DE2049790C3 - Galvanisches Chrombad zum Abscheiden mikrorissiger Chromüberzüge - Google Patents
Galvanisches Chrombad zum Abscheiden mikrorissiger ChromüberzügeInfo
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- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 13
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title description 8
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 19
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 13
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- -1 borate ions Chemical class 0.000 claims description 10
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 9
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 7
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 claims description 7
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 5
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 5
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000003287 bathing Methods 0.000 claims 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N selenium dioxide Chemical compound O=[Se]=O JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trifluoromethoxy)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RMXTYBQNQCQHEU-UHFFFAOYSA-N ac1lawpn Chemical compound [Cr]#[Cr] RMXTYBQNQCQHEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229910001423 beryllium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- ZXPNHQOWDWPUEH-UHFFFAOYSA-N boric acid;sulfuric acid Chemical compound OB(O)O.OS(O)(=O)=O ZXPNHQOWDWPUEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 210000003608 fece Anatomy 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000010871 livestock manure Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- ILRLTAZWFOQHRT-UHFFFAOYSA-N potassium;sulfuric acid Chemical compound [K].OS(O)(=O)=O ILRLTAZWFOQHRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- QYHFIVBSNOWOCQ-UHFFFAOYSA-N selenic acid Chemical compound O[Se](O)(=O)=O QYHFIVBSNOWOCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
Description
35 Robert Draper Limites of Teddington). Dort wird
Die Erfindung betrifft die elektrolytische Abschei- angegeben, daß infolge ungenügendem Abspulen des
dung von Chrom auf Nickel, Kobalt oder mit Nickel/ Werkstücks von der beim vorhergehenden Vernickeln
Kobalt überzogenen Metallgegenständen, beispiels- benutzten Glanznickellösung Nickel, Borsäure, Sulfat
weise zur elektrolytischen Abscheidung von Chrom und Chlorid in das Chrombad eingeschleppt werden,
auf vernickelten Stahlgegenständen sowie zur Ab- 40 so daß Bestandteile in das Chrombad gelangen, welche
scheidung von Chrom auf verkupferten und dann ver- das Deckvermögen herabsetzen,
nickelten Gegenständen aus Legierungen auf Zink- Beispielsweise hat die Zugabe von Borsäure zu sonst
nickelten Gegenständen aus Legierungen auf Zink- Beispielsweise hat die Zugabe von Borsäure zu sonst
basis. zufriedenstellend arbeitenden galvanischen Chrom-
Es ist sehr schwierig, eine Elektrolytlösung herzu- bädern eine Abnahme der Mikrorissigkeit der abgestellen,
die in der Lage ist, eine glänzende, mikro- 45 schiedenen Schichten zur Folge. Borsäure wurde bisher
rissige Chromschicht mit guter Tiefenstreuung und nicht als Zusatz für galvanische Chrombäder zur Her-Deckung
zu erzeugen. stellung von Chromüberzügen mit Mikrorissen vor-
Es wurden zahlreiche chemische Verbindungen als geschlagen.
Zusätze für den Elektrolyten vorgeschlagen, wobei je- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, mikro-
doch allen Verbindungen Nachteile anhaften. 50 rissige Chromüberzüge mit ausgezeichnetem Deck-
So erhöht die Zugabe von Fluoriden die katho- vermögen und gleichmäßiger Farbe zu liefern. Diese
dische Stromausbeute, hat jedoch die Abscheidung Eigenschaften sollen während längerer Zeitspannen
einer nicht gleichmäßig gefärbten Schicht zur Folge. beibehalten werden, ohne daß dabei eine wiederholte
Sulfate werden oft Chrcmelektrolyten zugesetzt, Einstellung des Bades erforderlich ist. Weiterhin
wobei die verschiedensten Zusatzmengen vorgeschla- 55 sollen Chrombäder erhalten werden, die eine gute
gen wurden. Jedoch eignen sich nicht alle Mengen. Die kathodische Stromausbeute sowie eine ausreichende
geeigneten Mengenverhältnisse schwanken mit den Tiefenstreuung bei der Chromabscheidung aufweisen,
verschiedenen Elektrolylzusammensetzungen. Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 an-
Ferner wurde vorgeschlagen, Selenverbindungen gegebene Erfindung gelöst.
dem Elektrolyten zuzusetzen. 60 Gegenstand der Erfindung ist daher ein galvanisches
Bei der Verwendung von bekannten galvanischen Chrombad zum Abscheiden mikrorissiger Chrom-Chrombädern,
die ein Fluorid und ein Sulfat enthalten, überzüge mit guter Deckkraft, das Chromsäure,
wird ein mit Mikrorissen versehener Überzug erhalten, Sulfationen, eine Fluorverbindung und eine Seiender
eine große Rißzahl an den Stellen des Gegen- verbindung enthält, und das dadurch gekennzeichnet
Standes aufweist, an welchem die Stromdichte hoch 65 ist, daß es Borsäure oder ein Salz, das Borationen
ist, wobei jedoch auf dem gleichen Gegenstand an den liefert, in einer Menge von 2 g/I bis zur Sättigung
Stellen mit geringer Stromdichte keine Mikrorißbildung enthält,
erzeugt wird. Bei hohem Fluoridgehalt werden die Durch Zugabe von Borsäure oder einem Salz der-
erzeugt wird. Bei hohem Fluoridgehalt werden die Durch Zugabe von Borsäure oder einem Salz der-
selben wird das Bad gegenüber einer Veränderung der CrOsZSO4-Verhältnisse unempfindlicher.
Als Salz der Borsäure ist Natrium- oder Kaliumperborat oder Borax geeignet.
Eine bevorzugte Ausführungsform des Chrombades enthält 0,003 bis 0,012 g/l, beispielsweise 0,003 bis
0,009 g/l einer Selenverbindung, z. B. Selendioxid und vorzugsweise 0,005 bis 0,009 g/l. Die Menge an CrO3
schwankt zwischen 180 und 450 g/l. Das Verhältnis von CrO3 zu Fluoridionen beträgt 110 bis 320:1 und
vorzugsweise 190 bis 220:1. Das Verhältnis der Sulfalionen zu den Fluoridionen kann 0,64 bis
2,56:1 betragen. Das Verhältnis CiO^ zu SO4 kann
80:250 betragen.
Die Borsäure kann in jeder Menge bis zur maximalen Löslichkeit verwendet werden, wobei jedoch normalerweise
10 bis 30 g/l eingesetzt werden.
Die Arbeitstemperatur kann 38 bis 49° C und vorzugsweise 40 bis 45 0C betragen. Die mittlere Kathodenstromdichte
kann zwischen 150 und 200 A/0,09 m2 schwanken. Die Behandlungszeitspanne beträgt normalerweise
6 bis 10 Minuten.
Es wurde gefunden, daß beim Fehlen von Borsäure oder einem Borationen liefernden Salz bei einem Gehalt
von mehr als 0,006 g/l Selendioxid die Risse zu fein werden oder vollständig verlorengehen.
Bei einer Abscheidungszeit von minimal 7 Minuten bei 200 A/0,09 m2 werden Chromschichten mit 700
bis 2000 Mikrorissen pro 25 mm Meßstrecke erhalten. Bei Stärken von weniger als 0,00005 cm weisen die
Schichten feine Poren und kleine Risse auf, die wie bei größeren Schichtdicken nicht miteinander in Verbindung
stehen.
Dieser Strukturtyp wird auch bei extrem niedrigen Stromdichten erhalten. Eine Hullzellen-Testplatte, die
bei 8 A in diesem Elektrolyten während einer Zeitspanne von 7 Minuten verchromt worden ist, zeigt
eine Chromschicht mit einem Rißmuster, das sich die ersten 62 mm von dem Ende mit hoher Stromdichte
erstreckt, während ein poröses Muster sich erst nach 88 mm von dem Ende mit hoher Stromdichte ausdehnt.
Dieser Überzug besitzt ein gutes Deckvermögen (d. h. 88 mm Chromüberzug bei 8 A in der Hull-Zelle).
Nach dem vorgenannten Verfahren können auch Gegenstände mit einer komplizierten Form verchromt
werden, wobei auch an den Stellen mit niedriger Stromdichte und/oder geringen Chromschichtdicken
eine verbesserte Korrosionsbeständigkeit infolge der Mikrorisse erzielt wird.
Weitere Vorteile sind beispielsweise ein breiter Stromdichtebereich, ein breiter Temperaturbereich,
eine geringe Fluoridkonzentration sowie Mikrorisse über den ganzen Abscheidungsbereich.
Ein weiteres Chrombad enthält folgende Bestandteile:
0,007 g/l Selenoxid,
225 g/l Chromsäure,
225 g/l Chromsäure,
1,5 g/l Kaliumsilicofluorid,
1,7 g/l Schwefelsäure,
20 g/l Borsäure,
Temperatur 45° C,
20 g/l Borsäure,
Temperatur 45° C,
im allgemeinen kann das Chrombad aus folgenden Bestandteilen hergestellt werden:
Chromsäure .
Schwefelsäure
Kaliumsilicofluorid 1,5
Schwefelsäure
Kaliumsilicofluorid 1,5
175 bis 450 g/l
0,7 bis 2,0, z. B. 0,7 bis 1,0 g/I
bis 3 (Fluoridionen 0,78 bis 1,2) beispielsweise 1,5 bis 2,5 g/l
(Fluoridionen 0,78 bis 1,04)
Selenverbindung 0,003 bis 0,012, z. B. 0,003 bis 0,009 g/l
Borsäure 10 bis 30, z. B. 15 bis 20 g/l.
Andere geeignete Verhältnisse sind folgende:
CrO. zu SO4 85 : 250, vorzugsweise 135: 185;
CrO3: SO4-Ionen plus Fluoridionen 45:140;
Sulfationen plus Selenionen 120:1000;
Fluoridionen zu Seienionen 90: 320.
Die Anzahl der Mikrorisse pro 25 mm Meßstrecke beträgt 750 bis 2500, vorzugsweise 1500 bis 2000.
»° Die Fluorverbindung kann aus Fluorwasserstoffsäure und Oder ihren Salzen, Fluoborsäure und/oder ihren Salzen, Fluozirkonat, Fluoaluminat, Fluotitanat, Natrium- und/oder Kaliumsilicofluorid bestehen.
»° Die Fluorverbindung kann aus Fluorwasserstoffsäure und Oder ihren Salzen, Fluoborsäure und/oder ihren Salzen, Fluozirkonat, Fluoaluminat, Fluotitanat, Natrium- und/oder Kaliumsilicofluorid bestehen.
Das Selen kann als Selensäure oder als deren .a5 Alkalisalze oder in Form von Selendioxid zugesetzt
werden.
Dar Bad kann ferner andere Bestandteile enthalten, be;spielsweise grenzflächenaktive oder eine Schaumbildung
unterdrückende Zusätze.
Die Dicke der mikrorissigen Chromschicht kann in der Praxis zwischen 0,00005 und 0,0001 cm liegen.
Der Elektrolyt kann auch nur folgende Bestandteile enthalten:
Chromsäure 180 bis 450 g/l
Schwefelsäure 2,0 bis 4,5 g/l
Borsäure 10 bis 30 g/l
Zum Beispiel: Zur Herstellung dekorativer Chromschiohten
können folgende Bäder verwendet werden, wobei die Selenverbindung und das Fluorid weggelassen
werden können.
| Bad A | Bad B | |
| 45 Chromsäure |
205 g/l 2,50 g/l 15,0 g/l |
400 g/l 4,0 g/l 20,0 g/l |
| Schwefelsäure | ||
| Borsäure |
Das Verhältnis von Chromsäure zu Schwefelsäure beträgt im allgemeinen 100:1, es kann jedoch auch
150:1 betragen. Zur Erhöhung der Wirkung dieser Bäder kann eine Fluorverbindung zugesetzt werden,
beispielsweise gemäß folgendem Beispiel:
Borsäure 20,0 g/l
Chromsäure 325,0 g/l
Schwefelsäure 2,0 g/l
Kaliumsilicofluorid ... 1 bis 3, beispielsweise
1,5 g/l
Kathodenstromdichte: 150 bis 200 A/0,09 m2,
Dicke des Überzugs: 0,00007 cm.
Dicke des Überzugs: 0,00007 cm.
Während kleinere Mengen an Borsäure ein verbessertes Deckvermögen zur Folge haben, wurde gefunden,
daß unterhalb 10 g/l Borsäure fehlfarbene, gestreifte Überzüge, insbesondere bei der Verwendung
von Fluorid enthaltenden Bädern erhalten werden.
Claims (4)
1. Galvanisches Chrombad zum Abscheiden zu niedrigem Fluoridgehalt der Bäder werden keine
mikrorissiger Chromüberzüge mit guter Deck- 5 guten Überzüge mehr abgeschieden. Wird Selen in
kraft, das Chromsäure, Sulfationen, eine Fluor- einer ausreichend großen Menge zugegeben, und «:war
verbindung und eine Selenverbindung enthält, zur Erleichterung der Erzeugung von Mikrorissen,
dadurchgekennzeichnet, daß das Bad dann wird ein Überzug erhalten, der eine unerwünschte
Borsäure oder ein Salz, das Borationen liefert, in bh-'ue Farbe besitzt. Das Deck vermögen des Überzugs
einer Menge von 2 g/l bis zur Sättigung enthält. io anstellen mit wechselnder Stromdichte ist vermindert.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich- Wird die Fluoridmenge herabgeset/l. dann weist der
net, daß es wenigstens 10 g/l Borsäure enthäiL Überzug verschiedenfarbige Streifen auf.
3. Bad nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekenn- Zusätzliche Schwierigkeiten treten dann auf, wenn
zeichnet, daß es der Elektrolyt längere Zeit stehengelassen wird, da
15 sich dessen Zusammensetzung ändert, wobei beispiels-
175 bis 450 g/l Chromsäure, weise eine erhöhte Oxidmenge als Verunreinigung auf-
0,7 bis 4,5 g/l Schwefelsäure, tritt. Daher haftet den bisher bekannten Elektrolyten
1,5 bis 3 g/l Kaliumsilicofiuorid, der Nachteil an, daß sie immer wieder eingestellt
0,003 bis 0,012 g/l einer Selenverbindung. werden müssen.
10 bis 30 g 1 Borsäure 20 Aus der USA.-Patentschrift 3 311548 sind schon
Chrombäder bekannt, die 10 g 1 Borsäure oder mehr enthält. enthalten. Doch werden mit diesen Bädern, die keine
4. Verfahren zur Abscheidung mikrorissiger Selenverbindungen enthalten, keine mikrorissigen
Chromschichten unter Verwendung von Bädern Chromschichten abgeschieden.
nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekenn- 25 Weitere Bäder dieser Art sind aus der deutschen
zeichnet, daß die Abscheidung bei einer Strom- Patentschrift 746 236 und der französischen Patentdichte
von 150 bis 200 A/0,09 m2 und einer Bad- schrift 642 242 bekannt, doch sind 'n dem ersttemperatur
von 38 bis 49°C während 7 bis 10 Mi- genannten Bad weder Selen noch Sulfat vorgesehen,
nuten durchgeführt wird. und das zweitgenannte Bad enthält weder Selen noch
30 Fluorid.
Die Zumenge von Borsäure zu galvanischen Chrom-
bädern wurde bisher als unerwünscht angesehen (vgl.
beispielsweise S. 179 von »Electroplating Laboratory
Manual« von R. C. Ar met, veröffentlicht von der
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB4980269 | 1969-10-10 | ||
| GB4980269 | 1969-10-10 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2049790A1 DE2049790A1 (de) | 1971-04-22 |
| DE2049790B2 DE2049790B2 (de) | 1974-01-03 |
| DE2049790C3 true DE2049790C3 (de) | 1977-02-10 |
Family
ID=
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