DE19722404A1

DE19722404A1 - Projektionssystem mit Fluoreszenzschirm

Info

Publication number: DE19722404A1
Application number: DE19722404A
Authority: DE
Inventors: Young-Rag Do
Original assignee: Samsung Display Devices Co Ltd
Current assignee: Samsung SDI Co Ltd
Priority date: 1996-12-12
Filing date: 1997-05-28
Publication date: 1998-06-18
Also published as: JPH10172459A; KR19980046311A; BR9703931A; MX9705794A; CN1185081A

Description

Gebiet der Erfindung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Projektionssystem.

Hintergrund der Erfindung

Im allgemeinen ist ein Projektionssystem eine Vorrichtung, die ein Bild auf einem Schirm zeigt. Eine Art von Projektionssystemen verwendet einen ferroelektrischen Flüssigkristallanzeigen-Shutter ("ferroelectric liquid crystal display (FLCD) shutter"), der einen Direktzugriffspeicher ("random access memory (RAM)") verwendet, und eine andere Art verwendet rote (R), grüne (G) und blaue (B) Kathodenstrahlröhren ("CRTs"), die Licht durch eine optische Einheit projizieren, um Bilder zu zeigen. Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere letzteres.

Unter Bezugnahme auf die Fig. 2, umfaßt ein herkömmliches CRT-Projektionssystem rote (R), grüne (G) und blaue (B) Kathodenstrahlröhren 2, eine optische Einheit 4 zur Vergrößerung und Projektion des von den Kathodenstrahlröhren 2 emittierten Lichtes in vorbestimmten Verhältnissen und einen Schirm 6, auf den das Licht, das durch die optische Einheit 4 hindurchtritt, übertragen und gezeigt wird.

Da das Bild auf dem Schirm ein reflektiertes Bild ist, sind bei herkömmlichen CRT-Projektionssystemen, die den gleichen Aufbau wie das oben erwähnte System aufweisen, die Winkel, unter denen ein Bild betrachtet werden kann, eingeschränkt, und bei einigen Winkeln ist das Bild verzerrt oder in nicht ausreichendem Maße hell.

Darüber hinaus erfahren die Schärfe und Helligkeit des Bildes bei den herkömmlichen Projektionssystemen eine Verschlechterung, wodurch der Sichtbereich eingeschränkt wird, da das Bildlicht auf den Schirm in einem Zustand übertragen wird, in dem die Farbe des Bildes bereits durch die Farb-CRTs geschaffen und dann durch die optische Einheit reflektiert worden ist.

Zuletzt ist der herkömmliche Projektor kompliziert, groß und schwer, da drei getrennte Kathodenstrahlröhren darin verwendet werden.

ZUSAMMENFASSUNG

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht in der Lösung der obigen Probleme.

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Projektionssystem zur Verfügung zu stellen, das einen Fluoreszenzschirm benutzt, auf dem eine Fluoreszenzschicht abgeschieden ist, die durch Licht einer vorbestimmten Wellenlänge angeregt wird, wodurch die Schirmqualität, die Helligkeit und der Sichtbereich des Benutzers derart verbessert werden, daß das Projektionssystem selbst in Projektoren geringer Größe verwendet werden kann.

Um die obige Aufgabe zu lösen stellt die vorliegende Erfindung ein Projektionssystem zur Verfügung. Das Projektionssystem umfaßt eine Kathodenstrahlröhre zur Erzeugung eines Bildes und zur Emission von Licht mit vorbestimmten Wellenlängen; eine optische Einheit zur Vergrößerung und zur Projektion des von der Kathoden-Strahlröhre emittierten Lichtes in vorbestimmten Verhältnissen; und einen Fluoreszenzschirm, auf dem eine Leuchtpunktschicht von roten, grünen und blauen Leuchtpunkten abgeschieden ist, die durch das Licht, das durch die optische Einheit mit einer vorbestimmten Wellenlänge hindurchtritt, beleuchtet werden.

Die Kathodenstrahlröhre emittiert ultraviolette Strahlen mit Wellenlängen im Bereich von 200 bis 420 nm. Die Kathodenstrahlröhre ist ebenfalls mit einem Filter bestückt, das nur den Durchtritt von Licht mit einer gewünschten Wellenlänge erlaubt, und sie verfügt über eine ultraviolette Strahlen emittierende Leuchtpunktschicht, die unter Verwendung eines Sedimentationsverfahrens auf ihr abgeschieden ist.

Die Leuchtpunktschicht der Kathodenstrahlröhren ist aus der Gruppe gewählt, die aus folgendem besteht: Y₂SiO₅ : Ce (400 nm), Y₂Si₂O₇ : Ce (385 nm), HfO₂ : Ti (400 nm), Zn₂SiO₂ : Ti (400 nm, ZnGa₂O₄ : (Li,Ti) (380 nm), SrMgP₂O₇ : Eu (394 nm), Ca₂MgSi₂O : Pb (349 nm), Sr₂MgSi₂O₇ : Pb (326 nm), Ba₂MgSi₂O₇ : Pb (376 nm, 322 nm) Ca₂ZnSi₂O₇ : Pb (347 nm), Sr₂ZnS;O₇ : Pb (326 nm), Ba₂ZnSi₂O₇ : Pb (328 nm), BaSi₂O₅ : Pb (349 nm), CaSiO₃ : Pb (α-379 nm, β-337 nm), Ca₂SiO₄ : Pb (β-325 nm), SrSiO₄ : Pb (320 nm), Ba₂SiO₄ : Pb (268 nm), BaSi₂O₇ : Pb, Ca₂P₂O : Sn (β-369 nm), Sr₃P₂O₈ : Sn (α-394 nm, 345 nm), YPO₄ : Ce (330 nm, 365 nm), GdPO₄ : Ce (320 nm, 344 nm), LaPO₄ : Ce (317 nm, 339 nm), LaBO₃ : Ce (317 nm, 352 nm, 376 nm), ScBO₃ : Ce (328 nm, 373 nm), YAl₂B₄O₁₂ : Ce (344 nm, 368 nm), Ca₂MgSi₂O₇ : Ce (370 nm, 400 nm), Sc₂Si₂O₇ : Ce (337 nm, 405 nm) und SrAl₁₂O₁₉ : Eu (395 nm), Y₂O₃ : Gd (315 nm), CaS : Eu (375 nm), CuO : Eu (375 nm).

Auf dem Fluoreszenzschirm sind rote, grüne und blaue Leuchtpunkte abgeschieden, die durch Licht im Bereich von 200 bis 420 nm angeregt werden. Der rote Leuchtpunkt R im Fluoreszenzschirm ist aus der Gruppe gewählt, die aus folgendem besteht: Y₂O₂S : Eu³⁺, La₂O₂S : Eu³⁺, Y₂O₃ : Eu³⁺, 3.5 MgO × 0.5 MgF₂ × GeO₂ : Mn⁴⁺, YVO₄ : Eu³⁺, SrY₂S₄ : Eu³⁺, K₅Eu(WO₄)₄; der grüne Leuchtpunkt G in dem Fluoreszenzschirm ist aus der Gruppe gewählt, die aus folgendem besteht: SrAl₂O₄ : Eu²⁺, SrGa₂S₄ : Eu²⁺, Y₃Al₅O₁₂ : Ce³⁺, ZnS : Cu, ZnS : (Cu, Al), ZnS : (Cu, Al, Au), Zn₂GeO₄: Mn²⁺, (Ca, Mg, Sr) 3MgSi₂O₈ : Eu²⁺, (Ca, Mg, Sr) SiO₄ : Eu²⁺, La₂O₂S : Tb³⁺, und Y₂O₂S : Tb³⁺; und der blaue Leuchtpunkt B in dem Fluoreszenzschirm ist aus der Gruppe gewählt, die aus folgendem besteht: Sr₁₀(PO₄)₆C₁₂ : Eu²⁺, (Sr_0.9Ca_0.1)₁₀ (PO₄)₆Cl₂ : Eu²⁺, BaMg₂Al₁₆O₂₇: Eu²⁺, Sr₃MgSi₂O₈ : Eu²⁺, Ba₃MgSi₂O₈ : Eu²⁺, ZnS : (Ag,Cl), ZnS : (Ag, Al), und ZnS : (Ag, Ga).

Des weiteren wird eine Maske aus Materialien zur Verfügung gestellt, die gegenüber ultravioletten Strahlen beständig sind und die sichtbare Strahlen absorbieren, um Farbvermischungen zu vermeiden, wobei die Maske gemäß einem festgelegten Muster mit Löchern für den Lichtdurchtritt ausgebildet ist, und wobei die Maske zwischen dem Fluoreszenzschirm und der optischen Einheit angebracht ist.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Weitere Aufgaben und weitere Vorteile der vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden Beschreibung im Zusammenhang mit den beigefügten Zeichnungen deutlich, in denen

Fig. 1 eine schematische Übersicht ist, die ein Projektionssystem gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht; und

Fig. 2 eine schematische Übersicht ist, die ein herkömmliches Projektionssystem veranschaulicht.

Eingehende Beschreibung der bevorzugten Ausführungsform

Es wird nun eingehend auf eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung Bezug genommen, wobei ein dementsprechendes Beispiel in den beigefügten Zeichnungen veranschaulicht ist.

Unter Bezugnahme auf Fig. 1 wird eine perspektivische Ansicht gezeigt, die schematisch ein Projektionssystem gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht. Wie in der Zeichnung gezeigt, umfaßt das erfindungsgemäße Projektionssystem eine Kathodenstrahlröhre 12 zur Erzeugung eines Bildes und zur Emission von Licht bei festgelegten Wellenlängen, eine optische Einheit 14 zur Vergrößerung und Projektion des von der Kathodenstrahlröhre 12 emittierten Lichtes in vorbestimmten Verhältnissen und einen Fluoreszenzschirm 16, auf dem rote, grüne und blaue Leuchtpunkte abgeschieden sind, die von dem Licht, das durch die optische Einheit 14 hindurchtritt, angeregt werden.

Die Kathodenstrahlröhre 12 emittiert vorzugsweise Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 200 bis 420 nm. Die Kathoden- Strahlröhre 12 emittiert nämlich Licht d. h. ultraviolette Strahlen) mit einer Wellenlänge, die die Anregung der Leuchtpunktschicht ermöglicht, die auf dem Fluoreszenzschirm 16 abgeschieden ist. Es ist ebenfalls ein Filter 13 oder ein Farbglas an der Kathodenstrahlröhre 12 angebracht, um den alleinigen Durchtritt von Licht zu erlauben, das eine gewünschte Wellenlänge aufweist.

Wenn Farbglas verwendet wird, kann das sichtbare Licht ausgeblendet werden, indem Cobalt (Co), Nickel (Ni) und Eisen (Fe) zu Bleiglas zugesetzt wird. Es ist ebenfalls zu bevorzugen, ein Bandpassfilter oder ein Cutoff-Filter zu verwenden, die das sichtbare Licht und die kurzwelligen ultravioletten Strahlen ausblenden, wenn ein Filter verwendet wird.

Der Aufbau der Kathodenstrahlröhre 12 ist mit demjenigen der herkömmlichen Kathodenstrahlröhre 2, die in Fig. 2 gezeigt ist, identisch, ausgenommen, daß anstelle der Aufbringung einer Leuchtpunktschicht von roten (R), grünen (G) und blauen (B) Leuchtpunkten, die Abscheidung einer Leuchtpunktschicht 11, die ultraviolette Strahlen emittiert, erfolgt, indem man ein Sedimentationsverfahren anwendet, wobei ein Bild durch Abtastung mit einem Elektronenstrahl aus einer Elektronenkanone erzeugt wird.

Die obige Leuchtpunktschicht, die die Emission ultravioletter Strahlen von der Kathodenstrahlröhre 12 erlaubt, kann vorzugsweise aus der Gruppe gewählt werden, die aus folgendem besteht: Y₂SiO₅ : Ce (400 nm), Y₂Si₂O₇ : Ce (385 nm), HfO₂: Ti (400 nm), Zn₂SiO₂ : Ti(400 nm), ZnGa₂O₄ : (Li,Ti) (380 nm), SrMgP₂O₇ : Eu (394 nm), Ca₂MgSi₂O₇ : Pb (349 nm), Sr₂MgSi₂O₇ : Pb (326 nm), Ba₂MgSi₂O₇ : Pb (376 nm, 322 nm), Ca₂ZnSi₂O₇ : Pb (347 nm), Sr₂ZnSi₂O₇ : Pb (326 nm) Ba₂ZnSi₂O₇ : Pb (328 nm) BaSi₂O₅ : Pb (349 nm), CaSiO₃ : Pb (α-379 nm, β-337 nm), Ca₂SiO₄ : Pb (β-325 nm), SrSiO₄ : Pb (320 nm), Ba₂SiO₄ : Pb (268 nm), BaSi₂O₇ : Pb, Ca₂P₂O₇: Sn (β-369 nm), Sr₃P₂O₈ : Sn (α-394 nm, 345 nm), YPO₄ : Ce (330 nm, 365 nm), GdPO₄ : Ce (320 nm, 344 nm), LaPO₄ : Ce (317 nm, 339 nm), LaBO₃ : Ce (317 nm, 352 nm, 376 nm), ScBO₃ : Ce (328 nm, 373 nm), YAl₂B₄O₁₂ : Ce (344 nm, 368 nm) Ca₂MgSi₂O₇ : Ce (370 nm, 400 nm), Sc₂Si₂O₇ : Ce (337 nm, 405 nm) und SrAl₁₂Q₁₉ : Eu (395 nm).

Die optische Einheit 14, die bei der vorliegenden Erfindung Verwendung findet, ähnelt der weitverbreiteten Linseneinheit. Die optische Einheit 14 ist zur Verwendung mit ultravioletten Strahlen geeignet, und ihre Größe ist der Größe eines Schirms und der Kathodenstrahlröhre 12 angepaßt.

Vorzugsweise ist die optische Einheit 14 derart ausgelegt, daß sie das Licht eines Bildes steuert, das durch die Emission der Kathodenstrahlröhre 12 erzeugt wird, damit es auf jeden Pixel des Fluoreszenzschirms 16 fokussiert wird.

Der Fluoreszenzschirm 16 wird unter Verwendung eines Photolithographieverfahrens, eines Aufschlämmungsrotationsbe schichtungsverfahrens oder eines typographischen Verfahrens ausgebildet, wobei alle zur Ausbildung einer Leuchtpunktschicht bei herkömmlichen Kathodenstrahlröhren oder Plasmaanzeigen (PDPs) verwendet werden.

Die Glasplatte wird nämlich zuerst eingehend gereinigt, dann wird ein photosensitives Harz, das aus einer Acrylemulsion, reinem Wasser und einem Polymer aus Polyalkohol, Natriumdichromat und Propylenoxid besteht, auf einer Innenseite der Glasplatte abgeschieden, und ein Muster aus photosensitivem Harz wird ausgebildet, indem das photosensitive Harz getrocknet und entwickelt wird. Das photosensitive Harz wird entfernt, Außenlicht wird ausgeschlossen, und eine schwarze Matrixschicht zur Verhinderung der Farbvermischung wird in einem festgelegten Muster ausgebildet, wobei alle drei oben genannten Schritte durchgeführt werden, indem ein Graphit auf dem photosensitiven Harz abgeschieden wird, das wie oben ausgebildet wurde, und indem mit Wasserstoffperoxid geätzt wird. Anschließend wird eine erste Leuchtpunktaufschlämmung, die die ersten Leuchtpunktpartikel, reines Wasser und Polyvinylalkohol umfaßt, auf der schwarzen Matrixschicht abgeschieden, und die ersten Leuchtpunkte werden mittels der Verfahrensschritte des Trocknens, des Aussetzens, des Entwickelns und des Reinigens und des Trocknens ausgebildet. Dann werden nach demselben Verfahren zweite und dritte Leuchtpunkte ausgebildet, um den Fluoreszenzschirm 16 herzustellen.

Die wirkungsvollsten Leuchtpunkte für rot (R), grün (G), und blau (B) werden gemäß der Spektraldispersion in Abhängigkeit von der Schirmgröße und der Lichtart ausgewählt.

Der rote Leuchtpunkt R mit einer Wellenlänge innerhalb des Bereichs von 200 bis 420 nm kann aus der Gruppe gewählt werden, die aus folgendem besteht: Y₂O₂5 : Eu³⁺, La₂O₂S : Eu³⁺, Y₂O₃ : Eu³⁺, 3.5 MgO × 0.5 MgF₂ × GeO₂ : Mn⁴⁺, YVO₄ : Eu³⁺, SrY₂S₄ : Eu³⁺, und K₅Eu (WO₄)₄.

Der grüne Leuchtpunkt G mit einer Wellenlänge innerhalb des Bereichs von 200 bis 420 nm kann aus der Gruppe gewählt werden, die aus folgendem besteht: SrAl₂O₄ : Eu²⁺, SrGa₂S₄ : Eu²⁺, Y₃Al₅O₁₂: Ce³⁺, ZnS : Cu, ZnS : (Cu, Al), ZnS : (Cu, Al, Au), Zn₂GeO₄ : Mn²⁺, (Ca, Mg, Sr) 3MgSi₂O₈ : Eu²⁺, (Ca, Mg, Sr) SiO₄ : Eu²⁺, La₂O₂S : Tb³⁺, und Y₂O₂S : Tb³⁺; und
der blaue Leuchtpunkt B mit einer Wellenlänge im Bereich von 200 bis 420 nm kann aus der Gruppe gewählt werden, die aus folgendem besteht: Sr₁₀(PO₄)₆Cl₂ : Eu²⁺, (Sr_0.9Ca_0.1)₁₀(PO₄)₆Cl₂ : Eu²⁺, BaMg₂Al₁₆O₂₇ : Eu²⁺, Sr₃MgSi₂O₈ : Eu²⁺, Ba₃MgSi₂O₈ : Eu²⁺, ZnS: (Ag, Cl), ZnS : (Ag, Al), und ZnS : (Ag, Ga).

Das Projektionssystem ist eine aktiv luminöse Anzeigevorrichtung, die Bilder zeigt, indem jeder Leuchtpixel, der auf dem Fluoreszenzschirm 16 abgeschieden ist, mit Licht einer vorbestimmten Wellenlänge (beispielsweise ultravioletten Strahlen) angeregt wird, das aus der Kathodenstrahlröhre 12 emittiert wird, und das in der optischen Einheit 14 verstärkt wird.

So landet durch Einstellung der optischen Einheit 14 das zu einer Reflexionsplatte (nicht gezeigt) gesandte Bild genau auf den Leuchtpixeln des Fluoreszenzschirms 16, um ein vorbestimmtes Bild zu erzeugen.

Um die Farbvermischung zu vermeiden, wird bevorzugt, einen Auslegungsparameter der optischen Einheit 14 derart einzustellen, daß nur 90-95% der Größe jedes Leuchtpixels auf dem Fluoreszenzschirm angeregt werden kann.

Um die Farbvermischung zu vermeiden, ist es ebenfalls möglich, eine Maske 15 zwischen dem Fluoreszenzschirm 16 und der optischen Einheit 14 anzubringen. Die Maske besteht vorzugsweise aus Materialien, die gegenüber ultravioletten Strahlen beständig sind, und die sichtbare Strahlen (z. B. eine Stahl- oder Metallplatte oder ein farbiges Kunstharzmaterial) absorbieren, und sie ist gemäß einem festgelegten Muster ausgebildet, das Löcher 151 für den Lichtdurchtritt aufweist.

Bei dem erfindungsgemäßen Projektionssystem, das wie oben erwähnt aufgebaut ist, erfahren das Sichtfeld, das Bild und die Helligkeit der Reflexionsanzeige eine Verbesserung.

Da die optische Einheit und die Kathodenstrahlröhre ebenfalls durch die Verwendung eines Fluoreszenzschirmes vereinfacht sind, tritt eine Verminderung der Größe und des Gewichtes des Projektors ein, so daß die vorliegende Erfindung bei tragbaren Computern und anderen derartigen Vorrichtungen verwendet werden kann, die kleine Anzeigen verwenden, und die Produktivität wird verbessert.

Weitere Ausführungsformen der Erfindung sind für den Fachmann aus der Betrachtung der Beschreibung und aus der Durchführung der hier offenbarten Erfindung ersichtlich. Es ist beabsichtigt, die Beschreibung und die Beispiele lediglich beispielhaft darzustellen, wobei der wahre Schutzumfang und der Erfindungsgedanke in den beigefügten Ansprüchen enthalten sind.

Claims

1. Projektionssystem, das folgendes umfaßt:
eine Kathodenstrahlröhre zur Ausbildung eines Bildes und zur Emission von Licht;
eine optische Einheit zur Vergrößerung und Projektion des Lichtes, das aus der Kathoden-Strahlröhre emittiert wird, in vorbestimmten Verhältnissen; und
einen Schirm zum Anzeigen des Bildes,
wobei die Kathodenstrahlröhre derart ausgelegt ist, daß sie Licht mit einer vorbestimmten Wellenlänge emittiert, wobei auf dem Schirm Leuchtpunkte abgeschieden sind, die durch das Licht, das von der Kathoden-Strahlröhre durch die optische Einheit emittiert wird, bei einer vorbestimmten Wellenlänge angeregt werden.

2. Projektionssystem nach Anspruch 1, wobei die Kathodenstrahlröhre ultraviolette Strahlen mit Wellenlängen im Bereich von 200-420 nm emittiert.

3. Projektionssystem nach Anspruch 1, wobei die Kathodenstrahlröhre ein Filter umfaßt, um den alleinigen Durchtritt des Lichtes mit der vorbestimmten Wellenlänge zu erlauben.

4. Projektionssystem nach Anspruch 1, wobei die Kathodenstrahlröhre mit einer Leuchtpunktschicht ausgerüstet ist, die ultraviolette Strahlen emittiert, und die unter Anwendung eines Sedimentationsverfahren darauf abgeschieden ist.

5. Projektionssystem nach Anspruch 4, wobei die Leuchtpunktschicht der Kathodenstrahlröhren aus der Gruppe gewählt ist, die aus folgendem besteht: Y₂SiO₅ : Ce (400 nm), Y₂Si₂O₇ : Ce (385 nm), HfO₂ : Ti (400 nm), Zn₂SiO₂ : Ti (400 nm), ZnGa₂O₄ : (Li,Ti) (380 nm), SrMgP₂O₇ : Eu (394 nm), Ca₂MgSi₂O₇ : Pb (349 nm), Sr₂MgSi₂O₇ : Pb (326 nm), Ba₂MgSi₂O₇ : Pb (376 nm, 322 nm) Ca₂ZnSi₂O₇ : Pb (347 nm), Sr₂ZnSi₂O₇ : Pb (326 nm), Ba₂ZnSi₂O₇ : Pb (328 nm), BaSi₂O₅ : Pb (349 nm), CaSiO₃ : Pb (α-379 nm, β-337 nm) Ca₂SiO₄ : Pb (β-325 nm), SrSiO₄ : Pb (320 nm), Ba₂SiO₄ : Pb (268 nm) BaSi₂O₇ : Pb, Ca₂P₂O₇ : Sn (β-369 nm), Sr₃P₂O₈ : Sn (α-394 nm, 345 nm) YPO₄ : Ce (330 nm, 365 nm), GdPO₄ : Ce (320 nm, 344 nm), LaPO₄ : Ce (317 nm, 339 nm), LaBO₃ : Ce (317 nm, 352 nm, 376 nm), ScBO₃ : Ce (328 nm, 373 nm), YAl₂B₄O₁₂ : Ce (344 nm, 368 nm), Ca₂MgSi₂O₇ : Ce (370 nm, 400 nm), Sc₂Si₂O₇ : Ce (337 nm, 405 nm) und SrAl₁₂O₁₉ : Eu (395 nm); Y₂O₃ : Gd (315 nm), CaS : Eu (375 nm), CuO : Eu (375 nm).

6. Projektionssystem nach Anspruch 1, wobei die Leuchtpunkte, die auf dem Schirm abgeschieden sind, rote, grüne und blaue Leuchtpunkte umfassen, die durch Licht im Bereich von 200 bis 420 nm angeregt werden.

7. Projektionssystem nach Anspruch 6, wobei die roten Leuchtpunkte R aus der Gruppe gewählt sind, die aus folgendem besteht: Y₂O₂S : Eu³⁺, La₂O₂S : Eu³⁺, Y₂O₃ : Eu³⁺, 3.5 MgO × 0.5 MgF₂ × GeO₂ : Mn⁴⁺, YVO₄ : Eu³⁺, SrY₂S₄ : Eu³⁺, K₅Eu(WO₄)₄,
die grünen Leuchtpunkte G aus der Gruppe gewählt sind, die aus folgendem besteht: SrAl₂O₄ : Eu²⁺, SrGa₂S₄ : Eu²⁺, Y₃Al₅O₁₂ Ce³⁺, ZnS : Cu, ZnS : (Cu, Al), ZnS : (Cu, Al, Au), Zn₂GeO₄ : Mn²⁺, (Ca, Mg, Sr) 3MgSi₂O₈ : Eu²⁺, (Ca, Mg, Sr) SiO₄ : Eu²⁺, La₂O₂S : Tb³⁺ und Y₂O₂S : Tb³⁺, und
wobei die blauen Leuchtpunkte B aus der Gruppe gewählt sind, die aus folgendem besteht: Sr₁₀(PO₄) ₆Cl₂ : Eu²⁺, (Sr_0.9Ca_0.1)₁₀(PO₄)₆Cl₂ : Eu²⁺, BaMg₂Al₁₆O₂₇ : Eu²⁺, Sr₃MgSi₂O₈ : Eu²⁺, Ba₃MgSi₂O₈ : Eu²⁺, ZnS : (Ag, Cl), ZnS : (Ag, Al), und ZnS : (Ag, Ga).

8. Projektionssystem nach Anspruch 1, das des weiteren eine Maske umfaßt, die aus Materialien besteht, die gegenüber ultravioletten Strahlen beständig sind, und sichtbare Strahlen absorbieren, um die Farbvermischung zu verhindern, wobei die Maske gemäß einem festgelegten Muster mit Löchern für den Lichtdurchtritt ausgebildet ist, wobei die Maske zwischen dem Fluoreszenzschirm und der optischen Einheit angebracht ist.