DE1764940C3 - Solid-state imager - Google Patents
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
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- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
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Description
3. Bildwandler nach Anspruch!, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht (MMI) einen nichtlir.earen spezifischen Widerstand hat.3. Image converter according to claim !, characterized in that that the intermediate layer (MMI) has a non-linear specific resistance.
4. Bildwandler nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht (600) ein ferroelektrisches Material enthält.4. Image converter according to claim 2 or 3, characterized in that the intermediate layer (600) contains a ferroelectric material.
5. Bildwandler nach einem der Ansprucne 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Elektrode angrenzend an die Zwischenfläche zwischen der Zwischenschicht und der energieempfindlichen Schicht angeordnet ist.5. Image converter according to one of claims 2 to 4, characterized in that the third Electrode adjacent to the interface between the intermediate layer and the energy sensitive one Layer is arranged.
6 Bildwandler nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Elektrode quer über die Zwischenfläche zwischen der Zwischenschicht und der energieempnndlichen Schicht angeordnet ist.6 image converter according to claim 2, characterized in that the third electrode across the interface between the intermediate layer and the energy-sensitive layer is.
7. Bildwandler nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Elektrode in die Zwischenschicht eingebettet ist.7. Image converter according to claim 2, characterized in that the third electrode is in the intermediate layer is embedded.
8. Bildwandler nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Widerstand über die Dicke der Elektrolumincs/enzschicht(lOO) niedriger ist als der Höchstweii des Widerstandes über die Dicke der energieempfindlichen Schicht (100).8. Image converter according to one of claims 1 to 7, characterized in that the resistance over the thickness of the electroluminescent / enzschicht (100) is less than the maximum resistance across the thickness of the energy sensitive Layer (100).
liehen Schicht anschließenden zweiten Elektrode und einer zwischen der ersten und der zweien Elektrode S-Absland von diesen angeordneten, öffnungen aufweisenden dritten Elektrode, deren einzelne Elek-Trodenelemente mit einem f^kt"schen Material ummantelt sind, nach Patent 1764 079Lent layer adjoining second electrode and a third electrode arranged between the first and the second electrode S-Absland of these, having openings, the individual electrode elements of which are coated with a f ^ kt " s material, according to patent 1764 079
Durch diesen Gegenstand des Hauptpatents wird erreicht daß der Festkörper-Bildwandler mit einer energieempfindlichen Schicht gebaut werden kann,Through this subject of the main patent is achieved that the solid-state image converter with a energy-sensitive layer can be built,
to die einen niedrigen spezifischen Dunkelwiderstand oder eine niedrige Dunkelimpedanz aufweist, und trotzdem eine zufriedenstellende Wandlcrcharakteristik zciEt Die isolierte dritte Elektrode wirkt hierbei in der Weise, daß von dem elektrischen Feld, dasto which has a low specific dark resistance or a low dark impedance, and Nevertheless, a satisfactory converter characteristic zciEt The isolated third electrode works here in such a way that from the electric field that
is von der Spannung zwischen der ersten und der zweiten Elektrode aufgebaut wird, im Dunkelzustand derienise Anteil von der Elektrolumineszenzschicht subtrahiert wird, der aufgrund des relativ niedrigen Dunkelwiderstands der photoleitenden Schicht ohne eineis on the tension between the first and the second Electrode is built up in the dark state Portion is subtracted from the electroluminescent layer, which is due to the relatively low dark resistance the photoconductive layer without one
ao derartige Beeinflussung an der Elektrolumineszenzschicht3 anliegen würde. Damit kann der Fcldeinfluö auf die Elektrolumineszenzschicht bei fehlender Einstrahlung sehr niedrig gehalten werden. Hierbei können die Arbeitskennlinien des Bildwandlers überao such influencing would be applied to the electroluminescent layer 3. In this way, the influence of the film on the electroluminescent layer can be kept very low when there is no irradiation. Here, the working characteristics of the image converter can be
Die Erfindung bezieht sich auf einen Festkörper-Bildwandler mit einer Elektrolumines/enzschichi. einer an einer Seite der Elektrolumineszenzschichi angeordneten energieempfindlichen Schicht aus einem Material, dessen Impedanz in Abhängigkeit von der Erregung durch aufgestrahlte Energie veränderlich ist. einer an der Außenfläche der cnergicomplindeinen weiten Bereich frei gesteuert oder verändert werden wenn wenigstens eine der Beziehungen zwischen Amplitude, Polarität und Phase der zwischen die erste und zweite Elektrode und zwischen die erste und dritte Elektrode gelegten beiden Spannungen frei einstellbar oder veränderlich ist.The invention relates to a solid state imager with an electrolumines / enzschichi. one on one side of the electroluminescent layer arranged energy-sensitive layer made of a material whose impedance depends on the Excitation is changeable by radiated energy. one on the outer surface of the cnergicomplindeine wide range can be freely controlled or changed if at least one of the relationships between Amplitude, polarity and phase of the between the first and second electrodes and between the first and the third electrode applied to the two voltages is freely adjustable or variable.
Bildwandler mit in den Bildschirm eingebetteter dritter Elekrode sind an sich bekannt (DT-Gbm 1 869 477) und zwar in Form einer Gitterelektrode, die mit einer der Außenelektroden verbunden ist und in die energieempfindliche Schicht eingebaut ist, deren Querleitfähigkeit bei Belichtung praktisch auf eine Vergrößerung der Gitterelektrode hinausläuft, von der ein Teil des gesamten erregenden Stroms abgefangen wird.Image converters with a third electrode embedded in the screen are known per se (DT-Gbm 1 869 477) in the form of a grid electrode, which is connected to one of the external electrodes and built into the energy-sensitive layer, the transverse conductivity of which practically amounts to an enlargement of the grid electrode when exposed, which intercepts part of the total exciting current.
Es ist auch bekannt (DT-AS 1087 608, Fig. 21, 22) eine als WGE-Schicht bezeichnete, durch eine angelegte Wechselspannung zur Lichlerzeugung anpereote und in ihrer Lichtstärke hierbei durch eine der "Wechselspannung überlagerte Gleichspannung ^steuerte Schicht als Elektrolumineszenzschicht zu verwenden. Durch die Verwendung einer solchen Schicht lassen sich besonders günstige Charakteristiken erzielen, da die Wechselstromerregung konstant bleibt und die steuernde Gleichspannung sich leichter unter Vermeidung kapazitiver Störcinnüsse durch die energieempfindliche Schicht beeinflussen läßt. Auch hierbei kann jedoch ein energieempfindliches Material mit relativ niedrigem Dunkelwiderstand zu ungünstigen Erscheinungen führen, da die der anliegenden Gleichspannung überlagerte Wechselspannung bei zu niedrigem Widerstand der energieempfindlichen Schicht eine hohe ohmsche Wechs"elstromkomponente enthält, die die Konstanz der Erregung und die Steuercharakteristik durch die Gleichspannung ungünstig beeinflußt.It is also known (DT-AS 1087 608, Fig. 21, 22) a WGE layer called a pereote by an applied alternating voltage to generate Lichler and in their light intensity by a direct voltage superimposed on the alternating voltage ^ to use controlled layer as electroluminescent layer. By using such a Layer, particularly favorable characteristics can be achieved because the alternating current excitation is constant remains and the controlling DC voltage is easier to avoid while avoiding capacitive jamming nuts can be influenced by the energy-sensitive layer. Here too, however, an energy-sensitive Material with a relatively low dark resistance lead to unfavorable phenomena, since the AC voltage superimposed on the applied DC voltage if the resistance of the energy-sensitive ones is too low Layer a high ohmic alternating current component which contains the constancy of excitation and the control characteristic is adversely affected by the DC voltage.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, du Vorteile des Gegenstands des Hauptpatents auch be Verwendung einer Schichtung, die die günstiger Eigenschaften WGE-Schicht erbringt. aMS/unut/en also die Wechselstromerregung vom sich ändernder ohmschcn Widerstand der energieempfindlichci Schicht möglichst unabhängig /u machen. Der Ge eenstand des MauptpaU-nts ist gemäß der Er(indun<The invention is based on the object, you also be advantages of the subject matter of the main patent Use of a layer that provides the more favorable properties of the WGE layer. aMS / unut / en So the alternating current excitation from the changing ohmic resistance of the energy-sensitive Make shift as independent as possible / u. According to the Er (indun <
dadurch weiter ausgestaltet, daß die Elektrolumineszenzschicht eine durch Wechselspannung erregbare und durch Gleichspannung in ihrem Lumineszenzausgang steuerbare WGE-Schicht ist und daß zwischen der ersten und zweiten Elektrode die Gleichspannung und zwischen der ersten und der dritten Elektrode die Wechselspannung angelegt ist.further developed in that the electroluminescent layer one that can be excited by alternating voltage and by direct voltage in its luminescence output controllable WGE-layer and that between the first and second electrode the direct voltage and the alternating voltage is applied between the first and the third electrode.
Durch diese Ausbildung sind die günstigen Charakteristiken der WGE-Schicht ausnutzbar, und die Wechselspannung wird durch die in den Bildschirm eingebettete, isolierte öffnungen aufweisende dritte Elektrode an die WGE-Schicht angelegt. Entsprechend der Lage dieser dritten Elektrode liegt das Wechselfeld nur über Schichten, die durch die Einstrahlung nicht unmittelbar beeinflußt werden, so daß die Änderungen im spezifischen Widerstand der energieempfindlichen Schicht die Wechselr.romleistung nicht unmittelbar beeinflussen und deshalb in dieser Hinsicht keine Beschränkungen für das Material der energieempfindlichen Schicht gegeben sind.Through this training are the favorable characteristics the WGE layer can be exploited, and the alternating voltage is generated by the in the screen embedded third electrode having insulated openings applied to the WGE layer. Corresponding Due to the position of this third electrode, the alternating field lies only over layers caused by the radiation are not directly influenced, so that the changes in the resistivity of the energy-sensitive Shift does not directly affect the AC power and therefore in this Regarding the material of the energy-sensitive layer there are no restrictions.
Zur sicheren Verteilung des Wechselspannungsfeldes über die ganze Fläche der Elektrolumineszenzschicht kann die Ausführung zweckmäßig sein, daß zwischen der Elektrolumineszenzschicht und der cnergieempfindlichen Schicht eine Zwischenschicht angeordnet ist, die einen elektrischen Widerstand aufweist. Es ist auch möglich, für die Zwischenschicht ein Material zu wählen, das einen nichtlinearen spezifischen Widerstand hat. Hierdurch ist zwar ebenfalls eine Beeinflussung des erregenden Wechselspannungsfcldes durch den örtlichen Gleichstrom und damit durch die einstrahlende Energie gegeben, jedoch kann diese Beeinflussung in einem der gewünschten Charakteristik des Bildwandlers entsprechenden Sinne gewählt werden.For safe distribution of the alternating voltage field over the entire surface of the electroluminescent layer the execution may be appropriate that between the electroluminescent layer and the Energy-sensitive layer, an intermediate layer is arranged which has an electrical resistance. It is also possible to choose a material for the intermediate layer that is specific to a nonlinear Has resistance. This also influences the exciting alternating voltage field given by the local direct current and thus by the irradiating energy, however this influence can correspond to one of the desired characteristics of the image converter Senses are chosen.
Weitere Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus den LJntcransprüchen. In der folgenden Beschreibung zeigtFurther details of the invention emerge from the patent claims. In the following description shows
F i g. 1 schematisch und teilweise im Schnitt eine Ausführungsform der Erfindung mit der zugehörigen elektrischen Schaltung undF i g. 1 schematically and partially in section an embodiment of the invention with the associated electrical circuit and
F i g. 2 eine zur Schaltung der Ausführungsform nach Fig. 1 äquivalente vereinfachte elektrische Schaltung!F i g. FIG. 2 shows a simplified electrical circuit which is equivalent to the circuit of the embodiment according to FIG. 1 Circuit!
Fig. 1 zeigt einen Festkörper-Bildwandler mit einer Elektrolumineszenzschicht 100 in Form einer WGE-Schicht, die zwischen der Oberseite einer ersten, lichtdurchlässigen Elektrode 110 aus einem hitzebeständigen und lichtdurchlässigen Metalloxid, beispielsweise aus Zinnoxid, die auf eine Tragplatte 120 aus einem transparenten und hitzefesten Material wie Glas aufgeschichtet ist und einer energieempfindliclien, beispielsweise photoleitfähigen Schicht 200 angeordnet ist.Fig. 1 shows a solid-state image converter with an electroluminescent layer 100 in the form of a WGE layer, which is between the top of a first, transparent electrode 110 made of a heat-resistant and transparent metal oxide, For example, made of tin oxide, which is on a support plate 120 made of a transparent and heat-resistant material such as glass is coated and an energy-sensitive, e.g. photoconductive layer 200 is arranged.
Der Ausdruck »WGE-Schicht« bezeichnet eine Schicht aus einem elcktrolumineszierenden Material, das in einem dielektrischen Medium dispergiert ist, das einen Widersland aufweist oder ein Elektret ist. Bei Anlage eines äußeren polarisierenden Feldes einer festen Richtung hält es eine Restkomponente dieses Feldes aufrecht, auch wenn die äußere Spannung nicht mehr auf sie einwirkt. Der Lumineszenzausgung der WGE-Schicht aufgrund einer dekttrischcn Wechselfelderregung ist durch ein an es angelegtes elektrisches Gleichfeld steuerbar.The term "WGE layer" denotes a layer made of an electtroluminescent material, that is dispersed in a dielectric medium that has a contradiction or is an electret. When an external polarizing field is applied in a fixed direction, it holds a residual component this field upright, even if the external tension no longer acts on it. The luminescence output the WGE layer due to a dekttrischcn Alternating field excitation can be controlled by a DC electric field applied to it.
Die WGE-Schicht ist in einer Dicke von 20 bis 50 μΐη auf die erste Elektrode 110 aufgebracht und mit ihr verschmolzen. Sie ist unter Verwendung eines Pulvers des dielektrischen Materials, das einen elektrischen Widerstand aufweist oder speicherbar polarisierbar ist, also beispielsweise aus einem Glasemaille, der ein einen elektrischen Widerstand aufweisendes, also geringfügig leitfähiges Metalloxid wie SnO2 und außerdem Li und/oder Ti enthält, hergestellt. Das dielektrische Material ist .nit einem Pulver eines elektrolumineszierenden Fluoreszenzmaterials wie ZnS gemischt.The WGE layer is applied to the first electrode 110 in a thickness of 20 to 50 μm and fused to it. It is made using a powder of the dielectric material that has an electrical resistance or can be polarized in a storable manner, for example from a glass enamel that contains an electrically resistive, i.e. slightly conductive metal oxide such as SnO 2 and also Li and / or Ti . The dielectric material is mixed with a powder of an electroluminescent fluorescent material such as ZnS.
ίο Die energieenipfindliche Schicht 200, deren spezifischer Widerstand sich in Abhängigkeit von der Erregung durch eine Einfallsenergie ändert, steht mit einer zweiten Elektrode 210 in Berührung, die für die Eisifallsenergie durchlässig ist.ίο The energy sensitive layer 200, its more specific Resistance changes depending on the excitation by an incident energy, stands with a second electrode 210 in contact, which is permeable to the ice fall energy.
Die energieempfindliche Schicht 200 besteht bei dieser Ausführungsform aus einer Mischung eines Binders, wie Epoxyharz, und eines photoleitenden Materials, wie CdS, CdSe oder CdS.Se. Die Mischung ist schichtförmig aufgebracht und durch Erhitzen für 5 Minuter, auf 600f C im Vakuum oder einer inerten StickstolTatmosphäre abgebunden.In this embodiment, the energy-sensitive layer 200 consists of a mixture of a binder, such as epoxy resin, and a photoconductive material, such as CdS, CdSe or CdS.Se. The mixture is applied in layers and set by heating for 5 minutes at 600 ° C. in a vacuum or an inert nitrogen atmosphere.
Die gesinterte energieempfindliche Schicht weist etwa lineare Spannungs-Photostrom-Kennlinien auf, die im Vergleich mit ungtsinierten Elementen einen Betrieb mit sehr hoher Empfindlichkeit möglich machen.The sintered energy-sensitive layer has approximately linear voltage-photocurrent characteristics, which, in comparison with non-sined elements, enables operation with very high sensitivity do.
Der spezifische Widerstand der energieempfindlichen Schicht 200 nimmt in Abhängigkeit von der Einfallsenergie, wie Licht oder Röntgenstrahlen, ab.The specific resistance of the energy-sensitive layer 200 increases depending on the Incident energy, such as light or X-rays.
3a Der spezifische Dunkelwiderstand soll beispielsweise größer als 109Ohm-cm sein. Die Dicke der energieempfindlichen Schicht 200 beträgt 50 bis 500 um, damit der Dunkelwiderstand in Richtung ihrer Dicke gleich oder besser größer ist als der spezifische Widerstand der Elektrolumineszenzschicht 100 in Richtung ihrer Dicke.3a The specific dark resistance should be greater than 10 9 ohm-cm, for example. The thickness of the energy-sensitive layer 200 is 50 to 500 µm in order that the dark resistance in the direction of its thickness is equal to or better than the specific resistance of the electroluminescent layer 100 in the direction of its thickness.
Die zweite Elektrode 210 ist beispielsweise als dünne Folie aus Gold oder Aluminium, als in Vakuum aufgedampfte dünne Metallschicht oder mit Silbeianstricli hergestellt. Sie kann auch gitterartig ausgebildet sein und aus Metalldrähten bestehen, die einen Durchmesser von 10 bis 50 (im und einen Abstand von 100 bis 500 μνη aufweisen. Ist die zweite Elektrode 210 derart durchbrochen ausgebildet, so kann sie teilweise oder ganz in die energieempfindliche Schicht 200 versenkt sein. Eine derartige zweite Elektrode erbringt überdies den Vorteil, daß Schwankungen des spezifischen Widerstandes in Richtung der Ebene ausgenutzt werden können.The second electrode 210 is, for example, as a thin foil made of gold or aluminum, as in a vacuum Vaporized thin metal layer or made with silver stricli. It can also be grid-like be formed and consist of metal wires that have a diameter of 10 to 50 (in and a distance have from 100 to 500 μνη. If the second electrode 210 is designed to be perforated in this way, then it can be partially or completely sunk into the energy-sensitive layer 200. Such a second Electrode also has the advantage that fluctuations in the specific resistance in the direction the level can be exploited.
Eine unterteilte oder durchbrochene, Öffnungen aufweisende dritte Elektrode 310 besteht aus elektrisch leitfähigen Elektrodenelementen 301, die mit dielektrischem Material 302 hohen spezifischen Widerstandes beschichtet sind. Die durchbrochene Elektrode 310 ist zwischen der ersten und der zweiten Elektrode angeordnet. Ihre Elektrodenelemente 310 bestehen beispielsweise aus Wolfram- oder Kupferdraht eines Durchmessers von 10 bis 30 μΐη, und das dielektrische Material 302 hoher Dielektrizitätskonstanle besteht beispielsweise aus Polyesterharz oder Glas und hat eine Dicke von 2 bis 10 (im. In der hier beschriebenen Ausführungsform hat die dritte Elektrode 310 die Form eines Gitters mit nebeneinanderliegenden Gitterlinien. Sie kann auch durch Vernetzung der beschriebenen beschichteten Leiter oder durch Beschichtung eines metallischen Netzes mit dem dielektrischen Material hergestellt sein. Der Raumfaktor des Leiters 301 der drittenA subdivided or perforated third electrode 310 having openings is made of electrically conductive electrode elements 301 made with dielectric material 302 high specific Resistance are coated. The pierced electrode 310 is between the first and second Electrode arranged. Your electrode elements 310 consist for example of tungsten or Copper wire of 10 to 30 μm in diameter, and the high dielectric constant dielectric material 302 consists for example of polyester resin or glass and has a thickness of 2 to 10 (im. In the embodiment described here, the third electrode 310 has the shape of a grid adjacent grid lines. It can also be coated by crosslinking the described Conductor or by coating a metallic network with the dielectric material be. The space factor of the conductor 301 of the third
Elektrode 310 ist so zu wählen, daß sie trotz ihres Gleichstromzunahmen vermieden werden können,Electrode 310 is to be chosen so that it can be avoided in spite of its increase in direct current,
durchbrochenen Aufbaues hinsichtlich eines elek- etwa indem man ein nicllitlineares Widerstandsmate-openwork structure with regard to an electronic
trischen Wechselfeldes etwa die gleiche Wirkung er- rial wie CdS: Cl oder SiC anstelle des Widerstands-tric alternating field has about the same effect as CdS: Cl or SiC instead of the resistance
reicht, wie eine feste Plattenelektrode, wenn eine Be- metalloxids für die oben beschriebene Zusammen-is sufficient, like a solid plate electrode, if a metal oxide is used for the
triebswechselspannung VA zwischen der ersten Elek- 5 Setzung verwendet. In diesem Fall kann mindestensAC drive voltage V A used between the first electrical 5 setting. In this case at least
trode 110 und der dritten Elektrode 310 angelegt eine der beiden reflektierenden oder lichtundurch-electrode 110 and the third electrode 310, one of the two reflective or opaque
wird. Die dritte Elektrode 310 soll also so aufgebaut lässigen Widerstandsschichten fortgelassen werden,will. The third electrode 310 should therefore be omitted with permeable resistance layers constructed in such a way that
sein, daß die die Elektrolumineszenzschicht 100 erre- Die dritte Elektrode 310 ist auf der ZwischenschichtThe third electrode 310 is on the intermediate layer
gende Wechselstromleistung durch Schwankungen im 600 oder bei deren Wegfall auf der Elektrolumines-low alternating current power due to fluctuations in the 600 or when they cease to exist on the electroluminescent
spezifischen Widerstand der energieempfindlichen io zenzschicht 100 angeordnet.specific resistance of the energy-sensitive io zenzschicht 100 arranged.
Schicht 200 nicht stark beeinflußt wird. Der Abstand Um die Äquivalenz der dritten Elektrode 310 zu
zwischen zwei nebeneinanderliegenden Leitern der in einer festen Plattenelektrode hinsichtlich der Aus-F
i g. 1 gezeigten dritten Elektrode 310 soll möglichst wirkung auf ein elektrisches Wechselfeld sicherzukleiner
als 400 μΐη sein. In einer Netzgitterelektrode stellen, ist in der Ebene der dritten Elektrode 310
soll das Netzwerk feiner sein als 50 Mesh. Solche 15 eine Widerstandshilfsschiicht 700 vorgesehen, die zu-Abstände
der Leiter bei der Elekrode 310 erlauben mindest einen Teil der öffnungen in der dritten Elekden
Durchtritt von Gleichstrom von der Elektro- trode 310 ausfüllt. Der spezifische Widerstand der
lumineszenzschicht 100 zur energieempfindlichen Widerstandshilfsschicht 700 ist mit einem Wert geSchicht
200. Haben die zweite Elektrode 210 und die wählt, der eine stärkere Streuung des Gleichstroms
dritte Elektrode 310 die Form ähnlicher Gitter, so 20 verhindert. Es ist experimentell nachweisbar, daß
soll das Gitter der zweiten Elektrode 210 derart an- eine Widerstandshilfsschicht 700 mit einem spezigeordnet
sein, daß die Teile ihres Gitters diejenigen fischen Oberflächenwideistand von 10° bis 109 Ohmdes
Gitters der Elektrode 310 kreuzen oder in Hori- cm zufriedenstellende Ergebnisse erbringt. Erfüllt
zontalprojektion zwischen diesen zu liegen kommen. also der spezifische Oberflächenwiderstand der Elek-Auf
die WGE-Schicht ist eine Zwischenschicht 600 25 trolumineszenzschicht 100 zusammen mit der Zwiaufgebracht,
die ebenfalls eine elektrische Wider- schenschicht 600 diese Bedingung, so ist eine Widerstandsschicht
ist, also eine geringe Leitfähigkeit auf- Standshilfsschicht 700 nicht erforderlich. Die dritte
weist. Sie ist beispielsweise aus einer Mischung eines Elektrode 310 kann dann auf der Zwischenschicht
Epoxyharzes mit einem Pulver eines Widerstands- 600 oder der Elektrolumineszenzschicht 100 direkt
materials wie Kohle oder SnO2 oder aus einer Mi- 30 angeordnet sein oder auch teilweise oder ganz in die
schung des Pulvers einer Fritte mit einem anorga- Zwischenschicht 600 oder die Elektrolumineszenznischen
Schwarzpigment und einem Pulver eines Schicht 100 versenkt sein. In letzterem Fall kann
Widerstandsmaterials wie SnO2 hergestellt. Die Mi- angenommen werden, daß die Widerstandshilfsschicht
schung wurde durch Erhitzen zum Abbinden ge- 700 gleichwertig in der lichtundurchlässigen Schicht
bracht, wodurch sie zu einer einen elektrischen 35 oder der reflektierenden Schicht der Zwischenschicht
Widerstand aufweisenden und lichtundurchlässigen 600 oder in der WGE-Schicht, also der Elektro-Schicht
wurde. Soll die Wechselstromimpedanz der lumineszenzschicht 100, vorliegt,
entstehenden Schicht niedrig sein, so kann der Mi- Besteht die Zwischenschicht 600 und das dielekschung
zweckmäßigerweise ein ferroelektrisches Irische Material 302 für die Beschichtung aus glas-Material
wie BaTiO3 zugesetzt sein. Die Zwischen- 40 artigem Material, so ist die Widerstandshilfsschicht
schicht 600 verhindert, daß der Lumineszenzansgang 700 aus Pulver eines Epoxyharzes oder einer Fritte
der Elektrolumineszenzschicht 100 auf die beispiels- hergestellt, das mit einem einen Widerstand aufweiweise
photoleitfähige energieempfindliche Schicht senden Metalloxyd wie SnO2 gemischt ist. Die Mi-200
rückgekoppelt wird. Ist eine gewisse Rückkopp- schung wurde durch Erhitzen verschmolzen und zum
lung erwünscht, so wird die Zwischenschicht 600 ent- 45 Abbinden gebracht. Bestehen die Zwischenschicht
sprechend halbdurchlässig ausgebildet. Die Zwischen- 600 und das dielektrische Material 302 der Beschichschicht
600 kann auch als zusammengesetzte Schicht tung aus einem Bindematerial mit niedrigem Schmelzausgebildet
sein, wobei zusätzliche Schichten zwi- punkt, beispielsweise aus einem Epoxyharz, so wird
sehen sie und die Elektrolumineszenzschicht 100 ein- ein ähnlicher Binder in Mischung mit einem einen
gelegt werden. Die zusätzliche Schicht kann bei- 50 Widerstand aufweisenden Metalloxyd verwendet. Ir
spielsweise aus einer Mischung eines Frittenpulvers diesem Fall kann Pulver eines dielektrischen Mateoder
Epoxyharzes mit einem Pulver eines ferroelek- rials hoher Dielektrizitätskonstante, insbesondere ein
irischen und lichtreflektierenden Materials, Vorzugs- ferroelektrisches Material wie BaTiO3 der Mischung
weise BaTiO3, oder einem einen elektrischen Wider- zugesetzt sein, um die Wechselstromimpedanz dei
stand aufweisenden Metalloxids, wie SnO2 hergestellt 55 sich ergebenden Schicht zu verringern. Die Dicke dei
sein. Diese Mischung wurde durch Erhitzen ver- Widerstandshilfsschicht700 beträgt beispielsweise IC
schmolzen und abgebunden, so daß eine einen elek- bis 50 um, um den sich über ihre Dicke ergebender
irischen Widerstand aufweisende reflektierende Widerstand kleinzuhalten. Die Widerstandshilfs-Schicht
entstand. Die Dicke der einfachen oder zu- schicht 700 kann außerdem stark nichtlineare Widersammengesetzten
Zwischenschicht 600 soll bei licht- 60 Standseigenschaften haben, um Gleichspannungsverundurchlässigen
Schichten 5 bis 10 μπι und bei re- luste über ihre Dicke und Gleichstromstreuungen ir
flektierenden Schichten 10 bis 20 um betragen, so Richtung der Ebene zu verringern. Diese Eigendaß
man über die Stärke der Zwischenschicht 600 schaft der WiderstandsMlfsschicht 700 kann durch
einen im Vergleich zum Widerstand der Elektro- Verwendung eines Materials mit nichtlinearem spezilumineszenzschicht
100 genügend kleinen elektrischen 65 fischen Widerstand, wie CdS: Cl oder SiC, an Stell«
Widerstand erhält. Die Zwischenschicht 600 kann für des einen Widerstand aufweisenden Metalloxids füi
L.C11 praktischen ocuiauch auch einen besonderen die oben beschriebene Zusammensetzung erreich
nichtlinearen spezifischen Widerstand haben, damit werden. Der Widerstandshilfsschicht 700 könnerLayer 200 is not greatly affected. The distance In order to ensure the equivalence of the third electrode 310 to between two conductors lying next to one another in a fixed plate electrode with regard to the Aus-F i g. The third electrode 310 shown in FIG. 1 should, as far as possible, have an effect on an alternating electric field that is certainly too small than 400 μm. If placed in a mesh grid electrode, in the plane of the third electrode 310, the network should be finer than 50 mesh. Such an auxiliary resistance layer 700 is provided, which allows the spacing of the conductors at the electrode 310 to fill at least part of the openings in the third electrode for direct current from the electrode 310 to pass through. The specific resistance of the luminescent layer 100 to the energy-sensitive auxiliary resistance layer 700 has a value of layer 200. If you have selected the second electrode 210 and the one that prevents a stronger scattering of the direct current third electrode 310 the form of similar grids, then 20. It is experimentally demonstrable that the grid of the second electrode 210 should be arranged on a resistance auxiliary layer 700 with a special one that the parts of its grid cross those surface spacing of 10 ° to 10 9 ohms of the grid of the electrode 310 or in horizons satisfactory Yields results. Fulfilled zontal projection come to lie between these. The WGE layer is an intermediate layer 600 25 troluminescent layer 100 applied together with the intermediate, which is also an electrical back layer 600. This condition is a resistance layer, i.e. a low conductivity on the auxiliary layer 700 is not necessary. The third points. It is, for example, made of a mixture of an electrode 310 can then be arranged on the intermediate layer of epoxy resin with a powder of a resistance 600 or the electroluminescent layer 100 directly material such as carbon or SnO 2 or of a mixture, or also partially or entirely in the mixture Powder of a frit with an inorganic intermediate layer 600 or the electroluminescent niches black pigment and a powder of a layer 100 can be countersunk. In the latter case, resistor material such as SnO 2 can be made. It is assumed that the auxiliary resistance layer was caused to set by heating to 700 equivalently in the opaque layer, as a result of which it becomes an electrically resistive 35 or the reflective layer of the intermediate layer and opaque 600 or in the WGE layer, so the electrical layer was made. If the alternating current impedance of the luminescent layer 100 is to be present,
If the resulting layer is low, the intermediate layer 600 and the dielectric insulation can expediently contain a ferroelectric Irish material 302 for the coating of glass material such as BaTiO 3 . The intermediate 40-like material, then the auxiliary resistance layer layer 600 prevents the luminescent input 700 from powder of an epoxy resin or a frit of the electroluminescent layer 100 on the example, which is mixed with a photoconductive energy-sensitive layer sending a resistance metal oxide such as SnO 2 is. The Mi-200 is fed back. If a certain feedback has been fused by heating and is desired for development, then the intermediate layer 600 is caused to set. If the intermediate layer is designed to be speaking semipermeable. The intermediate 600 and the dielectric material 302 of the coating layer 600 can also be formed as a composite layer made of a binding material with low melting point, with additional layers in between, for example made of an epoxy resin, so they and the electroluminescent layer 100 look similar Binder can be placed in a mixture with a one. The additional layer can be used with the resistive metal oxide. For example, from a mixture of a frit powder in this case, powder of a dielectric material or epoxy resin with a powder of a ferroelectric high dielectric constant, in particular an Irish and light-reflecting material, preferably ferroelectric material such as BaTiO 3, the mixture as BaTiO 3 , or an electrical resistor - Be added in order to reduce the alternating current impedance of the metal oxide containing the material, such as SnO 2, produced 55 resulting layer. Be the fat one. This mixture was melted and set by heating, for example, IC resistive auxiliary layer, so that an electrical resistance to 50 µm, in order to keep the reflective resistance exhibiting over its thickness, small. The resistance auxiliary layer was created. The thickness of the single or additional layer 700 can also be highly non-linear, contradicting the interlayer 600, with light stability, to layers impermeable to direct voltage 5 to 10 μm and with losses over its thickness and direct current scattering of the reflective layers, 10 to 20 μm, so decrease direction of plane. These properties can be obtained through the thickness of the intermediate layer 600 and the resistive layer 700 by an electrical resistance such as CdS: Cl or SiC, which is sufficiently small compared to the resistance of the electrical use of a material with a nonlinear speciluminescent layer 100. The intermediate layer 600 may also have a particular non-linear specific resistance attaining the above-described composition for the resistive metal oxide for L.C11 practical. The auxiliary resistance layer 700 can
oder oderor or
weitcr( Eigenschaften einerfurther ( properties of a
dem man die ur diese Zweck wutc or*,η angj
bencn Matenahen wählt. Be,V cmc, ι lun^ tncr du"
trugen Widcrstandshilfsschicht laßt s.Ln der Aumuu
des Bildwandlers vereinfachen.
Ist in einem Schichtaufbau d.e und ihre Polarität umkehrbar ist. Dadurch ist es mög-WGE-Schicht
ausgebildeten Elektro-to whom one chooses the ur this purpose wutc or *, η angj bencn matenahen. Be, V cmc, ι lun ^ tncr du "carried resistance auxiliary layer let s. L n simplify the aumuu of the image converter.
Is in a layer structure and its polarity is reversible. This makes it possible to use a WGE layer of electrical
zschicht 100 verschiedene Betriebskcnn- ^ ^ .^ ^ Abh„ . ^^ ob dcr zschicht 100 different Betriebskcnn- ^ ^. ^ ^ dependence ". ^^ whether dcr
^ dem Kontakt/7 odcr dem Kontakte/ cich<- Fig 1} in Berührung steht, die erste Elektrode 110 negativ oder positiv vorgespannt. Im ^ g Bildwandler hauptsächlich für^ the contact / 7 or the contacts / c i c h <- Fig 1} is in contact, the first electrode 110 is biased negatively or positively. Im ^ g image converter mainly for
chert. «,net. Irr,chert. «, Net. Crazy
und ,ur LumineszenzdarsteHung des gespeichertenand, ur luminescence display of the stored
dfcdfc
aieaie
schicht 700 über der ~ layer 700 over the ~
oder der Zwischenschicht 600 ε _ dritte Elektrode 310 jedoch nicht ganz ι trolumineszenzschicht 100 oder die Zwis 600 versenkt, so ist die Widerstands!™ so ausgebildet, daß sie die Zwisc1 füllt. In der hier beschriebenen liegt die dritte Elektrode 310 zwischen der clektro lumineszierenden Schicht 100 und der energieempfindlichen Schicht 200. Bei diesem Aufbau kann die Gesamtdicke der Schichten einschließ lic. de-Zmschenschicht 600, der Widerstandsh.lfssch.cht 700 oder anderer zusätzlicher Elemente glc.cn der Dicke der dritten Elektrode oder kleiner als d.ese sein, so daß die Schichten wenigstens te, weise in die Öffnungen der dritten Elektrode310 eingebracht sen können. Ein derartiger Aufbau ist des-»- -rtP,lh.,ft. weil eine Streuung des Gleichstroms die dritte Elektrode 310 kann teilweise in die irolumineszenzschicht 100 oder die ene—" liehe Schicht 200 eingebettet sein. Die ν der dritten Elektrode 310 ir* A'""h Hl Elektrolumineszenzschicht IU. — --- ^- ■ findlichen Schicht 200 nicht begrenzt. Sie muß ledig lieh geringer sein als der Abstand zwischen Jr ersten Elektrode 110 und der zweiten Elektrode 210 Was die Lage der dritten Elektrode 310 betrifft so muß su_ nur zwischen der ersten Elektrode 110 und der zweiterElektrode210 liegen. Sonstige Bedingungen müssen nicht erfüllt werden. Deshalb kann wenig stens entweder die Elektrolum.neszenzsch.cht 100 oder die energieempfindliche Sch.chl zOO .η Ae freien öffnungen der dritten Elektrode 310 e.ngeor the intermediate layer 600 ε _ the third electrode 310 but not completely ι troluminescent layer 100 or the intermediate 600, so the resistor! ™ is designed so that it fills the intermediate 1. In the one described here, the third electrode 310 lies between the clektro luminescent layer 100 and the energy-sensitive layer 200. In this structure, the total thickness of the layers, including. The layer 600, the resistance layer 700 or other additional elements equal to the thickness of the third electrode or smaller than this, so that the layers can at least partially be introduced into the openings of the third electrode 310 . Such a structure is des - »- -rtP, lh., Ft. Because a leakage of the direct current, the third electrode 310 may be partially embedded in the iroluminescent layer 100 or the ene - "lent layer 200. The ν of the third electrode 310 ir * A '"" h Hl electroluminescent layer IU. - --- ^ - ■ sensitive layer 200. It only has to be less than the distance between the first electrode 110 and the second electrode 210. As far as the position of the third electrode 310 is concerned, it only has to be between the first electrode 110 and the second electrode 210. Other conditions have to be met Therefore, at least either the electroluminescence protection 100 or the energy-sensitive protection system can close free openings in the third electrode 310
bracht sein. . „, _.__ am be brought. . ", _.__ am
Die erste Elektrode 110 ist mit e.ner Klemme 401 einer Wechselspannungsquelle 400 verbunder m deren anderer Klemme 402 die 'elenden Elektrode elemente 301 der dritten Elektrode 310 über eine A>_ schlußschiene 303 verbunden sind. Die B*™** wechselspannung VA ist auf diese Weise zwischen der Elektrode HO und der Elektrode 310 angelegt Die zweite Elektrode 210 ist an einen Anschluß 501 einer eine Vorspannung liefernden Gleichspannungsquelle 500 angeschlossen, deren anderer Anschluß mit der Klemme 402 der Wechselspannungsquelle 400 verbunden ist, wodurch der zweiten .Elektrode 210^,ne Vorspannung VB zugeführt ist. Die G e.chspannungs queileSOO ist so angeordnet, daß die eine Gleich spannung darstellende Vorspannung Vn veränderlich ca. The first electrode 110 is connected to a terminal 401 of an alternating voltage source 400, the other terminal 402 of which the 'poor electrode elements 301 of the third electrode 310 are connected via a terminal rail 303. The B * ™ ** alternating voltage V A is applied in this way between the electrode HO and the electrode 310 is, whereby the second .Electrode 210 ^, ne bias voltage V B is supplied. The G e.chspannungs queileSOO is arranged in such a way that the bias voltage V n representing a direct voltage is variable approx.
F i g. 2 zeigt vereinfacht eine Äquivalentschaltung der oben anhand von F i g. 1 beschriebenen Anordnung. Um die Erklärung zu vereinfachen, sind in F i g. 2 die Funktionen der Widerstandshilfsschicht 700 und der Zwischenschicht 600 nicht berücksichtigt. Die energieempfindliche Schicht 200 hat über ihre Dicke einen veränderlichen Widerstand R1,. Durch das dielektrische Material 302 der Beschichtung an der öffnungen aufweisenden dritten Elektrode 310 erhält man über diese Beschichtung eine as Kapazität C«, deren eine Elektrode der Leiter 301 ist. Die Elektrolumineszenzschicht 100 hat über ihre Dicke eine Kapazität C£ und einen Widerstand /?,.-. Der Widerstand R1, fällt in Abhängigkeit von der Intensität einer Einfallsenergie L1 ab. Als Folge davon steigt die an der Elektrolumineszenzschicht anliegende Gleichvorspannung V11 an. Das Ergebnis dieser Änderung der Vorspannung ist, daß der Verlauf des Wechselstrom-Lumineszcnzausgangs L.„ der durch die über die Kapazität Cn zugeführte Wechselstromleistung entsteht, gesteuert wird und die Amplitude des periodischen Lumineszenzausgangs in einer bestimmten Halbperiode jeder Periode der Wechselspannung bedeutend verändert wird.F i g. FIG. 2 shows, in simplified form, an equivalent circuit of the circuit shown above with reference to FIG. 1 described arrangement. In order to simplify the explanation, FIG. 2 does not take into account the functions of the auxiliary resistance layer 700 and the intermediate layer 600. The energy-sensitive layer 200 has a variable resistance R 1,. As a result of the dielectric material 302 of the coating on the third electrode 310 having openings, a capacitance C ”is obtained via this coating, one electrode of which is the conductor 301. The electroluminescent layer 100 has a capacitance C £ and a resistance / ?,.- over its thickness. The resistance R 1 drops as a function of the intensity of an incident energy L 1 . As a result, the DC bias voltage V 11 applied to the electroluminescent layer rises. The result of this change in the bias voltage is that the course of the alternating current luminescence output L. "which is produced by the alternating current power supplied via the capacitance C n , is controlled and the amplitude of the periodic luminescence output is significantly changed in a certain half-period of each period of the alternating voltage.
Auf diese Weise wird bei der beschriebenen Ausführungsform die über die Schirmfläche als Bild verteilte Einfallsenergie L1 umgewandelt und mit hoher Empfindlichkeit und hohem Verstärkungsfaktor zu einem negativen Bild verstärkt. Es ist festzustellen, daß beim erfindungsgemäßen Bildwandler die Gleichvorspannung VB zwischen der durch den veränderlichen Widerstand RP wiedergegebenen energieempfindlichen Schicht und dem durch die Kapazität Cn wiedergegebenen dielektrischen Material anliegt. Entsprechend muß die dielektrische Durchschlagstestigkeit der Kapazität Cn, an der eine relativ niedrige, der Gleichvorspannung V[} entsprechende Vorspannung liegt, nicht sehr hoch sein. Eine Einstellung der Quellenspannung VB beeinflußt die der Elektrolumineszenzschicht 100 gelieferte Wechselstromleistung nicht.In this way, in the embodiment described, the incident energy L 1 distributed over the screen surface as an image is converted and amplified to a negative image with high sensitivity and a high gain factor. It should be noted that in the image converter according to the invention, the DC bias voltage V B is applied between the energy-sensitive layer represented by the variable resistor R P and the dielectric material represented by the capacitance C n. Correspondingly, the dielectric breakdown strength of the capacitance C n , at which there is a relatively low bias voltage corresponding to the DC bias voltage V [} , does not have to be very high. Adjustment of the source voltage V B does not affect the AC power supplied to the electroluminescent layer 100.
Nach der oben stehenden Beschreibung ist die energieempfindliche Schicht photoleitfähig. Stat dessen kann auch eine andere energieempfindlichi Schicht, beispielsweise eine piezoelektrische SchichAs described above, the energy sensitive layer is photoconductive. Stat Another energy-sensitive layer can also be used, for example a piezoelectric layer
oder eine Magneto-Widerstandsschicht, deren spezi fischer Widerstand durch elastische Energie oder ma gnetische Energie steuerbar ist, in Frage kommen.or a magnetoresistive layer whose specific resistance is due to elastic energy or ma gnetic energy is controllable, come into question.
Hierzu 2 Blatt ZeichnungenFor this purpose 2 sheets of drawings
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