DE19715791C1 - Verfahren zur Herstellung keramischer Wärmedämmschichten mit Keulenstruktur und Verwendung des Verfahrens - Google Patents
Verfahren zur Herstellung keramischer Wärmedämmschichten mit Keulenstruktur und Verwendung des VerfahrensInfo
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Description
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zum Bedampfen von keramischen
oder metallischen Substraten mit Zirkoniumdioxid sowie die mit diesem Verfah
ren erhältlichen Wärmedämmschichten.
Keramische Wärmedämmschichten für den Hochtemperatureinsatz beispiels
weise auf Gasturbinen-Bauteilen, die durch Elektronenstrahlverdampfen vor
zugsweise von Zirkondioxid mit einer kolumnaren Mikrostruktur hergestellt wer
den, sind bereits vielfältig beschrieben und geschützt. Der Stand der Technik
umfaßt die drei wesentlichen Elemente dieser elektronenstrahlaufgedampften
Wärmedämmschichtsysteme, bestehend aus einer metallischen Haftschicht,
die durch Oxidation eine dichte Aluminiumoxidschicht (Korund) ausbilden kann,
sodann die Aluminiumoxidschicht selbst, und eine diskontinuierliche
keramische Wärmedämmschicht mit einer charakteristischen kolumnaren
(säulenartigen) Struktur, die die Akkomodierung von lateralen Dehnungen des
Substrates gestattet. Diese Dehnungen können von der unterschiedlichen
thermischen Ausdehnung von Substrat und keramischer Wärmedämmschicht
herrühren oder
auch durch elastische oder plastische Verformungen im Substrat sowie durch
Einwirkungen von außen (z. B. Partikelerosion) verursacht sein. Die Funktionali
tät dieser Schichten bleibt erhalten, wenn neben ausreichender Haftung auch
die zwischen den Säulen liegenden Freiräume, die die Funktion von Dehnfugen
haben, bestehen bleiben. Diese dürfen deshalb nicht durch Sinterbrücken oder
starke Stauchungen des Substrates gestört werden oder gar verschwinden.
Die Kondensation von Dampfteilchen auf einem festen Substrat erfolgt in drei
Teilschritten:
- - lose Bindung der kondensierenden Atomen und Radikalen als sogenannte "Adatome" mit einer verhältnismäßig hohen Beweglichkeit entlang der Ober fläche,
- - Diffusion der Adatome während ihrer Lebensdauer zu einem niederenergeti schen Platz der Oberfläche hin oder deren Wiederabdampfung im Falle einer vergeblichen Platzsuche,
- - Volumendiffusion eingebauter Adatome in den endgültigen Atomverband zur Bildung von Kristallkeimen und deren Wachstum zu Kristallkolumnen.
Je näher nun der Schmelzpunkt der Substanz und die Substrattemperatur wäh
rend des Aufdampfprozesses sich annähern, umso größer ist die Atombeweg
lichkeit und umso dichter werden dadurch auch die aufwachsenden Schichten.
Dabei entstehen abhängig von der homologen Temperatur der Schichtsubstan
zen verschiedene charakteristische Schichtstrukturen. Diese Schichtstrukturen
sind vielfach beschrieben worden. Am bekanntesten ist das Drei-Zonen-Struk
turmodell von B. A. Movchan et al.; Study of the structure and properties of thick
vacuum condensates of nickel, titanium, tungsten, aluminium oxide and zirconi
um dioxide, Fiz. Met. Metalloved. 28 (1969) S. 83-90. In Zone 1 bei homologen
Temperaturen Ts bis etwa 0,26 (bei Oxiden, bis 0,3 bei Metallen) entstehen na
delförmige diskontinuierliche und sehr dünne Kristallite mit hoher Defektdichte.
Sie sind in dieser Form für hohe thermische und mechanische Belastungen un
geeignet. Die Zone 2 (Ts bis 0,45) ist, wie bereits für das ZrO2-Wachstum der
Wärmedämmschichten zuvor erwähnt, durch vorherrschende Oberflächendiffu
sion geprägt. Die Schichten wachsen kolumnar und kontinuierlich, wobei bei
höheren Temperaturen die dickeren Stengel wachsen. Zwischen den Stengeln
sind Berührungspunkte sowie Zwischenräume, die den Schichten eine gewisse
Pseudoplastizität verleihen. Das Freivolumen der Zwischenräume nimmt jedoch
mit steigender Temperatur ab. Oberhalb von 0,45 Ts dominiert die Volumendif
fusion und führt zu dichten Strukturen.
Wird nun das Substrat während des Schichtwachstums im Temperaturbereich
vorherrschender Oberflächendiffusion kontinuierlich gedreht, um es beispielsweise
rundum zu beschichten, so erfahren diese Schichtstrukturen eine nochmalige
Modifizierung ihrer Gestalt. Die Stengelstruktur wird auf Grund von effektiveren
Wachstumsauslesemechanismen zur Vergröberung ihrer Gestalt gedrängt und
erhält dabei eine <001<-Textur aufgeprägt. Die <110<-Richtung oder die <100<-
Richtung liegt dabei in der Regel in Richtung der Rotationsachse unabhängig von
links oder rechts laufendem Drehsinn. Auch ein wiederholtes Reversieren hat
keinen markanten Einfluß. Die Stengeldurchmesser werden nicht nur durch zuneh
mende Temperaturen dicker, sondern lassen sich ebenso durch eine Zunahme
der Umdrehungsgeschwindigkeit vergröbern, wie Untersuchungen von U. Schulz;
Wachstum, Mikrostruktur und Lebensdauer von elektronenstrahlaufgedampften
Wärmedämmschicht-Systemen für Turbinenschaufeln, Verlag Shaker Aachen
(1995) S. 1-133, belegen.
Die tatsächlich beobachteten Schichtstrukturen in Wärmedämmschichten aus
Zirkoniumoxiden zeigen beispielsweise weitgehend parallele Stengelstrukturen
in einer feinen Ausbildung, wenn stationär bei etwa 0,4 Ts aufgedampft wurde.
Weitgehend parallele Stengelstrukturen, allerdings in einer groben Ausbildung,
treten auf bei Rotation bei wesentlich erhöhten Temperaturen, wenn z. B. 0,55
Ts und 12 UPM oder 0,46 Ts und 30 UPM erreicht werden. Bei wesentlich nied
rigeren Temperaturen/Umdrehungsgeschwindigkeiten (beispielsweise 0,4 Ts
und 12 UPM) treten verzweigte und nicht über die gesamte Schichtdicke rei
chende schlanke Stengel auf. In einem mittleren Regime (z. B. 0,4 Ts und 30
UPM oder 0,46 Ts und 12 UPM) treten Wachstumsauslesemechanismen stark
in den Vordergrund, die viele dünne Stengel zu Anfang des Schichtwachstums
hervorbringen und im weiteren Verlauf des Wachstums deren Zahl drastisch
vermindern sowie den Durchmesser der noch verbliebenen Stengel wachsen
lassen. Dadurch tritt eine konische und z. T. leicht keulige Struktur insbesonde
re unter denjenigen Kolumnen auf, die vom Fuß kontinuierlich bis zur Oberflä
che gewachsen sind. Die dünnen Keulenhälse sind mit dem Substrat verhaftet.
Die große Mehrzahl der im Haftbereich gekeimten Kolumnen erreicht die Ober
fläche der Schicht nicht, sondern beendet das Wachstum in einem frühen oder
mittleren Stadium.
Die Einstellung der gewünschten Schichtstrukturen wird großtechnisch durch
gezielte Kontrolle der Hauptparameter Substrattemperatur, Gesamtgasdruck im
Bedampfungskessel sowie Sauerstoffpartialdruck und Umdrehungsgeschwin
digkeit der Substrate während des Beschichtens erreicht, wie von Rigney et al.;
PVD thermal barrier applications and process development for aircraft engines,
NASA conference publication, 3312 (1995) S. 135-149, und US-PS 5,350,599
berichtet wird. Vor dem Beschichten ist der Oberflächenzustand der Proben
mitentscheidend für die Haftung und für die Ausbildung der Schichtstrukturen.
Eine Verbesserung der Haftung der Wärmedämmschicht wird durch eine be
sonders ebene Ausbildung (polieren) der metallischen Haftschicht in US-PS
4,321,310 beschrieben. Auf dieser Fläche wird durch thermische Oxidation eine
dünne Korundschicht vor dem Beschichten erzeugt, die ähnlich eben wie das
Substrat ausgebildet ist. Darauf wird eine Wärmedämmschicht aufgedampft, die
eine senkrechte Stengelausrichtung im Sinne des Patentes haben muß. -
Selbstverständlich ist auch auf ebenen Substraten, die ausschließlich aus Ko
rund bestehen, eine guthaftende Wärmedämmschicht durch direkte
Elektronenstrahlaufdampfung auf Korund aufbringbar, wie Untersuchungen
von Schmücker et al.; Haftmechanismen in ausgewählten EB-PVD-
Wärmedämmschichtsystemen, Fortschrittsberichte der Deutschen
Keramischen Gesellschaft, 10 (1995) 4, S. 379-384, zeigen.
Die Rauhigkeit der Substratoberfläche initiiert die Ausbildung unterschiedlich
geordneter und gestörter Schichtstrukturen, wie Rigney et al. (loc. cit.) zeigen.
D. h. im Umkehrfall wird von einer sehr ebenmäßigen (polierten) Oberfläche
ein Parallelwachstum der Stengel gefördert. Die Störungen der Säulen, die bei
spielsweise aus spannungsgeometrischen Überlegungen heraus sinnvoll sein
können, sind jedoch schädlich für die Haftung, da sie mit einer stark
verzahnten Me/MeO-Zwischenschicht erkauft werden, die unter
Wärmewechselbelastungen als Quelle für zusätzliche
Spannungsüberhöhungen im Haftbereich dienen. Dadurch wird ein vorzeitiges
Bruchversagen innerhalb der keramischen Schicht nahe dem Me/MeO-
Übergang begünstigt. Insofern darf ein gewisses Maß an Rauhigkeit zum Wohl
einer guten Haftung an dieser kritischen Stelle nicht überschritten werden.
US-PS 5,514,482 beschreibt die Herstellung einer Wärmedämmschicht
aus Y2O3-stabilisiertem ZrO2, die eine offene, säulenartige Mikrostruktur
aufweist, wobei die Säulen an der Basis geringere Durchmesser als im
Außenbereich aufweisen.
US-PS 5,087,477 beschreibt ein Verfahren zur Beschichtung metallischer
Substrate wie Gasturbinenflügel aus Superlegierungen auf Ni-Basis mit
oxidkermaischen Wärmedämmschichten aus stöchiometrischem ZrO2 . Y2O3
durch Elektronenstrahlbedampfung in Gegenwart von Sauerstoff mit
Substratdrehung um die Substratachse. Die Schichten weisen eine für das
Verfahren charakteristische Säulenstruktur auf.
Es ist daher die wesentliche Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die kritische
Haftfläche Me/MeO mit einer optimalen geringen Rauhigkeit auszulegen und
die sich darauf abscheidende Wärmedämmschicht mit einer optimalen
Schichtstruktur, die unabhängig von der Rauhigkeit der Haftschicht einstellbar
ist, aufzubringen.
Die vorgenannte Aufgabe wird mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
Weitere Ausgestaltungen sind den abhängigen Ansprüchen zu entnehmen.
Der Erfindung liegt zugrunde, daß aus mechanischer, spannungsgeometri
scher und thermodynamischer Sicht die derzeit propagierte und auch im Ein
satz be
findliche kolumnare Mikrostruktur der aufgedampften Wärmedämmschichten
aus Zirkoniumoxid noch nicht das Optimum darstellt. Sie hat die Zielvorstellung,
daß es günstigere Strukturen in Hinblick auf Lebensdauer, Schadensverlauf
und Hochtemperaturbeständigkeit gibt. Es werden entsprechende Strukturele
mente entwickelt. Auch wurde verfahrenstechnisch nachgewiesen, daß sich
Schichten mit den entsprechenden Strukturelementen gezielt durch Elektronen
strahlverdampfen real herstellen lassen.
Beim Betrieb von z. B. Turbinenschaufeln mit Wärmedämmschichten treten, wie
oben erwähnt, durch Dehnungsbeanspruchung Relativbewegungen zwischen
Substrat und Wärmedämmschicht auf. Diese Bewegungen müssen jedoch nicht
notwendigerweise ausschließlich lateral, d. h. senkrecht zur Säulenstruktur, ver
laufen, wie in der Regel im Stand der Technik erörtert. Die Bewegung kann
auch durch Kipp- und Hebelmomente beeinflußt sein. Wie mechanistische
Überlegungen zeigen, führen diese Momente auch zu transversalen Span
nungsanteilen. Diese Situation sei in einer Prinzipskizze in Fig. 1 vereinfacht
dargestellt.
Fig. 1 zeigt das Verformungsverhalten der metallischen Haftzone einer Säule
unter Kippbelastung, insbesondere eine (einzelne) Kolumne oder Säule, die mit
ihrer Basisfläche auf der darunterliegenden Haft- und Aluminiumoxidschicht
durch (chemische) Haftung befestigt ist. Wird diese Säule im Bereich des Kop
fes mit einer Kraft G seitlich beaufschlagt, so wird sie dort um einen Weg a ver
kippt. Für einseitig eingespannte Balken gilt nach den Gesetzen der Biegebal
kenmechanik, daß im Fuß des Balkens die höchste Spannung anliegt. Dort ist
mit bevorzugtem Brechen des Balkens zu rechnen. Dieser Fall sei auf eine Ko
lumne übertragen. Es sei die Aufrechterhaltung völliger Haftung zwischen Ba
sisfläche und Haftschicht vorausgesetzt, selbst wenn der Kopf der Kolumne um
den Weg a verschoben wird. Dieses Biegemoment führt je nach E-Modul und
Fließgrenze der beteiligten Materialien zu einer mehr oder minder starken Be
anspruchung in der Wurzel. Teilbereiche der Wurzel werden elastisch be
ansprucht, doch bei höheren Temperaturen werden insbesondere die Außen
bereiche der Wurzel auch zunehmend plastisch verformt. Bei der vorgegebe
nen Säulengeometrie ist unter einer angelegten mechanischen Wechselspan
nung von ± G mit Ermüdungserscheinungen des Materials und dadurch beding
tem Ablösen der Säule oder Schicht zu rechnen.
Wird jedoch anstelle der parallel orientierten Säulengeometrie eine erfindungs
gemäß veränderte Geometrie in der Art einer Keule angenommen, wobei die
verjüngte Spitze der Keule den Fuß darstellt, und wird die Keule um den glei
chen Weg a verschoben, wie in Fig. 1 skizziert, verbleibt der Wurzelfuß jedoch
noch voll im elastischen Bereich. Ermüdungserscheinungen des Materials blei
ben somit aus.
Fig. 2 zeigt die Aufteilung einer lateralen Spannung s in zwei kleinere Quer
spannungsanteile q und r an einer keulenartigen Säule und belegt, daß auch
bei Aufnahme von lateralen Spannungen die Keulenstrukturen besonders vor
teilhaft sind. Der Spannungsvektor s kann gemäß dem Winkelbetrag der koni
schen Begrenzung α aufgeteilt werden in zwei Teilvektoren r und q, wobei r der
energiedissipativen Reibung angehört. Dieser vorteilhafte Term wird im Verhält
nis umso größer, je größer der Winkelbetrag α der konischen Begrenzung ein
gestellt werden kann. D. h. je größer der Öffnungswinkel α der Keule ist, umso
effektiver kann der Spannungsabbau durch Konversion in Reibungsenergie er
folgen.
Die Keulenstruktur läßt sich gezielt durch die erfindungsgemäße Prozeßführung
einstellen und verstärken. Das Grundmuster der Keulengeometrie ist bereits im
Ansatz aus dem bekannten Strukturdiagramm nach Movchan et al. (loc. cit.) das
jedoch an starren, also nicht rotierenden Substraten ermittelt wurde, ersichtlich.
In den erfindungsgemäßen Versuchen zeigte sich, daß die Umdrehungs
geschwindigkeit ω der Substrate während der Beschichtung herausragende
Bedeutung für die Ausbildung einer teilweise keulen- und kelchartigen bzw. kro
kusähnlichen Geometrie hat. Der optimale Bereich für die Erzielung dieser
Struktur ist durch nachfolgende zwei mathematische Gleichungen eingrenzbar:
wobei T für die Substrattemperatur °K und
ω für die Umdrehungsgeschwindigkeit in UPM des Substrats steht,
wobei man die Umdrehungsgeschwindigkeit kontinuierlich oder diskontinuier lich, sowie alternativ in wechselnden Drehrichtungen variiert.
ω für die Umdrehungsgeschwindigkeit in UPM des Substrats steht,
wobei man die Umdrehungsgeschwindigkeit kontinuierlich oder diskontinuier lich, sowie alternativ in wechselnden Drehrichtungen variiert.
Dieser Temperaturkorridor ist erfindungsmäßig besonders geeignet, um dort
der Schicht eine grobe Streifung in ihrem Fußbereich aufzuprägen und um
durchgehende keulenartige Kristallsäulen sowie gebogen-verschlungene
schlankere Nachbarsäulen zu erzeugen, wobei diese Merkmale durch eine ent
sprechende Führung der Drehzahl bedingt oder verstärkt werden. Die minimale
Drehzahl am Anfang und die maximale Drehzahl sollen sich vorzugsweise um
den Faktor zwei oder mehr unterscheiden.
In eigenen Versuchen wurden rasche Änderungen der Rotationsgeschwindig
keit von schnell zu langsam oder von langsam zu schnell durchgeführt. Sie
zeigten, daß sich die Schicht umgehend entsprechend den aktuellen Konden
sationsbedingungen ausprägt. Somit sind über den Geschwindigkeitsparameter
vielfältige Strukturänderungen herbeiführbar. Durch Ändern der Drehgeschwin
digkeit ändert sich hingegen die integrale Dichte (dies ist die geometrisch be
stimmbare Dichte, die aus der Dichte der Keramiksäulen und der dazwischen
liegenden Porosität in Form von Dehnfugen resultiert) der Wärmedämmschicht
nicht bzw. nicht wesentlich, wie ebenfalls eigene Versuche ergaben. So wurde
bei Vergleichsversuchen bei der Erzeugung von 250 µm dicken Schichten auf
identischen Rundstäben mit 7 mm Durchmesser, wo lediglich deren axiale Um
drehungsgeschwindigkeit geändert wurde und alle anderen Parameter wie z. B.
Gasdrücke, Substrattemperatur und Aufdampfrate konstant gehalten wurden,
folgende Dichten bestimmt:
Die mittlere Größe der oberen Säulendurchmesser wiederum ist, wie im Stand
der Technik bekannt, stark durch die Umdrehungsgeschwindigkeit beeinflußbar.
Wegen der konstanten Dichte wird die Größe der Dehnfuge im gleichen Sinne
wie der Säulendurchmesser beeinflußt: bei steigender Rotationsgeschwindig
keit erhöhen sich der Säulendurchmesser und die Größe der Dehnfuge. Somit
ist in Schichten, die stark konische Säulenelemente mit dünnen Fußbereichen
enthalten, mit einer nach außen zunehmenden Breite der Dehnfugen zu rech
nen. Auch dies ist ein für die Pseudoplastizität der Keramikschichten vorteilhaf
ter und damit bedeutsamer Aspekt.
Eine langsame Umdrehungsgeschwindigkeit fördert die Bildung vieler kurzer
und auch verzweigter Kristallstengel, d. h. es liegt eine besonders hohe Keim
bildungsrate vor. Hohe Temperaturen lassen diese Besonderheit wieder zu
rücktreten. Insofern ist es für die Erzielung einer hohen Keimdichte sinnvoll, die
Ankeimungsphase sowohl bei niedrigen Umdrehungsgeschwindigkeiten als
auch bei niedrigeren Temperaturen außerhalb der Bereiche, die durch die Glei
chungen (a) und (b) vorgegeben sind, vorzunehmen. Während der Ankeimpha
se wird etwa bis zu 25% der Gesamtschichtdicke hergestellt. Niedrigere Tem
peraturen bezeichnen hierbei den Temperaturbereich, der unterhalb der für die
Ausbildung stark konischer Strukturelemente und für die Erzielung der Keulen
struktur liegt.
In einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die Dre
hung des Substrats im Verlauf des Verfahrens nicht konstant gehalten, sondern
von minimalen zu maximalen Drehzahlen verändert. Besonders bevorzugt in
diesem Sinne ist es, wenn das Verhältnis der maximalen Drehzahl zur minima
len Drehzahl wenigstens 2 beträgt.
Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich besonders zur Herstellung von
sich nach außen vergröbernden Stengelstrukturen mit einem oberen Stengel
durchmesser von 10 bis 100 µm.
Eine weitere Variationsmöglichkeit des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht
darin, die effektiv eingebrachte Leistung in das System zu reduzieren, beispiels
weise die Substrattemperatur während des Verfahrens konstant zu halten oder
zu reduzieren. So ist es bevorzugt, bei sich während des Prozesses absenken
der Substrattemperatur, wobei die Temperaturabsenkung beliebig ist, diese
vorrangig aber durch Leistungsabsenkung der Elektronenstrahlkanone, bei Viel
tiegelabdampfung durch Abschalten/Inaktivieren einer oder mehrerer Kanonen
oder Verdampfungsquellen durch Aktivieren einer Kaltwand oder Kälteplatte im
Verdampfungrezipienten, durch Einbringen eines Strahlungsschirmes zur Ab
sorption der vom Schmelzbad emittierten Strahlungsleistung, durch Vergröße
rung des aktiven Innenraums im Verdampferrezipienten, durch Abschalten ei
ner Zusatzheizung oder Vergrößerung des Abstandes zwischen Substrat und
Verdampferbad einzustellen.
Im Sinne des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es bevorzugt, zunächst im
Bereich der Keulenbildung zur Prägung eines Wachstums mit Kolbenstruktur zu
verharren, sodann aber bei gleichen Temperaturen, aber höheren Um
drehungsgeschwindigkeiten fortzuführen. Dieser Übergang kann gleitend oder
abrupt erfolgen. Dabei kann die Keimbildung durchaus unterhalb des Tempera
turkorridors für die Keulenbildung liegen.
Im Anschluß an das erfindungsgemäße Verfahren ist es möglich, bei höheren
Temperaturen im oder oberhalb des Bereichs der Keulenbildung nachzuglühen.
Fig. 3 zeigt die Struktur einer 250 µm dicken Schicht, die nach der spezifischen
Art der Erfindung hergestellt worden ist, mit den ausgeprägten Strukturelemen
ten, die von der Säulenform abweichen, als rasterelektronische Aufnahme ei
nes Bruchbildes und läßt die räumliche Anordnung der Struktur besser erken
nen.
In der Fig. 4 wird das gemäß Fig. 3 erhaltene Rasterbild nochmals als Prinzip
skizze wiedergegeben. Beide Figuren zeigen die keulenartige Säule a, die von
s-förmig gebogenen schlanken Nachbarsäulen b und c umgeben ist.
Die Schicht wurde auf ein Substrat mit einer geringen Rauhigkeit von nur Ra =
2 µm folgendermaßen aufgetragen:
Das Substrat wurde auf 980°C aufgeheizt und sodann bei 960 bis 980°C dre
hend beschichtet. Die Ankeimphase wurde mit 4 UPM gestartet, sodann wurde
die Umdrehungsgeschwindigkeit innerhalb von 30 Minuten kontinuierlich bis auf
50 UPM erhöht. Fig. 5 zeigt den während der Aufdampfung gewählten zugehö
rige Geschwindigkeitsverlauf. Demnach sind zu Beginn etwa 25% der gesam
ten Schichtdicke unterhalb des "Keulenkorridors" aufgedampft worden. Die er
zielte Struktur ist somit im Fußbereich durch starke Keimbildung geprägt. Daran
anschließend wurde im "Keulenkorridor" aufgedampft, wo das Schichtwachstum
von den Bedingungen einer verschärften Wachstumsauslese bestimmt wird.
Sie führt einmal zur Bildung bauchig-keuliger Säulen (Winkelbetrag der koni
schen Begrenzung α ist bei einzelnen Kristalliten bei 15 bis 20°, wie in Fig. 2
dargestellt) sowie zum anderen zu einem gebogen-verschlungenen Wachstum
(S-förmig) der schlankeren Nachbarsäulen, das ihnen von den dominierenden
keulenförmigen Säulen mit größerem Durchmesser aufgezwungen wird, wie in
Fig. 3 und Fig. 4 ersichtlich ist. Das Auftreten dieser Strukturkomponente war
überraschend und nicht vorhersehbar, ist jedoch in mechanischer Hinsicht von
Bedeutung. Gerade durch ihre enge Nachbarschaft zu den bauchigen Säulen
wird von jenen das Einwirken von lateralen Spannungen abgefedert, so als ob
sie einen Puffer aus Schichtmaterial mit verringertem E-Modul darstellen wür
den.
Die variable Prozeßführung wird in den Detailvergrößerungen in Fig. 6 sichtbar
(ZRO2#8). Dort ist eine sägezahnartige Schichtung von ca. 1,5 µm je Lage im
Fußbereich gebildet worden, die durch die langsame Umdrehung während der
Startphase - je Umdrehung eine Lage Zuwachs - entstanden ist. Diese für den
Fußbereich dieser strukturspezifischen Schichten charakteristische Streifung
wird infolge der kontinuierlichen Erhöhung der Umdrehungsgeschwindigkeit im
Laufe des weiteren Schichtwachstums zunehmend feiner und damit weniger
deutlich wahrnehmbar.
Die wesentlichen Bereiche der Strukturen, die mit der erfindungsgemäßen Ver
fahrensweise erreicht wurden, seien unter Angabe der erreichten Funktionalität
zusammengefaßt:
Der Fußbereich ist gekennzeichnet durch
- - seine grobe Streifung
- - intensive Keimbildner (zur Erzielung einer hohen Keimdichte durch Einstellen einer langsamen Drehbewegung und evtl. durch eine zusätzliche Tempera turführung unterhalb des Temperaturkorridors, der für die Ausbildung koni scher Strukturelemente optimal geeignet ist)
- - chemische Haftung durch die erreichte Anbindung der keramischen Schicht
- - mechanische Verklammerung mit den Nachbarkristalliten auf Grund der gro ben beidseitigen Sägezahn-Profilierung (Streifung), welche insbesondere den dicken schweren keulenartigen Kristallen zusätzlichen Halt verleiht
- - elastomechanisch wirkender Übergang zwischen Substrat und Wärmedämmschicht.
Der Zwischenbereich, ist gekennzeichnet durch konische Strukturelemente mit
großem Öffnungswinkel und Abnahme der Streifung sowie gebogen-verschlun
gene schlankere Nachbarsäulen, welche dienen als
- - Absorptionszone für einen Teil der Lateralspannungen durch Konversion in Reibungsenergie (an den Keulenflanken) und
- - E-Modul-Senke (durch S-förmig gebogene Strukturelemente)
Der Kopfbereich ist gekennzeichnet durch besonders große Durchmesser der
Kristallkolumnen, die gegen den thermodynamischen Zwang des Sinterns auf
Grund der großen Durchmesser und relativ großen Dehnfugen besonders be
ständig sind.
Die beanspruchten Strukturkomponenten sind als strukturelle Besonderheiten
zu werten und können gezielt als Kristallform gezüchtet werden. Es wurde ge
zeigt, daß diese Strukturkomponenten Vorteile in mechanistischer, spannungs
geometrischer und thermodynamischer Hinsicht bieten. Darüber hinaus wird
ein Weg für die gezielte Ausführung solcher Strukturkomponenten unabhängig
von der Rauhigkeit des Substrates allein über die besondere Art der
Prozeßführung bei der Elektronenstrahlaufdampfung gewiesen.
Eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfaßt somit die
Herstellung keramischer Wärmedämmschichten aus Zirkoniumdioxid, die
gegebenenfalls mit Seltenerdmetalloxiden oder Oxidgemischen, insbesondere
mit Y2O3, CeO2, Sc2O3, Yb2O3
oder deren Gemischen dotiert sind, die eine Keulenstruktur aufweisen
und mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens erhältlich sind.
Besonders bevorzugt im Sinne der vorliegenden Erfindung wird das Verfahren
zum Beschichten von Turbinenschaufeln eingesetzt.
Claims (7)
1. Verfahren zum Bedampfen von keramischen oder metallischen Substraten
mit Zirkoniumdioxid, das gegebenenfalls mit Seltenerdmetalloxiden oder Oxidge
mischen dotiert ist, in einem Temperaturbereich von 600 bis 1550°C Substrat
temperatur bei Drehung des Substrats im Bereich von 1 bis 300 UPM, dadurch
gekennzeichnet, daß man im Anschluß an die Ankeimphase mit geringer Um
drehungsgeschwindigkeit des Substrats, die Drehgeschwindigkeit und die Tempe
ratur im Bereich einstellt, die durch die Gleichungen
definiert sind,
wobei T für die Substrattemperatur in °K und
ω für die Umdrehungsgeschwindigkeit in UPM des Substrats steht,
wobei man die Umdrehungsgeschwindigkeit kontinuierlich oder diskontinuierlich, sowie alternativ in wechselnden Drehrichtungen variiert.
definiert sind,
wobei T für die Substrattemperatur in °K und
ω für die Umdrehungsgeschwindigkeit in UPM des Substrats steht,
wobei man die Umdrehungsgeschwindigkeit kontinuierlich oder diskontinuierlich, sowie alternativ in wechselnden Drehrichtungen variiert.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Drehung
des Substrats während des Verfahrens von minimalen auf maximale Drehzahlen
geändert wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhält
nis der maximalen Drehzahl zur minimalen Drehzahl wenigstens 2 beträgt.
4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß sich nach außen vergröbernde Stengelstrukturen mit
einem äußeren Stengeldurchmesser von 10 bis 100 µm gebildet werden.
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß man die Substrattemperatur während des Verfahrens
konstant hält oder reduziert.
6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß man die in das System eingebrachte Leistung reduziert
durch
- a) Temperaturabsenkung des Substrats,
- b) Leistungsabsenkung der Elektronenstrahlkanone,
- c) bei Vieltiegelabdampfung durch Abschalten und/oder Inaktivieren einer oder mehrerer Kanonen und/oder Verdampfungsquellen,
- d) Aktivieren einer Kaltwand oder Kälteplatte im Verdampferrezipienten,
- e) Einbringen eines Strahlungsschirms zur Absorption der vom Schmelzbad emittierten Strahlungsleistung,
- f) Vergrößerung des aktiven Innenraums im Verdampferrezipienten, durch Ab schalten einer Zusatzleistung und/oder
- g) Vergrößerung des Abstandes zwischen Substrat und Verdampfungsquelle.
7. Verwendung des Verfahrens nach einem oder mehreren der Ansprüche
1 bis 6 zur Beschichtung von Turbinenschaufeln.
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