DE1232273B - Kathodenstrahlroehre mit einem aus zwei Abschnitten bestehenden Vertikalablenksystem - Google Patents
Kathodenstrahlroehre mit einem aus zwei Abschnitten bestehenden VertikalablenksystemInfo
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- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CL:
HOIj
Deutsche KL: 21 g -13/23
Nummer: 1232273
Aktenzeichen: G 36032 VIII c/21 g
Anmeldetag: 28. September 1962
Auslegetag: 12. Januar 1967
Die Erfindung bezieht sich auf Kathodenstrahlröhren mit einem Strahlerzeugungssystem für einen
Elektronenstrahl, mit einem Horizontalablenksystem, durch das der Elektronenstrahl in einer zu einer
Auffangelektrode parallelen Ebene parallel verschoben wird, und mit einem aus zwei Abschnitten
bestehenden Vertikalablenksystem.
Aufgabe der Erfindung ist es, die Vertikalablenkung bei einer möglichst flachen Kathodenstrahlröhre
von einer Elektrode aus zu steuern und für eine einheitliche Leuchtfleckgröße während der
gesamten Vertikalablenkung zu sorgen.
Gemäß der Erfindung enthält der eine Abschnitt des Vertikalablenksystems bei der eingangs beschriebenen
Kathodenstrahlröhre eine mit der Auffangelektrode und eine mit der ihr gegenüberliegenden
Röhrenrückwand verbundene Ablenkplatte, die eine Verengung vor dem Raum zwischen
der Auffangelektrode und der Röhrenrückwand bilden, und der andere Abschnitt des Vertikalablenksystem^
besteht aus einem mit der einen Ablenkplatte über einen leitenden Überzug auf der
Röhrenrückwand verbundenen hochohmigen Überzug, mit dem die restliche Röhrenrückwand bedeckt
ist und an dessen der einen Ablenkplatte entfernten Seite ein konstantes Potential liegt.
Die beschriebene Einrichtung wird an Hand der Figuren näher erläutert.
Fig. 1 zeigt eine Kathodenstrahlröhre von vorn;
F i g. 2 zeigt einen Schnitt längs der Linie 2-2 der il
Fig. 3 zeigt ein Ausführungsbeispiel der beschriebenen
Röhre.
In F i g. 1 und 2 ist zunächst eine flache Kathodenstrahlröhre gezeigt, die man in drei Teile einteilen
kann. Der erste Teil 7, in dem der Bildschirm 16 untergebracht ist, enthält den einen Abschnitt des
Vertikalablenksystems, im zweiten Teil VD befindet sich der zweite Abschnitt des Vertikalablenksystems
und im dritten Teil HD wird der Elektronenstrahl in horizontaler Richtung abgelenkt und außerdem
gebündelt.
Das evakuierte Gehäuse, das vorzugsweise aus Glas besteht, besitzt im Teil I eine Vorderwand und
eine dazu parallele Rückwand. Am unteren Ende des Teils I ist die Vorderwand mit einer Einbuchtung
versehen, so daß im anschließenden Teil VD der Röhre der Abstand zwischen paralleler
Vorder- und Rückwand geringer, vorzugsweise kleiner als die Hälfte dieses Abstands im oberen
Teil der Röhre ist. Der Teil HD der Röhre, der etwa die gleiche Tiefe wie die Verengung im Teil VD aufKathodenstrahlröhre
mit einem aus zwei
Abschnitten bestehenden Vertikalablenksystem
Abschnitten bestehenden Vertikalablenksystem
Anmelder:
General Electric Company,
Schenectady, N. Y. (V. St. A.)
Vertreter:
Dr.-Ing. W. Reichel, Patentanwalt,
Frankfurt/M., Parkstr. 13
Als Erfinder benannt:
Svend Erick Havn, Syracuse, N. Y.;
Harry Thomas Freestone, Paoli, Pa. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 29. September 1961
(141862)
V. St. v. Amerika vom 29. September 1961
(141862)
weist, ist in einer der Ecken mit einem schräg verlaufenden Hals versehen, in dem ein Strahlerzeugungssystem
2 angeordnet ist, das einen zum Bildschirm parallelen Elektronenstrahl 3 herstellt.
Zur Horizontalablenkung sind hier zwei Horizontalablenksysteme vorgesehen, von denen das eine
ein Magnetjoch 6 aufweist, das zwei Polschuhe 4 trägt und in bekannter Weise mit einer Ablenkspule
8 verbunden ist, die an einer Spannungsquelle 10 liegt, welche Ablenksignale liefert. Auf diese Weise
wird der Elektronenstrahl 3 parallel zur Bildschirmebene zwischen einer äußersten linken Bahn 3' zu
einer äußersten rechten Bahn 3" abgelenktAnschließend tritt der Elektronestrahl durch das zweite Horizontalablenksystem,
das aus zwei Polschuhen 12 besteht, die am einen Ende durch einen Magneten 14 verbunden sind und den Elektronenstrahl derart beeinflussen,
daß er nach der Ablenkung im zweiten Horizontalablenksystem stets vertikal gerichtet ist,
gleichgültig, an welcher Stelle er eingetreten ist. Auf diese Weise liegen alle Elektronenbahnen nach der
gesamten Horizontalablenkung beider Ablenksysteme parallel zueinander in einer zum Bildschirm parallelen
Ebene. Die zueinander parallelen Elektronenstrahlen werden anschließend im Vertikalablenksystem
auf den Bildschirm oder eine Auffangelektrode umgelenkt.
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3 4
Ein Ausführungsbeispiel für das Vertikalablenk- leitende Überzug nicht vorhanden, dann sollte
system ist in der Fig. 3 gezeigt. Die im folgenden wenigstens ein Überzug mit einem hohen Widermehrmals
verwendeten Ausdrücke »schwachleitender stand vorhanden sein, damit an dieser Stelle keine
oder hochohmiger Überzug« und »leitender Über- Ladungen angesammelt werden, die den Elektronenzug«
werden für Überzüge verwendet, die eine Span- 5 strahl beeinflussen.
nungsquelle entweder nur wenig belasten oder nur Bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel kann
einen geringen Spannungsabfall verursachen. an die Vorderwand bzw. die Ablenkplatte 23 des
Nach der Fig. 3 ist eine Auffangelektrode, z.B. ersten Abschnitts des Vertikalablenksystems ein
ein Bildschirm, 16 vorgesehen, die aus einer Leucht- festes Potential angelegt werden, und nur der
Stoffschicht besteht oder eine solche enthält, die auf io leitende Überzug 26 und dadurch die Ablenkplatte
das aus Glas bestehende Gehäuse aufgebracht und 25 auf der Röhrenrückwand werden mit Ablenk-
mit einem für Elektronen durchlässigen Aluminium- Signalen beaufschlagt.
überzug 20 bedeckt ist. Ein schwachleitender Über- Die Innenwände des Horizontalablenksystems HD
zug 22, z. B. aus Chromoxyd, kann auf dem oberen sind mit einem leitenden Überzug 30 ausgekleidet,
Teil der Röhreninnenwand niedergeschlagen und 15· der innen über eine Leitung 32 an die Endelektrode
elektrisch mit dem Aluminiumüberzug verbunden das Strahlerzeugungssystems 2 angeschlossen ist, dasein.
Ein weiterer schwachleitender Überzug 24 aus mit das gesamte Horizontalablenksystem HD außereinem
ähnlichen Material ist auf der Röhrenrück- halb des Strahlerzeugungssystems auf dem gleichen
wand ausgebildet und bedeckt diese bis zu einer Potential liegt.
Verbindungsstelle 27, an der sie an einen leitenden 20 Durch die Glaswand der Röhre sind Anschluß-Überzug
26 angrenzt, der den restlichen Teil der leitungen zu den verschiedenen in ihr enthaltenen
Röhrenrückwand bedeckt und bis in den Teil VD Elementen geführt. Die Elektrode 34 führt zur Verausgedehnt
ist. Der leitende Überzug 26 dient unter bindung 28, eine Elektrode 36 zum leitenden Überanderem
zum Anlegen von Ablenksignalen an die zug 26, eine Elektrode 38 zum leitenden Überzug 30
eine Seite des Überzugs 24. 25 und mehrere Anschlußleitungen zu den verschiedenen
An der entfernt von der Verbindungsstelle 27 Elementen des Strahlerzeugungssystems 2, wobei die
liegenden Seite des Überzugs 24, an der dieser an zur Kathode führende Leitung geerdet ist.
den schwachleitenden Überzug 22 angrenzt, kann Bevorzugte Spannungswerte und Spannungseine leitende Verbindung28 zwischen diesen beiden bereiche sind in der Fig. 3 angegeben. Sie sollen Überzügen vorgesehen sein, die mit einer Elektrode 30 zur Klarstellung dienen und stellen nur ein Aus-34 versehen und leicht verstellbar angeordnet ist. führungsbeispiel dar.
den schwachleitenden Überzug 22 angrenzt, kann Bevorzugte Spannungswerte und Spannungseine leitende Verbindung28 zwischen diesen beiden bereiche sind in der Fig. 3 angegeben. Sie sollen Überzügen vorgesehen sein, die mit einer Elektrode 30 zur Klarstellung dienen und stellen nur ein Aus-34 versehen und leicht verstellbar angeordnet ist. führungsbeispiel dar.
Der eine Abschnitt des Vertikalablenksystems, der Das Horizontalablenksystem HD liefert einen
Teil VD, enthält einen Überzug 21, der eine Ver- kollimierten Elektronenstrahl, der parallel zum BiIdlängerung
des metallischen Überzugs 20 ist. Die an schirm abgelenkt wird und dann in den ersten Ab-
und für sich variable, vorzugsweise jedoch para- 35 schnitt VD des Vertikalablenksystems eintritt. An
bolische Form des Überzugs 21, kann durch eine die Elektrode 36 ist eine Spannungsquelle 44 anentsprechende
Ausbildung der Innenseite der Ein- geschlossen, die Ablenksignale 46 für die Vertikalbuchtung
der Röhre im Teil VD hergestellt werden, ablenkung liefert. Ihre Spannung schwankt zwischen
auf der der Überzug aufgetragen wird. Der Überzug beispielsweise 7 kV und 1,6 kV. Der Überzug 21
21 erstreckt sich bis zu dem Teil der Röhre, in dem 40 liegt dagegen auf einem konstanten Potential von
Vorder- und Rückwand mit geringerem Abstand z.B. 10kV, auf dem auch die Auffangelektrode 16
wieder zueinander parallel sind, und geht dort in gehalten wird. Daher entsteht zwischen dem Übereinen
Streifen oder eine Ablenkplatte 23 über. zug 21 bzw. der Ablenkplatte 23 und dem Überzug
Gegenüber dieser Ablenkplatte ist an der Röhren- 26 bzw. der Ablenkplatte 25 ein schwankendes
rückwand ein Streifen oder eine Ablenkplatte 25 45 elektrostatisches Feld, das eine Vertikalablenkung
vorgesehen, die der Ablenkplatte 23 etwa parallel des Elektronenstrahls in Richtung auf die Auffangist
und mit dieser zusammen die zwei Ablenkplatten elektrode 16 verursacht. Wenn die Wirkung des der
23 und 25 des einen Abschnitts des Vertikalablenk- Fokussierung dienenden Überzugs 24 vernachlässigt
systems darstellt. Die Ablenkplatte 25 ist eine Ver- wird, dann wird der Strahl aus einer Bahn 50, die
längerung des leitenden Überzugs 26. Der Abstand 50 er bei einem Potential von 7 kV an der Spannungszwischen
den beiden Streifen bzw. Ablenkplatten 23 quelle 44 einschlägt, bei abnehmendem Potential zu-
und 25 ist wesentlich für die Empfindlichkeit der nächst auf eine Bahn 52 und bei einem Potential
Vertikalablenkung. Ein anderes Ausführungsbeispiel von 1,6 kV an der Spannungsquelle 44 schließlich
für den gekrümmten Teil des Gehäuses, auf dem auf eine Bahn 54 abgelenkt. Der Einfallswinkel des
der Überzug 21 ausgebildet ist, kann z. B. in einem 55 Strahls mit der Bahn 52 auf die Auffangelektrode 16
L-förmigen Abschnitt bestehen, der das untere Ende ist ziemlich groß, so daß der Querschnitt des Leuehtdes
Teils / mit dem verengten Abschnitt des Teils VD flecks in vertikaler Richtung zu groß wird,
verbindet, wobei als Verbindung zwischen dem Zur Verkleinerung des Leuchtflecks dient der Überzug 20 und dem der Ablenkplatte 23 wieder ein zweite Abschnitt des Vertikalablenksystems, der im leitender Überzug 21 dient. 60 wesentlichen aus dem hochohmigen Überzug 24 be-
verbindet, wobei als Verbindung zwischen dem Zur Verkleinerung des Leuchtflecks dient der Überzug 20 und dem der Ablenkplatte 23 wieder ein zweite Abschnitt des Vertikalablenksystems, der im leitender Überzug 21 dient. 60 wesentlichen aus dem hochohmigen Überzug 24 be-
Die Ablenkplatte 23 muß nicht auf dem gleichen steht. Durch Anlegen der Ablenksignale an die
Potential wie die Auffangelektrode 16 gehalten wer- Elektrode 36 und ein konstantes Potential an die
den, doch sind in solchen Fällen weitere Anschlüsse Elektrode 34 bildet sich zwischen der Verbindungsnotwendig,
die durch das Gehäuse geführt werden stelle 27 und der Verbindung 28 ein Potentialmüssen.
Ein parabolischer Verlauf des Überzugs 21 65 gradient aus, der ein elektrisches Feld mit variabler
ist deswegen vorteilhaft, weil der auf den untersten Stärke erzeugt, das zur Auffangelektrode 16 hin
Teil des Bildschirms 16 abgelenkte Elektronenstrahl gerichtet ist. Dieses Feld lenkt den Strahl aus einer
54 dann etwa parallel zu ihm verläuft. Ist der Bahn 50 in eine Bahn 50' ab, auf der der Strahl mit
5 6
viel kleinerem Einfallswinkel als auf der Bahn 52 Eine Änderung des Potentials der Elektrode 34
die Auffangelektrode 16 trifft. Die Wirkung des wirkt sich nun in der folgenden Weise aus. Nimmt
Feldes nimmt jedoch in Richtung der Verbindungs- das Potential ab, dann wird der Strahl von dem
stelle 27 immer mehr ab und wird an der Ver- Feld abgelenkt, zwischen dem Überzug 24 und der
bindungssteile 27 schließlich vernachlässigbar klein. 5 Auffangelektrode 16 stärker in Richtung auf die
Ein kleinerer Einfallswinkel als auf der Bahn 52 Auffangelektrode 16 umgebogen, so daß das Abwird
jedoch in den unterhalb der Verbindungsstelle lenksignal 46 positiver als zuvor sein muß, wenn der
27 liegenden Teilen der Röhre ebenfalls erreicht, Strahl am gleichen Punkt auftreffen soll. Wenn das
weil sich dort die Wirkung des ersten Abschnitts des Potential der Elektrode 34 zu stark herabgesetzt
Vertikalablenksystems stärker bemerkbar macht. io wird, dann muß der Strahl einer Bahn 56 folgen, um
Auch auf der Bahn 54 hat der Strahl daher einen den Oberteil der Auffangelektrode zu erreichen. Es
für alle Zwecke geeigneten Einfallswinkel. kann dann sogar notwendig sein, das Maximum der
Wesentlich für die Umlenkung des Strahls im Ablenksignale 46 positiver als die Auffangelektrode
zweiten Abschnitt des Vertikalablenksystems ist auch 16 zu machen. Die Krümmung der Bahn 56 ist in
der Verlauf des elektrischen Feldes zwischen den 15 ihrem oberen Bereich genau so groß oder größer
Verbindungsstellen 27 und 28. Die in der F i g. 3 als die der Bahn 54, so daß sie von unten nach oben
eingetragenen, gestrichelten Linien sind beispiels- nicht allmählich herabgesetzt wird. Der vertikale
weise Äquipotentialflächen, während der Pfeil F die Querschnitt des Leuchtflecks nimmt daher zu, weil
Richtung des elektrischen Feldes an einem be- der Brennpunkt des Strahls vor dem Auftreffpunkt
liebigen Punkt angibt. Am einen äußersten Ende der 20 auf der Auffangelektrode 16 liegt. Auf der ge-
Auff angelektrode 16 bleiben die Äquipotentialflächen wünschten Bahn 50' besitzt der Strahl zwar einen
ziemlich ortsfest und drehen sich während eines größeren Einfallswinkel als auf der Bahn 56, doch
Abtastzyklus, bis die Auffangelektrode vom einen ist der Querschnitt des Leuchtflecks in vertikaler
äußersten Ende bis zum anderen äußersten Ende Richtung nicht wesentlich größer,
abgetastet ist. Während des steilen Rücklaufs der 25 Das maximale Potential der Elektrode 34 ist
Ablenksignale 46 kehren die Äquipotentialflächen durch denjenigen Potentialwert festgelegt, bei dem
dann schnell in ihre Ausgangslage zurück. Das der Strahl gerade die Oberseite der Auffangelektrode
elektrische Feld weist eine Komponente FD auf, die 16 erreicht, wenn die Amplitude des Ablenksignals
die Elektronen des Strahls abbremst, so daß sie 46 gleichzeitig maximal ist. Bei höherem Potential
langer der Einwirkung der dazu senkrechten Korn- 30 der Elektrode 34 ist die positive maximale Ampli-
ponente Fn des Feldes unterworfen sind. Die beiden tude der Ablenksignale 46, bei der der Strahl am
Komponenten sind maximal, wenn die Amplitude oberen Ende auf die Auffangelektrode 16 auftrifft,
der Ablenksignale maximal ist und der Strahl in geringer, doch der Strahl folgt nun einer Bahn 52,
dem oberen Bereich der Röhre abgelenkt wird. die etwa gleich einer Bahn ist, der der Strahl bei
Wenn die Amplitude der Ablenksignale dagegen 35 alleiniger Wirkung des Ablenkabschnitts VD folgt,
ihren Minimalwert erreicht, dann kann die Korn- Somit kann bei einer Vergrößerung des Potentials
ponente F0 sogar ihre Richtung umkehren und be- der Elektrode 34 das positive Maximum der Ampli-
schleunigend auf die Elektronen des Strahls wirken, tude der Ablenksignale vermindert werden, doch
doch wird der Elektronenstrahl in diesem Fall in nähert sich dann der Strahl der Auffangelektrode 16
den unteren Bereich der Röhre abgelenkt, und die 40 unter einem großen Einfallswinkel.
Wirkung des zweiten Abschnitts des Vertikalablenk- Der Überzug 30, die Platten 23 und 25 und die
systems ist insgesamt gering. Überzüge 21 und 26 bilden bei den angelegten Span-
Das obere Ende des Überzugs 24 bzw. die Elek- nungen ein Linsensystem, das den Strahl vertikal
trode 34 wird auf einem Potential gehalten, das ablenkt und außerdem eine dynamische Fokussierzwischen
dem Erdpotential und dem Potential der 45 wirkung liefert, die sehr schwach ist, wenn der Strahl
Auffangelektrode 16 liegt. Der Grund hierfür ist der am Oberteil der Auffangelektrode 16 auftrifft, und
folgende. Der Elektronenstrahl tritt aus dem Strahl- die allmählich zunimmt, wenn der Strahl weiter
erzeugungssystem 2 in das Horizontalablenksystem unten auftrifft. Optimale, dynamische Brennpunkt-
HD und von dort in den ersten Abschnitt VD des eigenschaften werden durch geeignete Wahl der
Vertikalablenksystems. Wird der Strahl dort auf die 50 Länge von Spalten 60 und 62, der Höhe der AbBahn
54 abgelenkt, dann kann man durch geeignete lenkplatten 23 und 25, deren Abstand und die anWahl
der Horizontalabmessungen des Strahls, des gelegten Spannungen erreicht.
Kollimierungswinkels und der Form des Ablenk- Der Vorderteil des Überzugs 30 kann mit der feldes zwischen den Ablenkplatten 23 und 25 für Platte 23 verbunden werden, so daß das Horizontaleine ausreichende Fokussierung des Strahls bzw. für 55 ablenksystem auf dem gleichen Potential wie die einen ausreichend kleinen Leuchtfleck auf dem Bild- Auffangelektrode liegt. Jedoch müßte dann die schirm oder der Auffangelektrode 16 sorgen. Wird horizontale Ablenkkraft vergrößert werden, da der der Strahl nun auf immer höher liegende Bahnen Strahl innerhalb des Horizontalablenksystems ein bis beispielsweise zur Bahn 50' abgetastet, dann höheres Potential aufweisen würde,
muß sich die Krümmung der Bahn immer mehr 60 Wie die F i g. 1 zeigt, besteht zwischen den Bahnverringern, wenn der Strahlquerschnitt in vertikaler längen 3' und 3" bei einer vorgegebenen Höhe auf Richtung überall gleich groß sein soll. Man erreicht der Auffangelektrode 16 ein beträchtlicher Unterauf diese Weise also, daß der Querschnitt des schied. Die Konvergenz des Strahls in einer zur Strahls in vertikaler Richtung konstant bleibt, weil Zeichenebene der Fig. 1 senkrechten Ebene ist nach oben hin, d. h. bei größeren Bahnlängen bis 65 daher von wesentlicher Bedeutung. Die Fokussierzum Auftreffpunkt auf der Auffangelektrode 16, die wirkung, die den Querschnitt des Leuchtflecks in Konvergenz des Strahls pro Einheitslänge immer vertikaler Richtung beeinflußt, kann entlang horigeringerwird. zontaler Linien auf der Auffangelektrode 16 keine
Kollimierungswinkels und der Form des Ablenk- Der Vorderteil des Überzugs 30 kann mit der feldes zwischen den Ablenkplatten 23 und 25 für Platte 23 verbunden werden, so daß das Horizontaleine ausreichende Fokussierung des Strahls bzw. für 55 ablenksystem auf dem gleichen Potential wie die einen ausreichend kleinen Leuchtfleck auf dem Bild- Auffangelektrode liegt. Jedoch müßte dann die schirm oder der Auffangelektrode 16 sorgen. Wird horizontale Ablenkkraft vergrößert werden, da der der Strahl nun auf immer höher liegende Bahnen Strahl innerhalb des Horizontalablenksystems ein bis beispielsweise zur Bahn 50' abgetastet, dann höheres Potential aufweisen würde,
muß sich die Krümmung der Bahn immer mehr 60 Wie die F i g. 1 zeigt, besteht zwischen den Bahnverringern, wenn der Strahlquerschnitt in vertikaler längen 3' und 3" bei einer vorgegebenen Höhe auf Richtung überall gleich groß sein soll. Man erreicht der Auffangelektrode 16 ein beträchtlicher Unterauf diese Weise also, daß der Querschnitt des schied. Die Konvergenz des Strahls in einer zur Strahls in vertikaler Richtung konstant bleibt, weil Zeichenebene der Fig. 1 senkrechten Ebene ist nach oben hin, d. h. bei größeren Bahnlängen bis 65 daher von wesentlicher Bedeutung. Die Fokussierzum Auftreffpunkt auf der Auffangelektrode 16, die wirkung, die den Querschnitt des Leuchtflecks in Konvergenz des Strahls pro Einheitslänge immer vertikaler Richtung beeinflußt, kann entlang horigeringerwird. zontaler Linien auf der Auffangelektrode 16 keine
konstante Fleckgröße in vertikaler Richtung herstellen, wenn nicht eine Art dynamischer Steuerung
am Strahlerzeugungssystem vorgesehen wird. Wenn der Strahl das Strahlerzeugungssystem 2 verläßt,
dann konvergiert er daher noch ein wenig, wobei 5 sich ein Winkel von 2 Minuten als brauchbar erwiesen
hat, doch können auch kleinere Konvergenzwinkel verwendet werden.
Wenn sich infolge zufälliger Elektronenansammlungen in Bereichen der Röhre, an denen das Glas
freiliegt, Schwierigkeiten ergeben, dann können diese durch Herstellung von hochohmigen Überzügen, z. B.
aus Chromoxyd, beseitigt werden. In den Figuren sind jedoch keine Überzüge gezeigt.
An Stelle der hochohmigen Überzüge 22 und 24 X5
kann eine Reihe horizontal angeordneter Stäbe oder Drähte verwendet werden, die durch Widerstände
verbunden und in der betreffenden Ebene der Überzüge derart angebracht sind, daß sie parallel zur
Auffangelektrode 16 verlaufen. Der Zweck des Überzugs 22 besteht darin, bestimmte Potentiale zwischen
der Auffangelektrode 16 und der Verbindung 28 herzustellen und dadurch eine zufällige Ansammlung
von Ladungen zu verhindern, die die äußeren Teile der Äquipotentialflächen nachteilig beeinflussen kön- «5
nen. Wenn keine Ansammlung von Ladungen erfolgt, dann kann der Überzug 22 weggelassen werden. Der
Überzug 24 (oder z. B. die durch Widerstände verbundenen Drähte) muß jedoch zur Herstellung des
Potentialgradienten in vertikaler Richtung in einer zur Auffangelektrode parallelen Ebene zwischen der
auf festem Potential liegenden Elektrode 34 und der mit den Ablenksignalen 46 beaufschlagten Elektrode
stets vorhanden sein.
Die Lage der Verbindungsstelle 27 zwischen dem Überzug 24 und dem leitenden Überzug 26 ergibt
sich nach den folgenden Gesichtspunkten. Wenn sich die Verbindungsstelle 27 dem oberen Teil der Röhre
nähert, dann wird der Einfallswinkel des Strahls im Mittelteil der Auffangelektrode sehr groß, so daß
sich nur eine geringe Fokussierung ergibt. Im oberen Bereich dagegen ergibt sich eine Überfokussierung
des Strahls. Wenn die Verbindungsstelle 27 tiefer gesetzt wird, dann muß die erforderliche Ablenkspannung
bzw. Ablenkleistung erhöht werden, und der Einfallswinkel des Strahls an der Oberseite der Auffangelektrode
wird übermäßig groß, so daß der Brennpunkt entartet.
Wenn die Verbindungsstelle 27 fehlt und die gesamte Rückwand eine leitende Fläche bildet, dann
gibt es keine Fokussierwirkung, sondern nur eine vertikale Ablenkung im ersten Abschnitt VD des Vertikalablenksystems
HD. Wenn dagegen die gesamte Rückwand von einem hochohmigen Überzug bedeckt
ist, dann ist eine höhere Ablenkspannung erforderlieh, und zur Beibehaltung der Fokussierwirkung, die
in Verbindung mit dem Überzug 24 beschrieben wurde, müssen z. B. die Tiefe der Röhre und das
Potential der Verbindung 28 verändert werden.
Die Überzüge 24 und 26 sind in einer Ebene dargestellt, die parallel zur Ebene der Auffangelektrode
und hinter dieser liegt, doch können sie auch gekrümmt oder zueinander geneigt sein, ohne daß der
Betrieb der Röhre gestört wird.
Die Verbindungsstelle 27 kann auch fehlen, wenn getrennte Anschlüsse zu den Überzügen 24 und 26
führen, doch ist es zweckmäßig, die Zahl der Leitungen, die durch die Wände der Röhre hindurchgehen,
auf einen möglichst kleinen Wert beschränken.
Claims (3)
1. Kathodenstrahlröhre mit einem Strahlerzeugungssystem für einen Elektronenstrahl, mit einem
Horizontalablenksystem, durch das der Elektronenstrahl in einer zu einer Auffangelektrode
parallelen Ebene parallel verschoben wird, und mit einem aus zwei Abschnitten bestehenden Vertikalablenksystem,
dadurch gekennzeichnet, daß der eine Abschnitt des Vertikalablenksystems
eine mit der Auffangelektrode (16) und eine mit der ihr gegenüberliegenden Röhrenrückwand
verbundene Ablenkplatte (23, 25) enthält, die eine Verengung vor dem Raum zwischen der
Auffangelektrode und der Röhrenrückwand bilden, und daß der andere Abschnitt des Vertikalablenksystems
aus einem mit der einen Ablenkplatte (25) über einen leitenden Überzug (26) auf der Röhrenrückwand verbundenen hochohmigen
Überzug (24) besteht, mit dem die restliche Röhrenrückwand bedeckt ist und an dessen der
Ablenkplatte (25) entfernter Seite (28) ein konstantes Potential angelegt ist.
2. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der von der
einen Ablenkplatte (25) entfernten Seite (28) des Überzugs (24) und der von der anderen Ablenkplatte
(23) entfernten Seite der Auffangelektrode (16) ein weiterer hochohmiger Überzug (22) vorgesehen
ist.
3. Kathodenstrahlröhre mit einem Strahlerzeugungssystem für einen Elektronenstrahl, mit
einem Horizontalablenksystem, durch das der Elektronenstrahl in einer zu einer Auffangelektrode
parallelen Ebene parallel verschoben wird, und mit einem aus zwei Abschnitten bestehenden
Vertikalablenksystem dadurch gekennzeichnet, daß der eine Abschnitt des Vertikalablenksystems
eine mit der Auffangelektrode (16) und eine mit der ihr gegenüberliegenden Röhrenrückwand
verbundene Ablenkplatte (23, 25) enthält, die eine Verengung vor dem Raum zwischen der
Auffangelektrode und der Röhrenrückwand bilden, und daß der andere Abschnitt des Vertikalablenksystems
aus einer Anzahl von durch Widerstände verbundenen Drähten besteht, die horizontal
und parallel zueinander und parallel zur Auffangelektrode nahe der Röhrenrückwand ausgebildet
sind.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
609 757/310 1.67 © Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US141862A US3155872A (en) | 1961-09-29 | 1961-09-29 | Flat display tube utilizing voltage gradient deflection layer |
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|---|---|
| DE1232273B true DE1232273B (de) | 1967-01-12 |
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|---|---|---|---|
| DEG36032A Pending DE1232273B (de) | 1961-09-29 | 1962-09-28 | Kathodenstrahlroehre mit einem aus zwei Abschnitten bestehenden Vertikalablenksystem |
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|---|---|
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| DE (1) | DE1232273B (de) |
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| GB (1) | GB997576A (de) |
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Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1489869C3 (de) * | 1965-03-26 | 1973-11-29 | Heimann Gmbh, 6200 Wiesbaden-Dotzheim | Anordnung zur Verminderung bzw Unterdrückung der kissenformigen Ver zeichnung und der Bildfeldwolbung bei der Abbildung mittels elektrischer Elektronenlinsen |
| US3473200A (en) * | 1967-07-31 | 1969-10-21 | Hughes Aircraft Co | Flat direct view storage tube |
Family Cites Families (1)
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|---|---|---|---|---|
| US2880365A (en) * | 1955-08-29 | 1959-03-31 | Rca Corp | Simplified scanning means for flat type kinescope |
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1962
- 1962-09-27 GB GB36730/62A patent/GB997576A/en not_active Expired
- 1962-09-28 DE DEG36032A patent/DE1232273B/de active Pending
- 1962-09-29 ES ES281160A patent/ES281160A1/es not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US3155872A (en) | 1964-11-03 |
| ES281160A1 (es) | 1963-02-01 |
| NL283750A (de) | |
| GB997576A (en) | 1965-07-07 |
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