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DE1621244A1 - Aufdampfverfahren zur Erzeungung duenner Schichten oder Folien - Google Patents

Aufdampfverfahren zur Erzeungung duenner Schichten oder Folien

Info

Publication number
DE1621244A1
DE1621244A1 DE19671621244 DE1621244A DE1621244A1 DE 1621244 A1 DE1621244 A1 DE 1621244A1 DE 19671621244 DE19671621244 DE 19671621244 DE 1621244 A DE1621244 A DE 1621244A DE 1621244 A1 DE1621244 A1 DE 1621244A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
die
compact
heated
opposite
foils
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19671621244
Other languages
English (en)
Inventor
Kurt Dr-Phys Frank
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch Fernsehanlagen GmbH
Original Assignee
Fernseh GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fernseh GmbH filed Critical Fernseh GmbH
Publication of DE1621244A1 publication Critical patent/DE1621244A1/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

  • A--Ltfdaup4ve,irfili,reii, zur-Erzeugung
    -dünner Schichten--Oder.Polien-
    Die 3rfliidi-ni b ieht sio ve r
    g e-2 h auf ein rf ahren _#äu _Erzeugung
    von Aufdampf schiellten, -,wobei.- das-- züi verdampfende -Material
    durch11),witreffen-eines Energiestrahls- (,Läserä-trali-1..-»U-lektroiien-
    strahl) -erlii tzt, , -.in Dämpff orr ni überführt und - auf - ein- en gegen-
    über der Verdampfungsstelle,-an ebraöliteii Trä-er niederge-
    9 9
    schlagen tird.-
    Sie bef t(ut siall- mit- einem Verf aIhren zur F"r--
    zeugung von-Aufdampf-schichten -aus Stoff en x_ die äus- -einer,
    Verbindung von verschiedenen Dampf drucke s - oder
    verechip-denerZiedetämperatur he'stehen, z.B. von--Gläserli.,-
    Legierungeny- !Ialb-leitervg#rbihdu-ngeii--der.BleIctroiillc und -anderen
    chewischm Verbindungen, Währendi -die- Herstellung -von- Schiehten
    aus nur einer- Komponente oder -mehreren- annähernd -eleichartig
    verdax.i-.ii,feili-d#eii-.I:-#oiüpoile,nteiä du-roh . Zufuhr hinreichen-der# Wärme-
    jaeugen ohne- weiteres erreicht iverdeii,kann" hät# sich Uie,
    lerste#J1ung dünfier -Schichten aus - Verbindungen. i:iit, sehr ver-
    l','or.ilionenten durch ein VerdanipfuÜgsverfahreii
    als recht schwierig -erwiesen Weil es nicht gelang,#eine
    Iischullg- der einzelnen-Komponenten-während 46r---Vordaiitj)fung
    zu Verhindern. Sowohl bei der-Verdampfung von einer glÜheilde-n Unterlage als auch bei derjenigen mittels eine.-> auf ein Kompahrtmaterial auftreffenden-Energiestrahls trat--eine Entnischung der 1?.-ompolieiiten (luröh eine Art fraktionierte Destillation ein, so daß sich auf der Unterlage zuerst die leicht flüchtigen Bestandteile, danac, li die weniger flücht-Igen Bestandteile niederschlugent i7älirend gasförmige Komponenten vom Vaktitirisystdiu, abgesaugt wurden.
  • Die erneute Vereinigung; der Stoffe zu der ursprünglichen Verbindung durch Nacherhitzung gelingt praktisch nur dann, wenn die nieder ge-schlagenen Stoffkoräponenten hinreichend innig miteinander -vermengt sind. Idenn aber bei der Zrhitzung der Unterlage oder des Trägers Grenzen gesetzt sind, so kann wegen des hohen Diffusionswiderstandes eine Vereinigung der Stoffe zu der ursprünglichen'Verbindung nicht 'mehr stattf inden.
  • Das Verf ahr en der Erfindung,gelit über die bekannt-en.Verfahren hinaus , indem statt eineg ruhenden oder willkürlich bewegten Energiestrahls ein solcher mit einer bestimmten Relativgeschwindigkeit zwischen der zu verdampfenden Verbindung und dem Strahl verwendet, und eine solche Intensität de s letzteren eingehalten-wirdv daß in dem durch den Strahlquerse-linitt und die Eindringtiefe gegebenen Volumen des I.L-oiupaktiiiaterials die zur Verdampfung der am wenigsten flüchtigen Komponente erf orderlicha - Temperatur während der- Verweilzeit des S.tra Ills gerade Überschritten wird., Durch dieses Verfahren wird eine große Anzahl bisher nicht in Dünnsphichtfolienform herstellbarer Stoffe dazu varwendbar-Während man -früher z.IL, bei dem Versuch zur Herstellung von Glasfolien durch- Erhitzung des Glases mit einei"i Anorg.iastralil
    entweder zu stark- erhitzte so cläß -eine völlige Dissoziation
    Z
    eintrat ufid.#die flüchtigen Stoffe', wie Natrium. und Sauerstoff
    als Gase verdampften und abgesaugt wurden, oder aber _ZU Wenig
    oder zu lange erhitzte." so dall zwar das Natrium weitgehend
    abdestilliert wurde, aber _die verbleibenden Ii-ilil#iate in eine
    se,'Llr schwer verdampfbare Verbindwig überführt wurden, -hann
    rlan nach der erf indungsgemäßen -Lehre die einzelnen -lTL,01*l-Iponenteii
    das Glases praktisch glei;olizeI-tig-.verdai-.,ipfen, -indem man -dem
    vom Strehlquerschnitt auf -Grund der bekannten --r4,indringtief e
    gegebenen Volumen gerade so viel Energie durch#den.Strälil
    während einer so kurzen Zfe-it -zuführt daß- di
    ie ganze Verbindung
    praktisch gleichzeitig in, Dauipfförm-überführt -Wird-. Dei der
    erreichbaren hohen Energiedichte von Ellektronenstrahlen oder
    Laserstrahlen Ikann man die Dniter-d-er_Zufüllruiig des Energie-
    impulses so 11Zurz lnachen, daß praktisch ICeine liennensiverte
    durch das verbleibende Ti#ompaL-tiuaterial statt-
    findet und nahezu die gesarate Strahlenergie an das zu ver-
    dampfende Material übertragen wird. Diese 1-,.".ögliellk-eit ver-
    einfacht eine Derechnung der--erforderlichen Leistung zur Ver-
    dampfung des durch den Strahlquerseiwitt und die Eindring-
    tiefe Gegebemen Volumens auf Grund der berechenbaren Ver-
    dampfungsarbeit des 'Materials.
    Die -rf indung wird nun an iland der Zeichnung näher erläutert,
    ZU
    welche ein Ausführungsbeispieleiner Apparatur zur 2r zeugung
    von Folien aus schwer verdampfbarem Material darztellt.
    -Li; die-sov 1,#i-ur ist i ei-ii PerEiaiieiitiuagiiet» der eilien Polschulr 2
    aus Ueicheisen trägt, Dieser Polschu-A ist i-3.it einer Dohrung 3
    versehen, welche in eine eng-re ÖffnunE:) 4- ausläuft. Ii:i imieren
    c.er ijoliruii,- ist eine Glüliicatliode 5 äus 7Jolfrai,idr.aiit aiigebi-aalit..
    l#aiie dera anderen Pol des ilerz:ialieiiti#iagi'Ieteli befindet sich ein
    j.Ictallischer Yiegel 69 welciier Clas Zu verdarIp -Lel.(IC 1.ia.-Lerial 7
    in 1"-oLipaktfor-M, d.Iii 'aus einem homcgenen Block bestehend ent-
    hält. Der Tiegel 6 kann auf dem gleichen ]Potential wie die
    Volschühe liegen-, z.13., auf Masse. Beim Betrieb dieses Syster.is
    -'sendet die l'#'.a.t1-i6de 5 Elektronen aus, - die durch (las- zwischen
    der Kathode -und deini Polschuh -4 gebildete Feld i.B. auf 3 bis
    4 IN beschleunigt und durch die zwischen den Polen des
    Magneten- herrschenden Magnetfelder geführt.Und-zu einer
    Kreisbahn gebogen werden, so daß sie im Punkt 8 auf die Ober-
    f.läche'.-des'.-1#.,täte.r:L'glä,7 auf.troffen. Zur kontrollierten-Ver-
    dampfung
    der Tiegel#6 z.IB-;,-- mit. Hilfe einer Nockenscheibe 8 und eines
    ilebel,sys,«#emi#- s:oivie eines weiteren (nicht gezeigten) Vor-
    schubsystems kso, bewegt x daß der Auf treff punkt de.s Elektronen-
    strahls, auf der Oberfläche des -Blocks 7 ein sich wiederholendes
    Raster der durch die;-Linien 10 dargestellten Form beschreibt.
    Das liaster kann statt zeilenfÖrmig auch spiralförgig oder
    einerweiteren Form ents,prochend.ausgebildet sein. Der durch
    den Elektronenstrahl erzeugte,Dampf wird auf dem-Auffänger 11
    niedergeschlagen. Dieser Auffänger 11 kann z.B. aus einem
    1r,ollodiunüiäutühen bestehen, welches bei der Nachbehandlung
    den-Niedersolibg s zur Erzeugung einer homogenen freitragenden
    Folie zersetzt wird.

Claims (1)

  1. Pät-eetaiisprüolie
    1. Aufdampfverfahren zur Uberführüng schvier verdaulpfbarer Verliiiidungen oder Lägierulageii -aus der 1Zo,mpaktf'ori;i #in die Form (Winier Schichteij oder Folien--unter Beibehaltuhg- der relativell Massenverhältnise.a --der-Bestandteile, wobei. zur Verdämpfung das Stoffes e#in#-Pi,'liergi est-rahl (Elakt r-Vilenstrahl oder-Laserstralil)- verweiirlat--wird, welcher beim Auftröffen auf die- Oberfläche des:-zu---vördam-Ofenden Stoffes diesen punktf` örmig erhitzt, Bund der-erzeugte Dampf -auf eiiiem gegenübersteheildeii-Aüf±än-g'er#-ni-edergesolilag-.e-ii wird, dadurch ge#kennz-eichndt". daß- der gerbülldelte--:- iiergies,tra-hl dureh.eine Itelativbewegung zwiäohen Kompaktmaterial -Li'nergiestrahl über die -Oberl , läelie des Kompäkt- erials mat- h-iiii.veggeführt wird -tind-däß---die'-Eliergiedich#tü und-Ge-- schivindigkeit döe Strahls so- gewählt-- sind07 daß -iii- dem. durch den -,Stralilque,rsälni-i-6t- die Eilidri-ngti.efe, gegebenen Volumeil# die, zür Verdampf Wig dar-am weiiigsten -fliie,'ci-tigeil Lomponente erf orderliche', Te.Xperatu:r Ivähreild de-r.-.Verweil- zeit des Strahls gerade überschritten wird. 2. Verf ahreii nach Anspruchs 1.,- --zur Herstellulig. dUlilier Glas-- filmei- dadurch gelrenii-ze:L(31inet#p daß#Aas in Blockf orm- vor- liege,nde-Glasmaterial voräewäriut ivird Wid daß al s- Auf - f-äiif--er Lue-Trägerfolie aus 'Ve.rdainpf barem, oder- zersetzbarem e iitoff z. B#. 1-,'ollodium verwendet wird und daß der Träger_ nach der Uberführung dar Schicht laiigeam an -der Luft erhitzt wird. irch g 3. Verf aizre- ii nach Anspruch --1 der 2.9 dad-u
    daß (AG-r- Auf traf ff 1:>ulijii, -des Ener, g - iestrahls -au.f de--_ ri#"berfläche des . zu-verdampfeuden 1-,Iater:Lal.9 Infolge der ulig
    4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Raster aus geraden Zeilen besteht. 5. Verfahren nach Anspruch 4x dadurch-gekennzeiel-unet, daß die-Relativbeviegung durch periodische Verse hiebung des zu vei-dampfenden Materials in zwei zueinander senkrechten Richtungen erz.eugt# wird. 6. Anwendung des Verfahrens-nach Anspr uch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß Halbleiter oder Halbleiterverbinclungen samt den für die -Festlegung der elektronischen Eigenschaf ten- erf orderlichen Dotierungeil aus der Komp.ah-tf orm in die Folienf orni Überführt iverden. 7. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ajisprüche, daduröli_gekeiinzeichne t. daß der Energiestrahl ein Elektronenstrahl ist$ der von einer in Ginem Hohlraum (3), eines Poischuhs- (2) eines Permanentmagneten (ly untergebrachten Glühkathode (5) ausgeht und daß das Kompaktmaterial in der gegenüberliegenden Polschuhebene uhtergebraqht istz derart" daß ein Punkt der Ob.erf läohe de s- Kompaktmaterials durch den Eiehtronen-strahl erhitzt wird, welcher auf der durch die Kathode und durch die Oberf . läche des Kompaktmat-erials gehenden magnetischen Kraftlinie liegt. 8, Anordnung,-nach Anspruch TD dadurch gekennzeichnetg daß, der das KDuiliaktmaterial enthaltende Tie901-=(6) mittels eIner tiechanischen - Vorrichtung (82 9) derart bewegt vzird, daß der Auftreffpunkt auf der Oberfläche das KOMPahtmiaterials e:Ln itaster in periodischer "7ioderlieluiip- -besehr-eibtp ulc3# (laß der Auffängär (ii) für das überführte 1--laterial rle-r oberfläche das l'#-or#ipalztmaterials Para1101 gegenüber-
DE19671621244 1967-02-07 1967-02-07 Aufdampfverfahren zur Erzeungung duenner Schichten oder Folien Pending DE1621244A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

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DEF0051454 1967-02-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1621244A1 true DE1621244A1 (de) 1971-04-29

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ID=7104620

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19671621244 Pending DE1621244A1 (de) 1967-02-07 1967-02-07 Aufdampfverfahren zur Erzeungung duenner Schichten oder Folien

Country Status (1)

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DE (1) DE1621244A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2465009A1 (fr) * 1979-09-17 1981-03-20 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Procede pour vaporiser des alliages fondus de metaux ayant des tensions de vapeur differentes
WO1992019787A1 (de) * 1991-04-24 1992-11-12 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. VERFAHREN UND EINRICHTUNG ZUM AUFDAMPFEN VON SiOx-SCHICHTEN AUF EIN SUBSTRAT

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2465009A1 (fr) * 1979-09-17 1981-03-20 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Procede pour vaporiser des alliages fondus de metaux ayant des tensions de vapeur differentes
WO1992019787A1 (de) * 1991-04-24 1992-11-12 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. VERFAHREN UND EINRICHTUNG ZUM AUFDAMPFEN VON SiOx-SCHICHTEN AUF EIN SUBSTRAT

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