DE1205625B - Halbleiteranordnung mit allseitig geschlossenem Gehaeuse - Google Patents
Halbleiteranordnung mit allseitig geschlossenem GehaeuseInfo
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. α.:
HOIl
Deutsche Kl.: 21 g -11/02
Nummer: 1 205 625
Aktenzeichen: A 39992 VIII c/21 g
Anmeldetag: 18. April 1962
Auslegetag: 25. November 1965
Die Erfindung betrifft eine Halbleiteranordnung mit allseitig geschlossenem Gehäuse, bei welcher das
im wesentlichen einen einkristallinen Halbleiterkörper aufweisende Halbleiterelement einseitig in
einer Vertiefung eines Anschlußteiles des Gehäuses liegt und beidseitig durch eine dünne Metallschicht
mit den ebenen Metallflächen von Anschlußteilen des Gehäuses elektrisch verbunden ist und bei welcher
Gehäuseteile eine geringe Druckkraft auf das Halbleiterelement ausüben.
Zur Zuführung des Stromes und vor allem zur Ableitung der im Halbleiterkörper entstehenden Verlustwärme
muß das Halbleiterelement in gutem elektrischem und thermischem Kontakt mit Anschlußteilen
des Gehäuses stehen wie beispielsweise einem Gehäuseboden und einem Stromzuführungsbolzen
oder einer Stromzuführungslitze. Die Verbindung des Halbleiterelementes mit diesen Teilen wird bekanntlich
durch Lote hergestellt. Außer einer guten Kontaktgabe haben die Lote noch andere, teilweise ao
widersprechende Bedingungen zu erfüllen. Da jede große mechanische Beanspruchung des Halbleiterkörpers
ausgeschlossen werden sollte, erscheint die Anwendung von weichen, duktilen Loten zweckmäßig,
insbesondere in Verbindung mit einer an den Halbleiterkörper angelöteten Trägerplatte, deren
thermischer Ausdehnungskoeffizient angenähert gleich demjenigen des Halbleiterkörpers ist, also z. B.
mit einer aus Molybdän oder Wolfram bestehenden Trägerplatte, wenn ein Halbleiterkörper aus Silizium
vorliegt. Bei einer solchen Anordnung werden die infolge der unterschiedlichen thermischen Ausdehnungskoeffizienten
der Trägerplatte und des mit ihr verbundenen Metallkörpers entstehenden Kräfte von
der zwischen beiden liegenden Weichlotschicht aufgenommen. Bei wechselnder thermischer Beanspruchung
der Anordnung zeigen sich nun in der Lötverbindung infolge plastischen Fließens und Rekristallisationsvorgängen
Ermüdungserscheinungen, die zur Auftrennung der Lötverbindung und zur Zerstörung
der Halbleiteranordnung führen.
Zur Vermeidung dieses Nachteils sind bereits zahlreiche Vorschläge gemacht worden. Insbesondere ist
es bekannt, Trägerplatte und Anschlußteile des Gehäuses durch eine Hartlotschicht zu verbinden,
welche durch die entstehenden inneren Spannungen nicht dauernd verformt wird. Damit diese inneren
Spannungen in die Anschlußteile verlegt sind, muß die Trägerplatte eine beträchtliche Dicke aufweisen.
Dadurch verschlechtert sich aber der Wärmeübergang vom Halbleiterelement auf das der Wärmeabfuhr
dienende Anschlußteil. Vor allem aber ist nach-Halbleiteranordnung mit allseitig geschlossenem
Gehäuse
Gehäuse
Anmelder:
Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie.,
Baden (Schweiz)
Vertreter:
Dr.-Ing. E. Sommerfeld, Patentanwalt,
München 23, Dunantstr. 6
Als Erfinder benannt:
Dr. Erich Weisshaar,
Dieter Spickenreuther, Baden;
Franz Brischnik, Neuenhof (Schweiz)
Beanspruchte Priorität:
Schweiz vom 30. März 1962 (3927)
teilig, daß die zur Vornahme der Hartlötung notwendigen hohen Temperaturen sich schädlich auf die
Sperrfähigkeit des Halbleiterelementes auswirken, sei es durch Verdampfung von Lot- und Gehäusematerialien
oder durch Diffusion des Metalls des Gehäuses, wie beispielsweise Kupfer, in den Halbleiter
oder auch durch Veränderungen des Oberflächenzustandes des Halbleiterelementes selbst.
Bei der eingangs angegebenen Halbleiteranordnung mit allseitig geschlossenem Gehäuse, bei welcher das
im wesentlichen einen einkristallinen Halbleiterkörper aufweisende Halbleiterelement einseitig in
einer Vertiefung eines Anschlußteiles des Gehäuses liegt und beidseitig durch eine dünne Metallschicht
mit den ebenen Metallflächen von Anschlußteilen des Gehäuses elektrisch verbunden ist und bei welcher
Gehäuseteile eine geringe Druckkraft auf das Halbleiterelement ausüben, besteht die Erfindung darin,
daß die Metallschicht bei der vorgesehenen Betriebstemperatur flüssig ist.
Es sind zwar bereits Anordnungen elektrischer Trockengleichrichter mit einem Gleichrichterelement
bekannt, bei welchen der elektrische Kontakt mit der Gleichrichterschicht durch einen elektrisch metallisch
leitenden, flüssigen Stoff, wie Quecksilber, bewirkt wird. Hierbei handelt es sich um zylindrische bzw.
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rohrförmige Gleichrichterschichten, die in den leiten- äußeren Seite des Gehäusedeckels ist die Stromzu-
den flüssigen Stoff getaucht sind, wobei der flüssige führungslitze 8 über ein sie fassendes Kupferstück 7
Stoff in einem Behälter enthalten ist. Diesen be- durch Hartlötung verbunden. In bekannter Weise
kannten Anordnungen gegenüber weist die Anord- wird der Strom über den Gehäuseboden 4 weggeführt,
nung der Erfindung den Vorteil auf, daß die flüssige 5 Erfindungsgemäß ist das Halbleiterelement mit
Metallschicht eben ist, ferner daß die flüssige Metall- den ebenen Metallflächen von Anschlußteilen des
schicht dünn ist, so daß ein schlechter Wärmeüber- Gehäuses, die in F i g. 1 durch den Gehäuseboden 4
gang vermieden ist und nur eine geringe Menge flüs- und den Anschlußbolzen 5 gebildet sind, durch eine
sigen Metalls benötigt wird, und daß schließlich ein dünne Metallschicht elektrisch verbunden, die bei
besonderer Behälter für das flüssige Metall nicht 10 der vorgesehenen Betriebstemperatur flüssig ist. Die
benötigt wird. Metallschichten sind mit 10 und 11 bezeichnet und
Die Verbindung des Halbleiterelementes mit den liegen zwischen der Trägerplatte 2 und dem Geanliegenden
Anschlußteilen durch die flüssige Metall- häuseboden4 bzw. zwischen der Deckelelektrode 3
schicht gewährleistet einen sehr guten elektrischen und dem Anschlußbolzen 5.
und thermischen Übergang. Ermüdungserscheinungen 15 Es kommen diejenigen Metalle und Legierungen
in der Metallschicht sind gänzlich ausgeschlossen, in Frage, die bei einer mittleren Betriebstempe-
und ebenso ist eine mechanische Beanspruchung des ratur von etwa 30 bis 130° C flüssig sind. Als Bei-Halbleiterkörpers
infolge der unterschiedlichen ther- spiel sei Gallium genannt, das bei etwa 29,8° C
mischen Ausdehnungskoeffizienten des Halbleiter- schmilzt. Auch Quecksilber hat sich als geeignetes
körpers und des Anschlußteils des Gehäuses verun- 20 Metall im Sinne der Erfindung erwiesen,
möglicht. Bei extrem niederen Außentemperaturen Für Halbleiteranordnungen, die nur kleinen Be- und kleiner elektrischer Belastung des Halbleiter- schleunigungen ausgesetzt sind, genügen zur Verhinelementes kann das Metall erstarren und eine feste derung des Ausfließens der flüssigen Metallschicht Lötverbindung bilden. Dies ist aber keineswegs nach- die Kapillarkräfte und die Oberflächenspannungen teilig wie bei den bekannten Weichlotverbindungen. 25 allein. In Halbleiteranordnungen, die hohen Be-Bei geringer Belastung treten keine oder nur sehr schleunigungen ausgesetzt sind, wie etwa in Halbgeringe mechanische Kräfte auf. Bei höherer BeIa- leitergleichrichtern in Fahrzeugen, die erhebliche stung steigt die Temperatur des Halbleiterelementes, Rüttelbewegungen ausführen, ist es vorteilhaft, den so daß das Metall aufschmilzt und so den elektrisch, Außenrand der Metallschicht durch einen Schutzlack thermisch und mechanisch einwandfreien Übergang 30 abzudecken. In Fig. 1 ist die Metallschicht 10 durch wiederherstellt. eine Lackschicht 12 abgedeckt. Es ist zweckmäßig,
möglicht. Bei extrem niederen Außentemperaturen Für Halbleiteranordnungen, die nur kleinen Be- und kleiner elektrischer Belastung des Halbleiter- schleunigungen ausgesetzt sind, genügen zur Verhinelementes kann das Metall erstarren und eine feste derung des Ausfließens der flüssigen Metallschicht Lötverbindung bilden. Dies ist aber keineswegs nach- die Kapillarkräfte und die Oberflächenspannungen teilig wie bei den bekannten Weichlotverbindungen. 25 allein. In Halbleiteranordnungen, die hohen Be-Bei geringer Belastung treten keine oder nur sehr schleunigungen ausgesetzt sind, wie etwa in Halbgeringe mechanische Kräfte auf. Bei höherer BeIa- leitergleichrichtern in Fahrzeugen, die erhebliche stung steigt die Temperatur des Halbleiterelementes, Rüttelbewegungen ausführen, ist es vorteilhaft, den so daß das Metall aufschmilzt und so den elektrisch, Außenrand der Metallschicht durch einen Schutzlack thermisch und mechanisch einwandfreien Übergang 30 abzudecken. In Fig. 1 ist die Metallschicht 10 durch wiederherstellt. eine Lackschicht 12 abgedeckt. Es ist zweckmäßig,
An Hand der Zeichnung soll die Erfindung näher als Lack einen zur Herstellung von Halbleiteranord-
erläutert werden. nungen bekannten Silikonlack zu verwenden, der
F i g. 1 zeigt ein Ausführungsbeispiel der Halb- ohne nachteiligen Einfluß auf das Halbleiterele-
leiteranordnung gemäß der Erfindung; in 35 ment ist.
F i g. 2 ist ein Ausschnitt eines weiteren Ausfüh- Es kann auch vorteilhaft sein, die flüssige Metall-
rungsbeispiels gezeigt. schicht durch einen Dichtungsring zu begrenzen. In
In F i g. 1, die als Beispiel einen Halbleiterflächen- F i g. 2 ist ein Ausführungsbeispiel an einem Ausgleichrichter
darstellt, setzt sich das Halbleiter- schnitt einer Halbleiteranordnung gezeigt. Mit 1 ist
element aus dem einen pn-übergang aufweisenden 40 wieder der Halbleiterkörper bezeichnet und mit 3
Halbleiterkörper 1 aus Silizium, einer mit einem die auf ihm angebrachte Deckelektrode. Mit 5 ist
geeigneten Lot angelöteten Trägerplatte 2 aus Molyb- der Anschlußbolzen bezeichnet, welcher auf der der
dän und einer Deckelelektrode 3 aus Gold zusam- Deckelektrode zugewandten Seite eine kreisförmige
men. Die Dicken dieser Teile sind hierbei zur Ver- Rille mit V-Querschnitt aufweist. In diese Rille ist
deutlichung übertrieben dargestellt. Die Träger- 45 ein Dichtungsring 13 gelegt, der leicht gegen die
platte 2 liegt in einer Vertiefung des Anschlußteiles 4, Deckelektrode 3 gepreßt ist und das flüssige Metall
das den Gehäuseboden bildet und das mit einem 11 begrenzt. Ein geeigneter Dichtungsring ist bei-Gewindestutzen
zum Einschrauben in einen Kühl- spielsweise aus Silikonkautschuk hergestellt. Es ist
körper versehen ist. Dieser Anschlußteil ist zweck- aber auch möglich, einen aus Blei gefertigten Dichmäßigerweise
aus Kupfer gefertigt. Der durch die 50 tungsring zu verwenden.
Vertiefung gebildete Rand hält die Trägerplatte2 Bei der in Fig. 1 gezeigten Anordnung ist der
fest, gegebenenfalls durch eine Umbördelung des Halbleiterkörper 1 in bekannter Weise mit einer anRandes
über die Trägerplatte. gelöteten Trägerplatte 2 versehen, deren thermischer
Die andere Seite des Halbleiterkörpers liegt mit Ausdehnungskoeffizient mindestens angenähert gleich
der Deckelektrode 3 an dem Anschlußbolzen 5. 55 demjenigen des Halbleiterkörpers ist. Diese Träger-Dieser
Bolzen ist seinerseits an den mit einer kegel- platte ist aber für eine Halbleiteranordnung gemäß
stumpfförmigen Einbuchtung versehenen Gehäuse- der Erfindung nicht unbedingt erforderlich, da zudeckel6
hart angelötet. Bolzen wie Gehäusedeckel folge der Verbindung des Halbleiterkörpers mit einem
bestehen zweckmäßigerweise ebenfalls aus Kupfer. Anschlußteil des Gehäuses durch eine flüssige Me-Zur
Distanzierung des Gehäusedeckels und zur Her- 60 tallschicht bei Temperaturwechsel keine mechastellung
eines gasdichten Gehäuses liegt zwischen nischen Spannungen im Halbleiterkörper auftreten
dem Gehäusedeckel 6 und dem Gehäuseboden 4 ein können. Es kann aber vorteilhaft sein, eine solche
zylindrischer keramischer Ring 9, der mit beiden Trägerplatte vorzusehen, da durch sie die mecha-Teilen
durch eine Metall-Keramik-Verbindung ver- nische Festigkeit des spröden Halbleiterkörpers erlötet
ist. Die Höhe des Ringes 9 ist hierbei so ge- 65 höht wird und die Gefahr einer Beschädigung wähwählt,
daß durch den Gehäusedeckel 6 und damit rend der Herstellungsvorgänge verringert wird,
den Anschlußbolzen 5 auf das Halbleiterelement ein Wenn die Möglichkeit besteht, daß sich die flüsgeringer federnder Druck ausgeübt wird. Mit der sige Metallschicht bei höheren Temperaturen infolge
den Anschlußbolzen 5 auf das Halbleiterelement ein Wenn die Möglichkeit besteht, daß sich die flüsgeringer federnder Druck ausgeübt wird. Mit der sige Metallschicht bei höheren Temperaturen infolge
Bildung von höherschmelzenden Legierungen oder Verbindungen mit dem Material der angrenzenden
Rächen verfestigt, so ist es vorteilhaft, die flüssige Metallschicht zwischen Materialien anzubringen, die
mit diesem nicht reagieren bzw. die Flächen mit einem solchen Material zu bedecken. Als Beispiel sei
angeführt, daß es zweckmäßig ist, die aus Gold bestehende Deckelektrode ebenfalls mit einer Trägerplatte
aus Molybdän oder Wolfram zu versehen und auch auf die an beide Trägerplatten des Halbleiterelmentes
angrenzenden Flächen der Anschlußteile wie des Kupfergehäusebodens und des Kupferanschlußbolzens
eine Auflage aus Molybdän oder Wolfram aufzubringen, so daß die flüssige Metallschicht
zwischen zwei Molybdän- oder Wolframflächen liegt, mit welchen das Metall keine Legierung
oder Verbindung bildet. Derartige Auflagen können mit den Kupfermetallkörpern beispielsweise
hart verlötet werden. Da die Auflagen keine mechanische Funktionen wie die Aufnahme mechanischer
Kräfte auszuüben haben, können sie sehr dünn sein und deshalb auch auf andere Art wie durch Aufdampfen
aufgebracht sein.
Die Verbindung durch eine Metallschicht gemäß der Erfindung wurde am Beispiel eines Halbleiterflächengleichrichters
beschrieben. Mit gleichem Vorteil ist eine Anwendung auch für andere Halbleiteranordnungen
mit großflächigen Elektroden wie Leistungstransistoren oder steuerbare Halbleitergleichrichter
möglich.
Claims (8)
1. Halbleiteranordnung mit allseitig geschlossenem Gehäuse, bei welcher das im wesentlichen
einen einkristallinen Halbleiterkörper aufweisende Halbleiterelement einseitig in einer Vertiefung
eines Anschlußteiles des Gehäuses liegt und beidseitig durch eine dünne Metallschicht
mit den ebenen Metallflächen von Anschlußteilen des Gehäuses elektrisch verbunden ist und
bei welcher Gehäuseteile eine geringe Druckkraft auf das Halbleiterelement ausüben, dadurch
gekennzeichnet, daß die Metallschicht bei der vorgesehenen Betriebstemperatur flüssig ist.
2. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallschicht aus
Gallium besteht.
3. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Außenrand der
Metallschicht durch einen Schutzlack abgedeckt ist.
4. Halbleiteranordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß
zwischen den Flächen des Halbleiterelementes und den Anschlußteilen Dichtungsringe angeordnet
sind.
5. Halbleiteranordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das
Halbleiterelement mindestens auf der einen Seite mit einer an den Halbleiterkörper angelöteten
Trägerplatte versehen ist, deren thermischer Ausdehnungskoeffizient mindestens angenähert gleich
demjenigen des Halbleiterkörpers ist.
6. Halbleiteranordnung nach Anspruch 5, bei welcher das Halbleiterelement auf beiden Seiten
mit einer Trägerplatte versehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß auf die den Trägerplatten zugewandten
Flächen der Metallkörper Auflagen aufgebracht sind, die mit dem flüssigen Metall
keine Legierung oder Verbindung bilden.
7. Halbleiteranordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Auflagen aus
Molybdän bestehen.
8. Halbleiteranordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Auflagen aus
Wolfram bestehen.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 510598;
deutsche Auslegeschrift Nr. 1018 557.
Deutsche Patentschrift Nr. 510598;
deutsche Auslegeschrift Nr. 1018 557.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
509 739/320 11.65 © Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH392762A CH396221A (de) | 1962-03-30 | 1962-03-30 | Halbleiteranordnung |
Publications (1)
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|---|---|
| DE1205625B true DE1205625B (de) | 1965-11-25 |
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ID=4266476
Family Applications (1)
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| DEA39992A Pending DE1205625B (de) | 1962-03-30 | 1962-04-18 | Halbleiteranordnung mit allseitig geschlossenem Gehaeuse |
Country Status (3)
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| DE (1) | DE1205625B (de) |
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Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4241167A (en) * | 1979-05-25 | 1980-12-23 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Electrolytic blocking contact to InP |
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| JP2008235674A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Toyota Motor Corp | パワーモジュール及び車両用インバータ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE510598C (de) * | 1926-05-10 | 1930-10-21 | Westinghouse Brake & Signal | Elektrischer Trockengleichrichter |
| DE1018557B (de) * | 1954-08-26 | 1957-10-31 | Philips Nv | Verfahren zur Herstellung von gleichrichtenden Legierungskontakten auf einem Halbleiterkoerper |
-
1962
- 1962-03-30 CH CH392762A patent/CH396221A/de unknown
- 1962-04-18 DE DEA39992A patent/DE1205625B/de active Pending
-
1963
- 1963-03-28 GB GB12319/63A patent/GB999679A/en not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE510598C (de) * | 1926-05-10 | 1930-10-21 | Westinghouse Brake & Signal | Elektrischer Trockengleichrichter |
| DE1018557B (de) * | 1954-08-26 | 1957-10-31 | Philips Nv | Verfahren zur Herstellung von gleichrichtenden Legierungskontakten auf einem Halbleiterkoerper |
Also Published As
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| GB999679A (en) | 1965-07-28 |
| CH396221A (de) | 1965-07-31 |
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