen. Damit wird auch bei leichtem Andruck sichergestellt, daß die Vertiefungen randseitig mit einer Werkstückoberfläche abschließen können und daß keine flüssigen Mittel aus diesen herausgeschleudert werden, was sonst nicht nur zu Verlusten, sondern auch zu Verschmutzungen im Umfeld führen könnte.It is particularly important that the wells are bordered by margins 7 are enclosed, lying flush in a common investment level. This ensures even with light pressure, that the wells can complete the edge of a workpiece surface and that no liquid funds are thrown out of these, which otherwise could not only lead to losses, but also to contamination in the environment.

Die Polierscheibe 1 ist aus einem offenporigen Schaumstoff gefertigt, der als Halbzeug keine Vertiefungen aufweist, diese vielmehr im Zuge einer nachfolgenden Bearbeitung erhält. Dabei wird der zunächst einfach plattenförmige Schaumstoff mit Hilfe eines Gitterwerkzeugs in den Randbereichen 7 in der Stärke stark zusammengedrückt, so daß sich die für die Vertiefungen 4 vorgesehenen Bereiche durch das Gitterwerkzeug hindurch aufwölben und mit einem Schneidwerkzeug zurückzuschneiden sind.The polishing pad 1 is made of an open-cell foam, which has no recesses as semi-finished, but rather receives them in the course of a subsequent processing. Here, the initially simple plate-shaped foam with the aid of a grating tool in the edge regions 7 strongly compressed in strength, so that the for the wells 4 bulge provided areas through the grid tool and cut back with a cutting tool.

Die sich ergebenden Formen der Vertiefung sind – ohne daß es auf die dargestellte, streng kegelige Form ankäme, zur Tiefe hin im Querschnitt verjüngt. Dies fördert beim Polieren den Austrag der flüssigen Mittel, die in den Vertiefungen 4 gespeichert sind und erleichtert eine vollständige Entleerung.The resulting shapes of the recess are - without it coming to the illustrated, strictly tapered shape, tapered towards the depth in cross section. This promotes during polishing the discharge of the liquid agent in the wells 4 are stored and facilitates a complete emptying.

Eine in 3 und 4 dargestellt Variante einer Polierscheibe 9 mit einer Arbeitsfläche 10 und darin enthaltenen Vertiefungen 11 unterscheidet sich im wesentlichen von der Polierscheibe 1 durch die Querschnittsform der Vertiefungen 11, die – bei ganz entsprechender rasterförmiger Verteilung in einem Hexagonal-Raster wie die Vertiefungen 4 der Polierscheibe 1 – im Querschnitt abweichend, nämlich sechseckig gestaltet sind.An in 3 and 4 illustrated variant of a polishing pad 9 with a work surface 10 and recesses contained therein 11 differs essentially from the polishing pad 1 by the cross-sectional shape of the recesses 11 , which - in a correspondingly grid-like distribution in a hexagonal grid like the depressions 4 the polishing wheel 1 - Deviating in cross section, namely designed hexagonal.

Der sechseckige Querschnitt der Vertiefungen 11 erlaubt es, die Randbereiche 12 zwischen den Vertiefungen 11 mit einer gleichmäßigen Breite zu versehen. Dies verbessert die Gleichmäßigkeit des Andrucks in den Randbereichen 12 wie auch die Abnutzung an der Arbeitsfläche, so daß auch im Gebrauch ein flächenbündiger Abschluß mit einer Arbeitsebene erhalten bleibt.The hexagonal cross section of the depressions 11 allows it, the edge areas 12 between the wells 11 to be provided with a uniform width. This improves the uniformity of the pressure in the edge regions 12 as well as the wear on the work surface, so that even in use a flush finish with a working level is maintained.

Die Polierscheiben 1 und 9 sind fest oder vorzugsweise lösbar mit einem geeigneten Andruckteller zu verbinden, der neben einer rückseitigen Aussteifung vor allem für die großflächige Einleitung von rotierenden Antriebsbewegungen sorgt.The polishing wheels 1 and 9 are fixed or preferably releasably connected to a suitable Andruckteller, which provides in addition to a rear stiffening especially for the large-scale introduction of rotating drive movements.

Als rasch verschleißendes Teil wird die Polierscheibe zweckmäßig leicht auswechselbar gestaltet und kann hierzu an der Rückseite 3 bzw. einer Rückseite 13 mit einem Haftbelag etwa in Form eines Klebers oder einer Klettverschlußseite versehen werden, um einen schnellen Austausch im Gebrauch zu ermöglichen. Desgleichen kann aber auch die Rückseite mit einer Platte verbunden sein, die einen schnellen Austausch ermöglicht. In dieser Hinsicht ist beispielsweise eine Wechselplatte nach der EP 1 050 376 A2 besonders vorteilhaft, die einen schnellen Wechsel zwischen unterschiedlichen Polierscheiben aber auch einen Wechsel zwischen Polier- und Schleifscheiben erlaubt.As a rapidly wearing part, the polishing pad is expedient designed easily replaceable and can do this on the back 3 or a back side 13 be provided with an adhesive coating such as an adhesive or a Velcro closure side to allow a quick replacement in use. Similarly, however, the back can be connected to a plate that allows a quick exchange. In this regard, for example, a removable disk after the EP 1 050 376 A2 particularly advantageous, which allows a quick change between different polishing wheels but also a change between polishing and grinding wheels.

Von besonderem Interesse ist, daß die Formen beider Polierscheiben 1 und 9 eine hohe Dichte von Vertiefungen 4 bzw. 11 zulassen mit entsprechend hoher Speicherkapazität und hoher Gleichmäßigkeit des Mittelauftrags. Sie können in einer Dichte von zwei bis drei Vertiefungen je Quadratzentimetern, in jedem Fall aber von mehr als einer Vertiefung pro Quadratzentimeter vorgesehen werden, ohne dabei den flächenbündigen Abschluß der Randbereiche mit einer Anlageebene in Frage zu stellen.Of particular interest is that the shapes of both polishing wheels 1 and 9 a high density of wells 4 respectively. 11 allow with correspondingly high storage capacity and high uniformity of the middle order. They can be provided in a density of two to three wells per square centimeter, but in any case of more than one well per square centimeter, without questioning the flush termination of the edge regions with a plant level.

Claims

Polishing pad ( 1 . 9 ) of foam for the machine-rotating application of liquid agents to a workpiece surface, wherein the means at least largely for application in evenly distributed wells ( 4 . 11 ) within a front work surface ( 10 ), characterized in that the depressions ( 4 . 11 ) of edge areas lying flush in a common installation level ( 7 . 12 ) are enclosed.

Polishing wheel according to claim 1, characterized in that the edge areas ( 7 . 12 ) one only through the depressions ( 4 . 11 ) interrupted area ( 2 . 10 ) form.

Polishing wheel according to claim 1 or 2, characterized in that the depressions ( 4 . 11 ) are arranged in a uniform grid.

Polishing wheel according to claim 3, characterized that this Grid as a hexagonal grid with each other at 120 ° crossing Grid lines is formed.

Polishing wheel according to one of Claims 1 to 4, characterized in that the depressions ( 4 ) have round, decreasing from the plant level in the depth cross sections.

Polishing wheel according to one of Claims 1 to 4, characterized in that the depressions ( 11 ) at least in the area close to the installation level ( 10 ) have hexagonal cross-sections.

Polishing wheel according to claim 6, characterized in that the depressions ( 11 ) to adjacent wells edge regions ( 12 ) have uniform width.

Polishing wheel according to one of claims 1 to 7, characterized in that it is provided on the back with an adhesive surface ( 3 . 13 ) is provided for releasable attachment to a Andruckteller.

Polishing wheel according to claim 8, characterized in that the adhesive surface ( 3 . 13 ) is designed as a detachable part of a Velcro connection.

Polishing wheel according to one of claims 1 to 9, characterized in that the Foam is an open-pored foam.

Polishing wheel according to one of claims 1 to 10, characterized in that the depressions ( 4 . 11 ) are formed as cut shapes protruding foam material in lattice-shaped pressing down of the foam in the edge regions.

Polishing wheel according to one of Claims 1 to 11, characterized in that the depressions ( 4 . 11 ) with a density of more than 1 well per cm ² on the work surface ( 2 . 10 ) are distributed.