DE19639059A1

DE19639059A1 - Hochreflektierendes Flächenmaterial und Verfahren zu dessen Herstellung

Info

Publication number: DE19639059A1
Application number: DE19639059A
Authority: DE
Inventors: Peter Dipl Phys Dr Lenk; Peter Dipl Ing Vetters; Klaus Dipl Ing Gaenz; Werner Dipl Ing Reichert
Original assignee: Von Ardenne Anlagentechnik GmbH
Current assignee: Von Ardenne Anlagentechnik GmbH
Priority date: 1996-04-29
Filing date: 1996-09-24
Publication date: 1997-10-30

Description

Die Erfindung betrifft ein hochreflektierendes Flächenmateri al, welches aus einer beschichteten Trägerfläche besteht.

Bekannt ist ein Material der eingangs genannten Art, welches aus einem gewalzten Aluminiumband von sehr hoher Reinheit besteht. Die Reinheit beträgt dabei mindestens 99,9%. Dieses Aluminiumband wird einer elektrolytischen Behandlung zum Zwecke des naßchemischen Glänzens unterzogen. Dabei werden Un ebenheiten der Oberfläche eingeebnet und deren Rauheit wird verringert. In einem anschließenden Anodisierprozeß, auch bekannt als Eloxieren, wird eine Aluminiumoxidschicht mit einer porösen Struktur erzeugt, die in einem anschließenden ebenfalls naßchemischen Prozeß verdichtet wird, indem sie einer Behandlung mit heißem Wasser mit Vernetzungsmittel und anderen chemischen Zusätzen ausgesetzt wird. Die so erzeugte Aluminiumschicht besitzt eine hohe Transmission im Wellenlän genbereich des von ca. 200 nm bis 4500 nm.

Derartig beschichtetes Aluminiumband wird oft als Halbzeug bei der Reflektorherstellung in der Leuchtenindustrie eingesetzt. Nachteilig ist bei diesem Flächenmaterial und dessen Herstel lung, daß einerseits das Ausgangsmaterial infolge der hohen Anforderungen, die an dieses Material gestellt werden, teuer ist und daß andererseits beim Herstellungsprozeß, insbesondere beim Eloxieren, zu deponierende Abfälle in erheblicher Menge anfallen, viel Wasser sowie Elektroenergie benötigt werden. Die Lichtreflexion dieses Materiales liegt bei etwa 85%.

Weiterhin ist es bekannt, bei der Herstellung z. B. von Reflek toren für Autoscheinwerfer die Voraussetzungen für das Ab scheiden von Schichten mit hoher gerichteter Reflexion dadurch zu schaffen, daß auf einen Kunststoff- oder Metallreflektor grundkörper mit shärischer Form ein Lack aufgebracht wird, der über Ultraviolett- oder Infrarotstrahlung getrocknet wird. Auf diesen Lack wird dann eine dünne hochreflektierende Alumini umschicht aufgedampft und in Vakuumfolge darauf eine dünne, schwach vernetzte Monomerschicht mittels einer Glimmentladung abgeschieden. Dadurch wird eine hochreflektierende Oberfläche auf der Innenseite des Reflektors geschaffen, die allerdings keinerlei mechanischen und nur geringen chemischen Belastungen ausgesetzt werden kann, was bei Autoscheinwerfern deshalb unkritisch ist, weil die Öffnung des Reflektorgrundkörpers weitgehend durch eine dicht schließende Streuscheibe abgedeckt wird. Dadurch werden mechanische oder chemische Einwirkungen auf das hochreflektierende Schichtsystem weitgehend verhin dert, die ansonsten zur Zerstörung dieses Schichtsystems füh ren würden. Wegen der Notwendigkeit der Schaffung eines weit gehend abgeschlossenen Raumes innerhalb des Reflektors ist diese Lösung vorwiegend auf die Herstellung von Autoscheinwer fern begrenzt.

Der Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, ein hochre flektierendes Flächenmaterial und ein Verfahren zu dessen Herstellung anzugeben, welches den Einsatz eines kostengün stigeren Bandmateriales als Trägerfläche erlaubt, das den Einsatz naßchemischer Prozesse vermeidet und die Erzeugung einer höheren Lichtreflexion bei guter Beständigkeit der Ober fläche gegen chemische und mechanische Beanspruchung und eine Verformbarkeit des Flächenmateriales ermöglicht.

Die Aufgabe wird anordnungsseitig dadurch gelöst, daß auf die Trägerfläche eine gehärtete Lackschicht aufgebracht ist. Diese Lackschicht weist eine geglättete oder strukturierte Ober fläche auf und ist auf ihrer der Trägerfläche abgewandten Seite mit einer hochreflektierenden optisch dichten Metall schicht versehen. Auf die Oberfläche dieser Metallschicht ist eine transparente niedrigbrechende Schicht aufgebracht. Schließlich ist auf der Oberfläche dieser niedrigbrechenden Schicht eine transparente hochbrechende Schicht angeordnet.

Durch den Aufbau dieses hochreflektierenden Flächenmateriales wird es möglich, kostengünstiges Material für die Trägerfläche zu verwenden. Dieses Material ist gekennzeichnet einerseits durch eine höhere Rauhigkeit und/oder andererseits durch eine geringere Reinheit als herkömmlich verwendetes Material für die Trägerfläche. Durch die Lackschicht auf der Oberfläche dieser Trägerfläche wird die Rauheit signifikant vermindert, so daß ein weitgehend glatte Oberfläche entsteht. Die darauf abgeschiedene dünne Metallschicht folgt dem glatten Oberflä chenverlauf, so daß ein hoher Grad gerichteter Reflexion er reicht wird. Allerdings ist diese Metallschicht gegenüber mechanischer, physikalischer oder chemischer Belastung sehr empfindlich.

Das darüber angeordnete System von niedrig- und hochbrechender transparenter Oxidschicht hat einerseits die Aufgabe, refle xionsverstärkend zu wirken und andererseits den Schutz der darunter liegenden Schichten gegen mechanische und chemische Beanspruchungen zu sichern.

Es ist weiterhin vorteilhaft, als Trägerfläche Metall ein zusetzen.

In bevorzugter Weise besteht die Trägerfläche aus Aluminium. Dabei kann es sich beispielsweise um technisch gewalztes Alu miniummaterial handeln, welches relativ kostengünstig erhält lich ist.

In einer besonders günstigen Ausgestaltung der Erfindung be steht die Lackschicht aus einem bestrahlungshärtbarem Lack. Vorzugsweise eignet sich Lack, der mittels Elektronenstrahl härtbar ist. Mit einem derartigen Lack wird es möglich, eine sehr schnelle Aushärtung des Lackes zu erreichen, was eine weitgehende Automatisierung im Herstellungsverfahren erlaubt.

In einer weiteren besonders günstigen Ausgestaltung der Erfin dung ist vorgesehen, daß die hochreflektierende Metallschicht aus Aluminium besteht. Einerseits läßt sich mit Aluminium eine sehr hohe Reflexion in einem breiten Spektralbereich erreichen und andererseits eignet sich Aluminium zur Beschichtung sehr gut.

Bei einer weiteren günstigen Ausgestaltung der erfindungs gemäßen Schichtanordnung ist vorgesehen, daß die niedrigbre chende Schicht aus einem Oxid besteht. Hierbei ist es beson ders zweckmäßig, SiO₂ aufzubringen.

Weiterhin ist in einer Ausgestaltung der Erfindung vorgesehen, daß die hochbrechende Schicht aus einem Oxid und hierbei in bevorzugter Weise aus TiO₂ besteht.

Zur Erreichung einer hohen Reflexion ist es zweckmäßig, daß die Dicken der hoch- und der niedrigbrechenden Schicht jeweils einem Viertel der Schwerpunktwellenlänge des zu reflektieren den Lichtes geteilt durch den Brechungsindex des Materials der jeweiligen Schicht entsprechen.

In einer günstigen Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß zwischen der Lackschicht und der hochreflektierenden Metallschicht eine energieabsorbierende und haftvermittelnde Zwischenschicht aufgebracht ist. In einer vorteilhaften Ausge staltung besteht diese Zwischenschicht aus siliziumorganischen Verbindungen. Besonders günstig ist eine Dicke der Zwischen schicht, die im Bereich von 5 bis 50 nm liegt.

Aus Gründen der Langzeitstabilität des Prozesses erfolgt die Abscheidung der metallischen Reflexionsschicht in der Regel durch ein Sputterverfahren. Hierbei können durch die Einwir kung des bei dem Sputterverfahren aufgebauten Plasmas die in weiten Bereichen einstellbaren Eigenschaften des Lackes in unerwünschter Weise und irreversibel beeinflußt werden. Das würde insbesondere bei den mechanischen Eigenschaften des Flächenmateriales zu einer starken Einschränkung der anwend baren Lackrezepturen führen, so daß die nachfolgende Anwendung von Sputterverfahren auflackierten strahlengehärteten Ober flächen stark eingeschränkt oder gar unmöglich würde.

Die Zwischenschicht dient bei Energieeinwirkungen, wie sie bei Plasmaprozessen, die der Lackbeschichtung und -härtung folgen, auftreten, als Absorber. Dabei können die gewünschten Eigen schaften des strahlengehärteten Lackes, insbesondere die Härte und die Abriebfestigkeit, erhalten werden.

Zur verfahrensseitigen Lösung der Aufgabenstellung wird eine aus Bandmaterial bestehende Trägerfläche beschichtet. Die verfahrensseitige Lösung der Aufgabenstellung besteht dabei darin, daß eine Oberfläche des Bandmateriales mit einem durch Elektronenstrahl härtbaren Lack beschichtet wird, daß vor der Einbringung der Trägerfläche in ein Vakuum die Lackschicht einer Elektronenstrahlung zur Härtung ausgesetzt wird und daß schließlich die metallische Reflexionsschicht sowie die nied rig- und hochbrechende Schicht im Vakuum in Folge aufgebracht werden.

Bei diesem Verfahren besteht die Möglichkeit, die Lackbe schichtung und auch die Elektronenstrahlhärtung außerhalb des Vakuums vorzunehmen, um danach bereits eine visuelle Kontrolle der erreichten Oberflächengüte durchführen zu können. Die übrigen nachfolgenden Verfahrensschritte, also Aufbringen der metallischen Reflexionsschicht, der niedrig- und der hoch brechenden Schicht können sodann im Durchlaufverfahren in einer Vakuumbeschichtungsanlage erfolgen.

Bei dem Durchlaufverfahren zur Vakuumbeschichtung ist es zweckmäßig, daß das Bandmaterial nach der Lackaufbringung und -härtung über ein Druckstufensystem mit mehreren Druckstufen in das Vakuum ein- und nach der Beschichtung über ein Druck stufensystem mit mehreren Druckstufen aus dem Vakuum ausge bracht wird.

Mit derartigen Druckstufen kann ein optimaler, gleichbleiben der Arbeitsdruck im Beschichtungsbereich einer solchen Durch laufanlage eingestellt werden.

Eine zweckmäßige Ausgestaltung des Verfahrens besteht darin, daß die Härtung der Lackschicht in Inertgasumgebung erfolgt. Die Härtung unter Inertgasbedingungen durchzuführen, gewähr leistet eine besonders hohe Qualität der Lackschicht, da dabei Oxidationsprozesse ausgeschlossen werden können.

Eine besonders günstige Ausgestaltung des Verfahrens sieht vor, daß die komplette Beschichtung im kontinuierlichen Durch lauf des Bandmateriales erfolgt.

Eine weitere günstige Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens sieht vor, daß das Aufbringen der Metallschicht und der transparenten Oxidschichten mittels des PVD-Verfahrens erfolgt. Für bestimmte Anwendungen ist es zweckmäßig, die niedrigbrechende SiO₂-Schicht mittels Plasma-Enhanced-CVD- Verfahren aufzubringen.

Es ist besonders zweckmäßig, daß das Aufbringen der Metall- und der transparenten Oxidschichten in Vakuumfolge, jedoch bei unterschiedlicher Zusammensetzung und bei unterschiedlichem Druck des jeweiligen Arbeitsgases vorgenommen wird. Durch eine derartige verfahrensseitige Ausgestaltung wird gewährleistet, daß die Erzeugung des Vakuums auf ein Minimum reduziert wird und Schichten mit optimaler Stöchiometrie abgeschieden wer den.

Es ist weiterhin zweckmäßig, zwischen der Lackschicht und der metallischen Reflexionsschicht eine energieabsorbierende und haftvermittelnde Zwischenschicht abzuscheiden. Hierbei ist es besonders günstig, die Zwischenschicht in einem Mikrowellen- CVD-Prozeß abzuscheiden.

In einer besonders zweckmäßigen Form des erfindungsgemäßen Verfahrens ist vorgesehen, daß die Lackschicht vor einer Be schichtung dadurch hergestellt wird, daß der strahlenhärtbare Lack auf seiner Oberfläche vor dem Härten mit einer für die Härtungsstrahlung durchlässige Polymerfolie kaschiert wird, daß die Strahlenhärtung durch die Polymerfolie vorgenommen wird und daß die Polymerfolie nach dem Härten rückstandsfrei abgezogen wird.

Durch das Aufbringen der Lackschicht wird grundsätzlich er reicht, daß die Rauheit der Trägerfläche signifikant vermin dert wird. Für den Erfolg der weiteren Beschichtung hängt es nunmehr entscheidend davon ab, welche Oberflächengüte die Lackschicht aufweist. Mit dem Aufbringen der Polymerfolie kann die Oberfläche der Lackschicht gestaltet werden. Im noch fließfähigen Zustand nimmt die Lackoberfläche die Oberflächen struktur der Folie an. Durch den Härtungsprozeß, der mittels der durch die Folie hindurchtretenden Elektronenstrahlung erzielt wird, wird die Form der Lackschicht fixiert, so daß sie nach dem Härten und nach dem Abziehen der Folie eine Ober flächenstruktur aufweist, die der Oberflächenstruktur auf der Kaschierseite der Polymerfolie entspricht.

In einer Ausführungsform wird die Lackschicht mit einer auf ihrer Kaschierseite glatten Polymerfolie kaschiert.

Polymerfolie ist mit einer sehr glatten Oberflächenstruktur herstellbar. Wird eine derartige Folie zur Kaschierung einge setzt, ist es möglich, eine Lackschicht mit einer sehr glatten Oberfläche herzustellen.

In einer anderen Ausführungsform wird die Lackschicht mit einer auf ihrer Kaschierseite strukturierten Polymerfolie kaschiert.

Für einige Anwendungsfälle kann es vorteilhaft sein, daß die Oberfläche des Flächenmateriales hochreflektierend aber nicht für eine gerichtete sondern für eine streuende Reflexion aus gebildet ist. Dies wird dadurch erreicht, daß die Oberfläche bei geringer Rauheit uneben ausgebildet ist. Eine Möglichkeit bestünde darin, das Flächenmaterial mechanisch zu strukturie ren. Günstig ist jedoch der Einsatz einer strukturierten Poly merfolie, da sodann die Oberflächenstruktur, die nach der Beschichtung das Flächenmaterial aufweisen soll, bereits durch eine strukturierte Lackschicht aufgeprägt wird.

Es ist auch vorteilhaft, die Lackschicht durch Beschichten mit einer durch Netz- und Verlaufsmittel modifizierten Lackformu lierung, nachfolgendem Rakeln und anschließender Härtung her zustellen.

Damit ist es ebenfalls möglich, eine Lackschicht mit einer hohen Oberflächengüte, d. h. einer geringen Mikrorauhigkeit herzustellen.

Schließlich besteht eine günstige Ausführungsform des erfin dungsgemäßen Verfahrens darin, als Bindemittel für den Lack zur Herstellung der Lackschicht Acrylate, Epoxide oder Vinylehter/Maleat-System einzusetzen.

Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbei spieles näher erläutert werden. In den zugehörigen Zeichnungen zeigt

Fig. 1 einen Querschnitt durch ein hochreflektierendes Flä chenmaterial und

Fig. 2 eine Darstellung des Verfahrensablaufes anhand einer schematischen Darstellung einer kontinuierlich arbei tenden Beschichtungsanlage.

Bei dem in Fig. 1 dargestellten hochreflektierenden Flächenma terial besteht die Trägerfläche 1 aus einem gewalzten Alumini umband. Wie aus Fig. 1 erkennbar wird, besitzt die Träger fläche 1 eine Oberflächenstruktur großer Rauhigkeit. Auf die ser Oberfläche ist eine elektronenstrahlgehärtete Lackschicht 2 aufgebracht. Diese Lackschicht 2 gleicht die Oberflächenrauhigkeit der Trägerfläche 1 aus und ist auf ihrer Oberfläche sehr glatt. Auf dieser Oberfläche ist eine optisch dichte Metallschicht 3 aus hochreinem Aluminium angeordnet. Darüber befindet sich eine niedrigbrechende Schicht 4 aus SiO₂. Auf dieser niedrigbrechenden Schicht 4 ist eine hoch brechende Schicht 5 aus TiO₂ aufgebracht. Die Dicke d_SiO2 der niedrigbrechenden Schicht 4 wie auch die Dicke d_TiO2 der hoch brechenden Schicht 5 ergeben sich zumindest näherungsweise aus der Beziehung

wobei λ_S die Schwerpunktwellenlänge des zu reflektierenden Lichtes und n₄ und n₅ die Brechungsindizes der Materialien der Schichten 4 und 5 sind.

Soll das hochreflektierende Flächenmaterial für ein Licht eingesetzt werden, dessen Schwerpunktwellenlänge bei λ_S = 510 nm liegt, so beträgt die Dicke der niedrigbrechenden Schicht 4, bei Verwendung von SiO₂ mit einem Brechungsindex n₅ = 1,39, d_SiO2 ≈ 92 nm und die Dicke der hochbrechenden Schicht 5 bei Verwendung von TiO₂, bei einem Brechungsindex von n₆ = 2,4, d_TiO2 ≈ 53 nm.

Mit diesem Schichtaufbau wird bei dem zu reflektierendem Licht eine Reflexion von 95% erreicht.

Wie in Fig. 2 dargestellt, wird die als gewalztes Aluminium band ausgebildete Trägerfläche 1 in einer Lackbeschichtungs station 6 unter normaler Umgebungsatmosphäre mit Lack beschichtet. Die lackierte Trägerfläche 1 wird sodann in einer Elektronenhärtestation 7 bei Atmosphärendruck unter Inertgas so behandelt, daß die Lackschicht 2 vollkommen aushärtet.

Über das eingangsseitige Druckstufensystem 8 wird das lackier te, elektronenstrahlgehärtete Trägermaterial in den Beschich tungsbereich, bestehend aus den Beschichtungskammern 9, 10 und 11 eingeführt. Diese Beschichtungskammern werden durch ein System von Vakuumpumpen auf Prozeßvakuum gehalten.

In der ersten Beschichtungskammer 9 wird über einen PVD-Prozeß die optisch dichte Metallschicht 3 auf die Lackschicht 2 auf gebracht. Die Beschichtung der Metallschicht 3 mit der nied rigbrechenden Schicht 4 geschieht sodann in der zweiten Be schichtungskammer 10 durch PVD oder CVD und die Beschichtung mit der hochbrechenden Schicht 5 in der dritten Beschichtungs kammer 11 durch PVD.

Zur Angleichung der nunmehr vollständig beschichteten Träger fläche 1 an die Umgebungsatmosphäre durchläuft diese das nach der dritten Beschichtungskammer 11 angeordnete ausgangsseitige Druckstufensystem 12.

Bezugszeichenliste

1 Trägerfläche
2 Lackschicht
3 Metallschicht
4 niedrigbrechende Schicht
5 hochbrechende Schicht
6 Lackbeschichtungsstation
7 Elektronenstrahlhärtestatioon
8 Druckstufensystem, eingangsseitig
9 erste Beschichtungskammer
10 zweite Beschichtungskammer
11 dritte Beschichtungskammer
12 Druckstufensystem, ausgangsseitig

Claims

1. Hochreflektierendes Flächenmaterial, welches aus einer beschichteten Trägerfläche besteht, dadurch gekennzeichnet, daß auf die Trägerfläche (1) eine gehärtete Lack schicht (2) aufgebracht ist,
daß die Lackschicht (2) eine geglättete oder struktu rierte Oberfläche aufweist,
daß auf die Lackschicht (2) auf ihrer der Träger fläche (1) abgewandten Seite eine hochreflektierende optisch dichte Metallschicht (3) aufgebracht ist,
daß die Oberfläche dieser Metallschicht (3) mit einer transparenten niedrigbrechenden Schicht (4) versehen ist und
daß auf der Oberfläche der niedrigbrechenden Schicht (4) eine transparente hochbrechende Schicht (5) an geordnet ist.

2. Hochreflektierendes Flächenmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerfläche (1) aus Metall besteht.

3. Hochreflektierendes Flächenmaterial nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekenn zeichnet, daß die Trägerfläche (1) aus Alumini umband besteht.

4. Hochreflektierendes Flächenmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekenn zeichnet, daß die Lackschicht (2) aus einem bestrahlungshärtbaren Lack besteht.

5. Hochreflektierendes Flächenmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekenn zeichnet, daß die hochreflektierende Metall schicht (3) aus Aluminium besteht.

6. Hochreflektierendes Flächenmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn zeichnet, daß die niedrigbrechende Schicht (4) aus einem Oxid besteht.

7. Hochreflektierendes Flächenmaterial nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die niedrigbrechende Schicht (4) aus SiO₂ besteht.

8. Hochreflektierendes Flächenmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekenn zeichnet, daß die hochbrechende Schicht (5) aus einem Oxid besteht.

9. Hochreflektierendes Flächenmaterial nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die hochbrechende Schicht (5) aus TiO₂ besteht.

10. Hochreflektierendes Flächenmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekenn zeichnet, daß die Dicken der hoch- und der niedrigbrechenden Schicht (4; 5) jeweils einem Viertel der Schwerpunktwellenlänge des zu reflektierenden Lichts geteilt durch den Brechungsindex des Materiales der jeweiligen Schicht (4; 5) entsprechen.

11. Hochreflektierendes Flächenmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekenn zeichnet, daß zwischen der Lackschicht (2) und der hochreflektierenden Metallschicht (3) eine ener gieabsorbierende und haftvermittelnde Zwischenschicht aufgebracht ist.

12. Hochreflektierende Flächenmaterial nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht aus siliziumorganischen Verbindungen besteht.

13. Hochreflektierendes Flächenmaterial nach Anspruch 12 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Zwischenschicht im Bereich von 5 bis 50 nm liegt.

14. Verfahren zur Herstellung eines hochreflektierenden Flächenmateriales, bei dem eine aus Bandmaterial be stehende Trägerfläche beschichtet wird, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Oberfläche des Bandmateriales mit einem durch Elektronenstrahlung härtbaren Lack beschichtet wird,
daß die Lackschicht vor der Einbringung der Träger fläche in das Vakuum einer Elektronenstrahlung zur Härtung ausgesetzt wird,
daß die metallische Reflexionsschicht und die niedrig- und die hochbrechende Schicht im Vakuum in Folge auf gebracht wird.

15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch ge kennzeichnet, daß das Bandmaterial nach der Lackaufbringung und -härtung über ein Druckstufen system mit mehreren Druckstufen in das Vakuum einge bracht und nach der Beschichtung über ein Druckstufen system mit mehreren Druckstufen ausgebracht wird.

16. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 oder 15, da durch gekennzeichnet, daß die Här tung der Lackschicht in Inertgasumgebung erfolgt.

17. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 16, da durch gekennzeichnet, daß die Be schichtungen im kontinuierlichen Durchlauf des Metall bandes erfolgen.

18. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 17, da durch gekennzeichnet, daß das Auf bringen der Metallschicht und der transparenten Oxid schichten mittels PVD-Verfahren erfolgt.

19. Verfahren nach einen der Ansprüche 14 bis 18, da durch gekennzeichnet, daß die Oxid schichten mit PVD- oder CVD-Verfahren aufgebracht werden.

20. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 19, da durch gekennzeichnet, daß das Auf bringen der Metall- und der transparenten Oxidschich ten in Vakuumfolge, jedoch bei unterschiedlicher Zu sammensetzung und bei unterschiedlichem Druck des jeweiligen Arbeitsgases vorgenommen wird.

21. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 20, da durch gekennzeichnet, daß zwischen der Lackschicht und der metallischen Reflexionsschicht eine energiabsorbierende und haftvermittelnde Zwi schenschicht abgeschieden wird.

22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch ge kennzeichnet, daß die Zwischenschicht in einem Mikrowellen-CVD-Prozeß abgeschieden wird.

23. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 22, da durch gekennzeichnet, daß die Lack schicht vor einer Beschichtung dadurch hergestellt wird, daß der strahlenhärtbare Lack auf seiner Ober fläche vor dem Härten mit einer für die Härtungsstrah lung durchlässige Polymerfolie kaschiert wird, das die Strahlenhärtung durch die Polymerfolie vorgenommen wird und daß die Polymerfolie nach dem Härten rück standsfrei abgezogen wird.

24. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch ge kennzeichnet, daß die Lackschicht mit einer auf ihrer Kaschierseite glatten Polymerfolie kaschiert wird.

25. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch ge kennzeichnet, daß die Lackschicht mit einer auf ihrer Kaschierseite strukturierten Polymerfolie kaschiert wird.

26. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 25, da durch gekennzeichnet, daß die Lack schicht durch Beschichten mit einer durch Netz- und Verlaufsmittel modifizierten Lackformulierung, nach folgendem Rakeln und anschließender Härtung herge stellt wird.

27. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 26, da durch gekennzeichnet, daß als Bin demittel für den Lack zur Herstellung der Lackschicht Acrylate, Epoxide oder Vinylehter/Maleat-System einge setzt werden.