DE1621119C3 - Alkalisches Pyrophosphatbad zur galvanischen Abscheidung glänzender Zinküberzüge - Google Patents
Alkalisches Pyrophosphatbad zur galvanischen Abscheidung glänzender ZinküberzügeInfo
- Publication number
- DE1621119C3 DE1621119C3 DE19671621119 DE1621119A DE1621119C3 DE 1621119 C3 DE1621119 C3 DE 1621119C3 DE 19671621119 DE19671621119 DE 19671621119 DE 1621119 A DE1621119 A DE 1621119A DE 1621119 C3 DE1621119 C3 DE 1621119C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- acid
- bath
- zinc
- organic
- bis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000011701 zinc Substances 0.000 title claims description 36
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 33
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 title claims description 33
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 title claims description 14
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 title claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims description 5
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 7
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 5
- -1 heterocyclic Radical Chemical class 0.000 description 63
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 19
- DQBNLFRFALCILS-UHFFFAOYSA-N 1-[(2-sulfonaphthalen-1-yl)methyl]naphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC3=C4C=CC=CC4=CC=C3S(=O)(=O)O)=C(S(O)(=O)=O)C=CC2=C1 DQBNLFRFALCILS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 15
- 229960004275 glycolic acid Drugs 0.000 description 15
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N Furaldehyde Natural products O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 12
- 229940048084 pyrophosphate Drugs 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 8
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 8
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 8
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 8
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 7
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Polymers 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 6
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- WJUFSDZVCOTFON-UHFFFAOYSA-N veratraldehyde Chemical compound COC1=CC=C(C=O)C=C1OC WJUFSDZVCOTFON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 description 5
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl formate Chemical compound CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBOQJANXLMLOSS-UHFFFAOYSA-N ethyl vanillin Chemical compound CCOC1=CC(C=O)=CC=C1O CBOQJANXLMLOSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- JDNTWHVOXJZDSN-UHFFFAOYSA-N iodoacetic acid Chemical compound OC(=O)CI JDNTWHVOXJZDSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JVTZFYYHCGSXJV-UHFFFAOYSA-N isovanillin Chemical compound COC1=CC=C(C=O)C=C1O JVTZFYYHCGSXJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 4
- ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N p-methoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=C(C=O)C=C1 ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SATCULPHIDQDRE-UHFFFAOYSA-N piperonal Chemical compound O=CC1=CC=C2OCOC2=C1 SATCULPHIDQDRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Chemical group 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 4
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960004319 trichloroacetic acid Drugs 0.000 description 4
- GAWAYYRQGQZKCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloropropionic acid Chemical compound CC(Cl)C(O)=O GAWAYYRQGQZKCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Natural products CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzenecarboxaldehyde Natural products O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 3
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 3
- FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 1,3-Propane sultone Chemical compound O=S1(=O)CCCO1 FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAVREABSGIHHMO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC(C=O)=C1 IAVREABSGIHHMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZGQDNOIGFBYKF-UHFFFAOYSA-N Ethoxyacetic acid Chemical compound CCOCC(O)=O YZGQDNOIGFBYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- SIEILFNCEFEENQ-UHFFFAOYSA-N dibromoacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Br)Br SIEILFNCEFEENQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 2
- RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N dihydroxyacetone Chemical compound OCC(=O)CO RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 229940073505 ethyl vanillin Drugs 0.000 description 2
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N methoxyacetic acid Chemical compound COCC(O)=O RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Chemical group 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Chemical group 0.000 description 2
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N pentanoic acid group Chemical group C(CCCC)(=O)O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940081310 piperonal Drugs 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 2
- MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N vanillin Chemical compound COC1=CC(C=O)=CC=C1O MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JFKMVXDFCXFYNM-UHFFFAOYSA-N (2,2,2-tribromoacetyl) 2,2,2-tribromoacetate Chemical compound BrC(Br)(Br)C(=O)OC(=O)C(Br)(Br)Br JFKMVXDFCXFYNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEFKFJOEVLUFAY-UHFFFAOYSA-N (2,2,2-trichloroacetyl) 2,2,2-trichloroacetate Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(=O)OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl MEFKFJOEVLUFAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGCSPGQZLMQTHC-UHFFFAOYSA-N (2,2-dibromoacetyl) 2,2-dibromoacetate Chemical compound BrC(Br)C(=O)OC(=O)C(Br)Br VGCSPGQZLMQTHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQHMQURGSQBBJY-UHFFFAOYSA-N (2,2-dichloroacetyl) 2,2-dichloroacetate Chemical compound ClC(Cl)C(=O)OC(=O)C(Cl)Cl RQHMQURGSQBBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUKOTTQGWQVMQB-UHFFFAOYSA-N (2-bromoacetyl) 2-bromoacetate Chemical compound BrCC(=O)OC(=O)CBr FUKOTTQGWQVMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNVPNXKRAUBJGW-UHFFFAOYSA-N (2-chloroacetyl) 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC(=O)CCl PNVPNXKRAUBJGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCOGYPACUCYJOO-UHFFFAOYSA-N (2-ethoxyacetyl) 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OC(=O)COCC FCOGYPACUCYJOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBNSZWOCWHGHMR-UHFFFAOYSA-N (2-iodoacetyl) 2-iodoacetate Chemical compound ICC(=O)OC(=O)CI RBNSZWOCWHGHMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEHFQQWAINXOQG-UHFFFAOYSA-N (2-methoxyacetyl) 2-methoxyacetate Chemical compound COCC(=O)OC(=O)COC PEHFQQWAINXOQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCSBNBKMACZDGN-UHFFFAOYSA-N (2-phenoxyacetyl) 2-phenoxyacetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OCC(=O)OC(=O)COC1=CC=CC=C1 CCSBNBKMACZDGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxonaphthalene Natural products C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1O BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- LIZCTYVUVWUZMN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrachlorobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)C(Cl)(Cl)C(O)=O LIZCTYVUVWUZMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZEKHJXYZSJVCL-UHFFFAOYSA-N 2,2,3-trichloropropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)CCl QZEKHJXYZSJVCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDUPDOJHUQKPAG-UHFFFAOYSA-M 2,2-Dichloropropanoate Chemical compound CC(Cl)(Cl)C([O-])=O NDUPDOJHUQKPAG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEVIZXHPBOZANV-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichlorobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(Cl)(Cl)C(O)=O UEVIZXHPBOZANV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUFILEBJGBVGKR-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichlorohexanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCC(Cl)(Cl)C(O)=O VUFILEBJGBVGKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVEUBHGERRPNBE-UHFFFAOYSA-N 2,2-diiodobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(I)(I)C(O)=O UVEUBHGERRPNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGRXKOBIVTFA-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(Br)C(Br)C(O)=O FJWGRXKOBIVTFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPCMIGGNRPJNHD-UHFFFAOYSA-N 2,5-dibromo-4-sulfobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(Br)=C(S(O)(=O)=O)C=C1Br XPCMIGGNRPJNHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPSKCQCQZUGWNM-UHFFFAOYSA-N 2,7-Oxepanedione Chemical compound O=C1CCCCC(=O)O1 JPSKCQCQZUGWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDNMIIDPBBCMTM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)acetic acid Chemical compound OCCOCC(O)=O VDNMIIDPBBCMTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAQLSKVCTLCIIE-UHFFFAOYSA-N 2-bromobutyric acid Chemical compound CCC(Br)C(O)=O YAQLSKVCTLCIIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPBGNSFASPVGTP-UHFFFAOYSA-N 2-bromoterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(Br)=C1 QPBGNSFASPVGTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVBUZBPJAGZHSQ-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobutanoic acid Chemical compound CCC(Cl)C(O)=O RVBUZBPJAGZHSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROAMHGQDEBUBQV-UHFFFAOYSA-N 2-chlorohexanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCC(Cl)C(O)=O ROAMHGQDEBUBQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZZRDRYYUVHLRD-UHFFFAOYSA-N 2-chloropentanoic acid Chemical compound CCCC(Cl)C(O)=O WZZRDRYYUVHLRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFXWHCJMTLWFKF-UHFFFAOYSA-N 2-chloropropanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)C(O)=O AFXWHCJMTLWFKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEGKXSHUKXMDRW-UHFFFAOYSA-N 2-chlorosuccinic acid Chemical compound OC(=O)CC(Cl)C(O)=O QEGKXSHUKXMDRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BRPLMBGPWZGZJW-UHFFFAOYSA-N 3,4-dibromophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Br)C(Br)=C1C(O)=O BRPLMBGPWZGZJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZKSOOULIOOWHB-UHFFFAOYSA-N 3,4-dichlorohexanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(Cl)C(Cl)CC(O)=O JZKSOOULIOOWHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUDBKSANIWMLCU-UHFFFAOYSA-N 3,4-dichlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1C(O)=O YUDBKSANIWMLCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMRNTNDWADEIIX-UHFFFAOYSA-N 3-Iodopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCI KMRNTNDWADEIIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLHNOIAOWQFNGW-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-4-hydroxybenzonitrile Chemical compound OC1=CC=C(C#N)C=C1Br HLHNOIAOWQFNGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMMRXOIUWPWTEN-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-4-sulfobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(Br)=C1 IMMRXOIUWPWTEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXNZYCXMFBMHE-UHFFFAOYSA-N 3-bromopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCBr DHXNZYCXMFBMHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBJGQSNSAWZZHL-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound ClCC(C)(C)C(O)=O YBJGQSNSAWZZHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXGJKCALURPRCN-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropanal Chemical compound COCCC=O OXGJKCALURPRCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDOQKGWUMUEJLX-UHFFFAOYSA-N 4,5-dichlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(Cl)=C(Cl)C=C1C(O)=O FDOQKGWUMUEJLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVIPPHSQIBKWSA-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1C(O)=O DVIPPHSQIBKWSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKJVSIITPZVTRO-UHFFFAOYSA-N 6,7-dihydroxynaphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C2C=C(O)C(O)=CC2=C1 DKJVSIITPZVTRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBIZWYVJFIYOV-UHFFFAOYSA-N 7-hydroxynaphthalene-1,3-disulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C(S(O)(=O)=O)C2=CC(O)=CC=C21 DOBIZWYVJFIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- MNQZXJOMYWMBOU-VKHMYHEASA-N D-glyceraldehyde Chemical compound OC[C@@H](O)C=O MNQZXJOMYWMBOU-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001274216 Naso Species 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000290333 Vanilla fragrans Species 0.000 description 1
- 235000009499 Vanilla fragrans Nutrition 0.000 description 1
- 235000012036 Vanilla tahitensis Nutrition 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXKIFUWANBZSKF-UHFFFAOYSA-N [I].CC(O)=O Chemical compound [I].CC(O)=O ZXKIFUWANBZSKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTYIBAVCADPQIQ-UHFFFAOYSA-N [Pb].[Zn].[Sn].[Cu] Chemical compound [Pb].[Zn].[Sn].[Cu] UTYIBAVCADPQIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSIIOJIEFUOLDP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Fe].[Ni] Chemical compound [Si].[Fe].[Ni] KSIIOJIEFUOLDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004171 alkoxy aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000005160 aryl oxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- QQWGVQWAEANRTK-UHFFFAOYSA-N bromosuccinic acid Chemical compound OC(=O)CC(Br)C(O)=O QQWGVQWAEANRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 125000004803 chlorobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 229940120503 dihydroxyacetone Drugs 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 description 1
- CNUDBTRUORMMPA-UHFFFAOYSA-N formylthiophene Chemical compound O=CC1=CC=CS1 CNUDBTRUORMMPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000004970 halomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKHUSADXXDNRPW-UHFFFAOYSA-N malonic anhydride Chemical compound O=C1CC(=O)O1 KKHUSADXXDNRPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYLLWONICXJARP-UHFFFAOYSA-N manganese silicon Chemical compound [Si].[Mn] PYLLWONICXJARP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005058 metal casting Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FITZJYAVATZPMJ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-disulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 FITZJYAVATZPMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000005064 octadecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 1
- JJVNINGBHGBWJH-UHFFFAOYSA-N ortho-vanillin Chemical compound COC1=CC=CC(C=O)=C1O JJVNINGBHGBWJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJHUBLNWMCWUOV-UHFFFAOYSA-N oxocane-2,8-dione Chemical compound O=C1CCCCCC(=O)O1 ZJHUBLNWMCWUOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229940048086 sodium pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005346 substituted cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005063 tetradecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKZBBWMURDFHNE-UHFFFAOYSA-N trans-coniferylaldehyde Natural products COC1=CC(C=CC=O)=CC=C1O DKZBBWMURDFHNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012141 vanillin Nutrition 0.000 description 1
- FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N vanillin Natural products COC1=CC(O)=CC(C=O)=C1 FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Description
/
H
H
R'
C = O
C = O
enthält, worin R für Wasserstoff oder ein Alkyl-, Aryl- oder sauerstoff- oder schwefelhaltiges heterocyclisches
Radikal steht und R' und R" für Alkyl- oder Arylradikale stehen, und als organische
Carbonsäure eine solche der Formel
y.
O \
-C
OH
35
6. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Carbonylverbindung Benzaldehyd und die
organische Säure Hydroxyessigsäure ist.
7. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Carbonylverbindung Furfurol und die
organische Säure α-Chlorpropionsäure ist.
oder ein Anhydrid davon enthält, worin η eine
Ganzzahl von 1 bis 4 ist und R'" für ein Kohlenwasserstoffradikal oder ein inert substituiertes
Kohlenwasserstoffradikal steht, und daß das Bad zusätzlich eine organische Trägerverbindung aus der
folgenden Gruppe enthält:
(a) Bis(sulfonaphthyl)methan sowie die Salze davon,
(b) Naphthalinderivate, welche Substituenten aus der Gruppe Sulfonsäureradikale sowie deren
Alkalimetallsalze, Hydroxyl-, Amino- und Iminoradikale enthalten,
(c) Benzolderivate, welche Substituenten aus der Gruppe Sulfonsäureradikale sowie deren Salze
mit Alkalimetallen oder Ammonium, Alkyl- und Iminoradikalen enthalten, und
(d) Allylsulfonsäuren und deren Salze mit Alkalimetallen und Ammonium.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,.
daß η gleich 1 ist und R'" eine Methyl-, ocjer
Hydroxymethyl- oder Halogenmethylgruppe darstellt.
3. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Säure ein
Gemisch aus Essigsäure und Hydroxyessigsäure ist.
4. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Carbonylverbindung Furfurol und die
organische Säure ein Gemisch aus Eisessig und Hydroxyessigsäure ist.
5. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Carbonylverbindung Acetylaceton und die
organische Säure Jodessigsäure ist.
Alkalische cyanidhaltige Bäder zum Abscheiden von glänzendem Zink arbeiten normalerweise vorzüglich.
Um jedoch von den hochgiftigen cyanidhaltigen Bädern wegzukommen, hat man versucht, zur galvanischen
Abscheidung von glänzenden Zinküberzügen alkalische Pyrophosphatbäder zu verwenden. Diese Bäder müssen,
damit sie einwandfrei arbeiten, bestimmte organische Zusätze enthalten. Aus der DL-PS 49 113 ist beispielsweise
ein Pyrophosphatbad bekannt, das Zitronensäure, Piperonal, Glykokoll und Glutaminsäure enthält. Aus
der US-PS 24 88 246 sind weiterhin PyrophosphiUbäder
zum Abscheiden von Zink bekannt, die als Giänzer o-Hydroxy-m-methoxy-benzaldehyd enthalten. Außerdem
können diese Bäder auch Citrat enthalten.
Es hat sich jedoch gezeigt, daß das Arbeiten dieser Bäder noch verbesserungsbedürftig ist, da der Glanz
nicht ausreichend ist und da außerdem unerwünschte Niederschläge gebildet werden, welche die Filtersysteme
verstopfen und damit eine häufige Unterbrechung des Arbeitens nötig machen.
Es wurde nunmehr gefunden, daß alkalische Pyrophosphatbäder, welche eine Carbonylverbindung und
eine organische Carbonsäure enthalten, vorzügliche Abscheidungen ergeben, wenn man in diese Bäder
bestimmte Trägerverbindungen einverleibt.
Gegenstand der Erfindung ist also ein alkalisches Pyrophosphatbad zur galvanischen Abscheidung glänzender
Zinküberzüge, welches als Zusätze eine Carbonylverbindung und eine organische Carbonsäure enthält,
welches dadurch gekennzeichnet ist, daß das Bad als Carbonylverbindung eine solche der Formel
R'
C=O
R"
enthält, worin R für Wasserstoff oder ein Alkyl-, Aryl-
oder sauerstoff- oder schwefelhaltiges heterocyclisches Radikal steht und R' und R" für Alkyl- oder Arylradikale
stehen, und als organische Carbonsäure eine solche der
Formel
O \
OH
(KSO3
KSO3)3
oder ein Anhydrid davon enthält, worin π eine Ganzzahl von 1 bis 4 ist und R'" für ein Kohlenwasserstoffradikal
oder ein inert substituiertes Kohlenwasserstoffradikal steht, und daß das Bad zusätzlich eine organische
Trägerverbindung aus der folgenden Gruppe enthält:
(a) Bis(sulfonaphthyl)methan sowie die Salze davon,
(b) Naphthalinderivate, welche Substituenten aus der Gruppe Sulfonsäureradikale sowie deren Alkalimetallsaize,
Hydroxyl-, Amino- und Iminoradikale enthalten,
(c) Benzolderivate, welche Substituenten aus der Gruppe Sulfonsäureradikale sowie deren Salze mit
Alkalimetallen oder Ammonium, Alkyl- und Iminoradikalen enthalten, und
(d) Allylsulfonsäuren und deren Salze mit Alkalimetallen und Ammonium.
Beispiele für geeignete organische Trägerverbindungen [die den Gruppen (a) bis (d), wie oben angegeben,
entsprechen], die gemäß der Erfindung verwendet werden können, sind in Tabelle I angegeben.
Organische Trägerverbindungen:
(a) Bis(sulfonaphthyl)-methan,
(a) Bis(sulfonaphthyl)-methan,
Natriumsalz von Bis(sulfonaphthyl)-methan,
Kaliumsalz von Bis(sulfonaphthyl)-methan,
Ammoniumsalz von Bis(sulfonaphthyl)-methan.
Typische Bis(sulfonaphthyl)-methanverbindungen (und die Salze derselben), die verwendet werden können, sind die Verbindungen der Formel:
Kaliumsalz von Bis(sulfonaphthyl)-methan,
Ammoniumsalz von Bis(sulfonaphthyl)-methan.
Typische Bis(sulfonaphthyl)-methanverbindungen (und die Salze derselben), die verwendet werden können, sind die Verbindungen der Formel:
H (SO3H)n,
(SO3H),
SO3H),
(SO3H)1n
SO3Na
NaSO,
SO3Na
KSO3
SO3K
SO3K
SO3K
SO3K
20
(C)
35 (d)
40
45
worin m und k jeweils eine Ganzzahl von O bis 3 ist und
wobei die Summe von m+k mindestens 1 und vorzugsweise 1 bis 6 ist Beispiele für Salze von solchen
Verbindungen sind:
Es wird darauf hingewiesen, daß in den obigen Formeln alle unsubstituierten Kohlenstoffatome an
Wasserstoffatome gebunden sind,
(b) Naphthalinderivate:
(b) Naphthalinderivate:
2,6-Naphthalin-disulfonsäure,
8-Amino-l-naphthalin-2-sulfonsäure,
6,6'-Imino-bis-(l-naphthol-3)sulfonsäure,
2-Naphthol-6,8-disulfonsäure,
2,3-Dihydroxy-6-naphthalinsulfonat,
(Natriumsalz)
1,5-Dihydroxy-naphthalin,
1,4-N aphthalindiol;
Benzolderivate:
Natriumsalz von Benzolmonosulfonat,
Benzolsulfonamid,
Natriumtoluolsulfonat,
o-Sulfobenzimid;
N atriumallylsulfonat.
Geeignete Carbonylverbindungen der Aldehyd- und Ketontype, die mit den anderen Zusätzen der Erfindung
wirksam zusammenarbeiten und die beim erfindungsgemäßen Verfahren und bei den erfindungsgemäßen
Zusammensetzungen verwendet werden können, besitzen folgende Strukturformel:
und
R'
R"
C=O
SO1K
worin R aus der aus Wasserstoff, Alkyl-, Aryl- und heterocyclischen Radikalen, die Sauerstoff und/oder
Schwefel aus Heteroatome enthalten, bestehende Gruppe ausgewählt ist, und worin R' und R" jeweils aus
der aus Alkyl- und Arylradikalen bestehenden Gruppe ausgewählt ist Sowohl die Alkyl- als auch die
Arylradikale in R, R' und R" können Substituenten, wie z.B. Alkoxy- oder Hydroxyradikale enthalten. In der
Tabelle II sind geeignete Beispiele für Carbonylverbindungen angegeben, die in Kombination mit den anderen
Zusätzen gemäß der Erfindung verwendet werden können.
Tabelle II
Aldehyde:
Aldehyde:
C = O
Formaldehyd,
Benzaldehyd,
m- Hydroxybenzaldehyd,
p-Hydroxybenzaldehyd,
o-Hydroxybenzaldehyd,
Piperonal,
Veratraldehyd
(das ist 3,4-Dimethoxy-benzaldehyd),
Vanillin
Vanillin
(das ist 4-Hydroxy-3-methoxy-benzaldehyd),
Isovanillin
Isovanillin
(das ist 3-Hydroxy-4-methoxy-benzaldehyd),
Vanillinäthyläther,
beta-Methoxy-propionaldehyd,
Furfurol,
Glyceraldehyd,
Äthylvanillin,
Anisaldehyd,
Vanillinäthyläther,
beta-Methoxy-propionaldehyd,
Furfurol,
Glyceraldehyd,
Äthylvanillin,
Anisaldehyd,
Salicylaldehyd-propylsulton,
Thiophen-2-aldehyd.
Ketone:
Thiophen-2-aldehyd.
Ketone:
R'
R"
C = O
Acetophenon,
Acetylaceton,
Isophoron,
Dihydroxyaceton.
Acetylaceton,
Isophoron,
Dihydroxyaceton.
Beispiele für geeignete organische Carbonsäure der Formel
OH
und Anhydride derselben, worin η eine Ganzzahl von 1
bis 4 ist und R'" aus der aus Kohlenwasserstoffradikalen und inert substituierten Kohlenwasserstoffradikalen
bestehenden Gruppe ausgewählt ist, sind in Tabelle 3 angegeben. Unter inerten Substituenten sind solche zu
verstehen, die mit den anderen im Bad enthaltenen Bestandteilen während der galvanischen Abscheidung
nicht in Reaktion treten. In dieser Verbindung kann R'" ein Kohlenwasserstoff radikal sein, das vorzugsweise aus
der Gruppe ausgewählt ist, die aus Alkyl-, Alkenyl-, Cycloalkyl-, Aralkyl-, Aryl- und Alkarylradikalen einschließlich
derartiger inertsubstituierter Radikale besteht Wenn R'" Alkyl ist, dann ist es in typischer Weise
ein geradkettiges Alkyl oder ein verzweigtkettiges Alkyl, wie z. B. Methyl, Äthyl, n-Propyl, Isopropyl,
η-Butyl, Isobutyl, sec-Butyl, tert-Butyl, n-Amyl, Neopentyl,
Isoamyl, N-Hexyl, Isohexyl, Heptyl, Octyl, Decyl,
Dodecyl, Tetradecyl, Octadecyl usw. Bevorzugte Alkylgruppen
sind jedoch die Alkylgruppen mit weniger als ungefähr 8 Kohlenstoffatomen, d. h. die Octyle und
geringer. Wenn R'" Alkenyl ist, dann kann es in typischer Weise sein Vinyl, Allyl, 1-Propenyl, Methallyl,
Buten-1-yl, Buten-2-yl, Buten-3-yl, Penten-l-yl, Hexenyl,
Heptenyl, Octenyl, Decenyl, Dodecenyl, Tetra-decenyl,
5 Octadecenyl usw. Wenn R'" Cycloalkyl ist, dann kann es
in typischer Weise sein Cyclopentyl, Cyclohexyl, Cycloheptyl, Cyclooctyl usw. Wenn R'" Aralkyl ist, dann
kann es in typischer Weise Benzyl, ß-Phenyläthyl,
y-Phenylpropyl, jS-Phenylpropyl usw. sein. Wenn 1R'"
ίο Aryl ist, dann kann es in typischer Weise sein Phenyl,
Naphthyl usw. Wenn R'" Alkaryl ist, dann kann es in typischer Weise ToIyI, Xylyl, p-Äthylphenyl, p-Nonylphenyl
usw. sein. R'" kann inert substituiert sein, d. h., es
kann nichtreaktive Substituenten tragen wie z. B. Alkyl, Aryl, Cycloalkyl, Aralkyl, Alkaryl, Alkenyl, Äther,
Halogen, Nitro, Ester usw. Typische substituierte Alkyle sind z. B. 3-Chloropropyl, 2-Äthoxyäthyl, Carboäthoxymethyl
usw. Substituierte Alenyle sind z. B. 4-Chlorobutenyl,
y-Phenyl-propenyl, Chloroallyl usw. Substituierte
Cycloalkyle sind z. B. 4-Methyl-cyclohexyl, 4-Chlorocyclohexyl
usw. Inert substituierte Aryle sind z. B. Chlorophenyl, Anisyl, Biphenyl usw. Inert substituierte
Aralkyle sind z. B. Chlorobenzyl, p-Phenylbenzyl, p-Methylbenzyl usw. Inert substituierte Alkaryle sind
z. B. S-Chloro-S-methylphenyl, 2,6-Di-tert-butyl-4-chlorophenyl
usw. Andere geeignete Gruppen R'" sind z. B. Alkoxyalkyl, Alkoxyaryl, Aryloxyalkyl, Alkylen, Alkenylen,
Alkinyl, wie auch dreiwertige und vierwertige Kohlenwasserstoff- und inertsubstituierte Kohlenwasserstoffgruppen.
Organische Säuren (und Anhydride):
Essigsäure,
Essigsäureanhydrid,
Essigsäureanhydrid,
Chloressigsäure,
Chloressigsäureanhydrid,
Dichloressigsäure,
Dichloressigsäureanhydrid,
Trichloressigsäure,
Trichloressigsäure,
Trichloressigsäureanhydrid,
Bromessigsäure,
Bromessigsäureanhydrid,
Dibromessigsäure,
Dibromessigsäureanhydrid,
Dibromessigsäureanhydrid,
Tribromessigsäure,
Tribromessigsäureanhydrid,
Jodessigsäure,
Jodessigsäureanhydrid,
Methoxyessigsäure,
Methoxyessigsäure,
M ethoxyessigsäureanhydrid,
Äthoxyessigsäure,
Äthoxyessigsäureanhydrid,
Phenoxyessigsäure,
Phenoxyessigsäureanhydrid,
Phenoxyessigsäureanhydrid,
2-Hydroxyäthoxyessigsäure,
Malonsäure,
Malonsäureanhydrid,
Bernsteinsäure,
Bernsteinsäureanhydrid,
Bernsteinsäureanhydrid,
Glutarsäure,
Glutarsäureanhydrid,
Adipinsäure,
Adipinsäureanhydrid,
Pimelinsäure,
Pimelinsäure,
Pimelinsäureanhydrid,
Fumarsäure,
Fumarsäureanhydrid.
Beispiele für halogenierte organische Carbonsäuren, die in den erfindungsgemäßen Zinkbädern entweder als
solche oder als Anhydride oder als Salze (typischer Weise Natriumsalze) zugegeben werden können,
umfassen die folgenden
a) monohalogenierte aliphatische Monocarbonsäuren mit mindestens zwei Kohlenstoffatomen,
b) polyhalogenierte aliphatische Monocarbonsäuren mit mindestens zwei Kohlenstoffatomen,
c) monohalogenierte aliphatische Polycarbonsäuren mit mindestens zwei Kohlenstoffatomen,
d) polyhalogenierte aliphatische Polycarbonsäuren mit mindestens zwei Kohlenstoffatomen,
e) monohalogenierte aromatische Monocarbonsäuren mit mindestens zwei Kohlenstoffatomen,
f) monohalogenierte aromatische Polycarbonsäuren mit mindestens zwei Kohlenstoffatomen,
g) polyhalogenierte aromatische Monocarbonsäuren mit mindestens zwei Kohlenstoffatomen und
h) polyhalogenierte aromatische Polycarbonsäuren
mit mindestens zwei Kohlenstoffatomen. Beispiele für monohalogenierte aliphatische Monocarbonsäuren
mit mindestens drei Kohlenstoffatomen, die verwendet werden können, sind:
2-Chlorpropionsäure,
3-Brompropionsäure,
3-Jodpropionsäure,
2-Chlorbuttersäure,
Chlorpivalinsäure
(monochlorierte tertiäre Pentansäure),
(monochlorierte tertiäre Pentansäure),
2-Chlorpentansäure.
Beispiele für polyhalogenierte aliphatische Monocarbonsäuren mit mindestens drei Kohlenstoffatomen, die
verwendet werden können, sind:
2,2- Dichlorpropionsäure,
2,2,3-Trichlorpropionsäure.
Beispiele für monohalogenierte aliphatische Polycarbonsäuren mit mindestens drei Kohlenstoffatomen, die
verwendet werden können, sind:
Chlormalonsäure,
2-Chlorbernsteinsäure,
2-Brombernsteinsäure,
2-Chloradipinsäure.
Beispiele für polyhalogenierte aliphatische Polycarbonsäuren, die verwendet werden können, sind:
2,2-Dichlorbernsteinsäure,
2,2-Dichloradipinsäure,
Tetrachlorbernsteinsäure,
2,3-Dibrombernsteinsäure,
3,3-Dijodbernsteinsäure,
3,4-Dichloradipinsäure.
Beispiele für monohalogenierte aromatische Monocarbonsäuren, die verwendet werden können, sind:
S-ChloM-sulfobenzoesäure,
3- Brom-4-sulfobenzoesäure.
Beispiele für monohalogenierte aromatische Polycarbonsäuren, die verwendet werden können, sind:
4-Chlor-phthalsäure,
2-Bromterephthalsäure.
Beispiele für polyhalogenierte aromatische Monocarbonsäuren, die verwendet werden können, sind:
S^-Dichlor^-sulfobenzoesäure,
3,6-Dibrom-4-sulfobenzoesäure.
Beispiele für polyhalogenierte aromatische Polycarbonsäuren, die verwendet werden können, sind:
3,4-Dichlorphthalsäure,
3,4-Dibromphthalsäure,
4,5-Dichlorphthalsäure.
3,4-Dibromphthalsäure,
4,5-Dichlorphthalsäure.
ίο Gemäß der Erfindung können auch Gemische von
organischen Säuren in Kombination mit den anderen Zusätzen verwendet werden. Beispiele für solche
Gemische sind Essigsäure und Chloressigsäure, Essigsäure und Hydroxyessigsäure, Trichloressigsäure und
Hydroxyessigsäure, Dichloressigsäure und Bromessigsäure usw. Bevorzugte Säuregemische, die verwendet
werden können, sind z. B. die Gemische aus Hydroxyessigsäure und mindestens einer weiteren Säure, wie z. B.
Essigsäure, Jodessigsäure, Chloressigsäure, Bromessigsäure usw. Die Verwendung von Hydroxyessigsäure in
Kombination mit mindestens einer weiteren Säure (wie z. B. Essigsäure, einer Halogenessigsäure oder einer
Polyhalogenessigsäure) ergibt eine weitere verbesserte Reduktion und/oder Inhibierung von unerwünschten
Ausfällungen in alkalischen Phosphatplattierungsbädern, die Zinkionen enthalten. Alkoxy- und Aryloxysäuren,
wie z.B. Methoxyessigsäure, Phenoxyessigsäure usw, können ebenfalls verwendet werden.
Gemäß eines weiteren Merkmals der Erfindung kann ein verbrauchtes Pyrophosphatzinkbad, das mit unerwünschten
Ausfällungen verunreinigt ist, wieder regeneriert werden, durch Zusatz von geeigneten Mengen
organischem Träger, Carbonylverbindung und organischer Säureverbindung.
Das Basismetall, auf welches die glänzenden Zinkniederschläge gemäß der Erfindung niedergeschlagen
werden können, sind z. B. Eisenmetalle, wie z. B. Stahl, Kupfer einschließlich Legierungen, wie z.B. Messing,
Bronze usw.; Metallgußstücke, die eine Plattierung aus einem anderen Metall, wie z. B. Kupfer tragen können,
dünne Metallbeläge, wie z. B. Silber, Nickel oder Kupfer, oder ein nichtleitender Gegenstand (wie z. B. ein harter
oder flexibler Kunststoff), dessen Belag durch chemische Reduktionsverfahren abgeschieden worden ist.
Bei der Verwendung der erfindungsgemäßen Bäder hängen die bevorzugten Arbeitsbedingungen, wie z. B.
der pH, die Temperatur und die Stromdichte, von der jeweiligen Badzusammensetzung und der Natur des zu
plattierenden Gegenstandes ab. Im allgemeinen können gute glänzende Zinkniederschläge bei einem speziellen
Bereich von Arbeitsbedingungen erhalten werden. Beispielsweise kann, wenn der pH innerhalb des
gewünschten Bereichs liegt, ein Zinkniederschlag mit einem maximalen Glanz erreicht werden, und wenn
beispielsweise der pH im gewünschten Bereich liegt, dann kann die Stromausnutzung maximal sein.
In der Tabelle IV sind die Bereiche und Bedingungen angegeben, die für die erfindungsgemäßen Badzusammensetzungen
geeignet sind:
Zusammensetzungen und/oder Bedingungen Breiter Bereich
Zinkmetallkonzentration (g/l) Pyrophosphat/Zink (Ρ2θ?/Ζη),
Gewichtsverhältnis 10-60
6,5:1-8,0:1
6,5:1-8,0:1
Bevorzugter Bereich
20-30 7,0:1-8,0:1
609 526/151
Fortsetzung
Zusammensetzungen und/oder Bedingungen
| Breiter Bereich | Bevorzugter |
| Bereich | |
| 10,5-12,0 | 11,2-11,5 |
| 40-55 | 45-47 |
| 0,2-0 | 0,4-2 |
| 0,5-18,0 | 4,0-14,0 |
| 0,025-0,2 | 0,05-0,1 |
| 4,0-50 | 12,0-22,0 |
PH
Temperatur
Stromdichte A/dm2
Organische Trägerverbindung (g/l)
Carbonylverbindung (g/l)
Organische Säureverbindung (g/l)
Heftiges und ungleichmäßiges Rühren des galvanischen Bads kann nötigenfalls ausgeführt werden, und
zwar entweder auf mechanischem Wege oder durch Bewegung der Lösung während der Abscheidung. Eine
solche Bewegung kann die Verwendung von hohen Stromdichten auf dem zu beschichtenden Gegenstand
erlauben. Während der Abscheidung ist es erwünscht, Metall und andere Verunreinigungen zu entfernen, um
einen glänzenden metallenen Zinkniederschlag sicherzustellen. Solche Verunreinigungen aus Metallionen
(wie z. B. Cadmium, Kupfer, Eisen und Blei) können ziemliche Schwierigkeiten machen, und es können die
herkömmlichen Reinigungsverfahren zur Entfernung oder Verringerung der Menge solcher Verunreinigungen
verwendet werden. Andere Typen von Verunreinigungen (wie z. B. organische Verunreinigungen) können
ebenfalls durch Zirkulation der Pyrophosphatlösung verringert oder herabgesetzt werden, wobei geeignete
Filtermedien, wie z. B. Aktivkohle oder andere Typen von Austausch- oder Absorptionsmedien, verwendet
werden.
Zwar können zahlreiche Kombinationen von organischen Trägerverbindungen, Carbonylverbindungen und
organischen Säureverbindungen gemäß der Erfindung verwendet werden, aber bei einer bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung wird ein alkalisches Pyrophosphatzinbad verwendet, das als
organischen Träger Bis(sulfonaphthyi)-methan (oder die Alkalimetallsalze davon), als Carbonylverbindung Furfuraldehyd
und ein wäßriges Gemisch enthält, das Essigsäure und Hydroxyessigsäure als die organische
Säurekomponente aufweist. Diese Zusammensetzung kann besonders gute Resultate ergeben, und zwar im
Hinblick auf eine Verringerung der Rauhigkeit, einer Erhöhung des Glanzes des Zinkniederschlags, einer
Verringerung der Dendritenbildung und einer Beseitigung oder Verringerung einer übermäßigen Bildung
von Ausfällungen.
Zwar können die Zusätze und Träger gemäß der Erfindung bei jeder Konzentration innerhalb des oben
angegebenen breiten Bereichs verwendet werden, aber es ist im allgemeinen bevorzugt, die organischen Träger
in einer Konzentration von ungefähr 4,0 bis ungefähr 14,0 g/l zu verwenden, wobei die bevorzugteste
Konzentration 9 bis 10 g/l beträgt; die Carbonylverbindung in einer Konzentration von ungefähr 0,05 bis
ungefähr 0,1 g/l zu verwenden, und die organischen Säuren in einer Konzentration von ungefähr 12,0 g/l bis
ungefähr 22,0 g/l und insbesondere in einer Menge von ungefähr 16 g/l zu verwenden.
Die Zusätze und Träger können entweder getrennt oder gleichzeitig dem Zinkbad zugegeben werden. In
bezug auf die Carbonylverbindung ist es oftmals zweckmäßig, die Verbindung dem Bad in Form einer
verdünnten wäßrigen Lösung zuzugeben. Wäßrige Lösungen, die Alkalymetallhydroxyde enthalten, können
für die Herstellung der Bäder mit höheren Konzentrationen an Carbonylverbindungen verwendet
werden. Zur Herstellung von Lösungen von Carbonylverbindungen, die eine lange Lagerfähigkeit besitzen,
kann die Carbonylverbindung in Form einer wäßrigen alkoholischen Lösung gelöst werden. Der organische
Säurezusatz kann in ähnlicher Weise zu dem Zinkbad zugegeben werden, vorzugsweise in Form einer'
wäßrigen Lösung. Wenn ein Säuregemisch (beispielsweise Essigsäure und Hydroxyessigsäure) verwendet
wird, dann kann das Gemisch geeignete Mengen an Wasser als Verdünnungsmittel enthalten. Konzentrierte
Lösungen können direkt im Bad verdünnt werden.
Die Zinkabscheidung kann bei Temperaturen ausgeführt werden, bei denen das Bad flüssig ist. Im
allgemeinen werden Temperaturen im Bereich von 20 bis 65° C, typischerweise Temperaturen von 45 bis 55° C
und bevorzugt Temperaturen von 50 bis 52° C verwendet.
Die folgenden Beispiele dienen nur zum Zwecke der Erläuterung. Die Zusammensetzungen der Metallplatten,
die bei diesen Versuchen verwendet wurden, waren wie folgt:
!.Stahlplatte
Type: Niedriggekohlter, kaltgewalzter Stahl.
Type: Niedriggekohlter, kaltgewalzter Stahl.
| Element | 55 | Verunreinigungen | Gewichtsprozent |
| 60 Element | KohlenstoffO,08 bis 0,13 | ||
| 50 Mangan | Silicium | 0,30 bis 0,60 | |
| Phosphor | Nickel | 0,040 (maximal) | |
| Schwefel | Chrom | 0,050 (maximal) | |
| Eisen | 65 Molybdän | ad. 100 | |
| Aluminium | |||
| Arsen | |||
| Kupfer | Gewichtsprozent | ||
| 0,08 | |||
| 0,07 | |||
| 0,04 | |||
| 0,02 | |||
| 0,002 | |||
| 0,032 | |||
| Spur |
II. Messingplatte
Type: 70% Kupfer und 30% Zink; halbhartes Messing.
| Element | Gewichtsprozent |
| Kupfer Zinn Blei Zink Verunreinigungen |
65,00 (min.) bis 69,00 (max.) 1,50 (max.) 1,50 (min.) bfs 3,5 (max.) ad 100 |
| Element | Gewichtsprozent |
| Nickel Eisen Silicium |
0,5 0,5 0,05 (max.) |
Eine Pyrophosphatgrundlösung mit der Bezeichnung Zinkbad A mit den folgenden Bestandteilen wird
hergestellt:
| Zn | 22,8 bis 27,0 g/l |
| K4P2O7 | 273,6 bis 350 g/l |
| K/Zn-Verhältnis | 12 bis 13:1 |
| PO4— | 7,5 g/l max. |
| SO4-- | weniger als 0,38 g/l |
| pH | 10,3 bis 11,5 |
Zu 3,51 Lösung A werden ungefähr 3,8 g Natriumsalz
von Bis(sulfonaphthyl)methan, 0,44 g Furfuraldehyd und 6,3 g Hydroxyessigsäure zugegeben, worauf der elektrometrische
pH der Lösung annähernd 11,2 beträgt Die
Temperatur des Bades wird auf ungefähr 25° C gehalten, und eine 6,25 cm χ 10 cm χ 0,15 cm große, halbharte
Messingplatte (70 Gewichtsprozent Kupfer und 30% Zink) der gleichen Zusammensetzung wie die vorher
beschriebene Messingplatte II wurde in das Bad eingetaucht, und mit einem Strom von 3 A während
eines Zeitraums von 10 Minuten verzinkt Es wurde eine ausgezeichnete glänzende verzinkte Platte erhalten. Die
Anoden blieben sauber, und auf der verzinkten Platte bildeten sich keine Dendriten. Ähnliche Resultate
werden bei der Verwendung von Stahlplatten erhalten. mehrere Messingplatten werden unter Verwendung
eines Stroms von 4 A 20 Minuten lang verzinkt. Es werden vorzügliche, mit glänzendem Zink beschichtete
Messingplatten erhalten. Es wird hervorgehoben, daß die Anoden auch bei Stromdichten im Bereich von
30 A/dm2 sauber bleiben.
to Dieses Beispiel erläutert den Vorteil der Verwendung einer organischen Säure in Kombination mit einer
Bis(sulfonaphthyl)methanverbindung (sowie von Salzen derselben) und einer Carbonylverbindung.
Bei einem Kontrollversuch werden 300 ml Pyrophosphatbad A, wie im Beispiel 1 beschrieben, zu 0,36 g des
Natriumsalzes von Bis(sulfonaphthyl)methan und 0,03 g Furfurol gegeben. Die resultierende Lösung (pH 11,3)
wird auf 50°C erhitzt, und eine Stahlplatte wird mit einer Standard-Hull-Zelle bei 1 A 10 Minuten beschichtet.
Die resultierende, mit Zink versehene Kontrollplatte enthält schwarze dendritische Abscheidungen. Eine
Wiederholung dieses Kontrollversuchs unter Verwendung des gleichen Bads mit einer anderen Stahlplatte
bei 1,5 A während 10 Minuten ergibt eine verzinkte Stahlplatte, die mit unschönen schwarzen Dendriten auf
der Oberfläche der Zinkplattierung verunstaltet ist.
Bei einer erfindungsgemäßen Arbeitsweise wird die gleiche Lösung wie im obigen Versuch, aber mit dem
Zusatz von 2,5 g einer Mischung aus 0,1 g Eisessig und 2,4 g Hydroxyessigsäure zur Beschichtung einer identischen
Stahlplatte bei 1,5 A während 10 Minuten bei 50°C in einer Standard-Hull-Zelle verwendet, wobei der
pH der Lösung 11,3 beträgt, wie im vorherigen Versuch. Auf der verzinkten Stahlplatte bilden sich keine
Dendriten.
Eine Wiederholung des Versuchs unter Verwendung des gleichen Zinkbads, wobei jedoch l,0A während
10 Minuten angewendet werden, ergibt ebenfalls eine Zinkbeschichtung, die frei von Dendriten ist.
Beispiele 4 bis 13
Tabelle V zeigt Beispiele verschiedener Kombinationen von Carbonylverbindung, organischer Trägerverbindung
und organischer Säureverbindung, die beträchtlich verbesserte dendritenfreie glänzende Zinkabscheidungen
mit einer verringerten Anodenverschlechterung und einer verringerten Schlammbildung im Bad
ergeben. Ein typisches Grundbad, das in Kombination mit den Bestandteilen von Tabelle V verwendet werden
kann, setzt sich folgendermaßen zusammen:
Dieses Beispiel erläutert die Regenerierung des verbrauchten Zinkbads. 3,51 Pyrophosphatgrundlösung
A, die 0,1 g/l Furfurol und 1,2 g/l des Natriumsalzes von Bis(sulfonaphthyl)methan enthält kann mehrere
Tage verwendet werden. Am Ende dieser Zeit hat sich ein Niederschlag am Boden des Bades gebildet und das
Bad ergibt keine zufriedenstellenden glänzenden Zinkniederschläge mehr. Zu einer Probe von 3,51 dieses
verbrauchten Glanzzinkbads wird ausreichend Hydroxyessigsäure zugegeben, um den Niederschlag im Bad
aufzulösen (annähernd 15 bis 25 g). Eisessig (0,5 g/l) wird
zugegeben, die Anoden werden eingesackt und Zink (als Metall)
K4P2O7 Gesamtes P2O7
K4P2O7/Zn-Gewichts-
verhäitnis
PO4—
SO4--
PH
Temperatur (0C)
22,8 bis 27,0 g/I
273,6 bis 350 g/l
annähernd 188 g/i
273,6 bis 350 g/l
annähernd 188 g/i
12 :1 bis 13 :1
7,5 g/l max.
weniger als 038 g/l
10,3 bis 11,5
45 bis 55
7,5 g/l max.
weniger als 038 g/l
10,3 bis 11,5
45 bis 55
in den Beispielen der Tabelle V wird die Badtemperatur
auf ungefähr 5O0C gehalten, der pH beträgt annähernd 11,3 und es wird schwach gerührt
Die Versuche werden in einer Hull-Zelle während
10 Minuten bei 1A unter Verwendung der oben beschriebenen Stahlplatten ausgeführt.
Beispiel
Nr.
Nr.
Carbonylverbindung
Organische Trägerverbindung
Organische Säureverbindung
| 4 | p-Hydroxybenzaldehyd | Bis(sulfonaphthyl)methan*) | Bedingungen wie in | Jodessigsäune·^. | • |
| 0,25 g/l | 1,2 g/l | 0,2 g/I ." "'. !''1^- | den vorhergehenden Beispie! | ||
| 5 | Veratraldehyd | Bis(sulfonaphthyl)methan*) | Eisessig | ||
| 0,1 g/l | 1,2 g/l | 0,2 g/l | |||
| 6 | Benzaldehyd | Bis(sulfonaphthyl)methan*) | Hydroxyessigsäure | ||
| 0,4 g/l | 1,2 g/l | 8 g/l | |||
| 7 | Furfural | Bis(sulfonaphthyl)methan*) | 0,2 g/l Eisessig plus 8 g/l Hy | ||
| 0,1 g/l | 1,2 g/l | droxyessigsäure | |||
| 8 | Glyceraldehyd | Bis(sulfonaphthyl)methan*) | Trichloressigsäure | ||
| 0,1 g/l | 1,2 g/l | 0,32 g/l | |||
| 9 | Anisaldehyd | Bis(sulfonaphthyl)methan*) | Bromessigsäure | ||
| 0,6 g/l | 1,2 g/l | 0,75 g/l | |||
| 10 | Salicylaldehydpropylsulton | Bis(sulfonaphthyl)methan*) | Trichloressigsäure | ||
| 0,05 g/l | 1,2 g/l | 0,32 g/l | |||
| 11 | Äthylvanillin | Bis(sulfonaphthyl)methan*) | 0,2 g/l Eisessig plus 8 g/l Hy | ||
| 0,4 g/l | 1,2 g/l | droxyessigsäure | |||
| 12 | Thiophen-2-aldehyd | Bis(sulfonaphthyl)methan*) | Bromessigsäure | ||
| 0,2 g/l | 1,2 g/l | 0,75 g/l | |||
| 13 | Acetylaceton | Bis(sulfonaphthyl)methan*) | Jodessigsäure | ||
| 0,4 g/l | 1,2 g/l | 0,2 g/l | |||
| ·) Als | Natriumsalz. | ||||
| Beispiele 14 bis 23 |
Verbesserte Resultate werden in ähnlicher Weise erhalten, wenn Stahlplatten in einer Standard-Hull-Zel-Ie
mit Zink beschichtet werden, wobei die gleichen
35
bis 13 verwendet werden, wobei jedoch die folgenden Säuren bei einer Konzentration von 0,2 g/l in Kombination
mit 3,4 g/l des Natriumsalzes von Bis(sulfonaphthyl)methan und 2,03 g/l Furfurol verwendet werden.
| Beispiel | Organische Säuren |
| Nr. | Buttersäure |
| 14 | 2-Brombuttersäure |
| 15 | Propionsäure |
| 16 | a-Chlorpropionsäure |
| 17 | Bernsteinsäure |
| 18 | Benzoesäure |
| 19 | Glutarsäure |
| 20 | Adipinsäure |
| 21 | Bernsteinsäureanhydrid |
| 22 | Phthalsäure |
| 23 | |
Ähnliche Resultate werden bei Verwendung von Natriumpyrophosphat anstelle von Kaliumpyrophosphat
im Pyrophosphatzinkbad A erhalten.
Claims (1)
1. Alkalisches Pyrophosphatbad zur galvanischen Abscheidung glänzender Zinküberzüge, welches als
Zusätze eine Carbonylverbindung und eine organische Carbonsäure enthält, dadurch gekennzeichnet,
daß das Bad als Carbonylverbindung eine solche der Formel
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US59141266 | 1966-11-02 | ||
| DEM0076094 | 1967-11-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1621119C3 true DE1621119C3 (de) | 1977-02-03 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0666342B1 (de) | Bad zum galvanischen Abscheiden von Silber-Zinn-Legierungen | |
| DE2244434B2 (de) | Wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Goldlegierungen | |
| DE2627181C2 (de) | Wässriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Zink | |
| DE832982C (de) | Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer | |
| DE1496917A1 (de) | Elektrolytbaeder sowie Verfahren fuer die Herstellung galvanischer UEberzuege | |
| DE2056954C2 (de) | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung eines Zinnüberzugs und Verfahren hierzu | |
| DE1150255B (de) | Cyanidfreies alkalisches Glanzzinkbad | |
| DE2830441A1 (de) | Waessriges bad zur galvanischen abscheidung von zink und dessen verwendung | |
| DE1109000B (de) | Bad zum galvanischen Abscheiden von Kupfer- und Kupferlegierungsueberzuegen | |
| DE959242C (de) | Bad zur galvanischen Abscheidung von Antimon oder Antimonlegierungen | |
| DE2826464C2 (de) | ||
| DE1621119B2 (de) | Alkalisches pyrophosphatbad zur galvanischen abscheidung glaenzender zinkueberzuege | |
| DE2334813C2 (de) | Bad zur elektrolytischen Abscheidung von Weißgoldlegierungen | |
| DE1621119C3 (de) | Alkalisches Pyrophosphatbad zur galvanischen Abscheidung glänzender Zinküberzüge | |
| DE1290782B (de) | Galvanisches Chrombad | |
| DE2213458A1 (de) | Saures Zink-Elektroplattierbad und Verwendung desselben | |
| DE3611627A1 (de) | Verbindung, zusammensetzung und verfahren zum elektroplattieren | |
| CH640888A5 (de) | Verfahren zur galvanischen abscheidung eines eisen und nickel und/oder kobalt enthaltenden niederschlags und hierfuer geeignetes bad. | |
| DE2923928A1 (de) | Waessriges saures elektroplattierbad zur bildung glaenzender zinnbelaege | |
| DE2459428A1 (de) | Verfahren zum elektrolytischen aufbringen eines zinnueberzugs auf ein eisensubstrat | |
| DE2333096C3 (de) | Galvanisch aufgebrachter mehrschichtiger Metallüberzug und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE2032867B2 (de) | Galvanisches Goldbad und Verfahren zur Abscheidung gleichmäßiger, dicker Goldüberzüge | |
| DE69011549T2 (de) | Elektroplattierung von Gold enthaltenden Legierungen. | |
| DE2111602C2 (de) | Cyanidfreies wäßriges galvanisches Glanzzinkbad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Glanzzink unter Verwendung dieses Bades | |
| DE2948999C2 (de) | Wässriges, saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Hartgold unter seiner Verwendung |