DE19925901A1

DE19925901A1 - Transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen

Info

Publication number: DE19925901A1
Application number: DE19925901A
Authority: DE
Inventors: Hideki Gotoh; Junji Tanaka
Original assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date: 1998-08-10
Filing date: 1999-06-07
Publication date: 2000-02-17
Also published as: CA2273602A1; GB2340651A; KR100635835B1; FR2782232B1; SG81995A1; FR2782232A1; GB9913205D0; KR20000016876A; MY123910A; US6210787B1; GB2340651B

Abstract

Beschrieben ist eine transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen, umfassend einen transparenten Polymerfilm und eine leitfähige Schicht aus einem Linienmuster, ausgebildet auf mindestens einer Seite des Films, wobei die Linienabstände im Linienmuster beliebig zwischen 20 mum und 1 mm liegen.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Oberflächenbedeckung für Bildschirme von Anzeigevorrichtungen, insbesondere Plasmaanzeigen (nachstehend als PDP abgekürzt), die gegen den Austritt von elektromagnetischen Wellen geschützt werden müssen, und für andere transparente Strukturen, die durchsichtig sein müssen, beispielsweise Fenster eines Raums, in dem medizinische Instrumente eingebaut sind.

Mit dem raschen Fortschritt der Elektronik und der daraus folgenden weiten Verbreitung von Computern und anderen elektronischen Vorrichtungen in den vergangenen Jahren erwachsen Bedenken bezüglich durch elektromagnetische Wellen verursachte Störungen, die zu einem fehlerhaften Betrieb von elektronischen Vorrichtungen führen können. Ein Mittel zur Verhinderung solcher Störungen durch elektromagnetische Wellen ist die aktive Abschirmung, die die unerwünschten elektromagnetischen Wellen an ihrer Entstehungsquelle eindämmen kann, z. B. durch eine elektrisch leitfähige Konstruktion des Gehäuses der elektronischen Vorrichtung. Verschiedene Materialien wie Metallfolien, gelochte Metallfolien, Metallnetze, Metallfasern, plattierte organische oder anorganische Fasern, usw., wurden verwendet oder versuchsweise zur Verhinderung des Austritts von elektromagnetischen Wellen eingesetzt, aber Transparenz ist ein unbedingtes Erfordernis für Anzeigen wie PDPs und durchsichtige Fenster. Alle diese Materialien waren vom Aspekt der Lichtdurchlässigkeit her für die Verwendung ungeeignet.

Da weiterhin mit der Zeit die Oxidation auf der Metalloberfläche fortschreitet, entsteht selbst bei einem Metallnetz, das unter den erwähnten Materialien in Bezug auf das Transparenzerfordernis als am besten geeignet erachtet wird, das Problem, daß hohe Frequenzen an den Gitterpunkten gebrochen werden, was es schwierig macht, einen stabilen Abschirmeffekt gegen elektromagnetische Wellen über einen langen Zeitraum aufrechtzuerhalten. Es wurde auch an die Verwendung eines Verbundoxids aus Indiumoxid und Zinnoxid (nachstehend als ITO bezeichnet) gedacht, das gegen oxidative Zersetzung beständig ist und weithin als Elektrode für Flüssigkristallanzeigen verwendet wird. Es wurde jedoch berichtet, daß dieses Verbundoxid bei der Verhinderung des Austritts von elektromagnetischen Wellen nicht sehr wirksam ist und dessen Anwendung wurde auf Verwendungen betreffend Statik-Entladungseinrichtungen begrenzt. Es wurde versucht, die Leitfähigkeit dieses Materials auf das Niveau von Metall (1 Ω/ oder weniger) anzuheben, aber tatsächlich betrug die höchste Leitfähigkeit, die mit diesem Material erhalten werden konnte, 4 Ω/, selbst wenn ein Film davon unter Erhitzen auf einem Glasträger gebildet wurde, und es war technisch unmöglich, ITO auf einem Kunststoff-Film abzuscheiden.

Es existiert auch ein Gewichtsproblem. Die Verwendung von großformatigen Glasträgern, wie z. B. mit 102 bis 127 cm (40 bis 50 inches) oder größeren Diagonalen - was die wahrscheinlich gebräuchlichste Größe werden wird und auf PDP angewandt werden wird - und die dementsprechend schwer sind, führte auch zu einem Installationsproblem. Andererseits wird es bei der Verwendung eines Kunststoffträgers zur Gewichtsreduzierung in Bezug auf die Hitzebeständigkeit unmöglich, den Träger zu erhitzen, was das wichtigste Mittel zur Erhöhung der Transparenz und Leitfähigkeit ist, wodurch ein niedriger Widerstand nicht verwirklicht werden kann. Wenn weiterhin versucht wird, den Widerstand durch Erhöhung der Filmdicke zu verringern, würden Probleme in Bezug auf Anfälligkeit gegen Abblättern oder Rißbildung durch Aufbau einer internen Spannung im Film entstehen, und zwar aufgrund des Unterschieds im Längenausdehnungskoeffizienten zwischen dem ITO- Film und dem Kunststoffträger. Folglich stellten 20 bis 40 Ω die Grenze dar, die bei den Versuchen zur Bildung eines ITO-Films mit niedrigem Widerstand auf dem Niveau eines Metalls erreicht werden konnte, und es war kaum möglich, das Ziel zu erreichen.

Eine Aufgabe der vorliegende Erfindung ist die kostengünstige Bereitstellung eines elektromagnetische Wellen abschirmenden transparenten Films mit hoher Transparenz sowie einer hervorragenden elektromagnetische Wellen abschirmenden Wirkung, der am besten zur Anwendung auf Anzeigen, insbesondere Plasmaanzeigen, und Fenster eines Raums mit medizinischen Instrumenten geeignet ist.

In der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird eine transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen bereitgestellt, umfassend einen transparenten Polymerfilm und eine leitfähige Schicht mit Linienmuster, die auf mindestens einer Seite des Polymerfilms ausgebildet ist, wobei die Linienabstänae im Linienmuster beliebig zwischen 20 µm und 1 mm liegen.

In einer bevorzugten Ausführungsform weist das Linienmuster der leitfähigen Schicht die Form eines Gitters auf, das aus sowohl longitudinal als auch lateral angeordneten geraden Linien besteht, oder eine Form, hergestellt durch longitudinale und laterale Anordnung der Kurven, die durch die Sinusfunktion, Tangensfunktion, Exponentialfunktion, Logarithmusfunktion oder invers proportionalen Funktion, dargestellt durch jede der folgenden Formeln (1) bis (6), definiert sind, oder eine Form, bestehend aus einer kombinierten Anordnung dieser geraden Linien und Kurven.

y = A . sin (αx + ϕ) (1)
y = B . tan (ßx + ψ) (2)
(A, B, α, β, ϕ, ψ: willkürliche Konstanten)
y = C . exp (γx + ρ) (3)
y = D . In (δx + ξ) (4)
(C, D, γ, δ, ρ, ξ; : willkürliche Konstanten)
y = E/x (5)
(E: willkürliche Konstante)

In einer mehr bevorzugten Ausführungsform liegt das Verhältnis der Linienbreite (P, µm) zur Dicke (D, µm) der leitfähigen Schicht (BID-Verhältnis) im Bereich von 1 bis 540, vorzugsweise 2 bis 240.

Die zweite Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen, umfassend einen transparenten Polymerfilm und, ausgebildet auf mindestens einer Seite davon, gegebenenfalls eine Klebeschicht, einen transparenten Metalloxidfilm und eine dünne Metallschicht, nacheinander in dieser Reihenfolge, wobei die dünne Metallschicht allein selektiv zur Ausbildung eines Linienmusters geätzt wird, und wobei die Linienabstände im Linienmuster beliebig zwischen 20 µm und 1 mm liegen. Die dünne Metallschicht besteht vorzugsweise aus Kupfer.

Die dritte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Weilen, umfassend einen transparenten Polymerfilm und, laminiert nacheinander auf mindestens eine Seite davon, eine Klebeschicht, die ein Nah- Infrarot-Abschirmmaterial und ein Farbmittel zur Farbkompensation enthält, und eine leitfähige Schicht, wobei die leitfähige Schicht als Linienmuster hergestellt ist, wobei die Linienabstände im Linienmuster beliebig zwischen 20 µm und 1 mm liegen.

Die vierte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung stellt eine transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen bereit, umfassend einen transparenten Polymerfilm und, laminiert nacheinander auf mindestens eine Seite davon, eine Klebeschicht 1 und eine leitfähige Schicht, wobei die leitfähige Schicht als Linienmuster hergestellt ist, derart, daß die Linienabstände im Muster beliebig zwischen 20 µm und 1 mm liegen, wobei der so hergestellte laminierte Film weiter mittels einer Klebeschicht 2 auf eine transparente Polymerverstärkung geklebt wird, wobei ein Nah-Infrarot-Abschirmmaterial und ein Farbmittel zur Farbkompensation für das Infrarot Abschirmmaterial mindestens in einem von der Klebeschicht 1 und der Klebeschicht 2 enthalten sind, und es wird weiter mindestens eine UV-Abschirmschicht zur Verhinderung der Verschlechterung des Nah-Infrarot- Abschirmmaterials bereitgestellt.

In der transparenten Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen gemäß der dritten oder vierten Ausführungsform wird weiter mindestens eine Wasserdampf-Sperrschicht bereitgestellt.

Die fünfte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen, umfassend einen transparenten Polymerfilm und, laminiert nacheinander auf mindestens eine Seite davon, eine Klebeschicht 1 und eine leitfähige Schicht, wobei die leitfähige Schicht als Linienmuster hergestellt ist, wobei der Linienabstand beliebig zwischen 20 µm und 1 mm liegt, wobei der so hergestellte laminierte Film weiter mittels einer Klebeschicht 2 auf eine transparente Polymerverstärkung geklebt wird, wobei ein Nah-Infrarot-Abschirmmaterial und ein Farbmittel zur Farbkompensation für das Infrarot-Abschirmmaterial getrennt in der Klebeschicht 1 bzw. in der Klebeschicht 2 oder nur in der Klebeschicht 2 enthalten sind.

In den transparenten Abschirmungen gegen elektromagnetische Wellen gemäß der Ausführungsformen 1 bis 5 der vorliegenden Erfindung beträgt die Lichtdurchlässigkeit bei einer Wellenlänge von 550 nm 50% oder mehr, der laminierte Film wird auf eine transparente Polymerverstärkung mit einer Dicke von 1 mm oder größer mittels einer Klebeschicht laminiert, und eine Antireflexschicht und/oder eine harte Schicht ist auf mindestens einem des laminierten Films und der transparenten Polymerverstärkung bereitgestellt.

Fig. 1 ist eine schematische Veranschaulichung des Musters von Beispiel 2.

Fig. 2 ist eine schematische Veranschaulichung des Musters von Beispiel 4.

Fig. 3 ist eine schematische Veranschaulichung des Musters von Beispiel 5.

Fig. 4 ist eine schematische Veranschaulichung des Musters von Beispiel 6.

Der Polymerfilm, der die Basis der leitfähigen Schicht ist, kann aus Polyestern wie Polyethylenterephthalat, Polybutylenterephthalat und Polyethylenaphthalat, thermoplastischen Harzen wie Polyimiden, Polycarbonaten, Polyacrylnitril, Polyethersulfon, Polysulfon, Polyetherimiden, Polyallylaten und Polynorbornenen, UV-härtenden Harzen und hitzehärtenden Harzen, z. B. Epoxidharzen, hergestellt sein. Vorzugsweise wird ein Film mit einer Transparenz von 80% oder höher, ausgedrückt als Lichtdurchlässigkeit bei 550 nm (die nachstehend gezeigten Werte der Lichtdurchlässigkeit sind alle bei einer Wellenlänge von 550 nm bestimmt), verwendet. Copolymere der vorstehenden Polymere sind auch als Filmmaterial verwendbar.

Die Gesamtlichtdurchlässigkeit ist vorzugsweise so hoch wie möglich, aber da es wünschenswert ist, daß die Lichtdurchlässigkeit im Endprodukt 50% oder mehr beträgt, reicht es für diese Zwecke aus, wenn der Träger eine Lichtdurchlässigkeit von 80% aufweist, sogar wenn mindestens zwei Schichten laminiert werden. Je höher die Durchlässigkeit, desto größer ist die Zahl der Schichten, die laminiert werden können, so daß die Trägerdurchlässigkeit mehr bevorzugt 85% oder mehr, insbesondere 90% oder mehr beträgt. Die Lichtdurchlässigkeit kann auch durch Verringerung der Dicke wirksam gesteigert werden. Beispielsweise wird die Dicke des Polymerfilms vorzugsweise aus dem Bereich von 25 bis 300 µm ausgewählt, im Hinblick auf die Verarbeitungsfähigkeit, obwohl die Dicke nicht speziell beschränkt ist, insoweit die erwünschte Transparenz bereitgestellt wird. Wenn die Dicke des Polymerfilms weniger als 25 µm beträgt, zeigt sich der Film als zu biegsam und unterliegt der Dehnung oder Faltung, aufgrund der in der Laminierungsstufe der leitfähigen Schicht erzeugten Spannung. Andererseits, wenn die Dicke des Polymerfilms 300 µm überschreitet, verringert sich die Flexibilität des Films, was die Durchführung eines fortlaufenden Aufwickelvorgangs in jeder Stufe erschwert. Insbesondere wenn mehrere Schichten laminiert werden, wird dis Verarbeitungsfähigkeit durch eine große Dicke stark verschlechtert, so daß unter Berücksichtigung der Arbeitseffizienz und der Gesamtdicke die am meisten bevorzugte Filmdicke 25 bis 100 µm beträgt.

Beim Laminieren der leitfähigen Schicht kann eine an sich bekannte Klebeschicht zur Erhöhung der Klebekraft bereitgestellt werden. Dies wird insbesondere dann ein wichtiger Faktor, wenn die leitfähige Schicht als feine Linienkonfiguration gemustert hergestellt wird. Wenn beispielsweise das Muster durch Ätzen ausgebildet wird, muß die Klebekraft zwischen der Basis und der leitfähigen Schicht mindestens etwa 0,3 kg/cm betragen, um den Wasserdruck des Abspülens zu überstehen. Eine Klebekraft von 1,0 kg/cm oder größer ist für eine problemlose praktische Verwendung erforderlich. Wenn die Klebekraft in dieser Höhe nicht bereitgestellt wird, kann ein Abblättern der leitfähigen Schicht nach der Musterbildung oder ein Voneinanderlösen während des Ätzens auftreten. Da das Endprodukt eine hohe Lichtdurchlässigkeit aufweisen muß, sind weiterhin die Dicke der Klebeschicht und der Brechungsexponent des dafür verwendeten Materials wichtige Faktoren. Der Typ des Klebematerials kann entsprechend der verwendeten Basis geeignet ausgewählt werden. Im Fall der Verwendung eines Harzes für die Klebeschicht ist beispielsweise die Verwendung synthetischer Harze wie Harnstoffharze, Melaminharze, Phenolharze, Epoxidharze, Vinylacetatharze, Cyanacrylatharze, Pvlyurethanharze, α-Olefin- Maleinsäureanhydrid-Harze, wäßrige Polymer-Isocyanatharze, Acrylharze und UV-härtende Harze möglich. Es ist auch möglich, Emulsionskleber, Schmelzkleber, Kleber aus synthetischem Kautschuk, Silikonkleber und anorganische Kleber zu verwenden.

Die auf dem Film ausgebildete leitfähige Schicht kann aus Metallen wie Au, Ag, AI, Pt und Cu, deren Legierungen, Oxiden oder Nitriden dieser Metalle, ITO, leitfähigen Polymeren und anderen Materialien hergestellt werden, die die gewünschte Musterung ausbilden können. Solche leitfähigen Schichten können auf den Basisfilm laminiert werden, falls dies erforderlich ist. Im Fall der Verwendung eines Metalls liegt die Schichtdicke vorzugsweise im Bereich von 50 Å bis 50 µm. Wenn die Schichtdicke weniger als 50 Å beträgt, kann der erwünschte Abschirmeffekt möglicherweise nicht erreicht werden, und wenn die Dicke 50 µm überschreitet, verschlechtert sich die Verarbeitungsfähigkeit des Musters und die Lichtdurchlässigkeit der Schicht nimmt ab. Die Laminierung der leitfähigen Schicht kann durch ein Verfahren wie Ausscheidung aus der Gasphase, Zerstäuben, Ionenplattieren, Elektroplattieren, Metallfolien-Laminieren oder eine Kombination dieser Verfahren bewirkt werden. Das Zerstäuben wird gewöhnlich zur Ausbildung eines Films von lTO enthaltenden Oxiden oder Nitriden verwendet, aber auch das Sol-/Gelverfahren kann eingesetzt werden. Für den Fall, daß die leitfähige Schicht durch Ausscheidung aus der Gasphase oder Elektroplattieren gebildet wird, kann das Muster durch Photolithographie gebildet werden, und für den Fall, daß die Schicht durch Beschichten gebildet wird, kann das Muster durch Bedrucken gebildet werden. Wenn die Dicke der leitfähigen Schicht weniger als 1 µm beträgt, wird die Bearbeitung von feinen Linien erleichtert, was zur Verbesserung der Lichtdurchlässigkeit des Musteraufbaus beiträgt. Wenn die Dicke der leitfähigen Schicht nicht weniger als 1 µm beträgt, kann der Abschirmeffekt aufgrund eines verringerten Oberflächenwiderstands verstärkt werden. Das Filmbildungsverfahren kann abhängig von der Leitfähigkeit des verwendeten Materials, von der Dicke der leitfähigen Schicht, des Öffnungsanteils und der Form des Musters ausgewählt werden. Es wird ein Verfahren ausgewählt, das zur Herstellung der gewünschten Filmdicke unter Berücksichtigung der Eigenschaften der verwendeten Basis und der Wirtschaftlichkeit geeignet ist.

Bei der Ausbildung eines Musters in der leitfähigen Schicht ist dessen Konfiguration ein entscheidender Faktor. Wenn z. B. die Gitterpunkte auf einem Gegenstand gebildet werden, an dem die transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Welten angebracht wird, wie an einem PDP-Bildschirm, wird ein Moire erzeugt, was zu einer starken Verschlechterung der Erkennbarkeit des Bildes auf dem Bildschirm führt, wenn die PDP- Punkte und das Gittermuster der transparenten Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen übereinander gelegt werden. Endungsgemäß wurde entdeckt, daß bei der Herstellung des Gittermusters der leitfähigen Schicht, die auf mindestens einer Seite des transparenten Polymerfilms ausgebildet ist, ein derartiges Moire-Phänomen verhindert werden kann, wenn die Linienabstände P_i (i = 0, 1, 2, ... n) gemäß folgender Gleichung (A) ausgewählt werden:

P_i = P_min + (P_max - P_min) . α_i (A)
i = 0, 1, 2, ... n
P_min: Minimalwert des Linienabstands
P_max: Maximalwert des Linienabstands
α_i : Zufallszahl, ausgewählt zwischen 0 und 1

Es ist bekannt, daß ein Moire-Rand erscheint, wenn die Linien mit gleicher Steigung bei Überlagerung einander überlappen. Ein Grund für die Erzeugung eines solchen Moire- Randes liegt darin, daß bei Überlagerung der Linien die weniger dichten Abschnitte und die dichten Abschnitte fortlaufend erzeugt werden und daß die neuen Gitter, die als ein Kontinuum der dichten Abschnitte beobachtet werden, gebildet werden. Um die Musterkonfiguration so aufzubauen, daß die dichten Abschnitte nicht regelmäßig angeordnet sind, werden die Linienabstände innerhalb des Bereichs, der sowohl die Erfordernisse der Abschirmleistung als auch der optischen Wirkung erfüllt, unregelmäßig gestaltet. Insbesondere wird der Aufbau so ausgeführt, daß die Gleichung (A) unter Verwendung von Zufallszahlen erfüllt ist. Die minimalen und maximalen Werte des Linienabstands können gegebenenfalls gemäß der Gitterform, die an der verbundenen Erzeugungsquelle der elektromagnetischen Wellen bereitgestellt ist, ausgewählt werden. Im Fall von Anzeigen wie PDP reichen Linienabstände von 20 µm bis 1 mm aus, aber gewöhnlich wird ein besseres Ergebnis erhalten, wenn sie 70 bis 500 µm betragen, insbesondere 80 bis 200 µm. Dieser Linienabstand ist definiert als der Mittenabstand der Linien, die aneinander angrenzen, wenn willkürliche eindimensionale Koordinatenachsen auf den Mustern genommen werden. Die das Muster bildenden Linien sind eine Gruppierung von geraden Linien, Kurven oder einer Kombination davon.

Es wurde entdeckt, daß das Problem des Moiré-Phänomens beseitigt werden kann, wenn die geraden Linien und/oder Kurven für das Muster auf dec leitfähigen Schicht angeordnet werden, die auf mindestens einer Seite eines transparenten Polymerfilms ausgebildet ist, und im Fall von Kurven durch Ausbildung eines Musters, in dem die Sinus-, Tangens-, Exponential-, Logarithmus-, invers proportionale Funktion oder eine Kombination davon longitudinal und lateral angeordnet ist. Das Moire-Phänomen wird erzeugt durch Überlappen der periodischen Lichtstärkeverteilung, die durch die die PDP-Punkte (-Pixel) bildenden Trennwände erzeugt wird und die ähnliche Lichtstärkenverteilung, die durch das Muster der leitfähigen Schicht erzeugt wird. Daher wird sich ein Moire-Rand bilden, wenn die Punkte (Pixel), die die PDP bilden, der Form des Musters der leitfähigen Schicht ähneln. Wenn eine bestimmte spezielle Sinus-, Tangens-, Exponential-, Logarithmus- oder eine invers proportionale Funktion oder eine Kombination davon wie in der vodiegenden Endung auf den Aufbau des Musters der leitfähigen Schicht angewandt wird, kann, obwohl eine Lichtstärkenverteilung durch Überlagerung der PDP-Trennwände und des Musters der leitfähigen Schicht erzeugt wird, eine solche Verteilung in einem solchen Maß abgeschwächt und vereinheitlicht werden, daß sie mit bloßem Auge nicht zu erkennen ist, so daß es möglich ist, die Erzeugung des Moire-Phänomens zu unterdrücken, während der Öffnungsanteil zur Bereitstellung einer ausreichenden Transparenz und eines ausreichenden Abschirmeffekts gegen elektromagnetische Wellen aufrechterhalten wird. Da der Moire-Rand abhängig von der Konfiguration gebildet wird, die erzeugt wird, wenn die PDP-Punkte (-Pixel) mit dem Abschirmmuster gegen elektromagnetische Wellen überlagert werden, wird die Periode und die Amplitude der Funktionen, die das Abschirmmuster aufbauen, dadurch bestimmt, daß die Steigung und die Linienbreite cer PDP-Punkte (-Pixel) in Betracht gezogen wird. Es werden auch die Steigung und die Linienbreite, die für die Anordnung dieser Funktionen verwendet werden, gegebenenfalls innerhalb des Bereichs ausgewählt, der sowohl den erwünschten Abschirmeffekt gegen elektromagnetische Wellen als auch den Öffnungsanteil gewährleisten kann.

Die Herstellung des Musters der leitfähigen Schicht ist ein entscheidender Faktor bei der Bestimmung der Abschirmleistung. Die Abschirmleistung ist verbunden mit dem Oberflächenwiderstand und der Maschendichte der leitfähigen Schicht und es ist für die erwünschte Abschirmleistung notwendig, bei der Konstruktion des Musters diese Gesichtspunkte zu berücksichtigen. Die Maschendichte ergibt sich aus der Linienbreite der leitfähigen Schicht und dem Abstand zwischen den Linien, während der Oberflächenwiderstand der leitfähigen Schicht sich aus dem spezifischen Widerstand des leitfähigen Materials und der Dicke der leitfähigen Schicht ergibt. Es wurde entdeckt, daß die Bedingung für die Erfüllung beider Faktoren (d. h. Maschendichte und Oberflächenwiderstand) in einem P/D-Verhältnis von vorzugsweise im Bereich von 1 bis 540, mehr bevorzugt 2 bis 240 (P: Linienbreite (µm) des Metallfilm-Filtermusters; D: Dicke (µm) des Metallfilms) liegt. Innerhalb dieses Bereichs kann sowohl das Erfordernis der Abschirmleistung als auch das der Transparenz erfüllt werden, während der Oberflächenwiderstand der leitfähigen Schicht auf dem gewünschten Niveau aufrechterhalten werden kann. Im Verhältnis zur Dicke der leitfähigen Schicht ergibt sich im wesentlichen das Problem, daß bei einem P/D-Verhältnis von weniger als 1 kein ausreichender Abschirmeffekt erhalten werden kann, während einem Verhältnis von größer als 540 die Transparenz stark abnimmt.

Wenn eine Abschirmung durch das Laminieren einer Kupferschicht auf einen transparenten Polymerfilm gebildet wird, tritt das Problem auf, daß keine befriedigende Haftung erhalten wird. Dies wird einem ausgeprägten Unterschied in den physikalischen Konstanten, wie dem Längenausdehnungskoeffizienten und dem Elastizitätsmodul der Basis, der Klebeschicht und der Kupferschicht zugeschrieben. Schwierigkeiten bei der Auswahl eines geeigneten Klebers, der sowohl das Erfordernis der Transparenz als auch das der Haftung erfüllen kann, ist auch ein erheblicher Negativfaktor. Dieses Problem ist insbesondere dann vorherrschend, wenn Kupfer durch ein Verfahren wie Ausscheidung aus der Gasphase oder Zerstäubung laminiert wird, wobei eine ausreichende Haftung nur schwer erreichbar ist. Ungenügende Haftung zwischen der Kupferschicht und der Basis erschwert eine Verbesserung der Produktivität, was zu erhöhten Produktkosten führt.

Um das vorstehende Problem zu lösen, wird erfindungsgemäß die Verwendung eines transparenten Metalloxids als Material für die Klebeschicht vorgeschlagen. Dies ermöglicht, sowohl das Erfordernis der Transparenz als auch das der Haftung zu erfüllen und eine sehr zuverlässige transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen zu realisieren. Die vorstehenden Gesichtspunkte sind insbesondere wichtig, wenn die leitfähige Schicht als feines Linienmuster hergestellt wird. Wenn das Muster beispielsweise durch Ätzen gebildet wird, darf die Klebekraft zwischen der Basis und der leitfähigen Schicht nicht geringer als etwa 0,3 kg/cm sein, um den Druck des Abspülwassers zu überstehen. Das praktisch empfohlene sichere Niveau der Klebekraft beträgt 1,0 kg/cm oder mehr. Wenn eine solche Klebekraft nicht bereitgestellt wird, kann ein Abblättern der leitfähigen Schicht nach der Musterbildung stattfinden oder ein Voneinanderlösen während des Ätzens. Die Dicke der Klebeschicht und der Brechungsexponent des für die Klebeschicht verwendeten Materials sind ebenfalls wichtige Faktoren, wenn eine höhere Lichtdurchlässigkeit erwünscht ist.

Der transparente Metalloxidfilm kann aus In₂O₃, einem leitfähigen Verbundoxid wie In₂O₃ und SnO₂ (ITO), In₂O₃ und ZnO, und In₂O₃ und Ga₂O₃; SiO_x, TiO_X und einem Verbundoxid davon hergestellt sein. Der transparente Oxidfilm kann durch Verfahren der Ausscheidung aus der Gasphase wie Zerstäuben, Ausscheiden aus der Gasphase und Ionenplattieren, Beschichtungsverfahren gemäß dem Sol-/Geherfahren und anderen Verfahren gebildet werden. Ein geeignetes Verfahren wird unter Berücksichtigung des Typs des zu bildenden Films, der Filmdicke, der Produktivität und anderer Faktoren ausgewählt. Die Ausscheidung aus der Gasphase erlaubt die Bildung eines leitfähigen Films mit niedrigem Widerstand, so daß eine Verbesserung des Abschirmeffekts erwartet werden kann. Im Fall der Verwendung des Beschichtungsverfahrens wird ein Ankereffekt für die Kupferschicht durch die feine Unebenheit der Oberflächenschicht bereitgestellt, so daß dieses Verfahren für eine Erhöhung der Haftung vorteilhaft ist. Vor der Ausbildung des transparenten Metalloxidfilms ist es möglich, die normalerweise angewandten Vorbehandlungen wie Grundbeschichten, Grundieren, Corona-Entladungsbehandeln, usw., für eine bessere Haftung an der Basis durchzuführen.

Dann wird eine Kupferschicht auf dem transparenten Metalloxidfilm gebildet. Die Laminierung der Kupferschicht auf dem transparenten Metalloxidfilm verursacht eine Wanderung zwischen der Kupferschicht und dem Oxidfilm zur Ausbildung einer Zwischenschicht, die aus Kupfer(l)-oxid zwischen den beiden Schichten besteht. Diese Zwischenschicht weist eine Gradientenstruktur auf, in der sich die Zusammensetzung beider Komponenten nach und nach in Richtung der Dicke der Schicht verändert, so daß eine höhere Haftung erhalten wird, wie wenn nur eine Kupfer(I)-oxidschicht bereitgestellt würde. Wenn die Oxidation von Kupfer(t)-oxid zu Kupfer(II)-oxid fortschreitet und dadurch die Dicke der Kupferoxidschicht vergrößert wird, verringert sich die Haftung. Daher ist die Zusammensetzung und die Dicke der Zwischenschicht in einem durch die Wanderung der Kupferschicht und der transparenten Metalloxidschicht erzeugten Maß für eine Maximierung der Haftung am besten geeignet. Neben der Verbesserung der Haftung können auch weitere wichtige Eigenschaften dadurch verbessert werden.

1. Beispielsweise wird gewöhnlich eine Nickelplattierung oder eine Antikorrosionsschicht auf die Kupferoberfläche aufgebracht, um eine Oxidation zu verhindern, aber es ist auch möglich, das Eindringen von Wasserdampf oder Gasen wie Sauerstoff über die Basis und die oxidative Verschlechterung der Haftung mit der Zeit durch Bereitstellung einer transparenten Oxidschicht mit starken Gas-Sperreigenschaften zu verhindern. Dies ist sehr wichtig für die Langzeitzuverlässigkeit.
2. Wenn ein Leiter als transparentes Metalloxid verwendet wird, wird die Leitfähigkeit auch für die Netzöffnungen bereitgestellt, die durch die Kupferlaminierung gebildet werden, was zu einem verbesserten Abschirmeffekt gegen elektromagnetische Wellen führt. Wenn die Anordnung so ausgeführt wird, daß sich die Frequenzabhängigkeit der Abschirmleistung zwischen der netzförmigen Abschirmschicht gegen elektromagnetische Wellen und der ITO- Schicht unterscheidet, kann der Frequenzbereich der abzuschirmenden elektromagnetischen Wellen erweitert werden, was die Abschirmleistung gegen elektromagnetische Wellen erheblich verstärkt.
3. Der ITO-Film hat die Eigenschaft, Licht im nahen Infrarotbereich abzuschirmen, so daß ein Nah-Infrarot-Abschirmeffekt für die transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen erhalten wird.
4. Es kann eine Antireflexfunktion aufgrund des Unterschieds im Brechungsexponenten zwischen dem ITO-Film und der darauf laminierten Beschichtungsschicht bereitgestellt werden.

Die Dicke der Kupferschicht liegt vorzugsweise im Bereich von 50 Å bis 50 µm. Wenn die Dicke dieser Schicht weniger als 50 Å beträgt, ist der Abschirmeffekt ungenügend, und wenn die Dicke 50 µm überschreitet, wird die Verarbeitungsfähigkeit des Musters verschlechtert und/oder die Lichtdurchlässigkeit der Schicht nimmt ab. Neben Zerstäubung und Ausscheidung aus der Gasphase kann auch das Elektroplattieren zur Bildung der Kupferschicht eingesetzt werden. Ein geeignetes Verfahren wird unter Berücksichtigung der Wirtschaftlichkeit, der Verarbeitungsfähigkeit des Musters und der Abschirmleistung ausgewählt. Eine Plattierung wie eine Gold- oder Nickelplattierung oder eine Antikorrosionsbeschichtung kann, falls gewünscht, auf der Oberfläche der Kupferschicht aufgebracht werden, um eine oxidative Zersetzung zu verhindern.

Bei der Herstellung des Musters mit Kupfer ist es notwendig, nur die Kupferschicht selektiv zu ätzen. Dies ist wichtig, um eine ausreichende Haftung der Kupferschicht, optische Eigenschaften der transparenten Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen und deren Abschirmleistung bereitzustellen. Die Muster-Herstellungsbedingungen können gemäß dem Typ des transparenten MetaHoxidfilms eingestellt werden. Beispielsweise kann bei einem Oxidfilm aus SiOX, TiOx oder einem Verbund davon, eine gewöhnliche Kupferätzlösung wie eine Lösung von Kupfer(II)-chlorid, Eisen(III)-chlorid oder dergleichen verwendet werden. Im Fall eines transparenten leitfähigen Films hoher Kristallinität kann nur die Kupferschicht selektiv unter Verwendung einer selektiven Ätzlösung wie Eisen(III)-nitrat geätzt werden.

Ein PDP wird unter Verwendung einer Xenon-Gasentladung zum Leuchten gebracht. Da die bei diesem Vorgang erzeugten Nah-Infrarotstrahlen nach außen austreten können, wobei eine Fehlfunktion von verbreitet verwendeten Sensoren auftritt, ist die Nah-Infrarot- Abschirmfunktion wesentlich für die vordere Abschirmung der PDP. Der hier abzuschirmende nahe Infrarotbereich beträgt vorzugsweise 800 bis 1100 nm, mehr bevorzugt 800 bis 1500 nm. Es ist notwendig, eine ausreichende Lichtdurchlässigkeit im Bereich von sichtbarem Licht bei 400 bis 800 nm zu gewährleisten. Es zeigen jedoch viele der Substanzen, die eine Abschirmfunktion in diesem Nah-Infrarotbereich aufweisen, auch eine Tendenz zur Lichtabsorption im Bereich sichtbaren Lichts, was zu dem Problem führt, daß ein gewöhnlich transparenter Gegenstand wie schattiert aussieht. Erfindungsgemäß wurde entdeckt, daß dieses Schattierungsproblem durch Farbkompensation durch Zugabe eines Farbmittels gelöst werden kann.

Das zuzugebende Farbmittel kann ein Farbstoff, ein Pigment oder andere Substanzen sein, die im Bereich von sichtbarem Licht absorbieren. Mehrere verschiedene Farbmittel können zugesetzt werden. Ein geeignetes Farbmittel wird im Hinblick auf den Typ des verwendeten Nah-Infrarot-Absorptionsmittels, der Kompatibilität mit der Bindeharzschicht und der Löslichkeit in Lösungsmitteln ausgewählt. Die als Farbmittel in dieser Erfindung verwendbaren synthetischen Farbstoffe beinhalten beispielsweise öllösliche Farbstoffe, in organischen Lösungsmitteln lösliche Farbstoffe wie Metall-Komplexsalz-Typen, Dispersionsfarbstoffe, basische Farbstoffe, saure Farbstoffe wie Metall-Komplexsalz- Farbstoffe, Reaktivfarbstoffe, Direktfarbstoffe, Sulfid-Farbstoffe, Küpenfarbstoffe, Azo- Farbstoffe, Beizen-Farbstoffe und zusammengesetzte Farbstoffe. Die als Farbmittel verwendbaren anorganischen Pigmente beinhalten glimmerartiges Eisenoxid, basisches Bleicarbonat, Bleirot, Chromgelb, rotes Quecksilberoxid, Ultramarinblau, Preußischblau, Kobaltoxid, Strontiumchromat, Zinkchromat, Titandioxid, Titangelb, Titanschwarz, schwarzes Eisenoxid, Pigmente auf Molybdänbasis, Bleiocker und Zinksulfidweiß. Die organischen Pigmente beinhalten Azo-Pigmente, Phthalocyaninblau und dergleichen.

Die durch Farbkompensation erreichte Schattierung ist vorzugsweise möglichst farblos, aber sie kann gegebenenfalls unter Berücksichtigung der Erkennbarkeit, der Textur und anderer Faktoren gemäß dem Verwendungszweck der transparenten Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen ausgewählt werden. Es können verschiedene Typen von Nah- Infrarot-Abschirmmaterialien zugesetzt werden, die sich im Bereich der Abschirmwellenlänge unterscheiden, um die erwünschte Nah-Infrarot-Abschirmleistung bereitzustellen.

Zur Bereitstellung der Nah-Infrarot-Abschirmfunktion wird ein Verfahren eingesetzt, bei dem eine solche Funktion der transparenten Polymerverstärkung verliehen wird, und ein Verfahren, bei dem zusätzlich eine Beschichtungsschicht bereitgestellt wird. Das erste Verfahren ist jedoch Beschränkungen bezüglich der Herstellungsbedingungen für die Basis unterworfen, wie Hitzebeständigkeit und Löslichkeit des Nah-Infrarot-Abschirmmaterials, während das letztere Verfahren das Einbeziehen eines zusätzlichen Schritts erfordert, was die Kostenproblematik erhöht. Diese Schwierigkeiten können dadurch überwunden werden, daß die Nah-Infrarot-Abschirmfunktion in der Klebeschicht bereitgestellt wird.

Der Kleber kann aus einer großen Zahl von Materialien ausgewählt werden, was eine einfache Materialgestaltung im Verhältnis zu den Eigenschaften des Nah-Infrarot- Abschirmmaterials zuläßt. Es besteht auch kein Bedarf einer zusätzlichen Laminierung einer Beschichtungsschicht zur Bereitstellung dieser Funktion für den Kleber, die zur Aufrechterhaltung einer festen Haftung zwischen der Basis und der leitfähigen Schicht unerläßlich ist. Bezüglich der Menge des Nah-Infrarot-Abschirmmaterials kann diese Funktion gewöhnlich durch Zugabe des Abschirmmaterials in einer Menge von weniger als 1 Gew.-% auf der Basis des Harz-Feststoffgehalts der Klebeschicht gewährleistet werden, obwohl die Menge von der Dicke der Klebeschicht abhängt, so daß die Klebeschicht bei der Zugabe des Nah-Infrarot-Abschirmmaterials im wesentlichen unverändert bleibt.

Wenn, wie vorstehend beschrieben, ein Nah-Infrarot-Abschirmmaterial und ein Farbmittel zugegeben werden, und falls zwischen diesen Materialien Unterschiede bezüglich der Verträglichkeit mit dem Harz, der Dispergierbarkeit, der guten Löslichkeit, usw. bestehen, ist es ungünstig, sie der gleichen Beschichtungsschicht zuzusetzen. In einem solchen Fall kann die Funktion der transparenten Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen verstärkt werden, wenn eine gewünschte Freiheit bei der Auswahl der zuzusetzenden Materialien und der Harzschicht bereitgestellt wird. Dies kann dadurch verwirklicht werden, daß ein Nah- Infrarot-Abschirmmaterial und ein Farbmittel zur Farbkompensation für das Abschirmmaterial getrennt der Klebeschicht 1 (bereitgestellt zwischen der leitfähigen Schicht und dem Film) bzw. der Klebeschicht 2 (bereitgestellt zur Bindung des laminierten Films mit einer gemusterten leitfähigen Schicht an die transparente Polymerverstärkung) oder zur Klebeschicht 1 oder 2 allein.

Die Klebeschicht muß eine genügende Haftfestigkeit in Bezug auf das zu klebende Material aufweisen, aber es ist sehr schwierig, eine Formulierung zu entwickeln, die eine Zugabe von verschiedenen Materialtypen, die sich in Löslichkeitseigenschaften und in der Harz- Kompatibilität unterscheiden, beinhaltet. Die Auswahl des Nah-Infrarot-Abschirmmaterials und des Farbmittels zur Farbkompensation wird jedoch durch getrennte Zugabe dieser Materialien zu den verschiedenen Harzschichten sehr erleichtert. Betrachtet man die Klebeschicht 1 genauer, ist es sehr wahrscheinlich, daß die Schichtoberfläche einer sauren oder alkalischen wäßrigen Lösung bei der Erhitzungsstufe zur Laminierung der leitfähigen Schicht oder bei der Musterherstellung ausgesetzt sein wird, so daß das Material, dessen Eigenschaften bei solchen Gelegenheiten stark verschlechtert werden können, vorzugsweise der Klebeschicht 2 zugesetzt wird.

Im Fall, daß sowohl das Nah-Infrarot-Abschirmmaterial als auch das Farbkompensationsmaterial nicht ausreichend in der Klebeschicht 1 allein gelöst werden, werden die beiden Klebeschichten 1 und 2 so gestaltet, daß sie mit den jeweiligen Materialien verträglich sind. Es gibt verschiedene Additive mit einer niedrigen Löslichkeit in Harz, und die Verwendung solcher Additive führt zu dem Problem, daß die Filmdicke stark erhöht werden muß, wenn versucht wird, den gewünschten Effekt mit nur einer Schicht allein zu erreichen. Ein solches Problem kann jedoch durch getrennte Zugabe der Additive zu den beiden Schichten überwunden werden.

Es wurde jedoch entdeckt, daß das auf die vorstehend beschriebene Weise zugegebene Nah-Infrarot-Abschirmmaterial und das Farbmittel eine schlechte Witterungsbeständigkeit aufweisen, und auch einer Veränderung der Absorptionseigenschaften mit der Zeit unterworfen sind, was zu einem Problem bei der Langzeitzuverlässigkeit führt. Insbesondere die Nah-Infrarot-Abschirmmaterialien, die Absorptionseigenschaften im UV-Bereich zeigen, wiesen eine solche Neigung auf und konnten ihre normale Funktion über einen langen Zeitraum nicht aufrechterhalten. Erfindungsgemäß kann eine solche Farbverschlechterung der Nah-Infrarot-Abschirmmaterialien durch Bereitstellung von mindestens einer Schicht verhindert werden, der ein Material mit einer UV-Abschirmfunktion zugesetzt wurde.

Es können herkömmliche UV-Abschirmmaterialien verwendet werden, soweit sie einen Abschirmungseffekt im UV-Bereich besitzen. Typische Beispiele solcher Abschirmmaterialien sind organische UV-Absorber einschließlich des Salicylat-Typs, des Benzophenon-Typs, des Benzotriazol-Typs, des Cyanacrylat-Typs und des Nickel-Chelat- Typs, feine Teilchen anorganischer Materialien wie Titanoxid, Zinkoxid und Eisenoxid und Lichtschutzmittel des sterisch gehinderten Amin-Typs (HALS). Diese UV- Abschirmmaterialien können entweder einzeln oder in Kombination verwendet werden. Die Schicht, der ein solches UV-Abschirmmaterial zugesetzt wird, kann jegliche der in der transparenten Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen bereitgestellten Schichten sein.

Es wurde auch entdeckt, daß die Veränderung von Absorptionseigenschaften des Nah- Infrarot-Abschirmmaterials und des Farbmittels in Gegenwart von Wasser sehr stark beschleunigt werden konnte. Der Grund dafür liegt in der Funktion des Wassers als Katalysator. Dieses Problem kann dadurch gelöst werden, daß das Abschirmmaterial und das Farbmittel mit einer Wasserdampfsperre geschützt werden. Es kann eine einzelne Schicht oder mehrere Schichten der Wasserdampfsperre bereitgestellt werden. Alternativ kann die Klebeschicht, die das Nah-Infrarot-Abschirmmaterial enthält, per se mit solchen Sperreigenschaften ausgestattet sein.

Das zur Bildung der Wasserdampfsperre verwendete Material ist kein spezielles Material; es ist z. B. möglich, organische Materialien wie Polyvinylalkohol, Ethylenvinylalkohol- Copolymere, Polyacrylnitril, Polyvinylidenchlorid, usw. und anorganische Materialien wie z. B. transparente Metalloxide wie Siliciumdioxid, Aluminiumoxid, Titanoxid, ITO, usw. zu verwenden. Ein geeignetes Material wird unter Berücksichtigung der Kosten, der Produktivität, der erforderlichen Sperreigenschaften und weiterer Faktoren ausgewählt. Das Verfahren zur Bildung des Sperrfilms wird abhängig vom verwendeten Material ausgewählt; beispielsweise kann ein Verfahren wie Beschichten, Ausscheidung aus der Gasphase, Zerstäuben oder Ionenplattieren zur Bitdung des Sperrfilms verwendet werden.

Da die Frequenz der abzuschirmenden elektromagnetischen Wellen gewöhnlich im Bereich von 10 kHz bis 1000 MHz liegt, muß die leitfähige Schicht eine Leitfähigkeit von nicht mehr als 103 Ω . cm, ausgedrückt als spezifischer Widerstand, aufweisen.

Im allgemeinen wird der Abschirmeffekt gegen elektromagnetische Wellen durch die folgende Gleichung dargestellt:

S(dB) = 10 log (1/ρf) + 1,7 t √f/ρ
S(dB): Abschirmeffekt gegen elektromagnetische Wellen
ρ (Ω . cm): spezifischer Volumenwiderstand der leitfähigen Schicht
f (MHz): Frequenz der elektromagnetischen Welle
t (cm): Dicke der leitfähigen Schicht

Natürlich muß der spezifische Widerstand p gegen 0 abgesenkt werden, um den Abschirmeffekt S gegen elektromagnetische Wellen zu maximieren; je niedriger der spezifische Widerstand ist, desto wirksamer können elektromagnetische Wellen eines breiteren Frequenzbereichs abgeschirmt werden. Die Musterform, das Material und die Dicke der leitfähigen Schicht können geeignet gewählt werden, um den erwünschten Abschirmeffekt zu erreichen.

Durch den so konstruierten Abschirmfilter gegen elektromagnetische Wellen konnte der Abschirmeffekt, ausgedrückt durch die folgende Gleichung, drastisch verbessert werden:

S (dB) = 20 × Iog10 (E₀/E₁)
E₀: eintretende elektromagnetische Welle
E₁: ausgetretene elektromagnetische Welle

Es wurde als Standard berücksichtigt, daß der zulässige Abschirmeffekt der herkömmlichen Absorber für elektromagnetische Wellen auf einem Niveau von 20 dB oder darüber liegt, was einer Absorptionsrate der elektromagnetischen Welle von 99% oder darüber entspricht, aber erfindungsgemäß wurde es möglich, das Niveau des erlaubten Abschirmeffekts auf 30 bis 50 dB zu erhöhen.

Die transparente Polymer-Verstärkungsfolie kann externen Druck überstehen, aber eine Beschädigung aufgrund von Kratzern oder dergleichen erzeugt eine Verminderung der Transparenz, so daß eine harte Schutzschicht, falls gewünscht, bereitgestellt werden kann. Eine solche harte Schicht kann beispielsweise aus hitzehärtenden Harzen, UV-härtenden Harzen wie Epoxyacrylaten und Urethanacrylaten und Epoxidharzen gebildet werden.

Anorganische Materialien, insbesondere transparente Oxide wie Siliciumoxid, Aluminiumoxid, Titanoxid und Zirkoniumoxid werden auch vorzugsweise verwendet. Da darüber hinaus ein Polymer für die normalen Verstärkungsfolien zur Gewichtsverminderung verwendet wird, müssen solche Folien eine Stärke aufweisen, die normalerweise durch eine Dicke von 1 mm oder größer bereitgestellt wird. Eine größere Dicke stellt eine größere Stärke bereit, ist aber nachteilig in Bezug auf das Gewicht und die Transparenz, so daß normalerweise eine Dicke von 1 mm oder darüber (bis zu 5 mm) für die Zwecke der Bereitstellung einer Stärke ausreicht, die künstliche äußere Kräfte und Fingerdruck beim praktischen Gebrauch übersteht.

Weiterhin ist erwünscht, daß die transparente Polymer-Verstärkungsfolie eine Antireflexfunktion aufweist. Diese Funktion ist zur Verhinderung von unregelmäßigen Reflexionen auf der Anzeigeoberfläche der PDP erforderlich, um den Kontrast zu verstärken. Natürlich kann eine Antireflexeigenschaft der harten Schicht vorgesehen sein oder es kann eine getrennte Antireflexschicht gebildet werden.

Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung.

Beispiel 1

Eine Polyurethan-Klebeschicht 1 wurde auf einen 75 µm dicken Polyethylenterephthalat (nachstehend als PET)-Film beschichtet, und anschließend wurde; darauf eine Kupferfolie (12 µm dick) laminiert, wobei ein Kupferfolien-beschichteter PET-Fifm erhalten wurde. Die leitfähige Schicht wurde mittels Photolithographie in eine Gittermusterform gebracht, die aus longitudinal und lateral angeordneten geraden Linien besteht. Die Linienabstände des Musters wurden durch die folgende Gleichung (6) definiert. Die Linienbreite betrug 10 µm.

P_i= 100 + (170-100) x α_i (6)
(α_i: Zufallszahl zwischen 0 und 1)

Dann wurde auf eine Seite eines 2 mm dicken Polycarbonat-Trägers eine harte Schicht mit einer Antireflexfunktion und einer Bleistift-Ritzhärte von 3H oder höher aufgebracht, und der gemusterte Basisfilm wurde auf die unbeschichtete Seite des Polycarbonat-Trägers mit einer Klebeschicht 2 aus einem aliphatischen Polyesterurethan (AD-N401, hergestellt von Toyo- Morton Co., Ltd.) laminiert. Ein Bandkabel wurde mit einer Silberpaste (CRM-1085, hergestellt von Sumitomo Bakelite Company Limited) auf die leitfähige Schicht an einer äußeren Kante geklebt und elektrisch geerdet. Die Lichtdurchlässigkeit bei 550 nm des erhaltenen laminierten Films als transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen betrug 74%, die Lichtdurchlässigkeit im Nah-Infrarot-Bereich betrug <10% (bei 900 bis 1200 nm) und die Abschirmleistung gegen ein elektrisches Feld betrug 50 dB oder mehr (gemessen mit dem ADVANTEST-Verfahren) im Frequenzbereich von 200 bis 1000 MHz. Wenn die transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen auf einen PDP- Bildschirm aufgesetzt wurde, bildete sich kein Moire-Rand, und die Erkennbarkeit des Bildes war hervorragend. Mit einer Bleistift-Ritzhärte von 3H oder darüber und einer hervorragenden Kratzbeständigkeit zeigte das Produkt nicht nur eine hervorragende Abschirmleistung sondern auch eine sehr gute Beständigkeit als transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen für PDP.

Vergleichsbeispiel 1

In Beispiel 1 wurde das gesamte, durch Musterbildung gebildete Gitternetz mit einem Linienabstand von 160 µm und einer Linienbreite von 10 µm ausgebildet. Wenn die transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen auf die vordere Seite des PDP aufgesetzt wurde, traten die Moiré-Ränder auf und die Abschirmung war für den praktischen Gebrauch ungeeignet.

Beispiele 2 und 3

Eine Polyurethan-Klebeschicht 1 wurde auf einen 75 µm dicken PET-Film beschichtet, und anschließend wurde darauf eine Kupferfolie (12 µm dick) laminiert, wobei ein Kupferfolien beschichteter PET-Film erhalten wurde. Die leitfähige Schicht wurde mittels Photolithographie zur Bildung eines Musters, umfassend longitudinale und laterale Gruppierungen von Kurven, ausgedrückt durch Sinus- und Tangensfunktionen, gemustert. Die Linienbreite des Musters betrug 10 µm. Die Steigung der Linien wurde gemäß der vorstehend gezeigten Gleichung (6) (Beispiel 2) und der folgenden Gleichung (7) (Beispiel 3) eingestellt.

P_i = 100 + (170-150)xα_i (7)
(α_i : Zufallszahl zwischen 0 und 1)

Dann wurde auf einer Seite eines 2 mm dicken Polycarbonat-Trägers eine Antireflex- Hartbeschichtung mit einer Bleistift-Ritzhärte von 3H oder darüber aufgebracht, und der gemusterte Basisfilm wurde auf die unbeschichtete Seite des Polycarbonat-Trägers mit einer Klebeschicht 2 aus einem aliphatischen Polyesterurethan (AD-N401, hergestellt von Toyo- Morton Co., Ltd.) laminiert. Ein Bandkabel wurde mit einer Silberpaste (CRM-1085, hergestellt von Sumitomo Bakelite Company Limited) auf die leitfähige Schicht an einer äußeren Kante geklebt und elektrisch geerdet. Mit einer Bleistift-Ritzhärte von 3H oder darüber und einer hervorragenden Kratzbeständigkeit zeigte das Produkt nicht nur eine hervorragende Abschirmleistung sondern auch eine hohe Beständigkeit als transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen für PDP.

In Beispiel 2 betrug die Lichtdurchlässigkeit der Abschirmung bei 550 nm 74%, die Lichtdurchlässigkeit im nahen Infrarot-Bereich betrug <10% (bei 900 bis 1200 nm) und die Abschirmleistung gegen ein elektrisches Feld betrug 50 dB oder darüber (gemessen mit dem ADVANTEST-Verfahren) im Frequenzbereich von 200 bis 1000 MHz.

In Beispiel 3 betrug die Lichtdurchlässigkeit der Abschirmung bei 550 nm 78%, die Lichtdurchlässigkeit im nahen Infrarot-Bereich betrug <10% (bei 900 bis 1200 nm) und die Abschirmleistung gegen ein elektrisches Feld betrug 48 dB oder darüber (gemessen mit dem ADVANTEST-Verfahren) im Frequenzbereich von 200 bis 1000 MHz.

Wenn die transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen auf einen PDP- Bildschirm aufgesetzt wurde, bildeten sich keine Moiré-Ränder und eine gute Bilderkennbarkeit wurde sowohl in Beispiel 2 als auch in Beispiel 3 erhalten.

Beispiele 4-6

In Beispiel 1 wurde das Muster mit den durch eine Exponentialfunktion (Beispiel 4), eine Logarithmusfunktion (Beispiel 5) und eine inverse Proportionalfunktion (Beispiel 6), ausgedrückt in Kurven, gebildet. Es wurden transparente Abschirmungen gegen elektromagnetische Wellen erhalten, die bei Überlagerung mit einem PDP-Bildschirm keine Moiré-Randbildung verursachten und eine hervorragende Erkennbarkeit gewährleisteten.

Vergleichsbeispiel 2

In Beispiel 1 wurde die Dicke der Kupferschicht auf 35 µm verändert, die Linienbreite des Netzfiltermusters auf 30 µm und die Raumbreite auf 300 µm. Der Abschirmeffekt der erhaltenen Abschirmung im Frequenzbereich von 200 bis 1000 MHz betrug 40 dB und die Lichtdurchlässigkeit bei 550 nm betrug 30%.

Beispiel 7

Ein 75 µm dicker PET-Film wurde bis zu einer Dicke von 1 µm mit einem Beschichtungsmaterial, umfassend 100 Gewichtsteile eines Epoxyacrylat-Präpolymers (VR- 60, hergestellt von Showa Kobunshi KK) mit einem Molekulargewicht von 1540 und einem Schmelzpunkt von 70°C, 400 Gewichtsteilen Butylacetat, 100 Gewichtsteilen Cellosolve- Acetat und 2 Gewichtsteilen Benzoin-Ethylether grundbeschichtet. Dann wurde darauf lndiumoxid zerstäubt unter Bildung eines kristallinen Films mit einer Durchlässigkeit von 80% und einem Folienwiderstand von 150 Ω. Auf diesem Film wurde weiter durch Zerstäubung ein 2000 Å dicker Kupferfilm gebildet, gefolgt von der Elektroplattierung, wobei ein Kupferfolien-beschichteter PET-Film mit einer Kupferdicke von 4 µm und einem Oberflächenwiderstand von 4 × 10^-3 Ω/ erhalten wurde. Die Musterbildung wurde auf der leitfähigen Schicht mittels Photolithographie unter Verwendung von Eisen(III)-nitrat als Ätzlösung ausgeführt, wobei ein Filtermuster mit der in Beispiel 1 beschriebenen Konfiguration erhalten wurde.

Die Kupferfolienseiten der erhaltenen Filme wurden aneinander mit einem hitzehärtenden Epoxidkleber geklebt und einem 90°-Abreißtest unterworfen, der eine Haftkraft von 1 kg/cm oder mehr zeigte. In einem beschleunigten Test, der bei einer hohen Temperatur und einer hohen Feuchtigkeit (80°C und 90% relative Feuchtigkeit) durchgeführt wurde, betrug die Haftkraft nach 1000 Stunden 900 g/cm, ein Niveau, das für den praktischen Gebrauch akzeptabel ist.

Die Lichtdurchlässigkeit bei 500 nm des laminierten Films als transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen betrug 70%, die Lichtdurchlässigkeit im nahen Infrarot- Bereich betrug <10% (bei 900 bis 1200 nm) und die Abschirmleistung gegen ein elektrisches Feld betrug 50 dB oder mehr (gemessen mit dem ADVANTEST-Verfahren) im Frequenzbereich von 200 bis 1000 MHz.

Beispiel 8

Eine transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 7 hergestellt, mit der Ausnahme, daß der transparente Metalloxidfilm aus SiO_x hergestellt wurde. Der Hafttest, der auf der Abschirmung ähnlich Beispiel 7 durchgeführt wurde, zeigte eine Haftfestigkeit von 1 kg/cm oder mehr.

Die Lichtdurchlässigkeit der Abschirmung bei 550 nm betrug 72%, die Lichtdurchlässigkeit im nahen Infrarot-Bereich betrug <10% (bei 900 bis 1200 nm) und die Abschirmleistung gegen ein elektrisches Feld betrug 50 dB oder mehr (gemessen mit dem ADVANTEST- Verfahren) im Frequenzbereich von 200 bis 1000 MHz.

Vergleichsbeispiel 3

In Beispiel 7 wurde anstelle der Bildung eines transparenten Metalloxidfilms Kupfer durch Elektroplattieren laminiert. In dem auf die gleiche Weise wie in Beispiel 7 durchgeführten Hafttest betrug die Haftfestigkeit weniger als 200 g/cm und die Linien wurden bei der Musterbildungsstufe teilweise beschädigt, was zu einer sehr schlechten Ausbeute führte.

Beispiel 9

Auf einen 75 µm dicken PET-Film wurde eine Polyurethan-Klebeschicht 1 beschichtet, die ein Nah-Infrarot-Abschirmmaterial auf Dümmonium-Basis (IRG-022, hergestellt von Nippon Kayaku KK) und ein Farbmittel (Kayaset Blue A-2R, hergestellt von Nippon Kayaku KK) zur Farbkompensation enthielt, und eine auf beiden Seiten einer Aufrauhbehandlung unterworfene Kupferfolie (12 µm dick) wurde laminiert, wobei ein Kuperfolien-beschichteter PET-Film erhalten wurde. Die leitfähige Schicht wurde durch Photolithographie gemustert, wobei ein Filtermuster mit der gleichen Konfiguration wie in Beispiel 1 erhalten wurde. Auf einer Seite eines 2 mm dicken Polycarbonat-Trägers wurde eine Antireflex-Hartbeschichtung mit einer Bleistift-Ritzhärte von 3H oder mehr gebildet und der gemusterte Basisfilm wurde auf die unbeschichtete Seite des Polycarbonat-Substrats mit einer Klebeschicht 2 aus einem aliphatischen Polyesterurethan (AD-N401, hergestellt von Toyo-Morton Co., Ltd.) laminiert. Ein Bandkabel wurde mit einer Silberpaste (CRM-1085, hergestellt von Sumitomo Bakelite Company Limited) auf die leitfähige Schicht an einer äußeren Kante geklebt und elektrisch geerdet. Die Lichtdurchlässigkeit dieses Produkts bei 550 nm als transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen betrug 74%, die Lichtdurchlässigkeit im nahen Infrarot- Bereich betrug <10% (bei 900 bis 1200 nm) und die Abschirmleistung gegen ein elektrisches Feld betrug 50 dB oder mehr (gemessen mit dem ADVANTEST-Verfahren) im Frequenzbereich von 200 bis 1000 MHz. Mit einer Bleistift-Ritzhärte von 3H auf der hartbeschichteten Seite und einer hervorragenden Kratzbeständigkeit zeigte der erhaltene laminierte Film nicht nur einen hervorragenden Abschirmeffekt sondern auch eine hohe Beständigkeit als transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen für PDP.

Beispiel 10

Eine Polyurethan-Klebeschicht 1 wurde auf einen 75 µm dicken PET-Film beschichtet, und dann wurde eine auf beiden Seiten einer Aufrauhbehandlung unterworfene Kupferfolie (12 µm dick) laminiert, wobei ein Kupferfolien-beschichteter PET-Film erhalten wurde. Die leitfähige Schicht dieses Films wurde durch Photolithographie gemustert, wobei ein Filtermuster mit der gleichen Konfiguration wie das von Beispiel 1 erhalten wurde.

Auf einer Seite eines 2 mm dicken Polycarbonat-Trägers wurde eine Antireflex- Hartbeschichtung mit einer Bleistift-Ritzhärte von 3H oder mehr aufgebracht und der gemusterte Basisfilm wurde auf die unbeschichtete Seite des Polycarbonat-Substrats mit einer Klebeschicht 2 aus einem aliphatischen Polyesterurethan (AD-N401, hergestellt von Toyo-Morton Co., Ltd.) laminiert, das ein Nah-Infrarot-Abschirmmaterial auf Aluminiumbasis (Kayasorb IRG-022, hergestellt von Nippon Kayaku KK) und ein Farbmittel (Kayaset Blue A- 2R, hergestellt von Nippon Kayaku KK) zur Farbkompensation enthielt. Es wurde auch ein Bandkabel mit einer Silberpaste (CRM-1085, hergestellt von Sumitomo Bakelite Company Limited) auf die leitfähige Schicht an einer äußeren Kante geklebt und elektrisch geerdet.

Die Lichtdurchlässigkeit des Produkts bei 550 nm als transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen betrug 74%, die Lichtdurchlässigkeit im nahen Infrarot-Bereich betrug <10% (bei 900 bis 1200 nm) und die Abschirmleistung gegen ein elektrisches Feld betrug 50 dB oder mehr (gemessen mit dem ADVANTEST-Verfahren) im Frequenzbereich von 200 bis 1000 MHz. Mit einer Bleistift-Ritzhärte von 3H auf der hartbeschichteten Seite und einer hervorragenden Kratzbeständigkeit zeigte das Produkt nicht nur eine hervorragende Abschirmwirkung sondern auch eine hohe Beständigkeit als transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen für PDP.

Beispiel 11

In Beispiel 9 war das Nah-lnfrarot-Abschirmmaterial auf Diimmoniumbasis (Kayasorb IRG- 002, hergestellt von Nippon Kayaku KK) in der Klebeschicht 1 enthalten, während das Farbmittel zur Farbkompensation dieses Materials in der Klebeschicht 2 enthalten war, und der gemusterte Film wurde auf den Verstärkungsträger geklebt. Es wurde eine nicht schattierte, transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen mit einer Lichtdurchlässigkeit von 10% oder weniger im nahen Infrarot-Bereich von 900 bis 1200 nm und von 68% bei 550 nm erhalten.

Vergleichsbeispiel 4

In Beispiel 11 wurde der gemusterte laminierte Film ohne Zugabe eines Farbkompensationsfarbmittels zur Klebeschicht 2 auf den Verstärkungsträger geklebt. Das Produkt zeigte eine Lichtdurchlässigkeit von 10% oder weniger im nahen Infrarot-Bereich von 900 bis 1200 nm und von 68% bei 550 nm, aber es wies eine grünliche Schattierung auf, die dem Nah-Infrarot-Abschirmmaterial zugewiesen werden konnte und für die Verwendung als transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen für PDP ungeeignet war.

Beispiel 12

Auf einer Seite eines 75 µm dicken PET-Films wurde eine Polyurethan-Klebeschicht 1, die ein Nah-Infrarot-Abschirmmaterial (Kayasorb IRG-022, hergestellt von Nippon Kayaku KK) enthielt, beschichtet, und anschließend wurde eine auf beiden Seiten einer Aufrauhbehandlung unterworfene Kupferfolie (12 µm dick) laminiert, wobei ein Kupferfolien beschichteter PET-Film erhalten wurde. Die leitfähige Schicht auf dem Film wurde mittels Photolithographie gemustert, wobei ein Filtermuster mit der in Beispiel 1 beschriebenen Konfiguration erhalten wurde.

Auf einem 2 mm dicken Polycarbonat-Träger wurde als UV-Sperrschicht eine Epoxyacrylat- Harzschicht, enthaltend einen UV-Absorber auf Benzotriazolbasis und einen Lichtstabilisator auf der Basis eines sterisch gehinderten Amins, bereitgestellt, und auf diese Schicht wurde eine Antireflex-Hartbeschichtung mit einer Bleistift-Ritzhärte von 3H oder mehr bereitgestellt. Auf der unbeschichteten Seite des Substrats wurde der gemusterte Basisfilm mit einer Klebeschicht 2 aus einem aliphatischen Polyesterurethan (Toyo-Morton Co., Ltd., AD-N401), enthaltend ein Farbmittel (Nippon Kayaku, Kayaset Blue A-2R) zur Farbkompensation laminiert. Es wurde auch ein Bandkabel mit einer Silberpaste (Sumitomo Bakelite, CRM- 1085) auf den leitfähigen Film an einer äußeren Kante geklebt und elektrisch geerdet. Die Lichtdurchlässigkeit des Produkts bei 550 nm als transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen betrug 74%, die Lichtdurchlässigkeit im nahen Infrarot-Bereich betrug <10°10 (bei 900 bis 1200 nm) und die Abschirmleistung gegen ein elektrisches Feld betrug 50 dB oder mehr (gemessen mit dem ADVANTEST-Verfahren) im Frequenzbereich von 200 bis 1000 MHz. Mit einer Bleistift-Ritzhärte von 3H und einer hervorragenden Kratzbeständigkeit zeigte das Produkt nicht nur einen hervorragenden Abschirmeffekt sondern auch eine hohe Beständigkeit als transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen für PDP. In einem 1000 Stunden-Bewitterungstest betrug die Verschlechterung der Nah-Infrarot-Abschirmleistung 3% oder weniger, und es wurde keine Veränderung der Schattierung aufgrund einer Verschlechterung der Farbkompensationswirkung festgestellt.

Beispiel 13

In Beispiel 12 wurde ein Film aus Siliciumdioxid als Wasserdampfsperre auf der nicht Kupfer-laminierten Seite des PET-Films zwischen der UV-Abschirmschicht und der Antireflexschicht bereitgestellt. In einem 1000 Stunden-Naßhitzetest (bei 80°C und 90% relativer Feuchtigkeit) betrug die Verschlechterung der Nah-Infrarot-Abschirmleistung 3% oder weniger, und es wurde keine Veränderung der Schattierung aufgrund einer Verschlechterung des Farbkompensationseffekts beobachtet.

Vergleichsbeispiel 5

In Beispiel 12 wurde eine transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen ohne die Bereitstellung einer UV-Abschirmschicht hergestellt. In einem 1000 Stunden- Bewitterungstest betrug die Lichtdurchlässigkeit der Abschirmung bei 550 nm 70% und die Lichtdurchlässigkeit im Nah-Infrarot-Bereich betrug <40% (bei 900 bis 1200 nm), was eine deutliche Verschlechterung der Nah-Infrarot-Abschirmleistung anzeigt.

Vergleichsbeispiel 6

In Beispiel 13 wurde eine transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen ohne die Bereitstellung einer Wasserdampfsperre hergestellt, In einem 1000 Stunden- Naßhitzetest (bei 80°C und 90% relativer Feuchtigkeit) betrug die Lichtdurchlässigkeit der Abschirmung bei 550 nm 71% und die Lichtdurchlässigkeit im nahen Infrarot-Bereich betrug <38% (bei 900 bis 1200 nm), was eine deutliche Verschlechterung der Nah-Infrarot- Abschirmleistung anzeigte.

Beispiel 14

In Beispiel 1 wurde ein 2000 Å dicker Kupferfilm durch Zerstäuben als leitfähige Schicht gebildet. Diese Schicht wurde bis zur Bildung einer Kupferdicke von 4 µm elektroplattiert. Die Lichtdurchlässigkeit der erzeugten transparenten Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen betrug bei 550 nm 74%, die Lichtdurchlässigkeit im Nah-Infrarot- Bereich betrug <10% (bei 900 bis 1200 nm) und die Abschirmleistung gegen ein elektrisches Feld betrug 45 dB oder mehr (gemessen mit dem ADVANTEST-Verfahren) im Frequenzbereich von 200 bis 1000 MHz.

Wie aus den vorstehenden Beispielen ersichtlich ist, ermöglichte die vorliegende Erfindung die Bereitstellung einer transparenten Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen mit einer hervorragenden Transparenz.

Claims

1. Transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen, umfassend einen transparenten Polymerfilm und eine leitfähige Schicht in Form eines Linienmusters, das mindestens auf einer Seite des Films ausgebildet ist, wobei die Linienabstände im Linienmuster beliebig zwischen 20 µm und 1 mm liegen.

2. Abschirmung gemäß Anspruch 1, wobei das Linienmuster die Form eines Gitters aufweist, das aus longitudinal und lateral angeordneten geraden Linien besteht.

3. Abschirmung gemäß Anspruch 1, wobei das Linienmuster eine Konfiguration aufweist, die aus der longitudinalen und lateralen Anordnung der Kurven gemäß der folgenden Gleichungen (1) oder (2) ausgedrückten Sinus- oder Tangens-Funktionen aufgebaut ist:
y = A.sin(αx+ϕ) (I)
y = B . tan (ßx + ψ) (2)
(A, B, α, β, ϕ, ψ: willkürliche Konstanten)

4. Abschirmung gemäß Anspruch 1, wobei das Linienmuster eine Konfiguration aufweist, die aus der longitudinalen und lateralen Anordnung der Kurven gemäß der folgenden Gleichungen (3) oder (4) ausgedrückten Exponentialfunktion oder logarithmischen Funktion aufgebaut ist:
y = C . exp (γx + ρ) (3)
y = D . In (δx + ξ) (4)
(C, D, γ, δ, ρ, ξ: willkürliche Konstanten).

5. Abschirmung gemäß Anspruch 1, wobei das Linienmuster eine Konfiguration aufweist, die aus der longitudinalen und lateralen Anordnung der Kurven gemäß folgender Gleichung (5) ausgedrückten invers proportionalen Funktion aufgebaut ist:
y = E/x (5)
(E: willkürliche Konstante).

6. Abschirmung gemäß Anspruch 1, wobei das Linienmuster eine Konfiguration aufweist, die durch eine Kombination der in den Ansprüchen 2 bis 5 definierten Anordnungen von geraden Linien und Kurven aufgebaut ist.

7. Abschirmung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das Verhältnis der Linienbreite (P, µm) zur Dicke (D, µm) der leitfähigen Schicht im Linienmuster (B/D- Verhältnis) innerhalb des Bereichs von 1 bis 540 liegt.

8. Abschirmung gemäß Anspruch 7, wobei das P/D-Verhältnis 2 bis 240 beträgt.

9. Transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen, erhältlich durch Laminieren von gegebenenfalls einer Klebeschicht, einem transparenten Metalloxidfilm und einer dünnen Metallschicht, nacheinander in dieser Reihenfolge, auf mindestens eine Seite eines transparenten Polymerfilms, und selektives Ätzen nur der dünnen Metallschicht zur Bildung eines Linienmusters, wobei die Linienabstände im Linienmuster beliebig zwischen 20 µm und 1 mm liegen.

10. Abschirmung gemäß Anspruch 9, wobei die dünne Metallschicht aus Kupfer hergestellt ist.

11. Transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen, erhältlich durch Laminieren einer Klebeschicht, die ein Nah-Infrarot-Abschirmmaterial und ein Farbmittel zur Farbkompensation enthält, und einer leitfähigen Schicht nacheinander auf mindestens eine Seite eines transparenten Polymefilms, und Ausbilden der leitfähigen Schicht des laminierten Films zu einem Linienmuster, wobei die Linienabstände im Linienmuster beliebig zwischen 20 µm und 1 mm liegen.

12. Transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen, umfassend einen transparenten Polymerfilm und, laminiert nacheinander auf mindestens eine Seite davon, eine Klebeschicht 1 und eine leitfähige Schicht, wobei die leitfähige Schicht als Linienmuster hergestellt ist, das so aufgebaut ist, daß die Linienabstände beliebig zwischen 20 µm und 1 mm liegen, wobei der so hergestellte laminierte Film weiter mittels einer Klebeschicht 2 auf eine transparente polymere Verstärkung geklebt wird, wobei ein Nah-Infrarot- Abschirmmaterial und ein Farbmittel zur Farbkompensation für das Nah-Infrarot- Abschirmmaterial in mindestens einer der Klebeschichten 1 und 2 enthalten sind, und auch mindestens eine UV-Abschirmschicht zur Verhinderung der Verschlechterung des Nah- Infrarot-Abschirmmaterials bereitgestellt wird.

13. Abschirmung gemäß Anspruch 11 oder 12, wobei weiter mindestens eine Wasserdampf-Sperrschicht bereitgestellt ist.

14. Transparente Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen, umfassend einen transparenten Polymerfilm und, laminiert nacheinander auf mindestens eine Seite davon, eine Klebeschicht 1 und eine leitfähige Schicht, wobei die leitfähige Schicht als Linienmuster hergestellt ist, das so aufgebaut ist, daß die Linienabstände beliebig zwischen 20 µm und 1 mm liegen, wobei der so hergestellte laminierte Film weiter mittels einer Klebeschicht 2 auf eine transparente polymere Verstärkung geklebt wird, wobei ein Nah-Infrarot- Abschirmmaterial und ein Farbmittel zur Farbkompensation für das Nah-Infrarot- Abschirmmaterial getrennt in der Klebeschicht 1 und der Klebeschicht 2 oder nur in der Klebeschicht 2 enthalten sind.

15. Abschirmung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 14, wobei die Lichtdurchlässigkeit der Abschirmung bei einer Wellenlänge von 550 nm 50% oder mehr beträgt.

16. Abschirmung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 15, wobei der laminierte Film auf eine transparente polymere Verstärkung mit einer Dicke von 1 mm oder größer mittels einer Klebeschicht laminiert wird.

17. Abschirmung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 16, wobei eine Antireflexschicht auf mindestens einem des laminierten Films und der transparenten polymeren Verstärkung bereitgestellt ist.

18. Abschirmung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 17, wobei eine harte Schicht auf mindestens einem des laminierten Films und der transparenten polymeren Verstärkung bereitgestellt ist.