DE19800624A1 - Trocknungsvorrichtung und -verfahren - Google Patents
Trocknungsvorrichtung und -verfahrenInfo
- Publication number
- DE19800624A1 DE19800624A1 DE19800624A DE19800624A DE19800624A1 DE 19800624 A1 DE19800624 A1 DE 19800624A1 DE 19800624 A DE19800624 A DE 19800624A DE 19800624 A DE19800624 A DE 19800624A DE 19800624 A1 DE19800624 A1 DE 19800624A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- solvent
- drying
- ipa
- opening
- treatment container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H10P52/00—
-
- H10P70/15—
-
- H10P72/0408—
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein zur Trocknung einer
Halbleiterscheibe geeignetes Trocknungsverfahren und
insbesondere Verbesserungen, um eine fehlerhafte Trocknung zu
verhindern.
Fig. 27 ist eine geschnittene Vorderansicht, welche den Aufbau
einer Trocknungsvorrichtung entsprechend desjenigen Standes der
Technik zeigt, welcher den Hintergrund der vorliegenden
Erfindung bildet. Eine Trocknungsvorrichtung 151 ist zum
Trocknen einer Halbleiterscheibe ausgebildet. Die
Trocknungsvorrichtung 151 umfaßt einen Behandlungsbehälter 171
mit einem offenen oberen Ende. Eine Kühlschlange 162 ist an der
Innenseite des oberen Teiles einer Seitenwand des
Behandlungsbehälters 171 entlang dieser Seitenwand angebracht.
Die Kühlschlange 162 besteht aus einem Quarzrohr, in welchem
Kühlwasser umgewälzt wird.
Genau unter dem Bodenteil des Behandlungsbehälters ist ein
Heizkörper 170 vorgesehen. Weiterhin ist in einer Position
zwischen dem Bodenteil und dem oberen offenen Ende des
Behandlungsbehälters 171 eine Pfanne 166 befestigt. Ein
Abflußrohr 180 ist am Bodenteil der Pfanne 166 angeschlossen.
Wenn die Trocknungsvorrichtung 151 benutzt wird, wird zuerst
IPA (Isopropylalkohol) 167 in den Behandlungsbehälter 171
gegossen. Die Tiefe des Behandlungsbehälters 171 wird derart
bemessen, daß das Flüssigkeitsniveau nicht den Bodenteil der
Pfanne 166 erreicht. Das Kühlwasser wird in der Kühlschlange
162 umgewälzt.
Wenn der Heizkörper 170 eingeschaltet wird, wird der IPA 167
erhitzt. Als Ergebnis wird der IPA 167 verdampft, so daß ein
IPA-Dampf 165 erzeugt wird. Der IPA-Dampf 165 erfüllt den
Behandlungsbehälter 171. Der IPA-Dampf 165 wird gekühlt und
kondensiert in der Umgebung der Kühlschlange 162. Die
Kühlschlange 162 dient insbesondere dazu, den IPA-Dampf 165 am
Austritt aus dem Behandlungsbehälter 171 zu hindern.
Dementsprechend wird der IPA 167 in einem Flüssigkeits-
Speicherbereich 169, der in der Nähe des Bodenteiles des
Behandlungsbehälters 171 vorgesehen ist, gespeichert, und der
IPA-Dampf 165 füllt den Dampf-Füllbereich 168 von der Oberseite
des IPA 167 bis in die Umgebung der Kühlschlange 162 aus.
Nachdem der IPA-Dampf 165 den Dampf-Füllbereich 168 ausgefüllt
hat, wird die Behandlung einer zu behandelnden
Halbleiterscheibe 163 gestartet. Nachdem eine Spülbehandlung
abgeschlossen ist, wird eine Anzahl von Halbleiterscheiben 163
in einer Kassette 164 an einen Haltearm 161 gehängt und von
oben in den Dampf-Füllbereich 168 des Behandlungsbehälters 171
eingesetzt. Die Kassette 164 mit den Halbleiterscheiben 163
wird von dem Haltearm 161 unmittelbar über der Pfanne 166
gehalten, wie es in Fig. 27 dargestellt ist.
Als Folge kondensiert der den Dampf-Füllbereich 168 ausfüllende
IPA-Dampf 165 und löst Wassertropfen, die an den Oberflächen
der Halbleiterscheiben 163 sowie der Kassette 164 haften. Als
Ergebnis werden die Wassertropfen im wesentlichen in IPA-
Tröpfchen umgewandelt. Die IPA-Tröpfchen gleiten von den
Oberflächen der Halbleiterscheiben 163 und der Kassette 164.
Somit werden die Halbleiterscheiben 163 und die Kassette 164,
die mit Wassertropfen benetzt sind, getrocknet. Die
herabfließenden IPA-Tröpfchen werden in der Pfanne 166
gesammelt und dann durch das Rohr 180 nach außen abgeleitet.
Wenn der Trocknungsprozeß beendet ist, wird die Kassette 164
durch den Haltearm 161 angehoben und aus dem
Behandlungsbehälter 171 entnommen. Dann wird die Kassette 164
an den nächsten Behandlungsschritt übergeben. Danach werden
neue (d. h. unbehandelte) Halbleiterscheiben 163 und eine neue
Kassette 164 in den Behandlungsbehälter 171 eingelegt. So
werden Halbleiterscheiben 163 und Kassetten 164 nacheinander
getrocknet.
Bei der Trocknungsvorrichtung 151 entsprechend dem Stand der
Technik werden die zu behandelnden Halbleiterscheiben 163
jedoch dem IPA-Dampf 165 ausgesetzt, und der IPA-Dampf 165 wird
veranlaßt, auf den Oberflächen der Halbleiterscheiben 163 zu
kondensieren, so daß diese Oberflächen getrocknet werden
können. Unter Bedingungen, bei denen der Umfang der
Kondensation des IPA-Dampfes 165 unzureichend ist, verläuft der
Trocknungsprozeß unvollständig, so daß eine fehlerhafte
Trocknung verursacht wird.
Im einzelnen kondensiert der IPA-Dampf 165 an unnützen Teilen,
wie einer Oberfläche einer Innenwand des Behandlungsbehälters
171, in gleicher Weise, wie auf den Halbleiterscheiben 163, die
als zu behandelnde Objekte eingelegt worden sind. Daher ist die
Kondensationsmenge des IPA-Dampfes 165 in manchen Fällen
unzureichend. Daher wird die Ausbeute an Halbleiterschaltungen,
die aus den Halbleiterscheiben 163 hergestellt werden, durch
die fehlerhafte Trocknung der Halbleiterscheiben 163
beeinträchtigt.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Trocknungsvorrichtung
und ein Trocknungsverfahren bereitzustellen, die in der Lage
sind, ein fehlerhaftes Trocknen zu verhindern.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der Ansprüche 1, 5 bzw.
17 gelöst.
Ein erster Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung zum Trocknen der Oberfläche eines zu
behandelnden Objektes unter Verwendung eines wasserlöslichen
Lösungsmittels gerichtet, welche einen Behandlungsbehälter
umfaßt, der an seiner Oberseite eine nach oben gerichtete
Öffnung begrenzt, durch welche das Objekt eingelegt und
herausgenommen werden kann und welcher derart eingerichtet ist,
daß er das Lösungsmittel in einem Bodenteil speichert sowie das
Objekt über dem gespeicherten Lösungsmittel umschließt.
Die Trocknungsvorrichtung umfaßt weiterhin einen Heizkörper,
welcher das im Bodenteil des Behandlungsbehälters gespeicherte
Lösungsmittel zu erhitzen vermag, eine
Diffusionsverhinderungseinrichtung, um zu verhindern, daß
Dampf, welcher durch Erhitzung des gespeicherten Lösungsmittels
erzeugt wird, aus dem Inneren des Behandlungsbehälters durch
die Öffnung nach außen diffundiert, eine Düse zur Erzeugung
einer Strömung des Lösungsmittels, um eine Innenfläche einer
Seitenwand des Behandlungsbehälters nach Einleitung einer
Zufuhr des Lösungsmittels zu bedecken und eine Flüssigkeits-
Sammeleinrichtung zum Sammeln des Lösungsmittels, welches an
der Innenfläche herabgeflossen ist und Ableiten des
Lösungsmittels aus dem Behandlungsbehälter nach außen.
Ein zweiter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem ersten Aspekt der
vorliegenden Erfindung gerichtet, welche weiterhin eine
Kreislaufeinrichtung umfaßt, um das von der Flüssigkeits-
Sammeleinrichtung gesammelte Lösungsmittel wieder zur Düse
zurückzuführen, wobei das Lösungsmittel zyklisch in die Düse
eingespeist wird.
Ein dritter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem ersten oder zweiten
Aspekt der vorliegenden Erfindung gerichtet, welche weiterhin
einen an der Außenfläche der Seitenwand des
Behandlungsbehälters befestigten Heizkörper umfaßt, um die
Strömung des Lösungsmittels zu erhitzen.
Ein vierter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem ersten bis dritten
Aspekt der vorliegenden Erfindung gerichtet, bei welcher die
Kreislaufeinrichtung einen Heizkörper zum Erhitzen des durch
die Flüssigkeits-Sammeleinrichtung gesammelten Lösungsmittels
aufweist, bevor dieses zur Düse zurückgeführt wird.
Ein fünfter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung zum Trocknen der Oberfläche eines zu
behandelnden Objektes mittels eines wasserlöslichen
Lösungsmittels gerichtet, umfassend einen Behandlungsbehälter,
der an seiner Oberseite eine nach oben gerichtete Öffnung
begrenzt, durch welche das Objekt eingelegt und herausgenommen
werden kann und welcher derart eingerichtet ist, daß er das
Lösungsmittel in einem Bodenteil speichert, das Objekt in das
gespeicherte Lösungsmittel eintaucht und dasselbe über dem
gespeicherten Lösungsmittel umschließt.
Die Trocknungsvorrichtung umfaßt weiterhin einen Heizkörper,
welcher das im Bodenteil des Behandlungsbehälters gespeicherte
Lösungsmittel zu erhitzen vermag und eine
Diffusionsverhinderungseinrichtung, um zu verhindern, daß
Dampf, welcher durch Erhitzung des gespeicherten Lösungsmittels
erzeugt wird, aus dem Inneren des Behandlungsbehälters durch
die Öffnung nach außen diffundiert.
Ein sechster Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem fünften Aspekt der
vorliegenden Erfindung gerichtet, welche weiterhin eine
Wiederaufbereitungseinrichtung zum Sammeln des im Bodenteil des
Behandlungsbehälters gesammelten Lösungsmittels, Entfernen des
Wassers aus dem gesammelten Lösungsmittel und Rückführen
desselben in den Behandlungsbehälter umfaßt, wodurch das
Lösungsmittel zyklisch wiederaufbereitet wird.
Ein siebenter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem sechsten Aspekt der
vorliegenden Erfindung gerichtet, bei welcher die
Wiederaufbereitungseinrichtung eine Trenneinrichtung zum
Entfernen des Wassers aus dem Lösungsmittel mittels einer
Trennmembran aufweist, um das Wasser vom Lösungsmittel zu
trennen.
Ein achter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem sechsten Aspekt der
vorliegenden Erfindung gerichtet, bei welcher die
Wiederaufbereitungseinrichtung eine Destillationseinrichtung
zum Destillieren des gesammelten Lösungsmittel enthält, um das
Wasser aus dem Lösungsmittel zu entfernen.
Ein neunter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem fünften bis achten
Aspekt der vorliegenden Erfindung gerichtet, bei welcher die
Diffusionsverhinderungseinrichtung eine Ausströmeinrichtung und
eine Absaugeinrichtung enthält, die einander mit dazwischen
liegender Öffnung gegenüberliegen. Die Absaugeinrichtung
begrenzt eine Absaugöffnung, die der Ausströmeinrichtung
zugewandt ist, die Ausströmeinrichtung vermag einen Strahl
eines Gases zu erzeugen, der auf die Absaugöffnung gerichtet
ist und die Öffnung nach Einleitung einer Zufuhr des Gases
bedeckt, die Absaugeinrichtung vermag das durch die
Absaugöffnung gesaugte Gas nach außen abzuleiten, und eine
Seitenwand des Behandlungsbehälters weist einen gekrümmten Teil
auf, welcher nach oben allmählich zur Öffnung hin gekrümmt ist.
Die Trocknungsvorrichtung umfaßt weiterhin ein an die
Ausströmeinrichtung angeschlossenes Rohr, eine an die
Ausströmeinrichtung über das Rohr angeschlossene
Einspeisungseinrichtung für nicht-reaktives Gas, um dieses Gas
der Ausströmeinrichtung durch das Rohr zuzuführen und eine
zumindest an einem Teil des Rohres vorgesehene Kühleinrichtung
zum Kühlen des durch das Rohr strömenden nicht-reaktiven Gases.
Ein zehnter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem fünften bis achten
Aspekt der vorliegenden Erfindung gerichtet, bei welcher die
Diffusionsverhinderungseinrichtung eine Ausströmeinrichtung und
eine Absaugeinrichtung enthält, die einander mit dazwischen
liegender Öffnung gegenüberliegen. Die Absaugeinrichtung
begrenzt eine Absaugöffnung, die zur Ausströmeinrichtung hin
offen ist, die Ausströmeinrichtung vermag einen Strahl eines
Gases zu erzeugen, der auf die Absaugöffnung gerichtet ist und
die Öffnung nach Einleitung der Zufuhr eines Gases bedeckt, die
Absaugeinrichtung kann das durch die Ansaugöffnung gesaugte Gas
nach außen ableiten, und eine Seitenwand des
Behandlungsbehälters weist einen gekrümmten Teil auf, welcher
nach oben allmählich zur Öffnung hin gekrümmt ist.
Die Trocknungsvorrichtung umfaßt weiterhin ein Schaltventil,
dessen Ausgang an die Ausströmeinrichtung angeschlossen ist und
von dessen Eingängen einer gewählt werden kann, um eine
Verbindung zu dem Ausgang herzustellen, eine
Normaltemperaturgas-Einspeisungseinrichtung zum Einspeisen
eines nicht-reaktiven Gases mit normaler Temperatur, eine
Kühlgas-Einspeisungseinrichtung zum Einspeisen eines gekühlten
nicht-reaktiven Gases und eine Steuereinrichtung zum Steuern
des Schaltvorganges des Schaltventiles.
Die Normaltemperaturgas-Einspeisungseinrichtung ist an einen
der Eingänge angeschlossen,
die Kühlgas-Einspeisungseinrichtung ist an den anderen Eingang
angeschlossen, und die Steuereinrichtung steuert das
Schaltventil derart, daß der Strahl nur dann auf das gekühlte
nicht-reaktive Gas umgeschaltet wird, wenn das Objekt durch den
von der Ausströmeinrichtung erzeugten Strahl hindurch in den
Behandlungsbehälter eingelegt wird.
Ein elfter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem fünften bis achten
Aspekt der vorliegenden Erfindung gerichtet, welche weiterhin
eine Kühleinrichtung umfaßt, um die Luft über der Öffnung des
Behandlungsbehälters zu kühlen.
Ein zwölfter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem fünften bis achten
Aspekt der vorliegenden Erfindung gerichtet, bei welcher die
Diffusionsverhinderungseinrichtung Kühleinrichtungen aufweist,
die in einem Teil des Behandlungsbehälters nahe an der Öffnung
angebracht sind, um die Innenseite des Behandlungsbehälters in
der Nähe der Öffnung derart zu kühlen, daß das Objekt, welches
durch diese Öffnung in den Behandlungsbehälter eingelegt wird,
gekühlt werden kann.
Ein dreizehnter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem fünften bis achten
Aspekt der vorliegenden Erfindung gerichtet, welche weiterhin
eine angrenzend an den Behandlungsbehälter vorgesehene Kühl- und
Spüleinrichtung umfaßt, wobei die Kühl- und Spüleinrichtung
einen Spülbehälter mit einer nach oben gerichteten Öffnung,
durch welche das Objekt eingelegt und herausgenommen werden
kann, welcher derart eingerichtet ist, daß er Spülwasser
speichern und das Objekt in das Spülwasser eingetaucht werden
kann und eine am Spülbehälter befestigte Kühleinrichtung zum
Kühlen des Spülwassers aufweist.
Ein vierzehnter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung zum Trocknen einer Oberfläche eines zu
behandelnden Objektes unter Verwendung eines wasserlöslichen
Lösungsmittels gerichtet, welche einen Behandlungsbehälter
umfaßt, der an seiner Oberseite eine nach oben gerichtete
Öffnung begrenzt, durch welche das Objekt eingelegt und
herausgenommen werden kann und welcher derart eingerichtet ist,
daß er das Lösungsmittel in einem Bodenteil speichert sowie das
Objekt über dem gespeicherten Lösungsmittel umschließt.
Die Trocknungsvorrichtung umfaßt weiterhin einen Heizkörper,
welcher das im Bodenteil des Behandlungsbehälters gespeicherte
Lösungsmittel zu erhitzen vermag, eine
Diffusionsverhinderungseinrichtung, um zu verhindern, daß
Dampf, welcher durch Erhitzen des gespeicherten Lösungsmittels
erzeugt wird, aus dem Inneren des Behandlungsbehälters durch
die Öffnung nach außen diffundiert und eine Düse, aus welcher
das Lösungsmittel, nach Einleitung einer Zufuhr desselben als
Nebel in den Behandlungsbehälter, ausströmt.
Ein fünfzehnter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung zum Trocknen einer Oberfläche eines zu
behandelnden Objektes unter Verwendung eines wasserlöslichen
Lösungsmittels gerichtet, welche einen Behandlungsbehälter
umfaßt, der an seiner Oberseite eine nach oben gerichtete
Öffnung begrenzt, durch welche das Objekt eingelegt und
herausgenommen werden kann und welcher derart eingerichtet ist,
daß er das Lösungsmittel in einem Bodenteil speichert sowie das
Objekt über dem gespeicherten Lösungsmittel umschließt.
Die Trocknungsvorrichtung umfaßt weiterhin einen Heizkörper,
welcher das im Bodenteil des Behandlungsbehälters gespeicherte
Lösungsmittel zu erhitzen vermag, eine
Diffusionsverhinderungseinrichtung, um zu verhindern, daß
Dampf, welcher durch Erhitzen des gespeicherten Lösungsmittels
erzeugt wird, aus dem Inneren des Behandlungsbehälters durch
die Öffnung nach außen diffundiert eine angrenzend an den
Behandlungsbehälter vorgesehene Kühl- und Spüleinrichtung und
eine Steuereinrichtung zum Steuern des Heizkörpers.
Die Kühl- und Spüleinrichtung weist einen Spülbehälter mit
einer nach oben gerichteten Öffnung auf, durch welche das
Objekt eingelegt und herausgenommen werden kann, welcher derart
eingerichtet ist, daß er Spülwasser speichern und das Objekt in
das Spülwasser eingetaucht werden kann und einen am
Spülbehälter befestigten Sensor, um festzustellen, ob sich das
Objekt im Spülbehälter befindet und um ein Feststellungssignal
an die Steuereinrichtung zu senden.
Weiterhin steuert die Steuereinrichtung die Leistung des
Heizkörpers, um als Reaktion auf das Feststellungssignal
diejenige Wärmemenge zu kompensieren, die dem Dampf im
Behandlungsbehälter vom Objekt, das vom Spülbehälter in den
Behandlungsbehälter überführt wurde, entzogen wird.
Ein sechzehnter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf eine
Trocknungsvorrichtung entsprechend dem fünften bis achten oder
dem elften bis fünfzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung
gerichtet, bei welcher die Diffusionsverhinderungseinrichtung
eine Ausströmeinrichtung und eine Absaugeinrichtung aufweist,
die einander mit dazwischen liegender Öffnung gegenüberliegen.
Die Absaugeinrichtung begrenzt eine Absaugöffnung, die der
Ausströmeinrichtung zugewandt ist. Die Ausströmeinrichtung
vermag einen Strahl eines Gases zu erzeugen, der auf die
Absaugöffnung gerichtet ist und die Öffnung nach Einleitung
einer Zufuhr des Gases bedeckt. Die Absaugeinrichtung vermag
das durch die Absaugöffnung gesaugte Gas nach außen abzuleiten,
und eine Seitenwand des Behandlungsbehälters weist einen
gekrümmten Teil auf, welcher nach oben allmählich zur Öffnung
hin gekrümmt ist.
Ein siebzehnter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf ein
Verfahren zum Trocknen einer Oberfläche eines zu behandelnden
Objektes unter Verwendung eines wasserlöslichen Lösungsmittels
gerichtet, das folgenden Schritt umfaßt: Bereitstellen eines
Behandlungsbehälters, der an seiner Oberseite eine nach oben
gerichtete Öffnung begrenzt, durch welche das Objekt eingelegt
und herausgenommen werden kann und welcher derart eingerichtet
ist, daß er das Lösungsmittel in einem Bodenteil speichert, das
Objekt in das gespeicherte Lösungsmittel eintaucht und dasselbe
über dem gespeicherten Lösungsmittel umschließt.
Das Trocknungsverfahren umfaßt ferner die Schritte: Speichern
einer solchen Menge des Lösungsmittels im Bodenteil des
Behandlungsbehälters, um das Objekt darin einzutauchen,
Erhitzen des gespeicherten Lösungsmittels und Füllen des
Behandlungsbehälters mit Lösungsmitteldampf, Einlegen des
Objektes von außen durch die Öffnung in den
Behandlungsbehälter, Absenken des Objektes im Dampf zum
gespeicherten Lösungsmittel.
Das Trocknungsverfahren umfaßt ferner die Schritte: Eintauchen
des Objektes in das gespeicherte Lösungsmittel, wodurch an der
Oberfläche des Objekten haftendes Wasser entfernt wird,
Herausziehen des Objektes aus dem Lösungsmittel und Behandeln
desselben mit dem aufgefüllten Dampf, wodurch das auf der
Oberfläche des Objektes verbliebene Lösungsmittel entfernt wird
und Entnehmen des Objektes aus dem Behandlungsbehälter durch
die Öffnung.
Ein achtzehnter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf ein
Trocknungsverfahren entsprechend dem siebzehnten Aspekt der
vorliegenden Erfindung gerichtet, welches den weiteren Schritt
der Kühlung des Objektes vor dem Absenkungsschritt umfaßt.
Ein neunzehnter Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf ein
Trocknungsverfahren entsprechend dem siebzehnten Aspekt der
vorliegenden Erfindung gerichtet, welches den weiteren Schritt
des Eintauchens des Objektes in gekühltes Spülwasser zur
Durchführung der Spülung vor dem Einlegeschritt umfaßt.
Ein zwanzigster Aspekt der vorliegenden Erfindung ist auf ein
Verfahren zur Trocknung einer Oberfläche eines zu behandelnden
Objektes unter Verwendung einer Trocknungseinrichtung
entsprechend dem ersten bis vierten sowie dem vierzehnten bis
siebzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung gerichtet,
welches folgende Schritte umfaßt: Bereitstellen einer
Trocknungsvorrichtung, Einfüllen des Lösungsmittels in den
Behandlungsbehälter, wobei das Lösungsmittel in einem Teil des
Behandlungsbehälters gespeichert wird, Betreiben des
Heizkörpers, so daß das Lösungsmittel erhitzt wird und Einlegen
des Objektes durch die Öffnung in den Behandlungsbehälter.
Das Trocknungsverfahren umfaßt weiterhin die Schritte der
Trocknung der Oberfläche des eingelegten Objektes mittels des
Dampfes des erhitzten Lösungsmittels, während das Objekt über
dem Flüssigkeitsniveau des Lösungsmittels gehalten wird, sowie
das Herausnehmen des Objektes aus dem Behandlungsbehälter nach
dem Trocknungsschritt.
Entsprechend dem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird
das Lösungsmittel in die Düse eingespeist, so daß die Strömung
erzeugt werden kann, welche die Innenfläche der Seitenwand des
Behandlungsbehälters bedeckt. Folglich kann der
Lösungsmitteldampf daran gehindert werden, nutzlos an der
Innenfläche der Seitenwand zu kondensieren. Als Ergebnis kann
die Wirksamkeit der Kondensation des Dampfes auf dem Objekt
erhöht und eine fehlerhafte Trocknung verhindert werden.
Entsprechend dem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird
das Lösungsmittel zyklisch in die Düse eingespeist. Folglich
können die Kosten für die Einspeisung des Lösungsmittels
gesenkt werden.
Entsprechend dem dritten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird
das aus der Düse strömende Lösungsmittel durch einen Heizkörper
erhitzt. Folglich kann verhindert werden, daß der Dampf nutzlos
auf dem strömenden Lösungsmittel kondensiert. Daher wird der
Dampf wirksamer zur Kondensation auf der Oberfläche des
Objektes benutzt. Dementsprechend kann eine fehlerhafte
Trocknung des Objektes in noch stärkerem Maße verhindert
werden.
Entsprechend dem vierten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird
das Lösungsmittel zuvor erhitzt und dann in die Düse
eingespeist. Daher ist die Temperatur des Lösungsmittels erhöht
worden, bevor es aus der Düse ausströmt. Dementsprechend kann
noch wirksamer verhindert werden, daß der Dampf an dem aus der
Düse strömenden Lösungsmittel kondensiert. Als Ergebnis wird
der Dampf wirksamer zur Kondensation auf der Oberfläche des
Objektes genutzt. Somit kann die fehlerhafte Trocknung des
Objektes noch mehr verhindert werden.
Entsprechend dem fünften Aspekt der vorliegenden Erfindung wird
das Objekt in das Lösungsmittel eingetaucht, das im Bodenteil
des Behandlungsbehälters gespeichert wird, so daß an der
Oberfläche haftende Wassertropfen entfernt werden. Dann wird es
dem Dampf ausgesetzt, der den Behandlungsbehälter ausfüllt, so
daß verbliebenes Lösungsmittel entfernt wird. Folglich wird
keine fehlerhafte Trocknung durch eine unzureichende
Kondensationsmenge des Dampfes verursacht, was aus einer
Änderung der Anzahl der eingelegten Objekte, einer Änderung der
Strömung des eingefüllten Dampfes und dergleichen resultieren
könnte. Folglich kann der Trocknungsprozeß stabil durchgeführt
werden.
Entsprechend dem sechsten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird das Lösungsmittel, dem durch die Trocknungsbehandlung des
Objektes Wasser zugemischt wurde, zyklisch wiederaufbereitet.
Daher kann verhindert werden, daß die Konzentration des Wassers
im Lösungsmittel ansteigt. Folglich kann die
Trocknungsbehandlung des Objektes wiederholt über einen langen
Zeitraum durchgeführt werden, ohne daß neues Lösungsmittel
zugeführt wird. Als Ergebnis kann die Abschaltzeit für den
Austausch des Lösungsmittels abgekürzt werden. Dadurch kann die
Wirksamkeit des Trocknungsprozesses erhöht werden.
Entsprechend dem siebenten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird eine Trenneinrichtung mit einer Trennmembran verwendet.
Daher kann das Lösungsmittel mittels einer einfachen Anordnung
und ohne Energieverbrauch, beispielsweise durch Erhitzen,
wiederaufbereitet werden.
Entsprechend dem achten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird
eine Destillationseinrichtung verwendet. Demzufolge kann das
Lösungsmittel mittels einer einfachen Anordnung
wiederaufbereitet werden.
Entsprechend dem neunten Aspekt der vorliegenden Erfindung kann
ein Strahl eines nicht-reaktiven Gases, das durch die
Kühleinrichtung gekühlt worden ist, mittels der
Ausströmeinrichtung erzeugt werden, wenn das Objekt von außen
durch die Öffnung in den Behandlungsbehälter eingelegt wird. Im
einzelnen wird das Objekt zuvor durch den Strahl nicht-reaktiven
Gases gekühlt, durchläuft dann den
Lösungsmitteldampf, der den Behandlungsbehälter ausfüllt und
wird in das Lösungsmittel eingetaucht. Wenn das gekühlte Objekt
den Lösungsmitteldampf durchläuft, kondensiert eine große Menge
des Lösungsmitteldampfes gleichmäßig auf der Oberfläche des
Objektes. Als Ergebnis wird ein Teil der auf der Oberfläche
haftenden Wassertropfen entfernt, bevor das Objekt in das
Lösungsmittel abgesenkt wird. Folglich kann eine ausgezeichnete
Trocknungsbehandlung durchgeführt werden, ohne daß eine
ungleichmäßige Trocknung verursacht wird.
Entsprechend dem zehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird
der Strahl des gekühlten nicht-reaktiven Gases nur erzeugt,
wenn das Objekt von außen durch den von der Ausströmeinrichtung
erzeugten Strahl hindurch in den Behandlungsbehälter eingelegt
wird. Folglich kann ein ausgezeichneter Trocknungsprozeß
durchgeführt werden, und die Menge des verwendeten gekühlten,
nicht-reaktiven Gases kann vermindert werden, so daß die Kosten
zur Durchführung der Behandlung niedrig gehalten werden können.
Entsprechend dem elften Aspekt der vorliegenden Erfindung
durchläuft das Objekt, unmittelbar bevor es von außen durch die
Öffnung in den Behandlungsbehälter eingelegt wird, die gekühlte
Luft. Folglich wird das Objekt zuerst gekühlt, durchläuft dann
den Lösungsmitteldampf, der den Behandlungsbehälter ausfüllt
und wird in das Lösungsmittel eingetaucht. Wenn das gekühlte
Objekt den Lösungsmitteldampf durchläuft, kondensiert eine
große Menge gleichmäßig auf der Oberfläche des Objektes. Daher
wird eine Anzahl der auf der Oberfläche haftenden Wassertropfen
entfernt, bevor das Objekt in das Lösungsmittel eingetaucht
wird. Folglich kann eine ausgezeichnete Trocknungsbehandlung
durchgeführt werden, ohne eine ungleichmäßige Trocknung zu
verursachen.
Entsprechend dem zwölften Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird das Innere des Behandlungsbehälters in der Umgebung der
Öffnung durch die Kühleinrichtung gekühlt. Daher kann der den
Behandlungsbehälter ausfüllende Dampf daran gehindert werden,
nach außen zu diffundieren. Die Kühleinrichtung weist
zusätzlich eine ausreichende Kühlleistung auf. Folglich wird
das Objekt, wenn es durch die Öffnung in den
Behandlungsbehälter eingelegt wird, ebenfalls gekühlt. Im
einzelnen wird das Objekt zuvor gekühlt, durchläuft dann den
Lösungsmitteldampf, der den Behandlungsbehälter ausfüllt und
wird dann in das Lösungsmittel eingetaucht. Wenn das gekühlte
Objekt den Lösungsmitteldampf durchläuft, kondensiert eine
große Menge des Lösungsmitteldampfes gleichmäßig auf der
Oberfläche des Objektes. Daher wird eine Anzahl Wassertropfen,
die an der Oberfläche haften, entfernt, bevor das Objekt in das
Lösungsmittel eingelegt wird. Folglich kann eine ausgezeichnete
Trocknungsbehandlung durchgeführt werden, ohne eine
ungleichmäßige Trocknung zu verursachen.
Entsprechend dem dreizehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung
kann das Objekt durch die Öffnung in den Behandlungsbehälter
eingelegt werden, nachdem es in einer abschließenden
Spülbehandlung in das Spülwasser eintaucht worden ist, welches
in einem Spülbehälter gespeichert und durch die Kühleinrichtung
gekühlt wird. Folglich durchläuft das zuvor gekühlte Objekt den
Behandlungsbehälter ausfüllenden Lösungsmitteldampf, bevor es
in das Lösungsmittel eingetaucht wird. Wenn das gekühlte Objekt
den Lösungsmitteldampf durchläuft, kondensiert eine große Menge
desselben gleichmäßig auf der Oberfläche des Objektes. Daher
wird eine Anzahl an der Oberfläche haftender Wassertropfen
entfernt, bevor das Objekt in das Lösungsmittel eingetaucht
wird. Auf diese Weise kann eine ausgezeichnete
Trocknungsbehandlung durchgeführt werden, ohne eine
ungleichmäßige Trocknung zu verursachen.
Entsprechend dem vierzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird das Objekt dem aus der Düse ausströmenden Nebel des
Lösungsmittels ausgesetzt, wenn es in den Behandlungsbehälter
eingelegt wird. Als Ergebnis wird der Oberfläche durch den
Nebel eine große Menge Lösungsmittel schneller zugeführt als
bei der Kondensation des Lösungsmitteldampfes. Folglich kann
eine ausgezeichnete Trocknungsbehandlung durchgeführt werden,
ohne eine ungleichmäßige Trocknung zu verursachen. Zusätzlich
kann die Zeit für die Trocknungsbehandlung abgekürzt werden, so
daß die Arbeitseffektivität erhöht werden kann. Ferner kann die
Temperatur des durch den Heizkörper erhitzten Lösungsmittels
vor einem hohen Anstieg bewahrt werden. So kann die Sicherheit
verbessert werden.
Entsprechend dem fünfzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung,
wird die Leistung des Heizkörpers gesteuert, um diejenige
Wärmemenge zu kompensieren, die dem den Behandlungsbehälter
ausfüllenden Dampf von dem Objekt entzogen wird, das vom
Spülbehälter in den Behandlungsbehälter überführt wurde. Daher
kann eine Absenkung der Temperatur und der Konzentration des
Lösungsmitteldampfes infolge des Einlegens des Objektes
vermieden werden. Folglich kann eine fehlerhafte Trocknung
infolge einer kurzzeitigen Unterbrechung der
Trocknungsbehandlung vermieden werden. Folglich kann eine
ausgezeichnete Trocknungsbehandlung durchgeführt werden, ohne
eine ungleichmäßige Trocknung zu verursachen. Zusätzlich kann
die Zeit für die Trocknungsbehandlung abgekürzt werden, so daß
die Arbeitseffektivität erhöht werden kann.
Entsprechend dem sechzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird das nicht-reaktive Gas in eine Ausströmeinrichtung
eingespeist, so daß der Strahl nicht-reaktiven Gases erzeugt
wird. Als Ergebnis wird eine Art Vorhang ausgebildet, der die
Öffnung des Behandlungsbehälters bedeckt. Weiterhin hat die
Seitenwand des Behandlungsbehälters einen gekrümmten Teil.
Folglich hindert der Vorhang aus nicht-reaktivem Gas den aus
dem Lösungsmittel erzeugten Dampf wirksam am Austreten nach
außen. Folglich ist die Kühlschlange, wie sie bei der
Trocknungsvorrichtung nach dem Stand der Technik angewandt
werden muß, nicht erforderlich. Daher wird der Zustand des den
Behandlungsbehälter ausfüllenden Dampfes stabilisiert. Als
Ergebnis kann die fehlerhafte Trocknung des Objektes noch
wirksamer verhindert werden. Weiterhin ist der Oberteil des
Behandlungsbehälters zur Aufnahme der Kühlschlange nicht
erforderlich. Daher kann die Größe der Vorrichtung reduziert
werden. Da auch die komplizierte und kostspielige Kühlschlange
nicht erforderlich ist, können die Kosten für die Herstellung
und Instandhaltung der Vorrichtung gesenkt sowie
Reparaturarbeiten schnell durchgeführt werden.
Entsprechend dem siebzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird das Objekt in das im Bodenteil gespeicherte Lösungsmittel
eingetaucht, so daß an der Oberfläche haftende Wassertropfen
entfernt werden. Dann wird es dem Dampf ausgesetzt, der den
Behandlungsbehälter füllt, so daß das verbliebene Lösungsmittel
entfernt wird. Folglich wird keine fehlerhafte Trocknung durch
eine unzureichende Kondensationsmenge des Dampfes erzeugt,
welche von einer Änderung der Anzahl eingelegter Objekte, von
einer Änderung der Dampfströmung oder dergleichen herrührt.
Folglich kann die Trocknungsbehandlung stabil durchgeführt
werden.
Entsprechend dem achtzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird das Objekt zuvor gekühlt, dann durchläuft es den mit
Lösungsmitteldampf gefüllten Behandlungsbehälter und wird in
das Lösungsmittel eingetaucht. Wenn das gekühlte Objekt den
Lösungsmitteldampf durchläuft, kondensiert eine große Menge
desselben gleichmäßig auf der Oberfläche des Objektes. Als
Ergebnis wird eine Menge von Wassertropfen, die auf der
Oberfläche haften, entfernt, bevor das zu behandelnde Objekt in
das Lösungsmittel eingelegt wird. Folglich kann eine
ausgezeichnete Trocknungsbehandlung durchgeführt werden, ohne
daß eine ungleichmäßige Trocknung verursacht wird.
Entsprechend dem neunzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird das Objekt durch gekühltes Spülwasser gespült und gekühlt.
Dann durchläuft es den mit Lösungsmitteldampf gefüllten
Behandlungsbehälter und wird in das Lösungsmittel eingetaucht.
Wenn das gekühlte Objekt den Lösungsmitteldampf durchläuft,
kondensiert eine große Menge des Lösungsmitteldampfes
gleichmäßig auf der Oberfläche des Objektes. Daher werden
einige an der Oberfläche haftende Wassertropfen entfernt, bevor
das Objekt in das Lösungsmittel eingelegt wird. Folglich kann
eine ausgezeichnete Trocknungsbehandlung durchgeführt werden,
ohne daß eine ungleichmäßige Trocknung verursacht wird.
Entsprechend dem zwanzigsten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird die Trocknungsbehandlung des Objektes unter Anwendung
einer Trocknungsvorrichtung entsprechend dem ersten bis vierten
Aspekt oder dem vierzehnten bis sechzehnten Aspekt der
vorliegenden Erfindung durchgeführt. Folglich erhält die
Oberfläche des Objektes beim Trocknungsschritt eine Zufuhr
einer ausreichenden Menge des Lösungsmittels. Als Ergebnis kann
die fehlerhafte Trocknung des Objektes vermieden werden, so daß
gute Behandlungsergebnisse erhalten werden.
Diese und weitere Merkmale, Aspekte und Vorteile der
vorliegenden Erfindung werden aus der nachfolgenden
detaillierten Beschreibung der vorliegenden Erfindung im
Zusammenhang mit den beigefügten Zeichnungen noch deutlicher
hervortreten.
Fig. 1 ist eine geschnittene Perspektivansicht einer
Vorrichtung entsprechend einer ersten Ausführungsform.
Fig. 2 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung,
welche die Grundlage jeder bevorzugten Ausführungsform bildet.
Fig. 3 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend der ersten Ausführungsform.
Fig. 4 ist eine geschnittene Vorderansicht eines anderen
Beispieles der Vorrichtung entsprechend der ersten
Ausführungsform.
Fig. 5 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend einer zweiten Ausführungsform.
Fig. 6 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend einer dritten Ausführungsform.
Fig. 7 ist eine geschnittene Vorderansicht eines anderen
Beispieles einer Vorrichtung entsprechend der dritten
Ausführungsform.
Fig. 8 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend einer vierten Ausführungsform.
Fig. 9 zeigt einen Behandlungsschritt unter Verwendung der
Vorrichtung entsprechend der vierten Ausführungsform.
Fig. 10 zeigt einen Behandlungsschritt unter Verwendung der
Vorrichtung entsprechend der vierten Ausführungsform.
Fig. 11 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend einer fünften Ausführungsform.
Fig. 12 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend einer sechsten Ausführungsform.
Fig. 13 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend einer siebenten Ausführungsform.
Fig. 14 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend einer achten Ausführungsform.
Fig. 15 zeigt einen Behandlungsschritt unter Verwendung einer
Vorrichtung entsprechend der achten Ausführungsform.
Fig. 16 zeigt einen Behandlungsschritt unter Verwendung der
Vorrichtung entsprechend der achten Ausführungsform.
Fig. 17 ist eine geschnittene Vorderansicht eines anderen
Beispieles der Vorrichtung entsprechend der achten
Ausführungsform.
Fig. 18 zeigt noch ein anders Beispiel des Aufbaues der
Vorrichtung entsprechend der achten Ausführungsform.
Fig. 19 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend einer neunten Ausführungsform.
Fig. 20 zeigt einen Behandlungsschritt unter Verwendung der
Vorrichtung entsprechend der neunten Ausführungsform.
Fig. 21 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend einer zehnten Ausführungsform.
Fig. 22 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend einer elften Ausführungsform.
Fig. 23 zeigt einen Behandlungsschritt unter Verwendung der
Vorrichtung entsprechend der elften Ausführungsform.
Fig. 24 ist eine geschnittene Vorderansicht eines anderen
Beispieles der Vorrichtung entsprechend der elften
Ausführungsform.
Fig. 25 ist eine Darstellung des Aufbaues einer Vorrichtung
entsprechend einer zwölften Ausführungsform.
Fig. 26 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Variante der
Vorrichtung.
Fig. 27 ist eine geschnittene Vorderansicht einer Vorrichtung
entsprechend dem Stand der Technik.
Zuerst wird nachfolgend eine Trocknungsvorrichtung 100
beschrieben, welche als Grundlage für die Technik sowohl der
nachfolgenden bevorzugten Ausführungsformen als auch der
Trocknungsvorrichtung 151 entsprechend dem Stand der Technik
dienen kann. Während die nachfolgenden bevorzugten
Ausführungsformen hauptsächlich Beispiele umfassen, bei denen
die Vorrichtung 100 die Grundlage bildet, können sie auch auf
der Grundlage der Trocknungsvorrichtung 151 entsprechend dem
Stand der Technik ausgeführt werden.
Fig. 2 ist eine geschnittene Vorderansicht, welche den Aufbau
einer Trocknungsvorrichtung 100 zeigt. Die
Trocknungsvorrichtung 100 ist zum Trocknen einer
Halbleiterscheibe 3 in der gleichen Weise wie die
Trocknungsvorrichtung 151 nach dem Stand der Technik
ausgebildet. Wie in Fig. 2 dargestellt, umfaßt die
Trocknungsvorrichtung 100 einen Behandlungsbehälter 11. Der
Behandlungsbehälter 11 ist als Behälter mit einem offenen
oberen Teil ausgebildet. Mit anderen Worten: eine nach oben
gerichtete Öffnung 22 wird durch den oberen Teil des
Behandlungsbehälters 11 begrenzt. Eine Seitenwand des
Behandlungsbehälters 11 ist in der Umgebung des oberen Endes
des Behandlungsbehälters 11 und damit bei Annäherung an die
Öffnung 22 allmählich nach innen gebogen.
In einer Reihe angeordnete Düsen (Ausströmeinrichtungen) 13 und
eine kanalartige Absaugeinrichtung 14 liegen einander mit
dazwischen liegender Öffnung 22 gegenüber. Eines der Enden
eines Rohres 19 ist an jede der Düsen 13 angeschlossen. Das
andere Ende des Rohres 19 ist an eine Stickstoffgas-Einspeisung
18 angeschlossen. Die Stickstoffgas-Einspeisung ist
beispielsweise als eine für alle Anlagen vorgesehen. Gegenüber
den Düsen 13 ist von der Absaugeinrichtung 14 eine
Absaugöffnung begrenzt.
Ferner ist über dem Behandlungsbehälter 11 ein Deckel 15 zum
frei beweglichen Abdecken der Öffnung 22 vorgesehen. Um den
Deckel 15 frei beweglich (d. h. abnehmbar) aufzusetzen oder
abzunehmen, ist eine Betätigungseinrichtung 24, wie
beispielsweise in Fig. 2 dargestellt, mit dem Deckel 15
verbunden. Die Betätigungseinrichtung 24 veranlaßt den Deckel
15 als Reaktion auf ein Signal einer Steuerung (nicht
dargestellt) zu einer waagerechten Bewegung und somit zum
Aufsetzen oder Abnehmen.
Genau unter einem Bodenteil des Behandlungsbehälters 11 ist ein
(erster) Heizkörper 10 vorgesehen. Weiterhin ist im
Behandlungsbehälter 11 in einer Position zwischen dem Bodenteil
und der oberen Öffnung 22 eine Pfanne 6 befestigt. Eines der
Enden eines Abflußrohres 20 ist an den Bodenteil der Pfanne 6
angeschlossen. Das Rohr 20 durchdringt die Seitenwand des
Behandlungsbehälters 11 und führt nach außen.
Die Trocknungsvorrichtung 100 wird in der folgenden Weise
benutzt. Als erstes von allem wird ein zum Trocknen der
gespülten Halbleiterscheibe 3 geeignetes Lösungsmittel,
beispielsweise ein IPA-Lösungsmittel (Isopropylalkohol) 7 in
den Behandlungsbehälter 11 gefüllt. Die Menge des
einzufüllenden IPA 7 wird so bemessen, daß das
Flüssigkeitsniveau unter dem Bodenteil der Pfanne 6 gelegen
ist. Der Heizkörper 10 wird eingeschaltet und der Deckel 15
aufgesetzt.
Als Ergebnis wird die vom Heizkörper 10 erzeugte Hitze durch
den Bodenteil des Behandlungsbehälters 11 auf den IPA 7
übertragen. Der IPA 7 wird so weit erhitzt, daß er verdampft.
Folglich wird ein IPA-Dampf 5 erzeugt. Der IPA-Dampf 5 füllt
den Behandlungsbehälter 11. Im einzelnen ist der
Behandlungsbehälter 11 in einen Flüssigkeits-Speicherbereich 9
zum Speichern des IPA 7 und einen Dampf-Füllbereich 8 über dem
Flüssigkeits-Speicherbereich 9, der mit dem IPA-Dampf 5 gefüllt
wird, unterteilt.
Bevor die gespülte Halbleiterscheibe 3 in den
Behandlungsbehälter 11 eingelegt wird, wird von der
Stickstoffgas-Einspeisung 18 über die Rohre 19 den Düsen 13
Stickstoffgas zugeführt. Folglich strömt das Stickstoffgas aus
den Düsen 13 aus. Da die Düsen 13 in einer Reihe angeordnet
sind, nimmt das ausgeströmte Stickstoffgas, d. h., ein Strahl
21, die Form einer Schicht an, welche die ganze Öffnung 22
bedeckt. Der Strahl 21 wird durch die Absaugöffnung der
Absaugeinrichtung 14, die den Düsen 13 gegenüber liegt,
gesammelt. Die Absaugeinrichtung 14 leitet den durch die
Absaugöffnung abgesaugten Strahl 21 nach außen ab.
Während der Strahl 21 ausströmt, ist der Deckel 15 abgenommen,
so daß die Halbleiterscheibe 3 als zu behandelndes Objekt in
den Behandlungsbehälter 11 eingelegt wird. Nachdem das Spülen
beendet ist, werden einige Halbleiterscheiben 3 und eine
Kassette 4 an den gleichen Haltearm wie der Haltearm 161 (Fig.
27) gehängt und von oben durch die Öffnung 22 und durch den
Strahl 21 hindurch in den Dampf-Füllbereich 8 eingesetzt. Die
Kassette 4 welche die Halbleiterscheiben 3 trägt, wird auf der
Pfanne 6 befestigt, wie es in Fig. 2 dargestellt ist. Dann wird
der Haltearm nach oben herausgezogen. Nachdem der Haltearm nach
außen entfernt wurde, kann der Deckel 15 aufgesetzt und der
Strahl 21 abgeschaltet werden.
Die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 werden im Dampf-
Füllbereich 8 gehalten. Daher kondensiert der in den Dampf-
Füllbereich 8 gefüllte IPA-Dampf 5 und löst sich in den
Wassertropfen, die an den Oberflächen der Halbleiterscheiben 3
und der Kassette 4 haften, auf. Da IPA eine hohe Löslichkeit
für Wasser hat, ist eine große Menge IPA in den Wassertropfen
löslich. Als Ergebnis werden die Wassertropfen im wesentlichen
in IPA-Tröpfchen umgewandelt, so daß sich deren Gewicht erhöht.
Die IPA-Tröpfchen gleiten infolge ihres Gewichtes von der
Oberfläche der Halbleiterscheiben 3 und von der Kassette 4 ab.
Daher können die mit Wassertropfen benetzten Halbleiterscheiben
3 sowie die Kassette 4 getrocknet werden. Die abgleitenden IPA-
Tröpfchen werden in der Pfanne 6 gesammelt und durch das Rohr
20 nach außen abgeleitet. Im einzelnen werden die IPA-Tröpfchen
und eine kleine Menge nicht mit dem IPA 7 mischbarer
Verunreinigungen aus dem Behandlungsbehälter 11 nach außen
abgeleitet. Folglich bleibt die hohe Reinheit des im
Flüssigkeits-Speicherbereich 9 gespeicherten IPA 7 erhalten.
Wenn die Trocknungsbehandlung der Halbleiterscheiben 3 und der
Kassette 4 beendet ist, wird der Strahl 21 wiederum erzeugt und
der Deckel 15 abgenommen. Dann wird der Haltearm wieder in den
Behandlungsbehälter 11 eingeschwenkt und die Kassette 4 mit den
Halbleiterscheiben 3 werden vom Haltearm durch die Öffnung 22
und durch den Strahl 21 hindurch aus dem Behandlungsbehälter 11
herausgezogen. Danach werden die herausgenommenen
Halbleiterscheiben 3 mit der Kassette 4 an den nächsten
Behandlungsschritt übergeben. Anschließend werden neue (d. h.
unbehandelte) Halbleiterscheiben 3 in einer neuen Kassette 4 in
den Dampf-Füllbereich 8 des Behandlungsbehälters 11
eingebracht. Somit wird die Trocknungsbehandlung der
Halbleiterscheiben 3 und der Kassette 4 wiederholt
durchgeführt.
Während die Trocknungsbehandlung der Halbleiterscheiben 3 und
der Kassette 4 durchgeführt wird, müssen diese nicht auf der
Pfanne 6 befestigt sein, sondern sie können auch von dem
Haltearm über der Pfanne 6 im Dampf-Füllraum 8 gehalten werden.
In diesem Falle bleibt der Deckel 15 abgenommen und der Strahl
21 wird während der Durchführung der Trocknungsbehandlung nicht
gestoppt.
Wenn die zu behandelnden Halbleiterscheiben 3 und die Kassette
4 in den Behandlungsbehälter 11 eingelegt werden, wenn sie aus
dem Behandlungsbehälter 11 herausgenommen werden und unter
Umständen auch während der Durchführung der
Trocknungsbehandlung, ist der Deckel 15 abgenommen und zugleich
wird der Strahl 21 erzeugt. Obwohl der Deckel 15 abgenommen
ist, wird der IPA-Dampf 5 durch den die Öffnung 22 bedeckenden
Strahl 21 zurückgehalten. Daher ist es dem IPA-Dampf 5 kaum
möglich, aus dem Behandlungsbehälter 11 durch die Öffnung 22
nach außen zu diffundieren. Mit anderen Worten: der meiste IPA-
Dampf 5 verbleibt im Dampf-Füllbereich 8. Im einzelnen wirkt
der Strahl 21 als eine Art Vorhang, der den Durchtritt eines
Gases verhindert.
Bei der Trocknungsvorrichtung 100 spielt die Form des
Behandlungsbehälters 11 eine wichtige Rolle, damit der Strahl
21 wirkungsvoll als Vorhang funktioniert. Wie in Fig. 2
dargestellt, strömt der aus dem IPA 7 erzeugte IPA-Dampf 5 an
der Seitenwand des Behandlungsbehälters 11 entlang. Wie oben
beschrieben, ist die Seitenwand des Behandlungsbehälters 11 in
der Umgebung der Öffnung 22 mit der Annäherung an die Öffnung
22 allmählich nach innen gekrümmt.
Aus diesem Grunde wird die Strömung des IPA-Dampfes 5 entlang
des gekrümmten Teiles der Seitenwand in der Umgebung des oberen
Teiles des Behandlungsbehälters 11 allmählich nach innen
abgelenkt. Der IPA-Dampf 5 wird im oberen Teil des Dampf-
Füllbereiches 8 abgekühlt, so daß die Strömung des IPA-Dampfes
5 in eine Abwärtsströmung umgelenkt wird. Mit anderen Worten:
im Dampf-Füllbereich 8 erfolgt eine Konvektion des IPA-Dampfes
5 entlang einer Strömung 23, wie es in Fig. 2 dargestellt ist.
Als Ergebnis kann der Strahl 21 wirkungsvoll verhindern, daß
der den Dampf-Füllbereich 8 ausfüllende IPA-Dampf 5 aus der
Öffnung 22 nach außen strömt.
In der Trocknungsvorrichtung 100 wird der Strahl 21 erzeugt.
Daher ist es nicht erforderlich, eine Kühlschlange 162 zu
verwenden, wie sie in der Trocknungsvorrichtung 151
entsprechend dem Stand der Technik vorgesehen werden müßte.
Folglich ist es möglich, die Instabilität des IPA-Dampfes 165,
die durch Änderungen im Zustand des in die Kühlschlange 162
eingespeisten Kühlmittels verursacht werden, auszuschließen.
Mit anderen Worten: die Konzentration des IPA-Dampfes 5, der
den Dampf-Füllbereich 8 ausfüllt, seine Ausdehnung und
dergleichen werden stabilisiert. Als Ergebnis werden die
Halbleiterscheiben 3 und die
Kassette 4 als zu behandelnde Objekte ohne Schwierigkeiten
gleichmäßig und stabil getrocknet. Insbesondere kann das
Problem einer fehlerhaften Trocknung in der
Trocknungsvorrichtung 151 entsprechend dem Stand der Technik
gemildert und die Ausbeute an Halbleiterschaltungen, die aus
der Halbleiterscheibe 3 hergestellt werden, erhöht werden.
Da der Deckel 15 als frei beweglich aufsetz- und abnehmbar
vorgesehen ist, kann die Öffnung 22 durch den Deckel 15
verschlossen werden, wenn die Trocknungsvorrichtung 100 nicht
betrieben wird, wenn die Behandlung durchgeführt wird oder wenn
die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 während des
Arbeitsablaufes nicht in den Behandlungsbehälter 11 eingelegt
werden. Während des Zeitraumes, in welchem der Deckel 15
aufgesetzt ist, ist es nicht erforderlich, Stickstoffgas in die
Düsen 13 einzuspeisen. Daher kann die Menge des benötigten
Stickstoffgases reduziert werden. Zusätzlich zu den Düsen 13
und der Absaugeinrichtung 14 wirkt der Deckel 15 ebenfalls als
Diffusionsverhinderungseinrichtung, um zu verhindern, daß IPA-
Dampf 5 durch die Öffnung 22 nach außen diffundiert.
In Massenproduktionsanlagen großen Ausmaßes können die Kosten
für Stickstoffgas nicht vernachlässigt werden. Demzufolge kann
die Kostenreduzierung durch die Existenz des Deckels 15 nicht
vernachlässigt werden. Weiterhin wird der Zeitraum, in welchem
die Düsen 13 arbeiten, abgekürzt. Folglich kann der Verschleiß
der Düsen 13 vermindert und damit die Lebensdauer der
Trocknungsvorrichtung verlängert werden.
Während ein Beispiel beschrieben wurde, bei welchem IPA als im
Behandlungsbehälter 11 zu speicherndes Lösungsmittel verwendet
wird, können auch andere geeignete Lösungsmittel zum Trocknen
zu behandelnder gespülter Objekte verwendet werden. Im
allgemeinen ist es möglich, ein organisches Lösungsmittel zu
verwenden, das einen niedrigeren Siedepunkt sowie eine kleinere
Verdampfungswärme als Wasser hat und das eine hohe Löslichkeit
gegenüber Wasser hat. Beispielsweise sind TFEA
(Trifluorethylalkohol), HDIPA (Hexafluoroisopropylalkohol),
PFPA (Pentafluoropropylalkohol) und dergleichen geeignet.
Während ein Beispiel beschrieben wurde, bei welchem
Stickstoffgas als Gas benutzt wurde, welches durch die Rohre 19
in die Düsen 13 eingespeist wird, können ganz allgemein auch
andere chemisch stabile Gase, d. h., nicht-reaktive Gase
verwendet werden. Beispielsweise kann auch ein inertes Gas, wie
beispielsweise Argon, verwendet werden. Stickstoffgas ist
jedoch das preiswerteste aller nicht-reaktiven Gase, und es ist
einfach verfügbar.
Während ein Beispiel beschrieben wurde, bei welchem die Düsen
13 in einer Reihe angeordnet sind, so daß der Strahl 21 die
Öffnung 22 nach Art einer Schicht bedeckt, kann auch eine
einzelne Düse vorgesehen sein, die in der Lage ist, anstelle
der Reihe von Düsen 13 einen schichtförmigen Strahl 21 zu
erzeugen.
Die Fig. 1 und 3 sind eine Perspektiv- und eine geschnittene
Vorderansicht, welche den Aufbau einer Trocknungsvorrichtung
entsprechend der ersten Ausführungsform zeigen. Eine
Trocknungsvorrichtung 101 unterscheidet sich in
charakteristischer Weise dadurch von der Trocknungsvorrichtung
100, daß eine IPA-Strömung erzeugt wird, um die Innenfläche
einer Seitenwand eines Behandlungsbehälters 11, d. h., die
Innenwand eines Dampf-Füllbereiches zu bedecken. Durch diese
Eigenart der Trocknungsvorrichtung 101 kann das Problem einer
Verminderung der Konzentration des IPA-Dampfes 5 gemildert
werden, und eine fehlerhaften Trocknung der zu behandelnden
Objekte kann weiter verhindert werden.
Bei der Trocknungsvorrichtung 101 weist der Behandlungsbehälter
11 einen von der Seitenwand desselben gebildeten und mit IPA-
Dampf 5 gefüllten Dampf-Füllbereich 31 sowie einen
Flüssigkeits-Speicherbereich 32 der zum Speichern des IPA 7 im
Bodenteil des Behandlungsbehälters 11 vorgesehen ist. Im oberen
Teil des Dampf-Füllbereiches 31 ist in der Nähe der Innenwand
eine Düse 34 zur Erzeugung einer abwärts gerichteten IPA-
Strömung vorgesehen. Beispielsweise ist die Düse 34 rohrförmig,
an einem Ende verschlossen und waagerecht angeordnet. Eine
Reihe von Bohrungen 35 ist im unteren Teil der Düse 34
angebracht. Das andere Ende der Düse 34 ist über ein Rohr 39 an
eine IPA-Einspeisung 38 angeschlossen.
Eine Flüssigkeits-Sammeleinrichtung 36 ist im unteren Teil des
Dampf-Füllbereiches 31 vorgesehen. Die Flüssigkeits-
Sammeleinrichtung 36 ragt von der Innenwand mit L-förmigem
Querschnitt nach innen, so daß der aus den Bohrungen 35
strömende IPA gesammelt werden kann. Weiterhin ist der
Flüssigkeits-Sammelbereich 36 waagerecht gegenüber der Düse 34
angeordnet. In einem Teil des Dampf-Füllbereiches 31 ist eine
Bohrung angebracht. Ein Rohr 37 ist an diese Bohrung
angeschlossen.
In der gleichen Weise, wie bei der Trocknungsvorrichtung 100,
ist genau unter dem Flüssigkeits-Speicherbereich 32 ein
Heizkörper 10 zum Erhitzen des IPA 7 vorgesehen. In
entsprechender Weise sind im Dampf-Füllbereich eine Pfanne 6,
Düsen 13, eine Absaugeinrichtung 14 und ein Deckel 15 auf der
Oberseite des Behandlungsbehälters 11 vorgesehen.
Wenn bei der Trocknungsvorrichtung 101 der Heizkörper 10
betrieben wird, so daß der IPA 7 erhitzt wird, wird auch IPA
aus der IPA-Einspeisung 38 der Düse 34 zugeführt. Der
zugeführte IPA fließt aus den in einer Reihe angeordneten
Bohrungen 35 nach unten. Aus diesem Grund bildet sich die
Strömung des IPA schichtförmig aus und strömt von der Düse 34
an der Innenwand des Dampf-Füllbereiches 31 zum Flüssigkeits-
Aufnahmebereich 36.
Im einzeln verläuft die Strömung 29 des IPA vom oberen Teil der
Innenwand des Dampf-Füllbereiches 31 zu deren unterem Teil und
bedeckt so die Innenwand. Dann wird die Strömung 29 des IPA vom
Flüssigkeits-Aufnahmebereich 36 gesammelt. Der gesammelte IPA
wird durch das Rohr 37 aus dem Behandlungsbehälter 11 nach
außen abgeleitet.
Somit wird die Innenwand des Dampf-Füllbereiches 31 mit der
Strömung 29 des IPA bedeckt. Daher kann verhindert werden, daß
IPA-Dampf 5 nutzlos an der Innenwand des Dampf-Füllbereiches 31
kondensiert. Folglich wird der IPA-Dampf 5 wirksam zur
Kondensation auf der Oberfläche eines zu behandelnden Objektes,
wie beispielsweise einer Halbleiterscheibe 3, benutzt.
Dementsprechend kann eine fehlerhafte Trocknung des zu
behandelnden Objektes weiter verhindert werden. Als Ergebnis
kann die Ausbeute an Hableiterschaltungen, die aus den
Halbleiterscheiben 3 hergestellt werden, weiter gesteigert
werden.
Während die Fig. 1 und 3 ein Beispiel zeigen, bei welchem der
vom Flüssigkeits-Aufnahmebereich 36 gesammelte IPA durch das
Rohr 37 nach außen abgeleitet wird, kann die
Trocknungsvorrichtung auch einen Aufbau haben, bei welchem der
gesammelte IPA zyklisch der Düse 34 zugeleitet wird, wie es in
der geschnittenen Vorderansicht von Fig. 4 dargestellt ist. In
einer Trocknungsvorrichtung 102, wie sie in Fig. 4 dargestellt
ist, ist zwischen den Rohren 37 und 39 eine Pumpe 41 für den
Kreislauf des IPA eingefügt. Der vom Flüssigkeits-
Aufnahmebereich 36 gesammelte IPA wird durch die Tätigkeit der
Pumpe 41 durch das Rohr 37 abgesaugt und durch das Rohr 39 der
Düse 34 zugeleitet.
Bei der Trocknungsvorrichtung 102 zirkuliert daher der IPA im
Kreislauf von der Düse 34 zum Flüssigkeits-Aufnahmebereich 36
und vom Flüssigkeits-Aufnahmebereich 36 wieder zur Düse 34.
Folglich können die Kosten für die Einspeisung des IPA zur
Ausbildung der Strömung 29 vermindert werden.
Bei dem Kreislauf geht allmählich IPA verloren. Wenn daher die
umlaufende IPA-Menge nicht mehr ausreicht, kann die IPA-
Einspeisung 38 an irgendeiner Stelle des Kreislaufes, wie
beispielsweise an der Pumpe 41 oder am Rohr 39 angeschlossen
werden, um die fehlende Menge zu kompensieren.
Fig. 5 ist eine geschnittene Vorderansicht des Aufbaues einer
Trocknungsvorrichtung entsprechend der zweiten Ausführungsform.
Die Trocknungsvorrichtung 103 unterscheidet sich in
charakteristischer Weise dadurch von der Trocknungsvorrichtung
102, daß an der Außenwand des Dampf-Füllbereiches 31 ein
Heizkörper 40 vorgesehen ist. Der Heizkörper 40 ist in der
Weise vorgesehen, daß er einen Teil der Außenwand bedeckt (d. h.
von außen), welcher einem Teil entspricht, der an der Innenwand
des Dampf-Füllbereiches 31 mit einer Strömung 29 von IPA
bedeckt ist, so daß diese Strömung 29 erhitzt werden kann.
Wenn bei der Trocknungsvorrichtung 103 der IPA 7 durch den
Heizkörper 10 erhitzt wird und die Strömung des IPA von der
Düse 34 zu einem Flüssigkeits-Aufnahmebereich 36 erzeugt wird,
wird auch der Heizkörper 40 betrieben. Die Strömung 29 wird
erhitzt, so daß die Kondensation von IPA-Dampf 5 an der
Strömung 29 vermindert wird.
Wenn beispielsweise die Temperatur des die Strömung 29
bildenden IPA 30°C ist, dann beträgt der Dampfdruck 60 mm Hg
(8,0 kPa), was weniger ist, als der Dampfdruck von 760 mm Hg
(10,1 kPa) im Behandlungsbehälter 11. Daher kondensiert der
IPA-Dampf 5 am IPA. Wenn andererseits die Temperatur des IPA
auf beispielsweise 70°C erhöht wird, dann wird der Dampfdruck
zumeist so hoch sein wie derjenige im Behandlungsbehälter 11.
An diesem Punkt kondensiert kaum noch IPA-Dampf 5 am IPA.
Bei der oben beschriebenen Trocknungsvorrichtung 103 wird die
Strömung 29 des IPA, welche die Innenwand des Dampf-
Füllbereiches 31 bedeckt, erhitzt. Folglich wird verhindert,
daß IPA-Dampf 5 nutzlos an der Strömung 29 kondensiert. Daher
kann der IPA-Dampf 5 wirksamer zur Kondensation auf einem zu
behandelnden Objekt, wie beispielsweise einer Halbleiterscheibe
3, genutzt werden. Dementsprechend kann eine fehlerhafte
Trocknung des zu behandelnden Objektes noch weiter verhindert
werden. Daher kann die Ausbeute an Halbleiterschaltungen, die
aus den Halbleiterscheiben 3 hergestellt werden, noch weiter
gesteigert werden.
Anstatt des Kreislaufes des im Flüssigkeits-Aufnahmebereich 36
gesammelten IPA zur Düse 34 kann der IPA auch, in der gleichen
Weise wie bei der Trocknungsvorrichtung 101, von einer IPA-
Einspeisung der Düse 34 zugeführt werden. Bei der
Ausführungsform, bei welcher der IPA, wie bei der
Trocknungsvorrichtung 103, der Düse 34 zyklisch zugeführt wird,
kann die Leistung des Heizkörper 40 reduziert werden.
Fig. 6 ist eine geschnittene Vorderansicht, welche den Aufbau
einer Trocknungsvorrichtung entsprechend einer dritten
Ausführungsform zeigt. Eine Trocknungsvorrichtung 104
unterscheidet sich in charakteristischer Weise dadurch von der
Trocknungsvorrichtung 103, daß der ein Rohr 39 durchfließende
IPA zuvor erhitzt und dann in eine Düse 34 eingespeist wird,
anstatt die von der Düse 34 kommende Strömung 29 zu erhitzen.
Bei der Trocknungsvorrichtung 104 ist ein Heizkörper 42 an
einem Teil des Rohre 39 befestigt. Der das Rohr 39
durchlaufende IPA wird durch den Heizkörper 42 erhitzt. Wenn
daher der IPA als Strömung 29 von der Düse 34 eingespeist wird,
ist die Temperatur des IPA schon deutlich erhöht worden.
Dementsprechend kann eine Kondensation des IPA-Dampfes 5 an der
Strömung 29 noch wirksamer verhindert werden. Als Ergebnis kann
der IPA-Dampf 5 wirksamer zur Kondensation auf einer Oberfläche
des zu behandelnden Objektes, wie beispielsweise einer
Halbleiterscheibe 3, ausgenutzt werden. Daher kann eine
fehlerhafte Trocknung des zu behandelnden Objektes noch besser
verhindert werden.
Der Heizkörper 42 kann anstelle des Rohres 39 an einem Rohr 37
oder an einer Pumpe 41 befestigt werden. Im allgemeinen können
die gleichen Wirkungen erzielt werden, wenn ein Heizkörper zum
Erhitzen des den Kreislauf von einem Flüssigkeits-
Aufnahmebereich 36 zur Düse 34 durchlaufenden IPA an zumindest
einem Teil des Kreislaufes befestigt ist.
Die oben erwähnten Wirkungen der vorherigen Erhitzung des in
die Düse 34 eingespeisten IPA werden besonders wichtig, wenn
der IPA nicht vom Flüssigkeits-Aufnahmebereich 36 zur Düse 34
geleitet wird, sondern durch eine IPA-Einspeisung 38 der Düse
34 zugeführt wird. Wenn der IPA der Düse 34 durch die IPA-
Einspeisung 38 zugeführt wird, können die gleichen Wirkungen
erreicht werden, wenn anstelle des Rohres 39 die IPA-
Einspeisung 38 selbst erhitzt wird.
Eine Vorrichtung mit einem solchen Aufbau ist in der
geschnittenen Vorderansicht von Fig. 7 dargestellt. Bei einer
in Fig. 7 dargestellten Trocknungsvorrichtung 105 ist ein
Heizkörper 42 an einer IPA-Einspeisung 38 angebracht, und der
von der IPA-Einspeisung eingespeiste IPA wird zuvor durch
diesen Heizkörper 42 erhitzt. Wenn der Heizkörper 40 der
Trocknungsvorrichtung 103 zusätzlich zum Heizkörper 42
vorgesehen ist, kann eine Solltemperatur einer Strömung 29 noch
leichter eingehalten werden. Mit anderen Worten: die oben
beschriebenen Wirkungen durch Temperaturerhöhung in der
Strömung 29 werden noch deutlicher, wobei die Gesamtbelastung
der Heizkörper gesenkt werden kann.
Fig. 8 ist eine geschnittene Vorderansicht des Aufbaues einer
Trocknungsvorrichtung entsprechend einer vierten
Ausführungsform. Eine Trocknungsvorrichtung 106 unterscheidet
sich in charakteristischer Weise dadurch von den Vorrichtungen
101 bis 105, daß die Halbleiterscheiben 3 und eine Kassette 4,
welche zu behandeln sind, in den IPA 7 eingetaucht werden
können. In der Trocknungsvorrichtung 106 kann ein Flüssigkeits-
Speicherbereich 46, der den unteren Teil eines
Behandlungsbehälters 11 bildet, den IPA 7 speichern und weist
eine solche Kapazität und Tiefe auf, daß die Halbleiterscheiben
3 sowie die Kassette 45 in den gespeicherten IPA 7 eingetaucht
werden können. Ein Dampf-Füllbereich 45, welcher den oberen
Teil des Behandlungsbehälters 11 bildet, kann ebenfalls eine
solche Kapazität und Höhe aufweisen, daß er die
Halbleiterscheiben 3 sowie die Kassette 4 aufnehmen kann.
In der gleichen Weise wie bei der Trocknungsvorrichtung 100 ist
ein Heizkörper 10 zum Erhitzen des IPA 7 genau unter dem
Flüssigkeits-Speicherbereich 46 vorgesehen. In entsprechender
Weise sind Düsen 13, eine Absaugeinrichtung 14 und ein Deckel
15 auf der Oberseite des Behandlungsbehälters 11 vorgesehen.
Ein Tisch 47 ist im Bodenteil des Flüssigkeits-
Speicherbereiches 46 vorgesehen und zur Befestigung der
Kassette 4 eingerichtet.
Die Trocknungsvorrichtung 106 wird in der folgenden Weise
benutzt. Zuerst wird IPA 7 in den Behandlungsbehälter 11
gefüllt. Die Tiefe des eingefüllten IPA 7 wird so bemessen, daß
das Flüssigkeitsniveau über der Oberkante der
Halbleiterscheiben 3 liegt, die von der auf dem Tisch 47
befestigten Kassette 4 gehalten werden. Dieser IPA 7 mit einer
solchen Tiefe speichernde Bereich entspricht dem Flüssigkeits-
Speicherbereich 46 im Behandlungsbehälter 11.
Dann wird bei aufgelegtem Deckel 15 der Heizkörper 10
eingeschaltet. Der IPA 7 wird durch den Heizkörper 10 erhitzt,
so daß er verdampft. Folglich wird IPA-Dampf 5 erzeugt. Der
IPA-Dampf 5 erfüllt den Raum über dem IPA 7, das heißt den
Dampf-Füllbereich 45. Bevor die gespülten Halbleiterscheiben 3
(und die Kassette 4) in den Behandlungsbehälter 11 eingelegt
werden, wird den Düsen 13 durch die Rohre 19 Stickstoffgas
zugeführt. Folglich bildet sich ein Strahl 21 aus.
Während der Strahl 21 ausströmt, wird der Deckel 15 abgenommen,
so daß die zu behandelnden Halbleiterscheiben 3, wie in Fig. 9
dargestellt, in den Behandlungsbehälter 11 eingelegt werden.
Nach der Beendigung der Spülung werden einige
Halbleiterscheiben 3 sowie die Kassette 4, welche dieselben
trägt, an einem Haltearm 48 hängend von oben durch eine Öffnung
22 und durch den Strahl 21 hindurch in den Behandlungsbehälter
11 eingelegt.
Die eingesetzten Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4
durchlaufen schnell den Dampf-Füllbereich 45 und werden auf dem
Tisch 47 im Flüssigkeits-Speicherbereich 46 befestigt. Speziell
werden die zu behandelnden Objekte, an denen Wassertropfen
haften, direkt in den IPA 7 eingelegt. Wenn die Objekte am
Tisch 47 befestigt sind, wird der Haltearm 48 nach außen
herausgezogen. Nachdem der Haltearm 48 nach außen entfernt ist,
kann der Deckel 15 aufgesetzt und der Strahl 21 abgeschaltet
werden.
Die Löslichkeit von IPA für Wasser ist im wesentlichen
unbegrenzt. Daher vermischen sich die an den Oberflächen der
Objekte haftenden Wassertropfen im Kontakt mit dem IPA 7 sofort
mit diesem. Folglich werden die an den Oberflächen der Objekte
haftenden Wassertropfen sofort vollständig vom IPA 7
aufgenommen. Als Ergebnis kommen die Oberflächen der Objekte
mit IPA 7 in Kontakt, der nun durch eine bestimmte Menge
Wassertropfen verdünnt ist.
Wenn beispielsweise 25 Halbleiterscheiben 3 mit einem
Durchmesser von 200 mm gleichzeitig zu behandeln sind, werden
im Flüssigkeits-Speicherbereich 46 etwa 30 Liter IPA 7 bereit
gehalten. Wenn an jeder Halbleiterscheibe 3 eine Menge von 2
cm3 Wassertropfen haftet, gelangen 50 cm3 Wasser bei einem
Eintauchvorgang in den IPA 7. Als Ergebnis wird der IPA 7 um
0,17% verdünnt. Wenn der IPA 7 benutzt wird, bis seine
Konzentration auf 91% vermindert ist, wo der IPA einen
azeotropen Punkt mit Wasser hat, können mit einer IPA-Füllung
50 und mehr Trocknungsvorgänge durchgeführt werden.
Wenn die an den Oberflächen der Objekte haftenden Wassertropfen
mittels des IPA 7 entfernt sind, wird der Strahl 21 wieder
erzeugt, so daß der Deckel 15 abgenommen werden kann, wie es in
Fig. 10 dargestellt ist. Dann wird der Haltearm 48 eingeführt
und die Objekte werden von diesem nach oben gezogen und dem im
Dampf-Füllbereich 45 vorhandenen IPA-Dampf 5 ausgesetzt. Die
Oberflächenspannung von IPA beträgt 22 dyn/cm und ist kleiner
als diejenige von Wasser mit 73 dyn/cm. Daher können die
Objekte aus dem IPA 7 herausgezogen werden, ohne daß IPA-
Tröpfchen an deren Oberflächen haften. Zu diesem Zeitpunkt ist
folglich sehr wenig Wasser an den Oberflächen der Objekte
verblieben.
Weiterhin werden die Objekte dem IPA-Dampf 5 ausgesetzt, so daß
eine auf den Oberflächen zurückgebliebene dünne Schicht einer
sehr geringen Menge IPA ebenfalls entfernt wird. Damit sind die
Objekte vollständig getrocknet. Zum Zeitpunkt, zu dem die
Objekte aus dem IPA 7 herausgezogen werden, bleibt sehr wenig
Wasser auf den Oberflächen derselben zurück. Daher wird auf den
Oberflächen keine Drei-Phasen-Grenze von Dampf, Flüssigkeit und
Festkörper ausgebildet. Demzufolge entstehen auf den
Oberflächen nach dem Trocknen auch keine Wasserflecken. So kann
eine saubere Trocknung realisiert werden.
Dann werden die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 vom
Haltearm 48 aufgenommen und nach oben gezogen, so daß sie durch
die Öffnung 22 und den Strahl 21 hindurch aus dem
Behandlungsbehälter 11 entnommen werden. Danach werden die auf
diese Weise herausgenommenen Halbleiterscheiben 3 sowie die
Kassette 4 an den nächsten Behandlungsschritt übergeben. Neue
(d. h. unbehandelte) Halbleiterscheiben 3 sowie eine neue
Kassette 4 werden in den Behandlungsbehälter 11 eingelegt. Auf
diese Weise werden die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4
wiederholt getrocknet.
Während die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 getrocknet
werden, können sie am Tisch 47 befestigt oder durch den
Haltearm 48 im IPA 7 gehalten werden. Im letztgenannten Falle
bleibt der Deckel 15 offen, und der Strahl 21 wird nicht
unterbrochen, während die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette
4 in den IPA 7 eingetaucht werden.
Bei der oben beschriebenen Trocknungsvorrichtung 106 wird die
Trocknungsbehandlung durch Eintauchen der Objekte in den IPA 7
durchgeführt. Im Vergleich mit den Vorrichtungen 100 bis 105,
bei welchen die Objekte dem IPA-Dampf 5 ausgesetzt werden, um
den Trocknungsprozeß durchzuführen, kommt es hier zu keiner
fehlerhafte Trocknung infolge einer ungenügenden Menge
kondensierten IPA-Dampfes 5, die aus einer variablen Anzahl
einzusetzender Halbleiterscheiben 3, aus Schwankungen in der
Strömung des IPA-Dampfes 5 und dergleichen resultieren kann.
Somit kann ein stabiler Trocknungsprozeß durchgeführt werden.
Fig. 11 ist eine geschnittene Vorderansicht des Aufbaues einer
Trocknungsvorrichtung entsprechend einer fünften
Ausführungsform. Eine Trocknungsvorrichtung 107 unterscheidet
sich in charakteristischer Weise dadurch von der
Trocknungsvorrichtung 106, daß sie einen Vorrichtungsbereich
zur zyklischen Einspeisung des IPA 7 in einen Flüssigkeits-
Speicherbereich 46 aufweist, wobei der IPA 7 wiederaufbereitet
wird. Bei der Trocknungsvorrichtung 107 ist am Bodenteil des
Flüssigkeits-Speicherbereiches 46 über Rohre 52 und 55 eine
Wasser/IPA-Trenneinheit 53 angeschlossen. In das Rohr 52 ist
eine Pumpe 51 eingefügt.
Die Pumpe 51 saugt den im Flüssigkeits-Speicherbereich 46
gespeicherten IPA 7 ab und leitet ihn durch das Rohr 52 zur
Wasser/IPA-Trenneinheit 53. Die Wasser/IPA-Trenneinheit 53
enthält ein Formteil mit einer Wasser/IPA-Trennschicht, wie
beispielsweise Olefin in Form von Hohlfäden. Der durch das Rohr
52 gesammelte IPA 7 wird in flüssigen IPA und das darin
enthaltene Wasser getrennt. Das Wasser wird als Abwasser durch
ein Rohr 54 aus der Trocknungsvorrichtung nach außen
abgeleitet. Der aus dem gesammelten IPA 7 gewonnene IPA, das
heißt, der wiederaufbereitete IPA, wird durch das Rohr 55 zum
Flüssigkeits-Speicherbereich 46 zurückgebracht.
Bei der Trocknungsvorrichtung 107 wird somit IPA 7, dem durch
die Behandlung der Trocknungsobjekte Wasser zugemischt wurde,
zyklisch wiederaufbereitet. Daher kann eine Erhöhung der
Konzentration von Wasser im IPA 7 verhindert werden. Folglich
können die Objekte über einen langen Zeitraum wiederholt
behandelt werden, ohne daß IPA 7 neu aufgefüllt werden muß. Als
Ergebnis kann die Stillstandszeit der Vorrichtung für den IPA-
Austausch vermindert werden, so daß die Effizienz der
Trocknungsbehandlung erhöht werden kann.
Fig. 12 ist eine geschnittene Vorderansicht, welche den Aufbau
einer Trocknungsvorrichtung entsprechend einer sechsten
Ausführungsform zeigt. In der gleichen Weise wie bei der
Trocknungsvorrichtung 107 umfaßt eine Trocknungsvorrichtung 108
einen Vorrichtungsbereich zur zyklischen Einspeisung des IPA 7
in einen Flüssigkeits-Speicherbereich 46, wobei der IPA 7
wiederaufbereitet wird. Jedoch ist anstelle der Wasser/IPA-
Trenneinheit 53 eine IPA-Destillationseinheit 57 angeordnet. Im
einzelnen ist die IPA-Destillationseinheit 57 über ein Rohr 52
mit dem Bodenbereich des Flüssigkeits-Speicherbereiches 46
verbunden. Ferner ist die IPA-Destillationseinheit 57
beispielsweise über ein Rohr 55 an den Dampf-Füllbereich 45
(oder an den Flüssigkeits-Speicherbereich 46) angeschlossen. In
das Rohr 55 ist eine Pumpe 51 eingefügt.
Der im Flüssigkeits-Speicherbereich 46 gespeicherte
wasserhaltige IPA 7 wird durch das Rohr 52 beispielsweise
mittels Schwerkraft einem in der IPA-Destillationseinheit 57
vorgesehenen Destillationskessel 58 zugeführt. Der im
Destillationskessel 58 gespeicherte IPA 61 wird durch einen
Heizkörper 60 erhitzt, welcher genau unter dem
Destillationskessel 58 angeordnet ist.
Als Ergebnis verdampft der IPA aus dem wasserhaltigen IPA 61
selektiv, so daß ein IPA-Dampf 62 den Raum über dem IPA 61 im
Destillationskessel 58 füllt.
Der IPA-Dampf 62 kondensiert an der Oberfläche eines im
Destillationskessel 58 vorgesehenen Flüssigkeits-
Sammelbereiches 59. Der kondensierte IPA 63 enthält kein
Wasser. Der IPA 63 wird im Flüssigkeits-Sammelbereich 59
gesammelt und dann der Pumpe 51 zugeführt. Die Pumpe 51 führt
den IPA 63 als wiederaufbereiteten IPA durch das Rohr 55 in den
Flüssigkeits-Speicherbereich 46 zurück. Wenn IPA verdampft,
nimmt die Konzentration von Wasser im IPA 61 allmählich zu. Der
IPA 62 mit hohem Wassergehalt wird durch ein Rohr 64 aus der
Trocknungsvorrichtung nach außen abgeführt.
Auch in der Trocknungsvorrichtung 108 wird der IPA 7, dem
Wasser aus der Trocknungsbehandlung der zu behandelnden Objekte
zugemischt ist, zyklisch wiederaufbereitet. Daher kann die
Erhöhung der Konzentration von Wasser im IPA 7 verhindert
werden. Folglich können die Objekte über einen langen Zeitraum
wiederholt behandelt werden, ohne daß erneut IPA 7 eingespeist
werden muß. Als Ergebnis kann die Stillstandszeit der
Vorrichtung verkürzt werden, so daß die Effizienz der
Trocknungsbehandlung erhöht werden kann.
Fig. 13 ist eine geschnittene Vorderansicht, welche den Aufbau
einer Trocknungsvorrichtung entsprechend einer siebenten
Ausführungsform zeigt. In der gleichen Weise, wie bei den
Trocknungsvorrichtungen 107 und 108, umfaßt eine
Trocknungsvorrichtung 109 einen Vorrichtungsbereich zur
zyklischen Einspeisung des IPA 7 in einen Flüssigkeits-
Speicherbereich 46, wobei der IPA 7 wiederaufbereitet wird.
Jedoch ist die Trocknungsvorrichtung 109 dadurch
charakterisiert, daß eine Wasser/IPA-Trenneinheit 53 und eine
IPA-Destillationseinheit 57 zusammen angewandt werden. Im
einzelnen sind die Wasser/IPA-Trenneinheit 53 und die IPA-
Destillationseinheit 57 in Reihe in eine Leitung zur zyklischen
Wiederaufbereitung des IPA 7 eingefügt.
Eine Pumpe 51 saugt den im Flüssigkeits-Speicherbereich 46
gespeicherten IPA 7 durch ein Rohr 52 an und leitet ihn durch
das gleiche Rohr 52 zur Wasser/IPA-Trenneinheit 53. Die
Wasser/IPA-Trenneinheit 53 trennt den durch das Rohr 52
herabgeführten gesammelten IPA 7 in IPA-Flüssigkeit und das
darin enthaltene Wasser. Das Wasser wird als Abwasser durch ein
Rohr 54 aus der Trocknungsvorrichtung 109 nach außen abgeführt.
Der aus dem gesammelten IPA 7 gewonnene IPA wird durch ein Rohr
65 der IPA-Destillationseinheit 57 zugeführt. Die wasserfreie
IPA-Flüssigkeit, die durch die Destillation in der IPA-
Destillationseinheit 57 gewonnen wird, d. h., der
wiederaufbereitete IPA wird der Pumpe 51 zugeführt. Die Pumpe
51 führt den wiederaufbereiteten IPA durch ein Rohr 55 wieder
dem Flüssigkeits-Speicherbereich 46 zu.
Wie oben beschrieben, wird der IPA 7, dem durch
Trocknungsbehandlung der zu behandelnden Objekte Wasser
beigemischt wurde, durch die Wasser/IPA-Trenneinheit 53 und
durch die IPA-Destillationseinheit 57 zyklisch
wiederaufbereitet. Daher kann noch wirksamer verhindert werden,
daß die Konzentration von Wasser im IPA 7 ansteigt. Folglich
ist es möglich, eine kontinuierliche Trocknungsbehandlung unter
Verwendung eines IPA 7 durchzuführen, der von hoher Reinheit
ist und Wasser nur in geringer Konzentration enthält.
Dementsprechend kann eine Trocknungsbehandlung von guter
Qualität effizient durchgeführt werden.
Die in den Zirkulationsweg eingefügte Wasser/IPA-Trenneinheit
53 und die IPA-Destillationseinheit 57 können auch gegenüber
Fig. 13 in umgekehrter Reihenfolge eingefügt werden.
Fig. 14 ist eine geschnittene Vorderansicht, welche den Aufbau
einer Trocknungsvorrichtung entsprechend einer achten
Ausführungsform zeigt. Eine Trocknungsvorrichtung 110
unterscheidet sich von der Trocknungsvorrichtung 106 (Fig. 8)
in charakteristischer Weise dadurch, daß an einem Teil des
Rohres 19 ein Kühler 71 vorgesehen ist, um das durch das 35448 00070 552 001000280000000200012000285913533700040 0002019800624 00004 35329Rohr
19 strömende Stickstoffgas zu kühlen. Als Kühler 71 kann
beispielsweise ein elektronisches Kühlelement, eine
Wasserkühlungseinrichtung, eine Luftkühlungseinrichtung oder
dergleichen verwendet werden. Über eine Signalleitung ist eine
Steuerung 72 an den Kühler 71 angeschlossen.
Wie in Fig. 15 dargestellt, wird nach dem Spülen eine Kassette
4 mit Halbleiterscheiben 3 an den Maltearm 48 gehängt und durch
eine Öffnung 22 und einen Strahl 21 hindurch in einen
Behandlungsbehälter 11 eingelegt, wobei das als Strahl 21
ausströmende Stickstoffgas durch die Tätigkeit des Kühlers 71
auf eine Temperatur unter der normalen Temperatur (d. h. unter
der Raumtemperatur) abgekühlt worden ist. Genauer gesagt,
werden die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 einem Strahl
21 aus gekühltem Stickstoffgas ausgesetzt, wenn sie durch die
Öffnung 22 eingelegt werden.
Als Ergebnis werden die Halbleiterscheiben 3 sowie die Kassette
4, welche mit Wassertropfen benetzte Oberflächen haben,
gleichmäßig auf eine Temperatur unter der Wassertemperatur von
25°C, die beim üblichen Spülen angewandt wird, abgekühlt,
beispielsweise auf 4°C bis 23°C. Dann durchlaufen die
Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4, wie in Fig. 16
dargestellt, die Öffnung 22 und dann langsam den Dampf-
Füllbereich 45, bis sie in den IPA 7 eingetaucht werden.
Wenn die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 den Dampf-
Füllbereich 45 durchlaufen, werden sie dem dort aufgefüllten
IPA-Dampf 5 ausgesetzt. In dieser Zeit kondensiert eine große
Menge IPA-Dampf 5 gleichmäßig auf den gekühlten Oberflächen der
Halbleiterscheiben 3 sowie der Kassette 4. Die an den
Oberflächen haftenden Wassertropfen werden wirksam in große
IPA-Tropfen verwandelt, welche von den Oberflächen abfallen.
Im einzelnen wird eine große Anzahl an den Oberflächen
haftender Wassertropfen entfernt, bevor die Halbleiterscheiben
3 und die Kassette 4 in den IPA 7 eingetaucht werden.
Zusätzlich gelangen die Halbleiterscheiben 3 sowie die Kassette
4 mit einer Oberflächentemperatur in den IPA 7, die sich
allmählich an die Temperatur des IPA-Dampfes 5 angenähert hat.
Folglich kann eine ausgezeichnete Trocknungsbehandlung
durchgeführt werden, ohne daß es Ursachen für eine
ungleichmäßige Trocknung gibt.
Um das Eintauchen in den IPA 7 durchzuführen, wird eine große
Menge IPA 7 im Flüssigkeits-Speicherbereich 46 gespeichert. Um
die Sicherheitsbelange einzuhalten, wird die Temperatur des IPA
7 durch den Heizkörper 10 nur begrenzt erhöht. Bei der
Trocknungsvorrichtung 110 werden die zu behandelnden Objekte
vor dem Eintauchen in den IPA 7 gekühlt. Aus diesem Grunde kann
die Temperaturdifferenz zwischen den Objekten und dem IPA-Dampf
5 sogar dann eingehalten werden, wenn die Temperatur des IPA 7
nicht so hoch ist. Als Ergebnis kann ein ausgezeichneter,
sicherer Trocknungsprozeß durchgeführt werden, bei welchem
keine ungleichmäßige Trocknung auftritt.
Wenn die an den Oberflächen der Objekte haftenden Wassertropfen
mittels des IPA 7 entfernt sind, werden die Objekte durch den
Haltearm 48 über den IPA 7 gezogen und dem IPA-Dampf 5 im
Dampf-Füllbereich 45 ausgesetzt, wie es in Fig. 16 dargestellt
ist. Folglich wird eine dünne Flüssigkeitsschicht aus einer
kleinen Menge von auf den Oberflächen der zu behandelnden
Objekte zurückgebliebenem IPA 7 entfernt. Somit werden die
Objekte vollständig getrocknet.
Die Steuerung 72 regelt die Dauer der Ein- und Ausschaltung des
Kühlers 71 so, daß ausreichend gekühltes Stickstoffgas als
Strahl 21 ausströmen kann, wenn die Halbleiterscheiben 3 sowie
die Kassette 4 eingelegt werden. Beispielsweise wird der Kühler
71 ein wenig früher eingeschaltet, als der Vorgang des
Einlegens neuer Halbleiterscheiben 3 sowie einer neuen Kassette
4. Folglich ist das den Strahl 21 bildende Stickstoffgas schon
im voraus ausreichend gekühlt. Die Steuerung 72 kann den Kühler
71 beispielsweise entsprechend der Bewegung der Kassette 4
steuern, nachdem sie ein Signal von einer Steuereinheit (nicht
dargestellt) erhalten hat, welche die Bewegung des Haltearms 48
steuert.
Nachdem die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 die Öffnung
22 durchlaufen haben und in den Behandlungsbehälter 11
eingelegt sind, wird der Kühler 71 beispielsweise in den AUS-
Zustand geschaltet. Daher kann eine fehlerhafte Trocknung,
welche von einer unzureichenden Kühlung herrührt, reduziert
werden. Wenn der Kühlungsvorgang unerläßlich ist, kann die
Trocknungsvorrichtung 110 einen Aufbau haben, bei welchem die
Steuerung 72 nicht vorgesehen ist und der Kühler 71 während des
Betriebes der Trocknungsvorrichtung 110 immer im EIN-Zustand
gehalten wird.
Während die Trocknungsvorrichtung 110 derart ausgebildet worden
ist, daß das Stickstoffgas gekühlt wird, während es durch das
Rohr 19 strömt, können die gleichen Wirkungen auch durch einen
Aufbau erreicht werden, bei welchem zuvor gekühltes
Stickstoffgas in das Rohr 19 eingespeist wird. Fig. 17 ist eine
geschnittene Vorderansicht, die den Aufbau einer derart
angeordneten Trocknungsvorrichtung zeigt.
In einer Trocknungsvorrichtung 111 ist der Ausgang eines
Schaltventils 73 an ein Rohr 19 angeschlossen. Eine
Stickstoffgas-Einspeisung 18 zur Einspeisung von Stickstoffgas
mit Normaltemperatur ist über ein Rohr 74 an einen von zwei
Eingängen des Schaltventils 73 angeschlossen. Eine Kühl-
Stickstoffgas-Einspeisung 75 zur Einspeisung gekühlten
Stickstoffgases ist über ein Rohr 76 an den anderen Eingang des
Schaltventils 73 angeschlossen. Die Steuerung 72 ist über eine
Signalleitung mit dem Schaltventil 73 verbunden.
Wenn Stickstoffgas mit Normaltemperatur als Strahl 21
ausströmen soll, wählt das Schaltventil 73 das Rohr 74 zur
Lieferung von Stickstoffgas mit Normaltemperatur und stellt
eine Verbindung zwischen dem Rohr 74 und dem Rohr 19 her, so
daß Stickstoffgas mit Normaltemperatur in die Düsen 13
eingespeist wird. Wenn gekühltes Stickstoffgas als Strahl 21
ausströmen soll, das heißt, wenn zu behandelnde Objekte durch
die Öffnung 22 in den Behandlungsbehälter 11 eingelegt werden
müssen, wählt das Schaltventil 73 das Rohr 76 für die Zufuhr
gekühlten Stickstoffgases und stellt eine Verbindung zwischen
dem Rohr 76 und dem Rohr 19 her, so daß gekühltes Stickstoffgas
in die Düsen 13 eingespeist wird. Der vom Schaltventil 73
ausgeführte Schaltvorgang wird durch die Steuerung 72
gesteuert.
Wie oben beschrieben wurde, hat die Trocknungsvorrichtung 111
einen solchen Aufbau, daß je nach Anforderung Stickstoffgas mit
Normaltemperatur oder gekühltes Stickstoffgas selektiv als
Strahl 21 ausströmt. Daher kann eine fehlerhafte Trocknung
verhindert werden und die Menge des verwendeten gekühlten
Stickstoffgases kann in der gleichen Weise reduziert werden,
wie bei der Trocknungsvorrichtung 110.
Anstatt der Erzeugung eines Strahls 21 aus gekühltem
Stickstoffgas kann die Trocknungsvorrichtung auch einen solchen
Aufbau haben, daß die zu behandelnden Halbleiterscheiben 3 und
die Kassette 4 gekühlt werden, bevor sie den Strahl 21
durchlaufen. Fig. 18 zeigt eine Trocknungsvorrichtung mit einem
solchen Aufbau. Bei der Trocknungsvorrichtung ist ein Kühler 80
zur Kühlung der Luft über der Trocknungsvorrichtung 106 (Fig.
8) vorgesehen. Der Kühler 80 erzeugt entsprechend den
Anweisungen einer Steuerung 81 eine abwärts gerichtete Strömung
gekühlter Luft.
Die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 werden von einem
Haltearm 48 gehalten und in eine Chemikalie 84 eingetaucht, die
in einem Behandlungsbehälter 83 gespeichert ist. Nachdem durch
die Chemikalie 84 eine Reinigungsbehandlung durchgeführt wurde,
werden die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 in
Spülwasser 86 eingetaucht, das sich in einem
Behandlungsbehälter 85 befindet. Auf diese Weise wird die
Spülung durchgeführt. Dann werden die Halbleiterscheiben 3 und
die Kassette 4 in Spülwasser 88 eingetaucht, das in einem
anderen Behandlungsbehälter 87 gespeichert ist, um eine
zusätzliche Spülung durchzuführen.
Wenn die Spülbehandlung unter Verwendung des Spülwassers 88
beendet ist, beginnt der Kühler 80 entsprechend der Anweisung
der Steuerung 81 zu arbeiten und erzeugt eine Strömung 82 aus
gekühlter Luft in Richtung des Behandlungsbehälters 11, der
genau unter dem Kühler 80 angeordnet ist. Während die Strömung
82 erzeugt wird, werden die Halbleiterscheiben 3 und die
Kassette 4 aus dem Spülwasser 88 herausgezogen, über den
Behandlungsbehälter 11 gebracht und in diesen eingelegt.
Bei diesem Vorgang durchlaufen die Halbleiterscheiben 3 und die
Kassette 4, welche vollständig gespült worden sind, die
Strömung 82 aus gekühlter Luft. Als Ergebnis werden die zu
trocknenden Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 gekühlt,
bevor sie in den Behandlungsbehälter 11 eingelegt werden. In
der gleichen Weise, wie bei den Vorrichtungen 110 und 111, kann
demzufolge ein ausgezeichneter, sicherer Trocknungsprozeß ohne
ungleichmäßige Trocknung durchgeführt werden.
Fig. 19 ist eine geschnittene Vorderansicht des Aufbaues einer
Trocknungsvorrichtung entsprechend einer neunten
Ausführungsform. Ein Flüssigkeits-Speicherbereich 9, der den
unteren Teil eines Behandlungsbehälters 90 einer
Trocknungsvorrichtung 112 bildet, kann IPA 7 in einer solchen
Menge und Tiefe speichern, daß die Halbleiterscheiben 3 und die
Kassette 4 in dem gespeicherten IPA 7 eingetaucht werden
können. Ein Tisch 47, auf dem die Kassette 4 befestigt werden
kann, ist seinerseits am Bodenteil des Flüssigkeits-
Speicherbereiches 9 befestigt. Genau unter dem Flüssigkeits-
Speicherbereich 9 ist ein Heizkörper 10 zum Erhitzen des IPA 7
vorgesehen.
Über einem Dampf-Füllbereich 8 ist ein Kühlbereich 91
vorgesehen. Der obere Teil des Kühlbereiches 91 ist offen, so
daß die zu behandelnden Objekte eingelegt und herausgenommen
werden können. Vorzugsweise kann eine Öffnung 22 frei beweglich
(abnehmbar) mit einem Deckel 15 abgedeckt werden. An der
Innenseite des Kühlbereiches ist an der Innenwand eine
Kühlschlange 92 befestigt. Ein Kühler 93 mit einem
elektronischen Kühlelement ist bei beispielsweise außerhalb des
Kühlbereiches 91 an der Außenwand befestigt.
Bei der Trocknungsvorrichtung 112 wird ein Kühlmittel, wie
beispielsweise Kühlwasser, in die Kühlschlange 92 eingespeist,
so daß der IPA-Dampf 5 in der gleichen Weise, wie bei der
Trocknungsvorrichtung 151 entsprechend dem Stand der Technik,
an der Diffusion nach außen gehindert wird. Weiterhin ist der
Kühler 93 zusammen mit der Kühlschlange 92 vorgesehen, so daß
die Kühlkapazität vergrößert werden kann. Bei der
Trocknungsvorrichtung 112 bilden die Kühlschlange 92, der
Kühler 93 und der Deckel 15 die
Diffusionsverhinderungseinrichtung.
Da bei der Trocknungsvorrichtung 112 die Kühlschlange 92 und
der Kühler 93 zusammenwirkend eine hohe Kühlkapazität
aufweisen, hindern sie nicht nur den IPA-Dampf 5 an der
Diffusion, sondern es können auch die fertig gespülten zu
behandelnden Objekte, wie beispielsweise die Halbleiterscheiben
3 vorgekühlt werden. Wie in Fig. 20 dargestellt, werden die
Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4, welche vollständig
gespült worden sind, von oben durch die Öffnung 22 in den
Behandlungsbehälter 90 eingelegt und durchlaufen dabei den von
der Kühlschlange 92 und dem Kühler 93 umgebenen Bereich, das
heißt den Innenteil des Kühlbereiches 91.
In diesem Bereich befindliches Gas, wie beispielsweise Luft,
wird durch die Kühlschlange 92 und den Kühler 93 gekühlt.
Folglich werden die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 als
zu behandelnde Objekte gekühlt, wenn sie diesen Bereich
durchqueren. Die Objekte durchqueren diesen Bereich langsam,
dann durchqueren sie den Dampf-Füllbereich 8 ebenfalls langsam
und werden in den IPA 7 eingelegt.
Auch bei der Trocknungsvorrichtung 112 werden daher die Objekte
gekühlt, bevor sie dem IPA-Dampf 5 ausgesetzt werden, welcher
den Dampf-Füllbereich 8 ausfüllt. In der gleichen Weise, wie in
den Trocknungsvorrichtungen 110 und 111, kann demzufolge hier
in sicherer Weise eine ausgezeichnete Trocknung durchgeführt
werden, wobei keine ungleichmäßige Trocknung auftritt.
Während in den Fig. 19 und 20 ein Beispiel gezeigt wurde, bei
welchem im Kühlbereich sowohl die Kühlschlange 92 als auch der
Kühler 93 vorgesehen sind, um das Gas zu kühlen, kann auch nur
einer von beiden mit ausreichender Kühlkapazität vorgesehen
werden.
Fig. 21 ist eine geschnittene Vorderansicht des Aufbaues einer
Trocknungsvorrichtung entsprechend einer zehnten
Ausführungsform. Eine Trocknungsvorrichtung 114 umfaßt die
Trocknungsvorrichtung 106 (Fig. 8) sowie eine Kühl- und
Spüleinrichtung 113, die neben der Trocknungsvorrichtung 106
vorgesehen ist. Die Kühl- und Spüleinrichtung 113 ist derart
ausgebildet, daß die zu behandelnden Objekte, wie
beispielsweise die Halbleiterscheiben 3, unter Verwendung von
Spülwasser gespült und gekühlt werden können, unmittelbar bevor
in der Trocknungsvorrichtung 106 die Trocknungsbehandlung
beginnt.
Im einzelnen weist die Kühl- und Spüleinrichtung 113 eine auf
dem Fußboden oder dergleichen angebrachte Grundplatte 94, einen
auf der Grundplatte 94 befestigten Behandlungsbehälter 87,
einen an der Außenfläche einer Seitenwand des
Behandlungsbehälters 87 angebrachten Kühler 93, einen am
Bodenteil des Behandlungsbehälters 87 angebrachten Tisch 47 und
einen Deckel 95 zum frei beweglichen Abdecken einer nach oben
gerichteten Öffnung des Behandlungsbehälters 87 auf.
Im Behandlungsbehälter 87 ist Spülwasser 88 gespeichert. Der
Kühler 93 kühlt das Spülwasser 88 beispielsweise auf eine
Temperatur im Bereich von 4°C bis 23°C. Die in der Kassette 4
eingelegten Halbleiterscheiben 3 werden unmittelbar bevor der
Trocknungsprozeß in der Trocknungsvorrichtung 106 durchgeführt
wird, das heißt beim abschließenden Spülvorgang in das im
Behandlungsbehälter 87 gespeicherte Spülwasser 88 eingetaucht.
Folglich werden die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4 als
zu behandelnde Objekte gleichzeitig gespült und auf die
Temperatur des Spülwassers 88 abgekühlt.
Dann wird die Kassette 4 mit den eingelegten Halbleiterscheiben
3 durch einen Haltearm 48 aus dem Spülwasser 88 herausgezogen
und entlang eines Weges 96 horizontal über einen
Behandlungsbehälter 11 in der Trocknungsvorrichtung 106 bewegt
und durch die Öffnung 22 in den Behandlungsbehälter 11
eingelegt. Die Halbleiterscheiben 3 und die Kassette 4
durchlaufen als Objekte langsam das Innere eines mit IPA-Dampf
5 gefüllten Dampf-Füllbereiches 45 und werden dann in den im
Flüssigkeits-Speicherbereich 46 gespeicherten IPA 7 eingelegt.
Auch bei der Trocknungsvorrichtung 114 werden somit die Objekte
gekühlt, bevor sie im Dampf-Füllbereich 45 dem IPA-Dampf 5
ausgesetzt werden. In der gleichen Weise, wie bei den
Trocknungsvorrichtungen 110 bis 112, kann demzufolge in
sicherer Weise eine ausgezeichnete Trocknung durchgeführt
werden, wobei keine ungleichmäßige Trocknung auftritt.
Fig. 22 ist eine geschnittene Vorderansicht, welche den Aufbau
einer Trocknungsvorrichtung entsprechend einer elften
Ausführungsform zeigt. Eine Trocknungsvorrichtung 115
unterscheidet sich dadurch in charakteristischer Weise von der
Trocknungsvorrichtung 106 (Fig. 8), daß im oberen Teil des
Dampf-Füllbereiches 45 eine Nebelsprühdüse 97 vorgesehen ist,
um einen IPA-Nebel zu versprühen. Beispielsweise ist die
Nebelsprühdüse 97 in der Nähe der Innenwand des Dampf-
Füllbereiches 45 vorgesehen.
Die Nebelsprühdüse 97 ist in gleicher Weise wie die Düse 34
(Fig. 1) rohrförmig mit einem verschlossenen Ende ausgebildet
und beispielsweise horizontal angeordnet. Eine Vielzahl
winziger Bohrungen (nicht dargestellt), die den IPA als Nebel
zu versprühen vermögen, sind an einer Seitenwand der
Nebelsprühdüse 97 angebracht, so daß der IPA in Richtung der zu
behandelnden Objekte, welche die Öffnung 22 in Richtung des
Dampf-Füllbereiches 45 durchlaufen oder vom Dampf-Füllbereich
45 umschlossen sind oder in beiden Richtungen versprüht wird.
Das andere Ende der Nebelsprühdüse 97 ist beispielsweise über
ein Rohr (nicht dargestellt) an eine IPA-Einspeisung 38 (Fig.
3) angeschlossen und nach Zufuhr von IPA aus der IPA-
Einspeisung 38 versprüht sie einen Nebel 98.
Wie in Fig. 23 dargestellt, werden die Objekte, wie
beispielsweise die in eine Kassette 4 eingelegten
Halbleiterscheiben 3, wenn sie von oben durch die Öffnung 22
in den Behandlungsbehälter 11 eingelegt werden und von dort
durch den Dampf-Füllbereich 45 zum im Flüssigkeits-
Speicherbereich 46 gespeicherten IPA 7 gelangen, dem von der
Nebelsprühdüse 97 versprühten Nebel 98 ausgesetzt. Mit anderen
Worten: die Objekte werden entweder bevor sie dem IPA-Dampf 5
im Dampf-Füllbereich 45 ausgesetzt werden oder gleichzeitig
damit dem Nebel 98 ausgesetzt (oder sowohl vor als auch
gleichzeitig).
Die Objekte werden dem Nebel 98 ausgesetzt, so daß ihre
Oberflächen sehr schnell mit IPA benetzt werden. Folglich
werden die an den Oberflächen haftenden Wassertropfen sehr
wirksam in große IPA-Tröpfchen umgewandelt, welche von den
Oberflächen abfallen. Mit anderen Worten: eine große Anzahl an
den Oberflächen haftender Wassertropfen wird vorab entfernt,
bevor die zu behandelnden Objekte in den IPA 7 eingelegt
werden. Daher kann eine ausgezeichnet Trocknungsbehandlung
erfolgen, ohne daß eine ungleichmäßige Trocknung verursacht
wird.
Es kann auch ein Vorteil erreicht werden, wenn die dem Nebel 98
ausgesetzten Objekte dann zur Durchführung des
Trocknungsprozesses dem IPA-Dampf 5 ausgesetzt werden, ohne daß
diese in den IPA 7 eingelegt werden. Fig. 24 ist eine
geschnittene Vorderansicht, welche eine Trocknungsvorrichtung
mit einem solchen Aufbau zeigt. Ein Flüssigkeits-
Speicherbereich 9 bildet den unteren Teil eines
Behandlungsbehälters 99 einer Trocknungsvorrichtung 116 und
vermag IPA 7 zu speichern. Eine Pfanne 6, welche eine Kassette
4 zu halten vermag, ist am Bodenbereich des Flüssigkeits-
Speicherbereiches 9 befestigt. Ein Heizkörper 10 zum Erhitzen
des IPA 7 ist genau unter dem Flüssigkeits-Speicherbereich 9
vorgesehen.
Über dem Dampf-Füllbereich 8 ist ein Kühlbereich 91 vorgesehen.
Der obere Teil des Kühlbereiches 91 ist offen, so daß die zu
behandelnden Objekte eingelegt und herausgenommen werden
können. Vorzugsweise kann die Öffnung mit einem frei
beweglichen Deckel 15 abgedeckt werden. Im Inneren des
Kühlbereiche 91 ist entlang einer Innenwand eine Kühlschlange
92 befestigt. Bei der Trocknungsvorrichtung 116 wird ein
Kühlmittel, wie beispielsweise Kühlwasser, in die Kühlschlange
92 eingespeist, so daß der IPA-Dampf 5 in der gleichen Weise,
wie bei der Trocknungsvorrichtung 151 nach dem Stand der
Technik, daran gehindert wird, nach außen zu diffundieren. Bei
der Trocknungsvorrichtung 116 bilden die Kühlschlange 92 und
der Deckel 15 die Diffusionsverhinderungseinrichtung.
Eine Nebelsprühdüse 97 ist im oberen Teil des Dampf-
Füllbereiches 8 in der Nähe der Innenwand dieses Bereiches
angebracht. Die Nebelsprühdüse 97 sprüht nach Einleitung einer
Zufuhr von IPA aus einer IPA-Einspeisung 38 einen Nebel 98
beispielsweise in Richtung der Objekte, welche die Öffnung 22
in Richtung des Dampf-Füllbereiches 8 durchlaufen, in Richtung
derjenigen, die vom Dampf-Füllbereich 8 umschlossen sind oder
in beide Richtungen.
Die Objekte, wie beispielsweise die in die Kassette 4
eingelegten Halbleiterscheiben 3, werden folglich, wenn sie von
oben durch die Öffnung 22 in den Behandlungsbehälter 99
eingelegt werden und von dort in den Dampf-Füllbereich 8
gelangen, im Dampf-Füllbereich 8 gehalten oder dem von der
Nebelsprühdüse 97 versprühten Nebel 98 ausgesetzt. Mit anderen
Worten: die zu behandelnden Objekte werden dem Nebel 98
ausgesetzt, bevor sie dem IPA-Dampf 5 im Dampf-Füllbereich 8
ausgesetzt werden oder gleichzeitig mit diesem (oder sowohl vor
als auch gleichzeitig).
Als Ergebnis werden die Oberflächen der Objekte sehr schnell
mit IPA benetzt. Im einzelnen wird durch den Nebel 98 eine
große Menge IPA den Oberflächen der Objekte schneller
zugeführt, als durch die Kondensation des IPA-Dampfes 5 auf den
gleichen Oberflächen. Folglich kann ein ausgezeichneter
Trocknungsprozeß durchgeführt werden, ohne eine ungleichmäßige
Trocknung zu verursachen. Zusätzlich kann die Dauer des
Trocknungsprozesses abgekürzt und somit die Effizienz der
Bearbeitung erhöht werden. Ferner kann die Temperatur des vom
Heizkörper 10 erhitzten IPA 7 niedrig gehalten werden, so daß
die Sicherheit erhöht werden kann.
Fig. 25 ist eine Darstellung des Aufbaues einer
Trocknungsvorrichtung entsprechend einer zwölften
Ausführungsform. Eine Trocknungsvorrichtung 117 umfaßt die
Trocknungsvorrichtung 101 (Fig. 1), einen Behandlungsbehälter
87 (Fig. 18) zum Spülen unmittelbar neben der
Trocknungsvorrichtung 101 sowie eine Steuerung 120. Weiterhin
ist ein Sensor 130 zur Feststellung der Anwesenheit zu
behandelnder Objekte, wie beispielsweise Halbleiterscheiben 3,
im Behandlungsbehälter 87 befestigt, und die Steuerung 120
empfängt ein Feststellungssignal von dem Sensor 130 und steuert
den Heizkörper 10 auf Grund des Feststellungssignals.
Beispielsweise weist der Sensor 130 einen Emitter 121 zur
Ausgabe (d. h. zum Aussenden) eines Strahles 123, wie
beispielsweise eines Infrarotstrahles, sowie einen Empfänger
122 zum Empfang des Strahles 123 auf. Wenn die Objekte, wie
beispielsweise Halbleiterscheiben 3, in das im
Behandlungsbehälter 87 gespeicherte Spülwasser 88 eingelegt
werden, dann wird der Strahl 123 unterbrochen. Daher kann der
Empfänger die Anwesenheit der Objekte feststellen.
Wenn der Detektor 130 feststellt, daß Objekte eingelegt worden
sind, dann erhöht die Steuerung 120 die Leistung des
Heizkörpers 10 und hält die erhöhte Leistung beispielsweise
über einen bestimmten Zeitraum aufrecht. Aus diesem Grunde kann
beim Herausnehmen der Objekte aus dem Spülwasser 88 und deren
Einlegen in den Behandlungsbehälter 11 eine Absenkung von
Temperatur und Konzentration des IPA-Dampfes durch die Wärme
des in den Behandlungsbehälter 11 eingefüllten Dampfes
verhindert werden, wobei die Objekte diese Wärme aufnehmen. Mit
anderen Worten: die Leistung des Heizkörpers 10 wird in der
Weise von der Steuerung 120 gesteuert, daß die von den Objekten
dem IPA-Dampf entzogene Wärmemenge kompensiert wird.
Wenn die Temperatur und die Konzentration des IPA-Dampfes
vorübergehend abgesenkt werden, wird die Kondensation des IPA-
Dampfes auf den Objekten, welche unmittelbar nach dem Einlegen
der Objekte begann, unterbrochen oder eingeschränkt. Folglich
ist der Trocknungszustand der Objekte ungenügend. Wenn danach
Konzentration und Temperatur des IPA-Dampfes wieder erreicht
werden, beginnt die Kondensation von neuem. Wenn ein
Trocknungsprozeß auf diese Weise zeitweilig unterbrochen wird,
kann eine fehlerhafte Trocknung verursacht werden.
Bei der Trocknungsvorrichtung 117 kann eine Absenkung von
Temperatur und Konzentration des IPA-Dampfes verhindert werden.
Daher ist es möglich, eine fehlerhafte Trocknung infolge einer
zeitweiligen Unterbrechung des Trocknungsprozesses zu
verhindern. Mit anderen Worten: es kann eine ausgezeichnete
Trocknung ohne Ursachen für ungleichmäßige Trocknung
durchgeführt werden. Zusätzlich kann die zur Trocknung
erforderliche Zeit abgekürzt und damit die Effizienz der
Bearbeitung gesteigert werden.
Der Zeitpunkt, zu dem die Steuerung 120 die Leistungserhöhung
des Heizkörpers 10 einleitet, muß nicht notwendigerweise mit
dem Zeitpunkt zusammenfallen, an welchem der Detektor 130
feststellt, daß die Objekte in das Spülwasser 88 eingelegt
worden sind. Beispielsweise kann die Steuerung in der Weise
erfolgen, daß die Leistung des Heizkörpers 10 eine bestimmte
Zeit nach dem Ansprechen des Sensors 130 erhöht wird, so daß
diese der Zeit für das Herausnehmen der Objekte aus dem
Spülwasser 88 oder der Zeit für das Einlegen der Objekte in den
Behandlungsbehälter 11 entspricht. Im allgemeinen sollte die
Steuerung so erfolgen, daß die Wärmemenge, die durch das
Einlegen der Objekte in den Behandlungsbehälter 11 weggenommen
wird, kompensiert werden kann. Ein Zeitraum, über welchen die
Leistung des Heizkörpers 10 auf hohem Niveau gehalten werden
muß, kann also genau eingestellt werden, um diese Forderung zu
erfüllen.
Jede der oben beschriebenen ersten bis zwölften Ausführungsform
kann in geeigneter Weise kombiniert werden. Fig. 26 zeigt ein
Beispiel dafür. Im einzelnen hat eine Trocknungsvorrichtung
118, wie sie in Fig. 26 dargestellt ist, einen solchen Aufbau,
daß eine Innenwand eines Dampf-Füllbereiches 45 in der gleichen
Weise, wie bei der Trocknungsvorrichtung 101 (Fig. 1)
entsprechend der ersten Ausführungsform, mit einer Strömung 29
von IPA bedeckt wird. Zugleich hat die Trocknungsvorrichtung
118 einen solchen Aufbau, daß die Halbleiterscheiben 3 und die
Kassette 4, welche zu behandeln sind, in den IPA 7 eingetaucht
werden können, der in der gleichen Weise, wie bei der
Trocknungsvorrichtung 106 (Fig. 8) entsprechend der vierten
Ausführungsform, in einem Flüssigkeits-Speicherbereich 46
gespeichert ist.
Bei der Trocknungsvorrichtung 118 ist auch die Innenwand des
Dampf-Füllbereiches 45 mit einer Strömung 29 von IPA bedeckt.
Daher kann der IPA-Dampf 5 in der gleichen Weise, wie bei der
Trocknungsvorrichtung 101, daran gehindert werden, nutzlos an
der Innenwand des Dampf-Füllbereiches 45 zu kondensieren.
Folglich kann das Problem einer Absenkung der Konzentration des
IPA-Dampfes 5 gemildert werden. Daher kann eine fehlerhafte
Trocknung der Objekte besser verhindert werden, als bei der
Trocknungsvorrichtung 106.
Nachdem nun die Erfindung detailliert beschrieben wurde, muß
betont werden, daß diese Beschreibung in allen ihren Aspekten
beschreibend und nicht einschränkend ist. Es versteht sich, daß
zahlreiche Abwandlungen und Varianten abgeleitet werden können,
ohne den Schutzumfang der Erfindung zu verlassen.
3
Halbleiterscheibe
4
Kassette
5
IPA-Dampf
6
Pfanne
7
IPA (Isopropylalkohol)
8
Dampf-Füllbereich
9
Flüssigkeits-Speicherbereich
10
erster Heizkörper
11
Behandlungsbehälter
13
Ausströmeinrichtung
14
Absaugeinrichtung
15
Deckel
18
Stickstoffgas-Einspeisung
19
Rohr
20
Rohr
21
Strahl
22
Öffnung
23
Strömung
24
Betätigungseinrichtung
29
Strömung
31
Dampf-Füllbereich
32
Flüssigkeits-Speicherbereich
34
Düse
35
Bohrung
36
Flüssigkeits-Sammeleinrichtung
37
Rohr
38
IPA-Einspeisung
39
Rohr
40
Heizkörper
41
Pumpe
42
Heizkörper
45
Dampf-Füllbereich
46
Flüssigkeits-Speicherbereich
47
Tisch
48
Haltearm
51
Pumpe
52
Rohr
53
Wasser/IPA-Trenneinheit
54
Rohr
55
Rohr
57
IPA-Destillationseinheit
58
Destillationskessel
59
Flüssigkeits-Sammelbereich
60
Heizkörper
61
wasserhaltiger IPA
62
IPA-Dampf
63
kondensierter IPA
64
Rohr
65
Rohr
71
Kühler
72
Steuerung
73
Schaltventil
74
Rohr
75
Kühl-Stickstoffgas-Einspeisung
76
Rohr
80
Kühler
81
Steuerung
82
abwärts gerichtete Strömung
83
Behandlungsbehälter
84
Chemikalie
85
Behandlungsbehälter
86
Spülwasser
87
Behandlungsbehälter
88
Spülwasser
90
Behandlungsbehälter
91
Kühlbereich
92
Kühlschlange
93
Kühler
94
Grundplatte
95
Deckel
96
Weg
97
Nebelsprühdüse
98
Nebel
99
Behandlungsbehälter
100
Trocknungsvorrichtung
101
Trocknungsvorrichtung (1. Ausführungsform)
102
Trocknungsvorrichtung (1. Ausführungsform)
103
Trocknungsvorrichtung (2. Ausführungsform)
104
Trocknungsvorrichtung (3. Ausführungsform)
105
Trocknungsvorrichtung (3. Ausführungsform)
106
Trocknungsvorrichtung (4. Ausführungsform)
107
Trocknungsvorrichtung (5. Ausführungsform)
108
Trocknungsvorrichtung (6. Ausführungsform)
109
Trocknungsvorrichtung (7. Ausführungsform)
110
Trocknungsvorrichtung (8. Ausführungsform)
111
Trocknungsvorrichtung (8. Ausführungsform)
112
Trocknungsvorrichtung (9. Ausführungsform)
113
Kühl- und Spüleinrichtung
114
Trocknungsvorrichtung (10. Ausführungsform)
115
Trocknungsvorrichtung (11. Ausführungsform)
116
Trocknungsvorrichtung (11. Ausführungsform)
117
Trocknungsvorrichtung (12. Ausführungsform)
118
Trocknungsvorrichtung (Variante)
120
Steuerung
121
Emitter
122
Empfänger
123
Strahl
130
Sensor
151
Trocknungsvorrichtung
161
Haltearm
162
Kühlschlange
163
Halbleiterscheiben
164
Kassette
165
IPA-Dampf
166
Pfanne
167
IPA
168
Dampf-Füllbereich
169
Flüssigkeits-Speicherbereich
170
Heizkörper
171
Behandlungsbehälter
180
Abflußrohr
Claims (20)
1. Trocknungsvorrichtung (100 bis 105) zum Trocknen einer
Oberfläche eines zu behandelnden Objektes (3, 4) unter
Verwendung eines wasserlöslichen Lösungsmittels (7) umfassend:
einen Behandlungsbehälter (11), der an seiner Oberseite eine nach oben gerichtete Öffnung (22) begrenzt, durch welche das Objekt (3, 4) hineingebracht und herausgenommen werden kann und derart eingerichtet ist, daß er das Lösungsmittel (7) in einem Bodenbereich speichert und das Objekt (3, 4) über dem gespeicherten Lösungsmittel (7) umschließt;
einen Heizkörper (10), welcher das im Bodenbereich des Behandlungsbehälters (11) gespeicherte Lösungsmittel (7) zu erhitzen vermag;
eine Diffusionsverhinderungseinrichtung (13, 14, 15), um zu verhindern, daß Dampf (5), welcher durch Erhitzung des gespeicherten Lösungsmittels (7) erzeugt wird, aus dem Inneren des Behandlungsbehälters (11) durch die Öffnung (22) nach außen diffundiert;
eine Düse (34) zur Erzeugung einer Strömung (29) des Lösungsmittels (7), um eine Innenfläche einer Seitenwand des Behandlungsbehälters (11) entlang der Innenfläche, nach Einleitung einer Zufuhr des Lösungsmittels (7), zu bedecken; und
eine Flüssigkeits-Sammeleinrichtung (36) zum Sammeln des Lösungsmittels (7), welches entlang der Innenfläche geflossen ist und Ableiten des Lösungsmittels (7) aus dem Behandlungsbehälter (11) nach außen.
einen Behandlungsbehälter (11), der an seiner Oberseite eine nach oben gerichtete Öffnung (22) begrenzt, durch welche das Objekt (3, 4) hineingebracht und herausgenommen werden kann und derart eingerichtet ist, daß er das Lösungsmittel (7) in einem Bodenbereich speichert und das Objekt (3, 4) über dem gespeicherten Lösungsmittel (7) umschließt;
einen Heizkörper (10), welcher das im Bodenbereich des Behandlungsbehälters (11) gespeicherte Lösungsmittel (7) zu erhitzen vermag;
eine Diffusionsverhinderungseinrichtung (13, 14, 15), um zu verhindern, daß Dampf (5), welcher durch Erhitzung des gespeicherten Lösungsmittels (7) erzeugt wird, aus dem Inneren des Behandlungsbehälters (11) durch die Öffnung (22) nach außen diffundiert;
eine Düse (34) zur Erzeugung einer Strömung (29) des Lösungsmittels (7), um eine Innenfläche einer Seitenwand des Behandlungsbehälters (11) entlang der Innenfläche, nach Einleitung einer Zufuhr des Lösungsmittels (7), zu bedecken; und
eine Flüssigkeits-Sammeleinrichtung (36) zum Sammeln des Lösungsmittels (7), welches entlang der Innenfläche geflossen ist und Ableiten des Lösungsmittels (7) aus dem Behandlungsbehälter (11) nach außen.
2. Trocknungsvorrichtung (102) nach Anspruch 1, welche
weiterhin eine Kreislaufeinrichtung (37, 39, 41, 42) umfaßt, um
das von der Flüssigkeits-Sammeleinrichtung (36) gesammelte
Lösungsmittel (7) wieder zur Düse (34) zurückzuführen, wobei
das Lösungsmittel (7) zyklisch in die Düse (34) eingespeist
wird.
3. Trocknungsvorrichtung (103) nach Anspruch 1 oder 2, welche
weiterhin einen an der Außenfläche der Seitenwand des
Behandlungsbehälters (11) befestigten Heizkörper (40) umfaßt,
um die Strömung (29) des Lösungsmittels (7) zu erhitzen.
4. Trocknungsvorrichtung (104) nach Anspruch 2, bei welcher die
Kreislaufeinrichtung (37, 41) einen Heizkörper (42) zum
Erhitzen des durch die Flüssigkeits-Sammeleinrichtung
gesammelten Lösungsmittels (7) aufweist, bevor dieses zur Düse
(34) zurückgeführt wird.
5. Trocknungsvorrichtung (106) zum Trocknen der Oberfläche
eines zu behandelnden Objektes (3, 4) mittels eine
wasserlöslichen Lösungsmittels (7) umfassend:
einen Behandlungsbehälter (11, 90, 99), der an seiner Oberseite eine nach oben gerichtete Öffnung (22) begrenzt, durch welche das Objekt (3, 4) hineingebracht und herausgenommen werden kann, und derart eingerichtet ist, daß er das Lösungsmittel (7) in einem Bodenbereich (46) speichert, das Objekt (3, 4) in das gespeicherte Lösungsmittel (7) eintaucht und dasselbe über dem gespeicherten Lösungsmittel umschließt;
einen Heizkörper (10), welcher das im Bodenbereich (46) des Behandlungsbehälters (11) gespeicherte Lösungsmittel (7) zu erhitzen vermag und
eine Diffusionsverhinderungseinrichtung (13, 14, 15, 92, 93), um zu verhindern, daß Dampf (5), welcher durch Erhitzung des gespeicherten Lösungsmittels (7) erzeugt wird, aus dem Inneren des Behandlungsbehälters (11) durch die Öffnung (22) nach außen diffundiert.
einen Behandlungsbehälter (11, 90, 99), der an seiner Oberseite eine nach oben gerichtete Öffnung (22) begrenzt, durch welche das Objekt (3, 4) hineingebracht und herausgenommen werden kann, und derart eingerichtet ist, daß er das Lösungsmittel (7) in einem Bodenbereich (46) speichert, das Objekt (3, 4) in das gespeicherte Lösungsmittel (7) eintaucht und dasselbe über dem gespeicherten Lösungsmittel umschließt;
einen Heizkörper (10), welcher das im Bodenbereich (46) des Behandlungsbehälters (11) gespeicherte Lösungsmittel (7) zu erhitzen vermag und
eine Diffusionsverhinderungseinrichtung (13, 14, 15, 92, 93), um zu verhindern, daß Dampf (5), welcher durch Erhitzung des gespeicherten Lösungsmittels (7) erzeugt wird, aus dem Inneren des Behandlungsbehälters (11) durch die Öffnung (22) nach außen diffundiert.
6. Trocknungsvorrichtung (107 bis 109) nach Anspruch 5, welche
weiterhin eine Wiederaufbereitungseinrichtung (53, 57) zum
Sammeln des im Bodenteil des Behandlungsbehälters (11)
gesammelten Lösungsmittels (7), Entfernen des Wassers aus dem
gesammelten Lösungsmittel (61) und Rückführen desselben in den
Behandlungsbehälter (11) umfaßt, um dadurch das Lösungsmittel
(7) zyklisch wiederaufzubereiten.
7. Trocknungsvorrichtung (107, 109) nach Anspruch 6, bei
welcher die Wiederaufbereitungseinrichtung eine
Trenneinrichtung (53) zum Entfernen des Wassers aus dem
Lösungsmittel (7) mittels einer Trennmembran aufweist, um das
Wasser vom Lösungsmittel (7) zu trennen.
8. Trocknungsvorrichtung (108, 109) nach Anspruch 6, bei
welcher die Wiederaufbereitungseinrichtung eine
Destillationseinrichtung (57) zum Destillieren des gesammelten
Lösungsmittels (61) enthält, um das Wasser aus dem
Lösungsmittel (61) zu entfernen.
9. Trocknungsvorrichtung (110) nach einem der Ansprüche 5 bis
8, bei welcher die Diffusionsverhinderungseinrichtung eine
Ausströmeinrichtung (13) und eine Absaugeinrichtung (14)
enthält, die einander mit dazwischen liegender Öffnung (22)
gegenüberliegen, wobei
die Absaugeinrichtung (14) eine Absaugöffnung begrenzt, die der Ausströmeinrichtung (13) zugewandt ist,
die Ausströmeinrichtung (13) einen Strahl (21) eines Gases zu erzeugen vermag, der auf die Absaugöffnung gerichtet ist und die Öffnung (22), nach Einleitung einer Zufuhr des Gases, bedeckt,
die Absaugeinrichtung (14) das durch die Absaugöffnung gesaugte Gas nach außen abzuleiten vermag und
eine Seitenwand des Behandlungsbehälters (11) einen gekrümmten Bereich aufweist, welcher nach oben allmählich zur Öffnung (22) hin gekrümmt ist,
wobei die Trocknungsvorrichtung (110) weiterhin umfaßt:
ein an die Ausströmeinrichtung angeschlossenes Rohr (19);
eine an die Ausströmeinrichtung (13) über das Rohr (19) angeschlossene Einspeisungseinrichtung (18) für nicht reaktives Gas, um dieses Gas der Ausströmeinrichtung (13) durch das Rohr (19) zuzuführen und
eine zumindest an einem Teil des Rohres (19) vorgesehene Kühleinrichtung (71) zum Kühlen des durch das Rohr (19) strömenden nicht-reaktiven Gases.
die Absaugeinrichtung (14) eine Absaugöffnung begrenzt, die der Ausströmeinrichtung (13) zugewandt ist,
die Ausströmeinrichtung (13) einen Strahl (21) eines Gases zu erzeugen vermag, der auf die Absaugöffnung gerichtet ist und die Öffnung (22), nach Einleitung einer Zufuhr des Gases, bedeckt,
die Absaugeinrichtung (14) das durch die Absaugöffnung gesaugte Gas nach außen abzuleiten vermag und
eine Seitenwand des Behandlungsbehälters (11) einen gekrümmten Bereich aufweist, welcher nach oben allmählich zur Öffnung (22) hin gekrümmt ist,
wobei die Trocknungsvorrichtung (110) weiterhin umfaßt:
ein an die Ausströmeinrichtung angeschlossenes Rohr (19);
eine an die Ausströmeinrichtung (13) über das Rohr (19) angeschlossene Einspeisungseinrichtung (18) für nicht reaktives Gas, um dieses Gas der Ausströmeinrichtung (13) durch das Rohr (19) zuzuführen und
eine zumindest an einem Teil des Rohres (19) vorgesehene Kühleinrichtung (71) zum Kühlen des durch das Rohr (19) strömenden nicht-reaktiven Gases.
10. Trocknungsvorrichtung (111) nach einem der Ansprüche 5 bis
8, bei welcher die Diffusionsverhinderungseinrichtung eine
Ausströmeinrichtung (13) und eine Absaugeinrichtung (14)
enthält, die einander mit dazwischen liegender Öffnung (22)
gegenüberliegen, wobei
die Absaugeinrichtung (14) eine Absaugöffnung begrenzt, die zur Ausströmeinrichtung (13) hin offen ist,
die Ausströmeinrichtung (13) einen Strahl (21) eines Gases zu erzeugen vermag, der auf die Absaugöffnung gerichtet ist und die Öffnung (22), nach Einleitung der Zufuhr eines Gases, bedeckt,
die Absaugeinrichtung (14) das durch die Ansaugöffnung gesaugte Gas nach außen ableiten kann und
eine Seitenwand des Behandlungsbehälters (11) einen gekrümmten Bereich aufweist, welcher nach oben zur Öffnung (22) hin, allmählich gekrümmt ist,
wobei die Trocknungsvorrichtung (111) weiterhin umfaßt:
ein Schaltventil (73), dessen Ausgang an die Ausströmeinrichtung (13) angeschlossen ist und von dessen Eingängen einer gewählt werden kann, um eine Verbindung zu dem Ausgang herzustellen;
eine Normaltemperaturgas-Einspeisungseinrichtung (18) zum Einspeisen eines nicht-reaktiven Gases mit normaler Temperatur;
eine Kühlgas-Einspeisungseinrichtung (75) zum Einspeisen eines gekühlten nicht-reaktiven Gases und
eine Steuereinrichtung (72) zum Steuern des Schaltvorganges des Schaltventils (73), wobei
die Normaltemperaturgas-Einspeisungseinrichtung (18) an einen der Eingänge angeschlossen ist,
die Kühlgas-Einspeisungseinrichtung (75) an den anderen Eingang angeschlossen ist und
die Steuereinrichtung (72) das Schaltventil (73) derart steuert, daß der Strahl (21) nur dann auf das gekühlte nicht- reaktive Gas umgeschaltet wird, wenn das Objekt (3, 4) durch den von der Ausströmeinrichtung (13) erzeugten Strahl (21) hindurch in den Behandlungsbehälter (11) eingelegt wird.
die Absaugeinrichtung (14) eine Absaugöffnung begrenzt, die zur Ausströmeinrichtung (13) hin offen ist,
die Ausströmeinrichtung (13) einen Strahl (21) eines Gases zu erzeugen vermag, der auf die Absaugöffnung gerichtet ist und die Öffnung (22), nach Einleitung der Zufuhr eines Gases, bedeckt,
die Absaugeinrichtung (14) das durch die Ansaugöffnung gesaugte Gas nach außen ableiten kann und
eine Seitenwand des Behandlungsbehälters (11) einen gekrümmten Bereich aufweist, welcher nach oben zur Öffnung (22) hin, allmählich gekrümmt ist,
wobei die Trocknungsvorrichtung (111) weiterhin umfaßt:
ein Schaltventil (73), dessen Ausgang an die Ausströmeinrichtung (13) angeschlossen ist und von dessen Eingängen einer gewählt werden kann, um eine Verbindung zu dem Ausgang herzustellen;
eine Normaltemperaturgas-Einspeisungseinrichtung (18) zum Einspeisen eines nicht-reaktiven Gases mit normaler Temperatur;
eine Kühlgas-Einspeisungseinrichtung (75) zum Einspeisen eines gekühlten nicht-reaktiven Gases und
eine Steuereinrichtung (72) zum Steuern des Schaltvorganges des Schaltventils (73), wobei
die Normaltemperaturgas-Einspeisungseinrichtung (18) an einen der Eingänge angeschlossen ist,
die Kühlgas-Einspeisungseinrichtung (75) an den anderen Eingang angeschlossen ist und
die Steuereinrichtung (72) das Schaltventil (73) derart steuert, daß der Strahl (21) nur dann auf das gekühlte nicht- reaktive Gas umgeschaltet wird, wenn das Objekt (3, 4) durch den von der Ausströmeinrichtung (13) erzeugten Strahl (21) hindurch in den Behandlungsbehälter (11) eingelegt wird.
11. Trocknungsvorrichtung (106) nach einem der Ansprüche 5 bis
8, welche weiterhin eine Kühleinrichtung (80) umfaßt, um die
Luft über der Öffnung des Behandlungsbehälters (11) zu kühlen.
12. Trocknungsvorrichtung (112) nach einem der Ansprüche 5 bis
8, bei welcher die Diffusionsverhinderungseinrichtung
Kühleinrichtungen (92, 93) aufweist, die in einem Teil des
Behandlungsbehälters (90) nahe an der Öffnung (22) angebracht
sind, um die Innenseite des Behandlungsbehälters (90) in der
Nähe der Öffnung (22) derart zu kühlen, daß das Objekt (3, 4),
welches durch diese Öffnung in den Behandlungsbehälter (90)
eingelegt wird, gekühlt werden kann.
13. Trocknungsvorrichtung (114) nach einem der Ansprüche 5 bis
8, welche weiterhin eine angrenzend an den Behandlungsbehälter
(11) vorgesehene Kühl- und Spüleinrichtung (113) umfaßt,
wobei die Kühl- und Spüleinrichtung (113) aufweist:
einen Spülbehälter (87) mit einer nach oben gerichteten Öffnung, durch welche das Objekt (3, 4) eingelegt und herausgenommen werden kann, welcher derart eingerichtet ist, daß er Spülwasser (88) speichern und das Objekt (3, 4) in das Spülwasser (88) eingetaucht werden kann und
eine am Spülbehälter (87) befestigte Kühleinrichtung (93) zum Kühlen des Spülwassers (88).
wobei die Kühl- und Spüleinrichtung (113) aufweist:
einen Spülbehälter (87) mit einer nach oben gerichteten Öffnung, durch welche das Objekt (3, 4) eingelegt und herausgenommen werden kann, welcher derart eingerichtet ist, daß er Spülwasser (88) speichern und das Objekt (3, 4) in das Spülwasser (88) eingetaucht werden kann und
eine am Spülbehälter (87) befestigte Kühleinrichtung (93) zum Kühlen des Spülwassers (88).
14. Trocknungsvorrichtung (115, 116) nach Anspruch 5, welche
weiterhin umfaßt:
eine Düse (97), aus welcher das Lösungsmittel nach Einleitung einer Zufuhr desselben als Nebel (98) in den Behandlungsbehälter (11, 99) ausströmt.
eine Düse (97), aus welcher das Lösungsmittel nach Einleitung einer Zufuhr desselben als Nebel (98) in den Behandlungsbehälter (11, 99) ausströmt.
15. Trocknungsvorrichtung (117) nach Anspruch 5, welche
weiterhin umfaßt:
eine angrenzend an den Behandlungsbehälter (11) vorgesehene Kühl- und Spüleinrichtung (113) und
eine Steuereinrichtung (120) zum Steuern des Heizkörpers (10),
wobei die Kühl- und Spüleinrichtung (113) aufweist:
einen Spülbehälter (87) mit einer nach oben gerichteten Öffnung, durch welche das Objekt (3, 4) hineingebracht und herausgenommen werden kann, welcher derart eingerichtet ist, daß er Spülwasser (88) speichern und das Objekt (3, 4) in das Spülwasser (88) eingetaucht werden kann und
einen am Spülbehälter (87) befestigten Sensor (130), um festzustellen, ob sich das Objekt (3, 4) im Spülbehälter (87) befindet und um ein Feststellungssignal an die Steuereinrichtung (120) zu senden,
wobei die Steuereinrichtung (120) die Leistung des Heizkörpers (10) steuert, um als Reaktion auf das Feststellungssignal diejenige Wärmemenge zu kompensieren, die dem Dampf im Behandlungsbehälter (11) vom Objekt (3, 4), das vom Spülbehälter (87) in den Behandlungsbehälter (11) überführt wurde, entzogen wird.
eine angrenzend an den Behandlungsbehälter (11) vorgesehene Kühl- und Spüleinrichtung (113) und
eine Steuereinrichtung (120) zum Steuern des Heizkörpers (10),
wobei die Kühl- und Spüleinrichtung (113) aufweist:
einen Spülbehälter (87) mit einer nach oben gerichteten Öffnung, durch welche das Objekt (3, 4) hineingebracht und herausgenommen werden kann, welcher derart eingerichtet ist, daß er Spülwasser (88) speichern und das Objekt (3, 4) in das Spülwasser (88) eingetaucht werden kann und
einen am Spülbehälter (87) befestigten Sensor (130), um festzustellen, ob sich das Objekt (3, 4) im Spülbehälter (87) befindet und um ein Feststellungssignal an die Steuereinrichtung (120) zu senden,
wobei die Steuereinrichtung (120) die Leistung des Heizkörpers (10) steuert, um als Reaktion auf das Feststellungssignal diejenige Wärmemenge zu kompensieren, die dem Dampf im Behandlungsbehälter (11) vom Objekt (3, 4), das vom Spülbehälter (87) in den Behandlungsbehälter (11) überführt wurde, entzogen wird.
16. Trocknungsvorrichtung (118) nach einem der Ansprüche 5 bis
8 oder 11 bis 15, bei welcher die
Diffusionsverhinderungseinrichtung eine Ausströmeinrichtung
(13) und eine Absaugeinrichtung (14) aufweist, die einander mit
dazwischen liegender Öffnung (22) gegenüberliegen, wobei
die Absaugeinrichtung (14) eine Absaugöffnung begrenzt, die der Ausströmeinrichtung (13) zugewandt ist,
die Ausströmeinrichtung (13) einen Strahl (21) eines Gases zu erzeugen vermag, der auf die Absaugöffnung gerichtet ist und die Öffnung (22), nach Einleitung einer Zufuhr des Gases, bedeckt,
die Absaugeinrichtung (14) das durch die Absaugöffnung gesaugte Gas nach außen abzuleiten vermag und
eine Seitenwand des Behandlungsbehälters (11) einen gekrümmten Bereich aufweist, welcher nach oben allmählich zur Öffnung hin gekrümmt ist.
die Absaugeinrichtung (14) eine Absaugöffnung begrenzt, die der Ausströmeinrichtung (13) zugewandt ist,
die Ausströmeinrichtung (13) einen Strahl (21) eines Gases zu erzeugen vermag, der auf die Absaugöffnung gerichtet ist und die Öffnung (22), nach Einleitung einer Zufuhr des Gases, bedeckt,
die Absaugeinrichtung (14) das durch die Absaugöffnung gesaugte Gas nach außen abzuleiten vermag und
eine Seitenwand des Behandlungsbehälters (11) einen gekrümmten Bereich aufweist, welcher nach oben allmählich zur Öffnung hin gekrümmt ist.
17. Verfahren zum Trocknen einer Oberfläche eines zu
behandelnden Objektes (3, 4) unter Verwendung eines
wasserlöslichen Lösungsmittels (7) mit folgenden Schritten:
Bereitstellen eines Behandlungsbehälters (11, 90), der an seiner Oberseite eine nach oben gerichtete Öffnung (22) begrenzt, durch welche das Objekt (3, 4) hineingebracht und herausgenommen werden kann und welcher derart eingerichtet ist, daß er das Lösungsmittel (7) in einem Bodenteil speichert, das Objekt (3, 4) in das gespeicherte Lösungsmittel (7) eintaucht und dasselbe über dem gespeicherten Lösungsmittel (7) umschließt;
Speichern einer solchen Menge des Lösungsmittels im Bodenteil des Behandlungsbehälters (11, 90), um das Objekt (3, 4) darin einzutauchen;
Erhitzen des gespeicherten Lösungsmittels und Füllen des Behandlungsbehälters (11, 90) mit Dampf (5) des Lösungsmittels;
Hineinbringen des Objektes (3, 4) von außen durch die Öffnung (22) in den Behandlungsbehälter (11, 90);
Absenken des Objektes (3, 4) im Dampf (5) zum gespeicherten Lösungsmittel (7);
Eintauchen des Objektes (3, 4) in das gespeicherte Lösungsmittel (7), wodurch an der Oberfläche des Objektes (3, 4) haftendes Wasser entfernt wird;
Herausziehen des Objektes (3, 4) aus dem Lösungsmittel (7) und Behandeln desselben mit dem aufgefüllten Dampf (5), wodurch das auf der Oberfläche des Objektes (3, 4) verbliebene Lösungsmittel (7) entfernt wird, und
Entnehmen des Objektes (3, 4) aus dem Behandlungsbehälter (11) durch die Öffnung.
Bereitstellen eines Behandlungsbehälters (11, 90), der an seiner Oberseite eine nach oben gerichtete Öffnung (22) begrenzt, durch welche das Objekt (3, 4) hineingebracht und herausgenommen werden kann und welcher derart eingerichtet ist, daß er das Lösungsmittel (7) in einem Bodenteil speichert, das Objekt (3, 4) in das gespeicherte Lösungsmittel (7) eintaucht und dasselbe über dem gespeicherten Lösungsmittel (7) umschließt;
Speichern einer solchen Menge des Lösungsmittels im Bodenteil des Behandlungsbehälters (11, 90), um das Objekt (3, 4) darin einzutauchen;
Erhitzen des gespeicherten Lösungsmittels und Füllen des Behandlungsbehälters (11, 90) mit Dampf (5) des Lösungsmittels;
Hineinbringen des Objektes (3, 4) von außen durch die Öffnung (22) in den Behandlungsbehälter (11, 90);
Absenken des Objektes (3, 4) im Dampf (5) zum gespeicherten Lösungsmittel (7);
Eintauchen des Objektes (3, 4) in das gespeicherte Lösungsmittel (7), wodurch an der Oberfläche des Objektes (3, 4) haftendes Wasser entfernt wird;
Herausziehen des Objektes (3, 4) aus dem Lösungsmittel (7) und Behandeln desselben mit dem aufgefüllten Dampf (5), wodurch das auf der Oberfläche des Objektes (3, 4) verbliebene Lösungsmittel (7) entfernt wird, und
Entnehmen des Objektes (3, 4) aus dem Behandlungsbehälter (11) durch die Öffnung.
18. Trocknungsverfahren nach Anspruch 17, welches den weiteren
Schritt der Kühlung des Objektes vor dem Absenkungsschritt
umfaßt.
19. Trocknungsverfahren nach Anspruch 17, welches den weiteren
Schritt des Eintauchens des Objektes (3, 4) in gekühltes
Spülwasser (88) zur Durchführung der Spülung vor dem Schritt
des Hineinbringens umfaßt.
20. Trocknungsverfahren nach Anspruch 17, welches den weiteren
Schritt des Besprühens des Objektes (3, 4) mit einem Nebel (98)
des Lösungsmittels (7) vor dem Eintauchschritt umfaßt.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9132046A JPH10321585A (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | 乾燥装置および乾燥方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19800624A1 true DE19800624A1 (de) | 1998-11-26 |
Family
ID=15072260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19800624A Withdrawn DE19800624A1 (de) | 1997-05-22 | 1998-01-09 | Trocknungsvorrichtung und -verfahren |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6032382A (de) |
| JP (1) | JPH10321585A (de) |
| KR (1) | KR100361331B1 (de) |
| CN (1) | CN1200562A (de) |
| DE (1) | DE19800624A1 (de) |
| TW (1) | TW349245B (de) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6219936B1 (en) * | 1998-11-24 | 2001-04-24 | Toho Kasei Co., Ltd. | Wafer drying device and method |
| US6192600B1 (en) * | 1999-09-09 | 2001-02-27 | Semitool, Inc. | Thermocapillary dryer |
| US6722056B2 (en) * | 2001-03-15 | 2004-04-20 | Akrion, Llc | Drying vapor generation |
| US6649883B2 (en) | 2001-04-12 | 2003-11-18 | Memc Electronic Materials, Inc. | Method of calibrating a semiconductor wafer drying apparatus |
| JP4906198B2 (ja) * | 2001-06-06 | 2012-03-28 | エルエスアイ コーポレーション | イソプロピルアルコール蒸気乾燥装置及びシリコンウエハの乾燥方法 |
| DE10153225A1 (de) * | 2001-10-31 | 2003-05-08 | Semax Gmbh Prozesstechnik | Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen von flächigen Gegenständen, insbesondere von Scheiben aus Gallium oder Silizium od.dgl. Substraten |
| KR100904278B1 (ko) * | 2001-11-12 | 2009-06-25 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판처리장치 |
| DE10216786C5 (de) * | 2002-04-15 | 2009-10-15 | Ers Electronic Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Konditionierung von Halbleiterwafern und/oder Hybriden |
| KR100447285B1 (ko) * | 2002-09-05 | 2004-09-07 | 삼성전자주식회사 | 기판 건조 장치 |
| JP3560962B1 (ja) * | 2003-07-02 | 2004-09-02 | エス・イー・エス株式会社 | 基板処理法及び基板処理装置 |
| JP3592702B1 (ja) * | 2003-08-12 | 2004-11-24 | エス・イー・エス株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
| US7473032B2 (en) * | 2006-06-30 | 2009-01-06 | Honeywell International Inc. | System and method for enabling temperature measurement using a pyrometer and pyrometer target for use with same |
| JP4805862B2 (ja) | 2007-02-21 | 2011-11-02 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法、及び半導体装置の製造方法 |
| US20100031526A1 (en) * | 2007-04-20 | 2010-02-11 | Eco-Dry Systems Pty Ltd | Dryer |
| US8701308B2 (en) * | 2008-06-02 | 2014-04-22 | Tokyo Electron Limited | Fluid heater, manufacturing method thereof, substrate processing apparatus including fluid heater, and substrate processing method |
| US8596336B2 (en) * | 2008-06-03 | 2013-12-03 | Applied Materials, Inc. | Substrate support temperature control |
| US20120047764A1 (en) * | 2010-08-24 | 2012-03-01 | David Campion | System and method for drying substrates |
| AT509587B1 (de) * | 2010-10-11 | 2011-10-15 | Tms Transport Und Montagesysteme Gmbh | Verfahren und eine reinigungsanlage zum reinigen industriell gefertigter bauteile |
| JP6543481B2 (ja) * | 2015-02-23 | 2019-07-10 | 株式会社Screenホールディングス | 蒸気供給装置、蒸気乾燥装置、蒸気供給方法および蒸気乾燥方法 |
| US9829249B2 (en) * | 2015-03-10 | 2017-11-28 | Mei, Llc | Wafer dryer apparatus and method |
| JP2017213542A (ja) * | 2016-06-02 | 2017-12-07 | オリンパス株式会社 | 蒸気発生装置および蒸気洗浄装置 |
| JP6790690B2 (ja) * | 2016-10-04 | 2020-11-25 | 富士通株式会社 | 情報処理システム、及び情報処理システムの制御方法 |
| JP6920131B2 (ja) * | 2017-08-10 | 2021-08-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 減圧乾燥装置 |
| US10656525B2 (en) * | 2017-09-01 | 2020-05-19 | Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Photoresist baking apparatus |
| CN111755364B (zh) * | 2020-08-13 | 2023-04-07 | 抚州华成半导体科技有限公司 | 一种半导体二极管生产设备 |
| JP7619827B2 (ja) * | 2021-02-22 | 2025-01-22 | 株式会社Screen Spe テック | 基板処理装置および基板処理方法 |
| CN118629900B (zh) * | 2024-04-28 | 2024-12-20 | 无锡亚电智能装备有限公司 | 一种晶圆干燥设备 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6123324A (ja) * | 1984-07-11 | 1986-01-31 | Hitachi Ltd | 乾燥装置 |
| US4736758A (en) * | 1985-04-15 | 1988-04-12 | Wacom Co., Ltd. | Vapor drying apparatus |
| JPS61241927A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-10-28 | Hitachi Ltd | 蒸気乾燥装置 |
| US5183067A (en) * | 1988-07-08 | 1993-02-02 | Isc Chemicals Limited | Cleaning and drying of electronic assemblies |
| JPH0370134A (ja) * | 1989-08-09 | 1991-03-26 | Fujitsu Ltd | 溶剤蒸気乾燥装置および乾燥方法 |
| JPH0479223A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-03-12 | Fujitsu Ltd | 蒸気洗浄装置 |
| JP2902222B2 (ja) * | 1992-08-24 | 1999-06-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 乾燥処理装置 |
| JP3003016B2 (ja) * | 1992-12-25 | 2000-01-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置及び処理方法 |
| US5575079A (en) * | 1993-10-29 | 1996-11-19 | Tokyo Electron Limited | Substrate drying apparatus and substrate drying method |
| US5539995A (en) * | 1994-03-16 | 1996-07-30 | Verteq, Inc. | Continuous flow vapor dryer system |
| US5535525A (en) * | 1994-03-17 | 1996-07-16 | Vlsi Technology, Inc. | Vapor/liquid phase separator for an open tank IPA-dryer |
| JPH08189768A (ja) * | 1994-11-07 | 1996-07-23 | Ryoden Semiconductor Syst Eng Kk | 蒸気乾燥装置、それを組込んだ洗浄装置および蒸気乾燥方法 |
| TW301761B (de) * | 1994-11-29 | 1997-04-01 | Sharp Kk | |
| JPH08211592A (ja) * | 1995-02-07 | 1996-08-20 | Nikon Corp | 洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置 |
-
1997
- 1997-05-22 JP JP9132046A patent/JPH10321585A/ja active Pending
- 1997-11-11 TW TW086116871A patent/TW349245B/zh active
- 1997-11-12 US US08/969,201 patent/US6032382A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-11 KR KR1019970067850A patent/KR100361331B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-15 CN CN97125554A patent/CN1200562A/zh active Pending
-
1998
- 1998-01-09 DE DE19800624A patent/DE19800624A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6032382A (en) | 2000-03-07 |
| CN1200562A (zh) | 1998-12-02 |
| KR19980086453A (ko) | 1998-12-05 |
| TW349245B (en) | 1999-01-01 |
| JPH10321585A (ja) | 1998-12-04 |
| KR100361331B1 (ko) | 2003-02-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE19800624A1 (de) | Trocknungsvorrichtung und -verfahren | |
| DE69122740T2 (de) | Reinigungsverfahren | |
| DE3018512A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zum erhitzen von gegenstaenden, insbesondere zum loeten | |
| DE19754897A1 (de) | Trocknungsvorrichtung und Verfahren zur Behandlung der Oberfläche eines Substrates | |
| DE10118751A1 (de) | Verfahren und Gerät zum Trocknen eines Wafers unter Verwendung von Isopropylalkohol | |
| DE10234710B4 (de) | System zum Trocknen von Halbleitersubstraten | |
| DE69118508T2 (de) | Emissionsfreie Reinigung von Gegenständen mit flüchigen Lösungsmitteln | |
| EP0134457A1 (de) | Dampfkraftanlage | |
| DE2025635A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Entfernung von Wasser vdn festen Oberflächen bei niedrigen Temperaturen | |
| DE2740498C3 (de) | Verfahren zum Trocknen von festem Gut durch Kontakt mit dem Überhitzten Dampf einer mit Wasser nicht mischbaren Fluorkohlenwasserstoffverbindung | |
| DE19637313C2 (de) | Vorrichtung zum Aufheizen von Teilen | |
| EP0630992B1 (de) | Verfahren zum Reinigen von metallischen Werkstücken | |
| DE10332865A1 (de) | Vorrichtung zum Trocknen von Halbleitersubstraten unter Verwendung des Azeotrop-Effekts und ein Trocknungsverfahren, das diese Vorrichtung verwendet | |
| DE3600778A1 (de) | Verfahren zum auffuellen und/oder aufbereiten von behandlungsfluessigkeiten | |
| EP0548386A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen der aus der Wäschetrommel eines Wäschetrockners abgeführten Luft | |
| DE69705715T2 (de) | Trocknung von atomisierten metallpulvern | |
| DE2420039A1 (de) | Waschanlage | |
| EP3165859A1 (de) | Vakuumkühlvorrichtung und verfahren zur vakuumkühlung von lebensmitteln | |
| EP2525178B1 (de) | Verfahren zur Trocknung eines Feststoffisolationen enthaltenden Aktivteils eines mit Imprägnieröl füllbaren, elektrischen Gerätes und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens | |
| DE3714312A1 (de) | Verfahren und einrichtung zum reinigen von elektrischen geraeten mit einem isolieroel in einem behaelter | |
| EP0608700A1 (de) | Verfahren zur Wiedergewinnung einer in einem Spülbad gelösten Flüssigkeit | |
| DE69733686T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur trocknung und reinigung von gegenständen mittels aerosolen | |
| DE3540291C2 (de) | Verfahren zum Entfernen von Polychlorbiphenylen von elektrischen Vorrichtungen | |
| EP3029403B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen der Feststoffisolation des Aktivteils eines elektrischen Gerätes nach der Vapour-Phase Methode | |
| EP1528342A2 (de) | Verfahren zur Trocknung von Gut und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |