[go: up one dir, main page]

DE1963221A1 - Loesungsmittelgemisch - Google Patents

Loesungsmittelgemisch

Info

Publication number
DE1963221A1
DE1963221A1 DE19691963221 DE1963221A DE1963221A1 DE 1963221 A1 DE1963221 A1 DE 1963221A1 DE 19691963221 DE19691963221 DE 19691963221 DE 1963221 A DE1963221 A DE 1963221A DE 1963221 A1 DE1963221 A1 DE 1963221A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
rosin
trifluoroethane
mixtures
azeotrope
solvents
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19691963221
Other languages
English (en)
Inventor
Nesbitt Raymond Allen
Figiel Francis John
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Honeywell International Inc
Original Assignee
Allied Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Allied Chemical Corp filed Critical Allied Chemical Corp
Publication of DE1963221A1 publication Critical patent/DE1963221A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/028Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
    • C23G5/02809Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
    • C23G5/02812Perhalogenated hydrocarbons
    • C23G5/02816Ethanes
    • C23G5/02819C2Cl3F3
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M3/00Liquid compositions essentially based on lubricating components other than mineral lubricating oils or fatty oils and their use as lubricants; Use as lubricants of single liquid substances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2211/00Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2211/02Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions containing carbon, hydrogen and halogen only
    • C10M2211/022Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions containing carbon, hydrogen and halogen only aliphatic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2211/00Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2211/06Perfluorinated compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2215/00Organic non-macromolecular compounds containing nitrogen as ingredients in lubricant Compositions
    • C10M2215/16Nitriles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/08Hydraulic fluids, e.g. brake-fluids

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Lubricants (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Description

Prioritäti vom 23. Dezember 1968 Serial No. 786 478 in USA
Die elektronische Industrie sucht Lösungsmittel, die wirksam Eolophonium von Schalttafeln, die dieses enthalten, entfernen. Das Kolophonium wird absichtlich auf der Oberfläche der Schalttafeln vor dem Anlöten an elektronische Teile aufgebracht, muß aber nach dem Anlöten entfernt werden, um eine maximale Zuverlässigkeit der gedruckten Schaltung zu erreichen. Das Lösungs mittel muß nicht nur höchst wirksam für die Entfernung des unerwünschten Kolophoniums sein, sondern muß für industrielle Anwendungen auch stabil und nicht entflammbar und inert gegen die elaktroniachen Teile auf der Schalttafel selbst sein,
00*823/1784
BAD
Es wurde eine Reifte von Lösungsmitteln für diesen Zweck geprüft, doch wurden alle in größerem oder kleinerem Umfang iiinaientlieh der einen oder anderen der oben beschriebenen Eigenschaften als mangelhaft befunden. Beispielsweise sind chlorierte Lösungsmittel, wie CHpGIp und OHCl*, zwar hochwirksam für die Entfernung von Kolophonium, doch greifen solche Lösungsmittel, wenn sie alleine verwendet werden, die elektronischen Bestandteile an der Schalttafel an. Solche Lösungsmittel erfordern P auch den Zusatz eines Stabilisatora, um eine Zersetzung
zu verhindern. 1,1,2-Trichlor-1,2,2-trifluoräthan ist ein Beispiel einea üblichen Lösungsmittels, das nicht entflammbar und sehr stabil ist und daher während der Verwendung keine Zersetzungsprobleme verursacht. Leider zeigt dieses Mittel nur begrenzte Lösungsfähigkeit für Kolophonium, das gewöhnlich auf elektroniachen Einrichtungen benutzt wird. Es wurde eine Vielzahl von nicht konstant siedenden Lösungamittelgemiachen verwendet, um die gek wünachte Lösungsfähigkeit zu erreichen und gleichzeitig die erwünschte Inerthext gegen elektronische Teile zu behalten. An aolchen früher bekannten G-emischen ist jedoch nicht allgemein bekannt, daß sie einen genügend hohen Grad an Lösungsfähigkeit für Kolophonium besitzen. Außerdem führt eine vorherrschende Verdampfung der flüchtigeren Komponente dieser 6-emische zu Gemiaohen mit veränderter Zusammensetzung, die weniger erwünschte Eigenschaften, wie
009828/1784
■beispielsweise niedrigere Lösungsfähigkeit für Kolophonium, geringere Inertheit gegen die elektrischen Seile und erhöhte Entflammbarkeit "besitzen.
Eine Reihe binärer, azeotroper (konstant siedender) Gemische wurde zum Zwecke der Reinigung elektrischer Schaltungen verwendet, und diese Gemische besitzen viele mit Lösungsmittelgemischen erhältliche Vorteile, leiden andererseits aber nicht unter dem oben beschriebenen Nachteil, den nicht konstant siedende Lösungsmittelgemische haben« Beispiele solcher binaren azeotropenSysteme sind das Azeotrop von 1,1,2-Trichlor-1,2,2-trifluoräthan und Methylenchlorid, Kp.76o J11n= 37°O (USA-Patentschrift 2 999 817) und das Azeotrop von 1,1,2-Trichlor-1,2,2-trifluoräthan und Methylalkohol-, Kp4760 m= 390O (USA-Patentschrift 2 999 816)« Leider sind die Lösungseigenschaften dieser binären, azeotropen Zusammensetzungen gegenüber üblichem Kolophonium, wie es bei der Herstellung gedruckter Schalttafeln verwendet wird, derart;, daß'die Lösungsmittel entweder Schalttafeln oder Teile hiervon angreifen, auf den Schalttafeln Ablagerungen zurücklassen oder nach der Verwendung trüb werden. Es ist daher ein wesentliches Ziel dieser Erfindung, neue Lösungsmittelzusammensetzungen für Kolophonium, das normalerweise bei gedruckten Schalttafeln verwendet wird, zu erhalten, und diese neuen Lösungsmittelzusammensetzungen sollen einen hohen Grad an Lösungsfähigkeit für solches Kolophonium besitzen,
009828/ 1 7 8Λ
Ein anderes Ziel der Erfindung bestellt darin, neue Lösungsmittelzusammensetzungen für Kolophonium auf gedruckten Schalttafeln zu erhalten, die konstant sieden oder im wesentlichen konstant sieden. Eine andere Aufgabe der Erfindung ist es, neue Lösungsmittelzusammensetzungen für auf gedruckten Schalttafeln verwendetes Kolophonium zu bekommen, die die Eigenschaften hoher Lösungsfähigkeit, Nichtentflammbarkeit und Inertheit gegen elektronische Teile vereinigen.
Ein spezielles Ziel der Erfindung ist es, nicht entflammbare und stabile neue Lösungsmittelgemische von 1,1,2-Irichlor-1,2,2-trifluoräthan zu erhalten, die wesentlich bessere Lösungsfähigkeit für Kolophonium besitzen, welches man normalerweise auf gedruckten Schalttafeln findet.
Andere Ziele und Vorteile der Erfindung werden aus der folgenden Beschreibung offenbart.
Als Erfindung wurde gefunden, daß Gemische, die im wesentlichen aus 1,1,2-Trichlor-1,2,2-trifluoräthan (CCl2KiClF2) und Acetonitril (CH^CN) besttien und in denen der G-ewichtsprozentsatz von 1,1,2-Trichlor-1,2,2-trifluoräthan im Bereich von etwa 62 bis 98 $> liegt, überraschend hohe Löslichkeit für Kolophonium besitzen, dag üblicherweise auf gedruckten Schalttafeln verwende^wird. Zusammensetzungen in diesem Gewichtsprozentbereioh lösen einige Verunreinigungen, die
009828/178/»
—■ 5 —
weder in 1,1,2-Irichlor-1,2,2-trifluOräthan noch in Acetonitril alleine löslich sind* Außerdem bleiben Zusammensetzungen in diesem G-ewichtsprozentbereich selbst nach wiederholter Verwendung zur Lösung von Kolophonium klar, während bei Verwendung von 1,1,2-Trichlor-1,2,2-trifluoräthan oder Acetonitril alleine schnell eine Ausfällung des Kolophoniums in den Lösungsmitteln stattfindet, so daß diese trübe werden. Wiederholte Verwendung der Lösungsmittel in einem solchen Zustand führt zu einer Wiederablagerung von Kolophonium auf den Schalttafeln nach Entfernung der Lösungsmittel. Außerdem sind Zusammensetzungen im G-ewichtsprozentbereich von 62 bis 98 i<> nicht entflammbar und inert gegen elektrische fEeile, die auf gedruckten Schalttafeln verwendet werden.
Außerdem wurde gefunden, daß bei etwa 95 Gew.-fo 1,1S2-Iriehlor-1,2,2-trifluoräthan und 5 Gew.-$ Acetonitril ein binäres, azeotropes Gemisch gebildet wird, (Κρ.γ^0 ms~ 44,1 0C), und daß dieses Gemisch sowie einige äquivalente Gemische, in denen der Q-ewichtsprOzentaatz von 1,1,2-Crichlor~1,2,2-trif luoräthan zwischen etwa 80 und 97 G-ew,-$ liegt, konstant oder im wesentlichen konstant sieden. Solche Gemische zeigen entsprechend nur geringe oder gar keine Veränderung in der Zusammensetzung bei tailweiaer oä©r Yollstäadiger Verdampfting, wie sie b©i normaler Handhabung oder bei gewöhnliober Aufarbeitung auftrittβ
828/1784
i$
Eine bevorzugte Klasse von Zusammensetzungen innerhalb des Erfindungsgedanken ist jene, bei der der Gewichtsprozentsatz von 1, 1,2-2riehlor-1,2,2-trifluoräthan zwischen etwa 90 und 95 $> liegt. Solche Zusammensetzungen sind hinsichtlich der konstanten Siedeeigenschaften dem wirklichen Azeotrop am nächsten und unterliegen keiner feststellbaren Veränderung der Zusammensetzung bei teilweiser oder vollständiger Verdampfung oder Destillation» Hoch stärker bevorzugt ist die wirkliche azeotrope Zusammen-P Setzung aus etwa 95 G-ew.-$ 1,1,2-Trichlor-i»2,2-trifluoräthan.
Keines der Gemische innerhalb des Erfindüngsgedankens hat irgendeine nachteilige Wirkung auf Schalttafeln selbst oder auf die darauf befestigten elektronischen Bestandteile.
Das 1,1,2-Irichlor-i,2,2-trifluoräthan und das Acetonitril, die Bestandteile der neuen Lösungsmittelzusammenaetzungen k nach der Erfindung sind, sind beide im Handel erhältlich. Vorzugsweise sollten sie in ausreichend hoher' Reinheit verwendet werden, um die Einführung auf die lösungseigenachaften oder das konstante Sieden dea Systems nachteilige Einflüsse zu vermeiden. Ein ausreichend reines 1,1, 2~Trichlor-1,2,2-trifluorätnan wird beispielsweise von Allied Chemical Corporation unter der Handelsbezeichnung "&enesolv"D in den Handel gebracht.
Die neuen binären Semiaeiie naeh der Erfindung können ga~
009828/1784
reinigt und für die Verwendung wiedergewonnen werden, nach-dem sie duroh einfache Kurzwegdestillation schließlich gesättigt wurden.
Die folgenden Beispiele dienen der weiteren Erläuteztng der Erfindung.
BEISPIEL 1
Das wahre azeotrope Gemisch nach der Erfindung wurde folgendermaßen hergestellt! '
Eine Probe von etwa 1 Mol (41,0 g) CH^CN, Kp. 820O, und etwa 2 Mol (375,0 g) CCl2FOClP2, Kp8 4-7,70C, wurde in ' einem 2000 ml Kolben einer Laboratoriumsdestillationsanlage mit einer Länge von 1,22 m und einem Durchmesser von 1,3 cm unter Rückfluß erhitzt. Die Temperatur am Kopf der Destillationsanlage betrug 44-,1°C/76O mm. Diese Temperatur liegt unterhalb der Siedepunkte beider Mischungskomponenten, was zeigt, dass/eich ein binäres Azeotrop gebildet hat» Eine Probe des Azeotropdestillats wurde durch Flussigkeits-Gashromatographie analysiert, und dabei wurde die Gegenwart von CH,CN und CCl2FCClF2 bestätigt. Das Azeotrop wurde dann erneut destilliert, doch trat dabei keine Veränderung des Siedepunkte oder der Zusammensetzung auf. Die genaue Zusammensetzung wurde dann durch Oalibrierung des Chromatograms bestimmt, wobei man folgende Zusammensetzung fand.
009828/178A
95,1 Gew.-^ 4,9 Gew.-^
Dieses Azeotrop wurde hinsichtlich der Entflammbarkeit mit Hilfe des Flammpunkttests mit offener Schüssel (ASTM D 1310-63) untersucht und als nicht entflammbar eingestuft.
BEISPIEL 2
daß
Dieses Beispiel zeigt,/das neue Azeotrop ein stabiles Lösungsmittel in Gegenwart von Wasser selbst ohne Zusatz eines Stabilisators ist.
Etwa 65 g des wirklichen Azeotrops (95,1 Grew.-$ 4,9 Gew.-^ GH,CH) wurden mit etwa 18 Gew.-$ Wasser während etwa 24 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Danach wurde für die wässrige Schicht der Testprobe und für den Wasserextrakt einer wie oben beschrieben ohne Rückflußkochen hergestellten Blindprobe eine Chloridbestimmung angefertigt. In keiner der Proben wurde mehr Chlorid als 0,1 ppm Cl" entdeckt, was anzeigt, daß das Azeotrop in Gegenwart von Wasser stabil war,
BEISPIEL 3
Die Lösungsfähigkeit bestimmter Gemische von CCl2FCClF2 und CH^CH wurde durch Bestimmung ihrer Kauri-Butanolwerte (K-B-Werte) gemäß ASTM d 1133-542 bewertet. Die Ergebnisse
0 0-98 28/;! 78 4
7 BAD
a -
dieser Bewertungen aind nachfolgend zusammengestellt.
I/JSÜI&SMITTEL K-B-WBHfli
32 16,9
95.1 Gew.-9& OGl2FOOIf2 .41,6
4,9 Gew.-^ CH3CH (Azeotrop)
98 Gew.-$ COl2FCOlF2 37,5
2 Gew.-$ OH3CH
97 Gew.-^ OCl2FOOlF2 38,9 *
3 Gew.-# OH3OH
95 Gew.-^ CCl2PCClP2 41,5
5 Gew.-4> OH3CH
90 Gew.-^ CCl2PCOlP2 48,0
10 Gew.-^ CH3CH
80 Gew.-^ CCl2PCClP2 48,0
20 Gew.-# OH3CH
62 Gew.-# COl2PCClP2 32,5 *
38 Gew.-?i CH3CH
50 Gew.-# OCl2POOlP2 26,0
50 Gew.-^ OH3CH
♦ bestimmt durch Interpolation.
Die obigen Werte aeigen, daß die K-B-Werte aller oben genannten Gemische innerhalb dee Erfitidungagedsnkens
r alß äiß K-B-'Wsrta dar Miacliungakomponeiiten alleina
zeigt, dai3 die Löaungg-fähigkeiten 009 828/178A
BAD ORJGINAL
- 40 -
Gemische größer ala jene der Miachungskomponenten alleine aincl.
BEISPIEL 4- ' ■
Die überraschend hohe Lösungsfähigkeit des neuen azeotropen Gemisches, wurde außerdem durch die folgenden Werte gezeigt:
Eine Reihe von Aluminiumquadraten (2x4- cm) wurde gewogen Il und dann mit Kolophonium No. 77-25-TA (einem Produkt der London Chemical Company) überzogen. Dies ist ein Kolophonium, daa bei der Herateilung gedruckter Schaltungen gewöhnlich verwendet wird und enthält als Hauptbestandteile einige Formen von Fichtenharz, Abietinsäure und entsprechender Substanzen. Die überzogenen Quadrate wurden in einem Ofen bei 2320C 30 Sekunden und dann bei 287°0 nochmals 30 Sekunden eingebrannt. Die eingebrannten überzogenen Quadrate wurden dann wiederum gewogen, um das Gewicht des. auf ihnen abgelagerten Überzugs zu bestimmen. Einige . der Quadrate wurden dann vollständig in eine Probe des neuen Azeotrops (95,1 Gew.-% QQl2IGGlV2/'4,9 Gew.-# CH5GN) eingetaucht. Andere der überzogenen Quadrate wurden in CH,CN alleine und noch andere'^.n GGl2IGGl^2 all β ine eingetaucht. Naoh Eintauchen während 15 Sekunden in jedes der Lösungsmittel bei 210C wurden die Quadrate wieder aua dem Lösungsmitteln entfernt. Dann wurden aie gewogen, um das Gewicht der auf ihnen zurückgebliebenen Rückstände des Überzugs zu ermitteln. Dies ermöglichte die Berechnung
009828/1784
der entfernten Gewichtsprozent des Überzuges. Die Er~. gebnisse sind in der nachfolgenden Tabelle gezeigt.
TABELLE II
LÖSUNGSMITTEL
Azeotrop
Gew. des auf Gew. des ver Gew. den
gebrachten Über bleibenden Über entfern
zuges (g) zugs-ante ils ten Über-·
\(g) zugsan-
teils (^)
0,0125 0,0023 81,6
0,0096 0,0037 61,8.
0,0117 0,0007 94,0
0,0112 0,0012 89,3
0,0128 0,0000 1 00 ,.0
0,0102 0,0000 1 00,0
Während der oben beschriebenen Versuche wurde beobachtet, daß CO12PCC1I1 2 und CR5CK, wenn sie alleine als Lösungsmittel verwendet wurden, trübe wurden und am Ende der Versuche Ausfällungen des Überzugs enthielten, während die Azeotroplösung klar blieb, obwohl in ihr 100 $ des Überzugs gelöst waren. Die überraschend; hohe Lösungsfähigkeit der neuen Gemische zeigt, daß man bei deren Verwendung als Reinigungsflüssigkeit für gedruckte elektronische Schaltungen mehr gelöstes Kolophonium in Lösung halten kann, selbst nach wiederholter Verwendung, so daß man ein Trübwerden der Lösung, ein Ausfällen von Kolophonium aus der Lösung und eine Wiederablagerung dünner Kolophoniumfilme auf den Oberflächen, von denen das Kolophonium entfernt wurde, verhindert.
009828/178Λ
werden.
- 12 -
Die neuen Lösungamittelgemische nach der Erfindung finden auch andere Lösungsmittelanwendungen, beispielsweise zur Entfernung- von Gasen und Ölen aus einer Vielzahl industrieller Stoffe, zur Entfernung von Lötflußmitteln, für die Reinigung fotographischer Filme und Drucke, für die Entfernung von Hautfärbemitteln, wie Schminke, und außerdem können sie als Wärmeaustauschmedien, elektrische Überführungsmedien, chemische Reaktionsmedien und hydraulische Flüssigkeiten benützt
Für den Fachmann ist es selbstverständlich, daß für spezielle Zwecke verschiedene Zusätze in die neuen Lösungsmittelgemische nach der Erfindung eingearbeitet werden können, wie beispielsweise Schmiermittel, Detergentien und dgl. Diese Zusätze müssen jedoch so ausgewählt werden, daß',aie keine nachteilige Wirkung auf wesentliche Eigenschaften der Gemische für ein bestimmtes Anwendungsgebiet haben.
009828/1784

Claims (2)

1163221
PATBITANSPRÜCHE
1, Gemisch mit einem Gehalt eines chlorierten Kohlenwasserstoffes, dadurch gekennzeichnet, daß es im wesentlichen aus 1,1,2-Triehlor-1,2,2-trifluoräthan und Acetonitril besteht und etwa 62 "bis 98 Gew.-^ 1,1,2-Triohlor-1,2,2-trifluoräthan enthält.
2. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es etwa 80 bis 97, vorzugsweise etwa 90 bia 95, besonders etwa 95 Gew.-# 1,1i,2-Trichlor-l,2,2-trifluoräthan enthält.
009828/1784
DE19691963221 1968-12-23 1969-12-17 Loesungsmittelgemisch Pending DE1963221A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US78647868A 1968-12-23 1968-12-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1963221A1 true DE1963221A1 (de) 1970-07-09

Family

ID=25138714

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19691963221 Pending DE1963221A1 (de) 1968-12-23 1969-12-17 Loesungsmittelgemisch

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3553142A (de)
JP (1) JPS4922310B1 (de)
DE (1) DE1963221A1 (de)
GB (1) GB1239810A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2533357A1 (de) * 1974-07-25 1976-02-05 Du Pont Azeotropartige stoffzusammensetzung

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3802185A (en) * 1972-06-14 1974-04-09 Du Pont Generation of power using trichlorobenzene in a rankine-cycle engine
GB1440438A (en) * 1972-09-07 1976-06-23 Ici Ltd Cleaning process
FR2205562B1 (de) * 1972-11-09 1976-10-29 Rhone Progil
US4045365A (en) * 1976-05-13 1977-08-30 Allied Chemical Corporation Azeotrope-like compositions of trichloro-trifluoroethane, acetonitrile and acetone
US4422883A (en) * 1981-08-18 1983-12-27 Lazar Warren G Method for removing cyanoacrylate adhesives from surfaces
US4381248A (en) * 1981-08-18 1983-04-26 Lazar Warren G Composition for removing cyanoacrylate adhesives from surfaces
US4401584A (en) * 1982-05-17 1983-08-30 Allied Corporation Solvent based dewatering system with demulsifier
US5342551A (en) * 1992-11-04 1994-08-30 Cello Corporation Noncaustic floor finish remover

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2533357A1 (de) * 1974-07-25 1976-02-05 Du Pont Azeotropartige stoffzusammensetzung

Also Published As

Publication number Publication date
GB1239810A (en) 1971-07-21
US3553142A (en) 1971-01-05
JPS4922310B1 (de) 1974-06-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69430166T2 (de) Pentafluorobutan enthaltende Zusammensetzungen und deren Verwendung
DE2533357C3 (de) Azeotropartige Stoffzusammensetzung zur Reinigung von Schaltungsplatten
DE68914171T2 (de) Azeotrope Mischungen von 1,1-Dichlor-1-fluorethan und Methanol/Ethanol.
WO1991006690A1 (de) Gemisch zur reinigung von leiterplatten
DE2133852A1 (de) Lösungsmittelzusammensetzungen
CH676718A5 (de)
DE1963221A1 (de) Loesungsmittelgemisch
DE69616299T2 (de) Hydrofluoralkanverbindungen enthaltende zusammensetzungen und verfahren zur beseitigung von wasser von einer harten oberfläche
DE69915591T2 (de) Zusammensetzungen von 1,1,1,3,3-pentafluorpropan und trans-1,2-dichlorethylen
DE1468464A1 (de) Stabilisierung von Methylchloroform
DE3115015C2 (de) Azeotropes Lösungsmittelgemisch
DE69910916T2 (de) Reinigungs- und Trocknungsmittel auf Basis von 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-Decafluorpentan und 1,1,1,3,3-pentafluorbutan
DE68912325T2 (de) Azeotropähnliche zusammensetzungen von 1,1-dichloro-1-fluoroethan, methanol und nitromethan.
DE4017492A1 (de) Reinigungszusammensetzungen aus wasserstoffhaltigen fluorchlorkohlenwasserstoffen und partiell fluorierten alkanolen
DE1546079B2 (de) Azeotropes loesungsmittelgemisch insbesondere zur entfernung eines harzflussmittels von gedruckten schaltungen
DE2942799A1 (de) Reinigungszusammensetzung auf der basis von 1,1,2-trichlor-1,2,2-trifluoraethan
DE60005881T2 (de) Reinigungs- oder Trocknungszusammensetzungen auf Basis von Pentafluorbutan, Methylenchlorid, Methanol und Decafluorpentan
DE3911078A1 (de) Reinigungszusammensetzungen
DE2003189A1 (de) Loesungsmittelgemisch
DE2321880C2 (de) Lösungsmittelgemische für die Reinigung von gelöteten elektrischen Bauteilen und ihre Verwendung
DE2133850C3 (de) Lösungsmittelzusammensetzungen
DE2208196A1 (de) Konstant siedendes ternäres Gemisch
DE2655106C2 (de) Azeotropes bzw. azeotropartiges Lösungsmittelgemisch und dessen Verwendung
DE2133849C3 (de)
DE1232949B (de) Stabilisierung von Trichlor-und Perchloraethylen