DE2948999C2 - Wässriges, saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Hartgold unter seiner Verwendung - Google Patents
Wässriges, saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Hartgold unter seiner VerwendungInfo
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Description
dadurch gekennzeichnet, daß es
15
(A) das Alkalimetallgoldcyanid in einer Menge, die 2— 17 g/l Gold entspricht,
(B) 3 bis 37,5 g/l Triäthanolaminborat,
(C) die Phosphatverbindung eines Metalls in einer Menge, die 0,01 —5,0 g/l Metall entspricht,
(D) 15 bis 150 g/l Nitrilotrisniethylentriphosphonsäure,
(E) 15—150 g/l Alkalimetalldihydrogenphosphat als Leitsalz,
(F) freies Alkalimetallcyanid in einer Menge von wenigstens 2,5 Gewichtsprozent, bezogen auf
Gold, enthält und einen pH-Wert von 3,8—4,5 und eine Dichte von 1,043 bis 1,180 g/cm3
aufweist.
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2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Verbindung (C) eine durch Umsetzen von
Nickel- und/oder Kobaltcarbonat mit Nitrilotrismethylentriphosphonsäure
gebildete Verbindung enthält.
3. Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Hartgold unter Verwendung eines Bades nach den
Ansprüchen Ί und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad bei einer Temperatur im Bereich von
30—6O0C und einer Stromdichte im Bereich von
0.1 —20 A/dm2 betrieben wird.
Zur Erhöhung der Härte galvanisch abgeschiedener Überzüge aus Gold setzt man derartigen Bädern häufig
Kobalt und Nickel zu. Arbeitet man dabei mit einer genau eingestellten Badzusammensetzung und unter
genauer Einhaltung bestimmter Abscheidungsbedingungen, sowie unter einer möglichst weitgehenden
Unterbindung aller Verunreinigungen, dann erhält man
hierbei über einen zufriedenstellenden Stromdichtebereich ohne weiteres glänzende Goldbeläge. Leider
kommt es dabei häufig zu einer Verunreinigung durch verschiedene Metalle und einer starken Beeinträchtigung
der Stabilität des galvanischen Bades, wobei darüber hinaus auch die Stromausbeute des Bades rasch
abnimmt.
Als Bestandteil galvanischer Bäder auf Basis von Gold und anderen Metallen werden auch seit langer ω
Zeit bereits Phosphonsäuren als chelatbildende Mittel eingesetzt, um hierdurch aus den Verunreinigungen, wie
Kupfer oder Blei, Chelate zu bilden. Weiter ist auch bereits bekannt, daß sich verunreinigendes Eisen in
entsprechenden galvanischen Bädern unter Verwendung von Phosphat als Elektrolyt minimal halten läßt, da
Phosphat mit Eisen unter Bildung eines Niederschlags reagiert.
Beispiele für galvanische Bäder, die als chelatbildende Mittel Phosphonsäure enthalten, gehen aus US-PS
37 70 596, US-PS 37 06 634 und US-PS 39 04 493 hervor. Die US-PS 38 56 638 ist insofern von Interesse, als
daraus hervorgeht, daß Nickel und Kobalt mit einer Phosphonsäureverbindung und mit An-noguanidin reagieren.
Der Einsatz von verschiedenen anderen organischen Verbindungen als Chelatbildner, Glanzmacher und
Egalisiermittel ist ebenfalls bereits seit langer Zeit bekannt, und aus der Patentliteratur sowie der
allgemeinen Literatur gehen zahlreiche Verbindungen und Verbindungskombinationen hervor, durch deren
Verwendung sich verschiedene Vorteile ergeben. Zur Steuerung des pH-Wertes entsprechender galvanischer
Bäder wurde auch bereits die Verwendung von Puffern vorgeschlagen, wie Citronensäure, Borsäure oder
Apfelsäure.
Aus US-PS 38 93 896 ist ebenfalls ein wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold bekannt, das
ein AlkaligoJdcyanid, eine Borverbindung, ein Phosphat von Nickel und/oder Kobalt, einen Stickstoff enthaltenden
Chelatbildner und als Leitsalz ein Alkalisalz einer anorganischen Säure, wie Lithiumsulfat, gelöst enthält
und einen pH-Wert von 3,7 bis 4,8 aufweist.
Dieses bekannte Bad vermittelt jedoch keinerlei Hinweis auf die erfindungswesentlichen Bestandteile
(A), (B), (C), und (D) und auch nicht auf die durch die Anwesenheit dieser Bestandteile erzielbaren vorteilhaften
Effekte, nämlich die Bildung harter und glänzender Goldbeläge bei hoher Stromausbeute unter gleichzeitiger
Stabilität des Bades und Anwendbarkeit für verschiedenartige Galvanisierverfahren und das hohe
Widerstandsvermögen gegenüber den schädlichen Einflüssen der Verunreinigung durch Kupfer, Blei und/oder
Eisen. Ein Vergleich des Beispiels 1 dieser US-PS mit der vorliegenden Tabelle Il zeigt zudem, daß das
vorliegende galvanische Bad eine deutlich höhere Stromausbeute ermöglicht und damit diesem bekannten
Bad erheblich überlegen ist.
Trotz verschiedener bekannter Kombinationen von Verbindungen, die einem Bad zur galvanischen Abscheidung
einer Hartgoldlegierung zugesetzt werden können, besteht immer noch das Problem der Bildung eines
stabilen Bades, das sich unter hoher Stromausbeute in einem breiten Stromdichtebereich anwenden läßt, ohne
daß hierzu die Zusammensetzung des Bades geändert werden muß. Darüber hinaus möchte die galvanische
Industrie Allzweckbäder haben, die sich w entsprechend wirksamer Weise zur Bildung entsprechender galvanischer
Überzüge unter Einsatz von Traggestell-, Tonnen- und Hochgeschwindigkeitsverführen verwenden lassen.
Aufgabe der Erfindung ist daher die Schaffung eines neuen wäßrigen sauren Bades zur galvanischen
Abscheidung von Gold, das als Härter Kobalt und/oder Nickel enthält, über einen breiten Stromdichtebereich
stabil und wirksam ist und für Traggestell-, Tonnenoder Hochgeschwindigkeitsanwendungen geeignet ist.
Dieses Bad soll sich leicht und in verhältnismäßig wirtschaftlicher Weise formulieren lassen, in hohem
Ausmaß den Einflüssen einer Verunreinigung durch Kupfer, Blei und/oder Eisen widerstehen und zu harten,
glänzenden Belägen aus Goldlegierungen führen, die sich über einen breiten Stromdichtebereich und unter
Anwendung verschiedener Arten an Galvanoverfahren bilden lassen.
Diese Aufgabe wird nun erfindungsgemäß durch das aus dem Anspruch 1 hervorgehende wäßrige saure Bad
und seine Verwendung zur galvanischen Abscheidung von Hai tgold gem. Anspruch 3 gelöst
Eine vorteilhafte Weiterbildung des Bades nach Anspruch 1 ist in Anspruch 2 beschrieben.
Bei den bevorzugten Zusammensetzungen wird die benötigte Metallphosphatverbindung gebildet, indem
man Nickel und/oder Kobaltcarbonat mit Nitrilotrismethylentriphosphonsäure
umsetzt Das bevorzugte Metall ist Kobalt. Am besten entspricht die Menge an
Alkalimetallphosphat 40 bis 60 g/l, an TriphosphonsäureVerbindung 40 bis 75 g/l, an Metallphosphatverbindung
einer Metallmenge von 0,25 bis 0,5 g/l und an Triäthanolaminborat 5 bis 15 g/l. Das Alkalimetallgoldcyanid
soll für 7 bis 10 g/l Goldmetali sorgen, und das Alkalimetallcyanid soll in einer Menge von 3,0 bis
4,0 Gewichtsprozent, bezogen auf Gold, vorhanden sein.
Beim entsprechenden Verfahren zur galvanischen Abscheidung eines Hartgoldbelags auf einem Werkstück
t&Mcht man ein Werkstück mit einer elektrisch leitenden Oberfläche in ein auf eine Temperatur von 30
bis 60° C gehaltenes galvanisches Bad zur Abscheidung von Gold. Zwischen dem Werkstück und einer Anode
wird eine solche elektrische Spannung angelegt, daß sich eine Stromdichte von 0,1 bis 20 A/dm2 am
Werkstück ergibt, wodurch der jeweils gewünschte galvanische Belag mit der jeweils gewünschten Stärke
gebildet wird, und das hierdurch mit einem galvanischen Belag versehene Werkstück wird dann aus dem
galvanischen Bad entnommen.
Vorzugsweise wird dabei mit einer Stromdichte von 0,5 bis 1,5 A/dm2 gearbeitet.
Obwohl sich im Bad irgendein Alkalimetalldihydrogenphosphat
verwenden läßt, wird Monokaliumphosphat zu diesem Zweck bevorzugt. Die Menge an einzusetzendem Phosphatsalz kann von 15 g pro I bis zu
1.50 g pro I reichen, wobei vorzugsweise 40 bis 60 g pro I hiervon verwendet werden. Diejenige Menge hiervon,
die zur Erzielung einer optimalen Wirkung erforderlich ist, ist natürlich auch abhängig von den Mengen der
anderen Bestandteile. Das im eriindungsgemäßen Bad vorhandene Dihydrogenphosphatsalz dient ejnem doppelten
Zweck, so daß hierdurch eines Teils für den erforderlichen Elektrolyt und anderen Teils für eine
entsprechende Pufferung des pH-Wertes des Bads gesorgt wird, so daß dieses innerhalb optimaler
Bedingungen bleibt.
In ähnlicher Weise kann die Menge an Nitrilotrismethylenphosphonsäure
auch von 15 g pro 1 bis zu 150 g pro I reichen, wobei die bevorzugte Menge hiervon 40
bis 75 g pro I beträgt. Im allgemeinen sollte die Menge
an Nitrilotrismethylenphosphonsäure der Menge an Phosphatsalz im Bad in etwa entsprechen. Beim
erfindungsgemäßen galvanischen Bad dient die Nitrilotrismethylenphosphonsäure
nicht nur als Chelatbildner, sondern macht ferner auch einen Teil des Elektrolyts
aus.
Die als legierende Elemente vorhandenen Metalle Kobalt und/oder Nickel sorgen für die gewünschte
Härte des galvanischen Belags und werden in Form von Phosphatverbindungen eingesetzt. Die hierzu benötig- «)
ten Phosphatverbindungen lassen sich zwar durch Umsetzen von Kobaltcarbonat und/oder Nickelcarbonat
mit Phosphorsäure bilden, doch werden diese Verbindungen vorzugsweise durch Umsetzen der
entsprechenden Carbonate mit Nitrilotrismethylenphosphonsäure in wäßriger Lösung gebildet. Welches
genaue Produkt bei dieser Reaktion entsteht, ist noch nicht völlig geklärt. Das dabei anfallende Produkt ist
jedoch über eine längere Zeitdauer stabil, wenn man eine entsprechend verdünnte Lösung hiervon auf einem
pH-Wert von unter etwa 2,5 hält. Unter Phosphatverbindung wird das Produkt einer Reaktion von Kobalt-
und/oder Nickelcarbonat mit entweder Phosphorsäure oder Nitriiotrismethylenphosphonsäure verstanden. Die
Kobalt- und/oder Nickelphosphatverbindungen sind im galvanischen Bad in einer 0,010 bis 5,0 g/l Metall,
vorzugsweise 0,25 bis 0,5 g/l Metali entsprechenden Menge enthalten.
Das Verfahren zur Umsetzung des Metallcarbonats mit der Nitrilotrismethylenphosphonsäure ist verhältnismäßig
einfach. Im allgemeinen gibt man hierzu zu 300 ml deionisiertem Wasser 250 g Nitrilotrismethylenphosphonsäure
und erwärmt die erhaltene Lösung dann auf 65°C. Sodann versetzt man diese Lösung langsam
mit 50 g Kobaltcarbonat in einer Geschwindigkeit von 1,6 g pro Minute. Hierauf läßt man die Lösung bis zur
Beendigung der Entwicklung von Kohlendioxid reagieren, worauf man sie mit deionisiertem Wasser auf
insgesamt 1 1 verdünnt. Aus Gründen einer optimalen Stabilität sollte der pH-Wert der Lösung weniger als 2,5
betragen.
Die Menge ar. Triäthanolaminborat beträgt 3,0 g/l bis 37,5 g/l vorzugsweise 5 bis 15 g/l. Dieser Zusatz bedingt
eine starke Verbesserung der Stromausbeute, und zwar insbesondere an den Flächen mit niedriger und mittlerer
Stromdichte.
Das A lkaiimetaügoldcyanid ist in einer Menge
vorhanden, die einer Goldmenge von 2 g/l bis 17 g/l, vorzugsweise 7 bis 10 g/l entspricht. Die Menge an
vorhandenem freiem Alkalimetallcyanid beträgt wenigstens 2,5 Gewichtsprozent, bezogen auf Gold, vorzugsweise
wenigstens 3,0 Gewichtsprozent. Mengen von über 3,5 Gewichtsprozent Alkalimetallcyanid tendieren
infolge der Acidität des Bades zur Bildung jiner gewissen Menge an Cyanwasserstoffgas, so daß die
praktische obere Grenze hiervon bei 4,0 Gewichtsprozent liegt. Zdr Sicherstellung einer optimalen Stabilität
sollte man das freie Alkalimetallcyanid der Lösung von Alkalimetallgoldcyanid zweckmäßigerweise vor der
Beimischung der restlichen Bestandteile zusetzen.
Der pH-Wert des Bades liegt innerhalb eines Bereiches von 3,8 bis 4,5. Unter den meisten
Arbeitsbedingungen liegt der pH-Wert des Bades in der Praxis bei 3,9 bis 4,2, wobei ein pH-Wert des Bades von
4,0 als optimal anzusehen ist.
Je nach den Mengen der verschiedenen Bestandteile liegt die Dichte des Bades zwischen 1,043 und
1,180 g/cm3, vorzugsweise zwischen 1,059 und 1,091 g/ cm'. Optimale Badformulierungen haben eine Dichte
von 1,075 g/cm3.
Bevorzugte Badtemperaturen liegen zwischen 45 und 550C, bevorzugte Stromdichten zwischen 0,5 bis
1,5 A/dm2.
Die erfindungsgemäßen galvanischen Bäder können unter Einsatz der verschiedensten galvanischen Apparaturen
verwendet werden, beispielsweise unter Verwendung von Vorrichtungen zur Bildung galvanischer
Beläge in Tonnen oder Rahmengestellen oder von Vorrichtungen, die unter hoher Geschwindigkeit eine
kontinuierliche und selektive Abscheidung ermöglichen. Zusätzlich zur herkömmlichen Galvanisierung mit
konstantem Gleichstrom kann auch eine pulsierende Abscheidung angewandt werden, um auf diese Weise
zufriedenstellende Beläge unter verhältnismäßig hoher Geschwindigkeit bei möglichst geringem Goldgehalt zu
bilden, wenn die Menge an vorhandenem Metallhärter
proportional erniedrigt wird.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele weiter erläutert. Alle darin enthaltenen Teilangaben
verstehen sich in Gewichtsteilen, sofern nichts anderes gesagt ist
Aus den in der folgenden Tabelle I genannten Bestandteilen wird ein entsprechendes galvanisches Bad
hergestellt:
Bestandteile
Menge
Monokaliumphosphat 60 g
Nitrilotrismethylenphosphonsäure 50 ml
Kaliumhydroxid 16 g
Kobalt (als Metall) 0,35 g
Bestandteile
Menge
Gold (als Metall)
[eingeführt als KAu (CN)2]
Kaliumcyanid
Deionisiertes Wasser
[eingeführt als KAu (CN)2]
Kaliumcyanid
Deionisiertes Wasser
8,2 g
0,24 g
auf 1000 ml
auf 1000 ml
Das obige Bad hat einen pH-Wert von 4,0 und eine ίο Dichte von 1,091 g/cm3.
Eine Teilmenge dieses Bades wird durch Zusatz von 7,5 g/l Triäthanolaminborat modifiziert
Diese beiden Bäder hält man in einer Hull-Zelle auf
einer Temperatur von 500C und galvanisiert darin dann
unter Verwendung einer Reihe entsprechender HuII-Platten und unter Einsatz einer platinierten Tantalanode
unter verschiedenen Arbeitsbedingungen, die zusammen mit den dabei jeweils erhaltenen Ergebnissen aus
der folgenden Tabelle Il hervorgehen.
Probe Zellenstrom Expositionszeit
Kobaltkonzen- tratioo Stromausbeute
Borat Glanzbereich
| 1 | 0,5 A | 2,0 min | 350 ppm | 71,7 mg/A-min | nein | 0-2 A/dm2 |
| 2 | 0,5 A | 2,0 min | 350 ppm | 81,5 mg/A min | ja | 0-1 A/dm2 |
| 3 | 0,5 A | 2,0 min | 275 ppm | 66,8 mg/A · min | nein | 0-1,25 A/dm2 |
| 4 | 0,5 A | 2,0 min | 275 ppm | 77,8 mg/A-min | ja | 0-0,75 A/dm2 |
Aus den obigen Versuchsdaten ergibt sich, daß das Triäthanolaminborat enthaltende Bad eine wesentlich
bessere Stromausbeute ergibt und trotzdem zu den gewünschten hochglänzenden Belägen führt.
Man gibt ein Bad mit der aus Beispiel 1 hervorgehenden Zusammensetzung, das Triäthanolaminborat enthält,
in eine Galvanisiertrommel, deren Trommel einen Durchmesser von 10 cm aufweist. In die Trommel
werden derart elektrische Kontakte eingeführt, daß sich hierdurch eine Oberfläche von 1115 cm2 ergibt. Über
eine Zeitdauer von 5 Minuten legt man dann einen Strom mit einer Stärke von 3,96 A an, wodurch sich eine
Stromdichte von 0,33 A/dm2 ergibt. Nach beendeter Galvanisierung weisen die Kontakte einen harten
glänzenden Goldbelag auf, der sehr gut haftet und frei von Löchern ist. Die Stromausbeute beträgt 60 mg/
A · min.
Aus obigen Ausführungen und Beispielen ergibt sich, daß die_erfindungsgemäßen galvanischen Bäder unter
verhältnismäßig hoher Stromausbeute harte und glänzende Goldbeläge ergeben. Die Zusammensetzung der
jeweiligen Bäder läßt vernünftige Mengen an herkömmlichen metallischen Verunreinigungen zu, und die Bäder
lassen sich ohne weiteres herstellen und erneuern. Das galvanische Verfahren unter Einsatz der vorliegenden
Bäder verläuft einfach und verhältnismäßig problemlos, wobei es bezüglich der Arbeitsbedingungen keine
besonderen Probleme gibt.
Claims (1)
1. Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold, das
ein Alkalimetallgoldcyanid,
eine Borverbindung,
eine Phosphatverbindung eines Metalls aus der Gruppe Nickel und/oder Kobalt,
einen Stickstoff enthaltenden Chelatbildner und |0
ein Alkalisalz einer anorganischen Säure als Leitsalz enthält.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/027,364 US4197172A (en) | 1979-04-05 | 1979-04-05 | Gold plating composition and method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2948999A1 DE2948999A1 (de) | 1980-10-09 |
| DE2948999C2 true DE2948999C2 (de) | 1982-12-09 |
Family
ID=21837292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2948999A Expired DE2948999C2 (de) | 1979-04-05 | 1979-12-05 | Wässriges, saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Hartgold unter seiner Verwendung |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4197172A (de) |
| JP (1) | JPS55134192A (de) |
| DE (1) | DE2948999C2 (de) |
| GB (1) | GB2046792B (de) |
Families Citing this family (3)
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|---|---|---|---|---|
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| US4396471A (en) * | 1981-12-14 | 1983-08-02 | American Chemical & Refining Company, Inc. | Gold plating bath and method using maleic anhydride polymer chelate |
| US4670107A (en) * | 1986-03-05 | 1987-06-02 | Vanguard Research Associates, Inc. | Electrolyte solution and process for high speed gold plating |
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| CH555894A (fr) * | 1972-08-10 | 1974-11-15 | Oxy Metal Industries Corp | Utilisation de derives organophosphores dans les bains sulfitiques pour l'electrodeposition de l'or et des alliages d'or. |
| US3893896A (en) * | 1973-07-02 | 1975-07-08 | Handy & Harman | Gold plating bath and process |
| US4073700A (en) * | 1975-03-10 | 1978-02-14 | Weisberg Alfred M | Process for producing by electrodeposition bright deposits of gold and its alloys |
| US4076598A (en) * | 1976-11-17 | 1978-02-28 | Amp Incorporated | Method, electrolyte and additive for electroplating a cobalt brightened gold alloy |
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1979
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-
1980
- 1980-03-25 GB GB8010047A patent/GB2046792B/en not_active Expired
- 1980-04-04 JP JP4451780A patent/JPS55134192A/ja active Granted
Also Published As
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| JPS55134192A (en) | 1980-10-18 |
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