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DE1299980B - Vorrichtung zum gegenseitigen Ausrichten zweier Werkstuecke, insbesondere Teilen der Mikroschaltungstechnik - Google Patents

Vorrichtung zum gegenseitigen Ausrichten zweier Werkstuecke, insbesondere Teilen der Mikroschaltungstechnik

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DE1299980B
DE1299980B DEH59979A DEH0059979A DE1299980B DE 1299980 B DE1299980 B DE 1299980B DE H59979 A DEH59979 A DE H59979A DE H0059979 A DEH0059979 A DE H0059979A DE 1299980 B DE1299980 B DE 1299980B
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DE
Germany
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workpiece
plate
platform
teflon
workpieces
Prior art date
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Pending
Application number
DEH59979A
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English (en)
Inventor
Zurcher Rudolf F
Reissmueller Karl H
Reissmueller Manfred W
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Raytheon Co
Original Assignee
Hughes Aircraft Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hughes Aircraft Co filed Critical Hughes Aircraft Co
Publication of DE1299980B publication Critical patent/DE1299980B/de
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
    • H05K13/0015Orientation; Alignment; Positioning
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Description

1 2
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung beide getrennt voneinander auf das gleiche Bezugs-
zum gegenseitigen Ausrichten zweier Werkstücke, fadenkreuz ausgerichtet, das in einem einzigen Mi-
insbesondere Teilen der Mikroschaltungstechnik, bei- kroskop vorgesehen ist, ohne daß die Bildseite wäh-
spielsweise einer Halbleiteranordnung und eines rend jeder Einstellung geändert wird. Das eine Muster
Schaltungsträgers mit leitenden Teilen in Form von 5 wird von unten her und das andere Muster von oben
Mustern, die in bestimmter Relativstellung aufein- her relativ zum Bezugsfadenkreuz ausgerichtet. Die
andergesetzt werden sollen. Ausrichtung von unten her und von oben her wird
Bei der Herstellung von Mikroschaltungen und mit Hilfe einer nach innen verspiegelten Fläche eines Halbleiteranordnungen ist es allgemein üblich, sehr Spiegels erreicht, der in die optische Achse des Mikleine Halbleiteranordnungen (Dioden, Transistoren io kroskops eingeschoben und aus ihr wieder entfernt usw.), die in der englischen elektronischen Fach- werden kann und zu ihr unter einem bestimmten spräche als »flip-chip« bezeichnet werden, auf die Winkel geneigt liegt. Dabei wird eine geometrische Leitungen aufzusetzen, die sich auf einem dünnen, Beziehung nutzbar gemacht, derzufolge die beiden filmartigen Leitungsträger befinden, und die Halb- voneinander in Abstand liegenden, aufeinander ausleiteranordnung sodann mit dem Film zu verbinden. 15 zurichtenden Bildpunkte stets in einer vertikal zur Wegen der Kleinheit der Halbleiteranordnungen er- Spiegelfläche verlaufenden Geraden liegen, und zwar geben sich beträchtliche Schwierigkeiten bei der ge- unabhängig von der Spiegeldicke, dem Brechungsnauen Ausrichtung der Anschlußkontakte oder index des Spiegels und dem Neigungswinkel des Mi- -warzen der Halbleiteranordnung mit den Leitungen kroskops.
des Leitungsträgers. ao Die Zeichnung veranschaulicht ein Ausführungs-
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine beispiel. Es zeigt
verhältnismäßig einfache und billige Vorrichtung zu Fig. 1 eine perspektivische Darstellung einer erschaffen, mittels deren es möglich ist, ein an einem findungsgemäß gestalteten Vorrichtung zur Herstel-Werkstück befindliches Muster mit hoher Genauig- lung einer Verbindung zwischen zwei Miniatur-Schalkeit in eine bestimmte Stellung relativ zu einem an 25 tungselementen, beispielsweise einer Miniatur-Halbeinem anderen Werkstück befindlichen Muster zu leiteranordnung, und einem Schaltungsträger,
bringen, wobei es sich insbesondere um die Herstel- F i g. 2 eine Seitenansicht der wesentlichen Teile lung einer Verbindung in genau vorgeschriebener der Vorrichtung,
Stellung zwischen einer Miniatur-Halbleiteranord- F i g. 3 einen Schnitt nach der in F i g. 2 eingetranung und einem Schaltungsträger der bezeichneten 30 genen gekrümmten Linie 3-3 in vergrößertem Maß-Art handelt. Von wesentlicher Bedeutung ist dabei, stäbe,
daß die nötigen Operationen von einer einzigen Be- F i g. 4 eine Ansicht eines in F i g. 1 erscheinen-
dienungsperson vorgenommen werden können. den Schlittens von unten,
Eine zur Lösung dieser Aufgabe geeignete, erfin- F i g. 5 eine Stirnansicht des Schlittens nach
dungsgemäß gestaltete Vorrichtung ist gekennzeich- 35 F i g. 4 und einer Schlittenführung, die gleichfalls in
net durch eine bewegliche Plattform als Träger der F i g. 1 erscheint,
Werkstücke, eine auf der Plattform beweglich ge- Fig. 6 eine teilweise im Schnitt gehaltene Seiten-
lagerte, durchsichtige, einseitig verspiegelte, plan- ansieht zur Veranschaulichung eines zur Halterung
parallele Platte, deren nicht verspiegelte Fläche das eines Spiegels dienenden, in F i g. 1 erscheinenden
eine Werkstück aufnimmt, ein Mikroskop mit Fa- 40 Blocks,
denkreuz, dessen optische Achse die Flächen der F i g. 7 eine teilweise im Schnitt gehaltene Ansicht
planparallelen Platte unter einem spitzen Winkel der Halterung für das zweite Werkstück von oben
schneidet und dessen Strahlengang nach Durchtritt und
durch die nicht reflektierende Fläche von der reflek- Fig. 8 eine geschnittene Seitenansicht zur Vertierenden Fläche reflektiert wird und mit seinem Fa- 45 anschaulichung der Halterung für einen das zweite denkreuz auf die nicht reflektierende Fläche einstell- Werkstück bildenden Schaltungsträger nach F i g. 7. bar ist, so daß bei Eintritt des ersten Werkstücks Wie sich im einzelnen aus F i g. 2 und 3 ergibt, in das Blickfeld des Mikroskops das Muster dieses besteht die gezeichnete Vorrichtung aus einem geWerkstückes im Fadenkreuz abgebildet wird, einen wohnlichen Mikroskop 10 mit einem Abstand zwivertikal von der planparallelen Platte beweglichen 5° sehen Objektiv und Objekt von mindestens 25 mm Aufnehmer zum Abheben des ersten Werkstücks von und einem Fadenkreuz 12. Das Mikroskop 10 ist auf der planparallelen Platte nach dem Ausrichten in einer starren Grundplatte 14 befestigt, so daß seine bezug auf das Fadenkreuz, eine Halterung zur Auf- optische Achse 16 geneigt zu der oberen Fläche 18 nähme des zweiten Werkstücks, dessen Muster in einer durchsichtigen, planparallelen Platte 20 liegt, einer Ebene liegt, die parallel zu den Flächen der 55 Die untere Fläche 22 der Platte 20 liegt zur Fläche planparallelen Platte verläuft und durch den nicht 18 parallel und ist mit reflektierendem Material 24 reflektierten Objektpunkt des Mikroskops geht, wo- überzogen, so daß die Platte 20 mit ihrer Rückseite bei das zweite Werkstück vermöge der Beweglichkeit reflektierend in Richtung auf die Oberseite 18 wirkt, der Plattform nach dem Abheben des ersten Werk- Vorzugsweise werden Spiegel 24 und Platte 20 als Stücks in das Blickfeld des Mikroskops einschiebbar 60 Einheit gefertigt, die Rückseite 22 also mit dem Spieist und die Halterung das Muster des zweiten Werk- gelnden Material 24 überzogen. Ebenso ist es jedoch Stücks in bezug auf das Fadenkreuz ausrichtet, wor- möglich, die Platte 20 und den Spiegel 24 als geauf der Aufnehmer das erste Werkstück mit dem trennte Baueinheiten herzustellen und sodann zusamzweiten Werkstück in bestimmter Relativlage der menzufügen. Durch Einstellen des Bild- und Objekt-Muster beider Werkstücke in Berührung bringt. 65 punkts des Mikroskops 10 wird das Fadenkreuz 12
Bei der Vorrichtung nach der Erfindung wird ein so eingestellt, daß in ihm der scheinbare Objektpunkt
Muster an der einen Fläche der Miniatur-Halbleiter- F1, wenn er sich auf der oberen Fläche 18 der Platte
anordnung und ein Muster auf dem Schaltungsträger 20 befindet, abgebildet wird. Sodann wird die Platte
3 4
20 so verstellt, daß das Fadenkreuz auf die Mittel- 32 der Halbleiteranordnung und die Leitungen 42
achse 35 eines Aufnehmers 36 optisch ausgerichtet des Leitungsmusters auf der Folie in einer ganz
ist. Die Mittelachse 35 liegt dann kolinear zu einer bestimmten Ausrichtung aufeinandertreffen. Das
Geraden 37, die zu den Flächen 18 und 22 der Platte erste Werkstück kann dann vom Aufnehmer 36 entrechtwinklig liegt und durch den (wegen der Re- 5 weder freigegeben werden oder, wie dies der weiter
flexion scheinbaren) Objektpunkt F1 und den eigent- unten zu beschriebenen bevorzugten Ausführung der
liehen Objektpunkt F2 des Mirkoskops 10 geht. Die Erfindung entspricht, weiterhin gehalten werden, um
Platte 20 wird von einer beweglichen Plattform 26 mit dem zweiten Werkstück fest verbunden zu
getragen, deren Oberfläche parallel zu den Flächen werden.
der planparallelen Platte 20 liegt und in der geome- io Der in F i g. 3 wiedergegebene optische Strahlentrischen X-Y-Ebene, also rechtwinklig zur Zeichen- gang ergibt sich aus bekannten optischen Gesetzen, ebene in Fig. 2, bewegt werden kann. Zu diesem Aus ihnen folgt, daß eine planparallele Platte 20, die Zweck ist die Plattform mit einer Anzahl kleiner an ihrer unteren Fläche 22 mit einer Verspiegelung Füße 28 aus Teflon versehen, mit der sie auf der 24 versehen ist, so daß also ein Lichtstrahl durch starren Grundplatte 14 ruht. Ein Werkstück 30, ins- 15 die obere Fläche 18 hindurchreflektiert wird, bei Bebesondere eine Miniatur-Halbleiteranordnung, mit trachtung mittels eines geneigten Mikroskops 10 einem Muster 32 an seiner Unterseite, wird unmittel- einen scheinbaren Objektpunkt F1 des Mikroskops bar auf die obere Fläche 18 der Platte 20 gelegt. Bei ergibt, der mit dem wirklichen Objektpunkt F2 des dem Muster einer Halbleiteranordnung handelt es Mikroskops 10 auf einer Geraden 37 liegt, die senksich in aller Regel um die Anschlußkontakte in Form ao recht zur Oberfläche der Platte 20 verläuft, und zwar kleiner Warzen oder Perlen an der einen Außenfläche unabhängig vom Neigungswinkel i der Hauptachse einer Hülle des eigentlichen Halbleitersystems. des Mikroskops 10 zur Oberfläche 18 der Platte 20
Der nächste Schritt bei der Ausrichtung, nachdem sowie unabhängig von der Dicke t und vom Bredas Fadenkreuz 12 fokussiert worden ist, besteht chungsindex der planparallelen Platte 20. Auf der darin, das Werkstück 30 in der X-F-Ebene so zu 25 Nutzbarmachung dieses Prinzips beruht die den Geverschieben, daß sein Muster 32 sich mit einem ent- genstand der vorliegenden Erfindung bildende Vorsprechenden Muster oder Relief im Fadenkreuz 12 richtung. Das Prinzip erweist sich als für diesen in Flucht befindet. Dies kann dadurch geschehen, Zweck besonders gut brauchbar, weil es sich mit daß entweder das Werkstück 30 allein oder aber die Hilfe einfacher mechanischer Mittel verwirklichen Platte 20 zusammen mit dem Werkstück bewegt wird. 30 läßt und einen hohen Grad von Genauigkeit liefert. Die Platte 20 ist in einem Halteblock 34 gelagert, der In der bevorzugten Ausführung der Erfindung gemit mehreren Teflonfüßen 28 versehen ist, welche auf mäß F i g. 1 ist der Vakuumaufnehmer 36 am Schaft der Plattform 26 ruhen. Die optische Ausrichtung eines in üblicher Weise gestalteten Ultraschallwird also mittels der reflektierenden Fläche 24 an Schweißkopfes 46 angebracht, mit dem ein Hub- und der Unterseite des Werkstücks 30 vorgenommen. 35 Senkmechanismus verbunden ist, der in der Zeich-
Ist das Werkstück 30 in bezug auf das Fadenkreuz nung in Form einer Exzenterwelle 50 mit Betätiausgerichtet worden, so wird es von der oberen gungshebeln 52 erscheint. Der Vakuumaufnehmer 36 Fläche 18 mittels eines Aufnehmers 36 abgehoben. ist zylindrisch gestaltet und hat einen Außendurch-Der Aufnehmer kann nach Art einer Vakuumdüse messer, der gleich der Längsausdehnung des Werkgestaltet sein, die an eine Vakuumquelle 38 ange- 40 Stücks 30 oder etwas größer als diese ist. Die beschlossen ist. Ein derartiger Aufnehmer ändert an der wegliche Plattform 26 ist auf einem im Querschnitt mittels der Ausrichtung gewonnenen Lage des U-förmigen Bett 54 gelagert. Der Ultraschall-Werkstücks 30 in horizontaler Richtung gerechnet Schweißkopf 46 und das Bett 54 sind auf einer weinichts. teren Plattform 56 befestigt, die mittels nicht gezeich-
Ohne Änderung der optischen Einstellung des Mi- 45 neter kleiner Teflonfüße in der X-F-Ebene durch kroskops 10 wird sodann ein zweites Werkstück 40, ein nicht gezeichnetes Getriebe mittels eines Taumelinsbesondere eine Folie mit einer darauf ausgebilde- hebeis 58 weitgehend beliebig verstellt werden kann, ten elektrischen Schaltung (etwa einer sogenannten Die weitere Plattform 56 ist mit der Hauptgrundgedruckten Schaltung) eingeführt, die ein bestimmtes platte 14 durch nicht gezeichnete Verschraubungen Muster oder ein bestimmtes Relief 42 von elektri- 50 und Leitfedern verbunden, wie dies an sich bekannt sehen Leitern an ihrer einen Oberfläche hat. Diese ist. Die Plattform 56 wird an ihrem einen Ende mit-Folie wird fest an einer geeigneten Halterung 44 ge- tels eines Stifts 60 geführt, der an der Grundplatte 14 halten, die nunmehr in das Blickfeld des Mikroskops befestigt ist und in einen Schlitz 62 der Platte ragt. 10 gebracht wird. Die Halterung 44 ist auf dem Zur Führung am anderen Ende dient das erwähnte, Schlitten mittels mehrerer Teflonfüße 28 unterstützt 55 nicht gezeichnete Getriebe.
und so gestaltet, daß sie für einwandfreie, starre Auf- In der jeweils gewählten Stellung wird die Plattrechterhaltung der Parallelität zwischen der Ober- form 56 an der Hauptgrundplatte 14 mittels einer fläche der Folie 40 und der oberen Fläche 18 der Schraubklemme 64 festgespannt, die an einer Spann-Platte 20 sorgt. Dabei liegt sie jedoch oberhalb des platte 66 angreift, welche vom einen Stirnende der wirklichen Objektpunkts F2 des Mikroskops 10. Das 60 Plattform 56 vorragt. Die Schraubklemme 64 ist an Leitungsmuster 42 wird nunmehr in Übereinstim- der Hauptgrundplatte 14 gelagert und spannt die mung mit dem Bezugsfadenkreuz 12 des Mikroskops Plattform 56 verzerrungsfrei in der Z-F-Ebene fest. gebracht, indem die Halterung 44 in der X-F-Ebene Das Mikroskop 10 ist mit einem Arm 68 verschraubt verschoben wird. Optisch geschieht die Ausrichtung und in Längsrichtung entlang der Hauptachse des des Leitungsmusters von oben durch die Luft. Das 65 Geräts mittels eines Ständers 70 verstellbar,
erste, noch vom Vakuumaufnehmer getragene Werk- An der Exzenterwelle 50 ist ein Betätigungsstift stück wird sodann vertikal von oben auf das zweite 72 angebracht, mittels dessen der zur Herstellung Werkstück niedergesenkt, so daß die Kontaktstücke einer Verbindung zwischen beiden Werkstücken die-

Claims (3)

  1. 5 6
    nende Arbeitsgang gesteuert wird. Dies geschieht mit- Klemmschraube 110 zugeordnet. Die Verwendung tels eines Endschalters 74, der auf der zweiten Platt- von Teflonzapfen 108 und Klemmschrauben 110 erform56 versetzt gegen die Exzenterwelle 50 ange- spart die Notwendigkeit, für das Gewinde 107 ein ordnet ist. Der Endschalter 74 ist elektrisch durch entsprechendes Innengewinde vorzusehen. Außerdem Leitungen 76 mit einer nicht gezeichneten Ultra- 5 wirken die Teflonzapfen sanft bremsend. In einer schall-Schweißstromquelle verbunden, die durch Lei- schützenden Vertiefung 112 nimmt der Zylinder 106 tungen 78 an den Schweißkopf 46 angeschlossen ist die durchsichtige Platte 20 auf, deren untere Fläche und diesem Schweißkopf die nötige Leistung zuführt, 22 verspiegelt ist und am Boden der Vertiefung 112 wenn der Schalter 74 geschlossen ist. aufliegt. Der obere Rand 113 des Zylinders ist zum An der Grundplatte 14 ist ein Bock 80 angebracht, io leichten Drehen von Hand gerändelt. Um eine bean dem eine handelsübliche Mikroskopbeleuchtung stimmte Bildeinstellung leicht erneut herstellen zu 82 angebracht wird. In der bevorzugten Ausführung können, wenn abwechselnd mit Werkstücken verder Erfindung dient der Bock 80 als Mittel zur Über- schiedener Dicke gearbeitet wird, ist am Umfang leitung des Vakuums zum Vakuumaufnehmer 36 und 116 eine senkrechte Marke 114 angebracht, die mit zur Vakuumhalterung 44. Er ist daher mit einer An- 15 einer aus einer Vielzahl von Marken 118 bestehenden zahl von Rohrleitungen 84, 86 und 88 verbunden, Teilung an der oberen Außenfläche 120 zusammendie an eine nicht gezeichnete Vakuumquelle, an die wirkt.
    die Folie tragende Halterung 44 und an den Va- F i g. 7 und 8 zeigen die Halterung 44 für das kuumaufnehmer 36 angeschlossen sind. zweite Werkstück 40, das in der Regel die Form In Fig. 4 und 5 ist die Plattform26 nach Fig. 1 20 eines Films, einer Platte oder einer Scheibe hat. Die vergrößert herausgezeichnet. Sie ist mit zwei zapfen- Halterung enthält einen verschiebbaren Ventilschaft artigen Lagerstücken 90 aus Teflon versehen, die an 122 mit einer das Vakuum steuernden Ausdrehung der einen Schlittenlängsseite angebracht sind, sowie 123, Teflonfüße 28 und eine Spannvorrichtung 124. mit zwei U-förmigen Lagerstücken 92 aus Teflon an Der Spannkörper der Spannvorrichtung ist gemäß der anderen Längsseite. An der Unterseite der Platt- 25 F i g. 8 mit einem Flansch 126 versehen, der mit an form 26 ist eine T-förmige Halteplatte 94 befestigt. der Halterung 44 anliegenden Flächen versehen ist, Sie liefert der Plattform die nötige Halterung durch sowie mit einem federbelasteten Kolben 127, der Eingriff in zwei Schlitze 96 in einer U-förmigen Gleit- durch eine Bohrung 128 in eine mittlere Kammer 130 führung. Die Halteplatte 94 kann auch als Mittel zur ragt. Eine Anzahl kleiner Öffnungen 129 erstreckt Hubbegrenzung dienen. Die U-förmige Gleitführung 30 sich von der Kammer 130 durch die Wand der Halte-54 erhält dann an geeigneten Stellen zwei nicht ge- rung 44 nach außen und mündet neben dem einen zeichnete Schrauben oder Stifte, an denen die Platt- Ende der Spannvorrichtung 126. Eine größere öffform 26 zum Anschlag kommt. nung 131 erstreckt sich von der Kammer zur Ventil-In einer Bohrung der Plattform 26 ist ein Ventil- schaftausdrehung 123. Mit einem Kanal 132, der sich schaft 98 verschiebbar und durch eine Schraube 100 35 quer durch die Halterung erstreckt, ist die Rohrleigesichert, die in eine als Ventil wirkende Ausdrehung tung 84 verbunden, die durch den Bock 80 gemäß 102 des Ventilschafts greift. Drei in ungleichem Ab- Fig. 1 an die Vakuumquelle angeschlossen ist. Wird stand voneinander angeordnete Ventilöffnungen 104 die Ventilschaftausdrehung 123 so eingestellt, daß die erstecken sich über die Länge der Ausdrehung 102 öffnungen 131 und der Kanal 132 beide in sie mün- und dienen zur Steuerung des Vakuums am Aufneh- 40 den, so ist die Vakuumquelle an die mittlere Kammer 36. Die nötige Steuerung wird dadurch erhalten, mer 130 angeschlossen und veranlaßt das Klemmdaß die eine Ventilöffnung mit dem Vakuumaufneh- stück der Spannvorrichtung 124, sich gegen das mer 36 und die andere Öffnung durch den Bock 80 Werkstück, also gegen die nicht gezeichnete Platte mit der Vakuumquelle verbunden wird, während die oder Scheibe, die oberhalb der kleinen Öffnungen auf dritte Öffnung als Auslaß dient. Die ganze Steuerung 45 die Halterungen 44 gesetzt worden ist, anzulegen, ist in die verschiebbare Plattform 26 eingebaut wor- Das Werkstück wird an der Oberfläche der Halterung den, um der Bedienungsperson eine einfache Finger- durch den Differenzdruck festgehalten, der an den betätigung zu ermöglichen. Der Ventilschaft 98 be- kleinen Öffnungen 129 auftritt, findet sich demgemäß an einer leicht für die Finger Die verschiebbare Plattform 26, die weitere Platterreichbaren Stelle. Die verschiebbare Plattform 26 50 form 56, der das zweite Werkstück aufnehmende kann in der gezeichneten Gestalt zur Aufnahme von Block 34 und die Halterung 44 für das zweite Werk-Werkstücken, insbesondere von mit Schaltungen ver- stück sind, wie bereits beschrieben, mit kleinen sehenen Filmen oder Platten dienen, die mit kurzen Teflonfüßen 28 versehen, die an ihrer einen Fläche Zuleitungen versehen sind. Handelt es sich dagegen nach außen vorstehen. Der wesentliche Vorteil dieser um Werkstücke mit langen Zuleitungen, so kann die 55 Füße 28 besteht darin, daß auf ein nasses oder Plattform mit Ausnehmungen oder Nuten versehen trockenes Schmiermittel zwischen den aufeinander werden, durch die die Leitungen in das U-förmige verschiebbaren Flächen verzichtet werden kann, weil Bett 54 hindurchragen. Diese Abwandlung ist nicht dem Teflon die Eigenschaft anhaftet, den Reibungsgezeichnet, koeffizienten wesentlich herunterzusetzen.
    In F i g. 6 ist der direkt von Hand betätigte, spiegel- 60
    tragende Halteblock 34, der bereits in F i g. 1 er- Patentansprüche: scheint, vergrößert wiedergegeben. Der Block enthält
    einen Zylinder 106 aus Metall mit einem Gewinde 1. Vorrichtung zum gegenseitigen Ausrichten 107, mindestens drei der kleinen schon erwähnten zweier Werkstücke, insbesondere Teilen der Mi-Teflonfüße 28 von geringer Oberfläche und minde- 65 kroschaltungstechnik, beispielsweise einer HaIbstens drei Teflonzapfen 108, die in das Gewinde 107 leiteranordnung und eines Schaltungsträgers mit greifen. Die Zapfen 108 sind gleichförmig über den leitenden Teilen in Form von Mustern, die in Umfang des Körpers 106 verteilt, und jedem ist eine bestimmter Relativstellung aufeinandergesetzt
    werden sollen, gekennzeichnet durch eine bewegliche Plattform (26) als Träger der Werkstücke (30, 40), eine auf der Plattform (26) beweglich gelagerte, durchsichtige, einseitig verspiegelte, planparallele Platte (20), deren nicht verspiegelte Fläche (18) das eine Werkstück (30) aufnimmt, ein Mikroskop (10) mit Fadenkreuz (12), dessen optische Achse die Flächen (18, 22) der planparallelen Platte (20) unter einem spitzen Winkel (i) schneidet und dessen Strahlengang nach Durchtritt durch die nicht reflektierende Fläche (18) von der reflektierenden Fläche (22) reflektiert wird und mit seinem Fadenkreuz (12 in F1) auf die nicht reflektierende Fläche (18) einstellbar ist, so daß bei Eintritt des ersten Werk-Stücks (30) in das Blickfeld des Mikroskops (10) das Muster dieses Werkstücks im Fadenkreuz (12) abgebildet wird, einen vertikal zu der planparallelen Platte (20) beweglichen Aufnehmer (36) zum Abheben des ersten Werkstücks (30) von der ao planparallelen Platte (20) nach dem Ausrichten in bezug auf das Fadenkreuz (12), eine Halterung (44) zur Aufnahme des zweiten Werkstücks (40), dessen Muster (42) in einer Ebene liegt, die parallel zu den Flächen (18, 22) der planparallelen Platte (20) verläuft und durch den nicht reflektierten Objektpunkt (F2) des Mikroskops (10) geht, wobei das zweite Werkstück (40) vermöge der Beweglichkeit der Plattform (26) nach dem Abheben des ersten Werkstücks (30) in das BHckfeld des Mikroskops (10) verschiebbar ist und die Halterung (44) das Muster (42) des zweiten Werkstücks (40) in bezug auf das Fadenkreuz (12) ausrichtet, worauf der Aufnehmer (36) das erste Werkstück (30) mit dem zweiten Werkstück (40) in bestimmter Relativlage der Muster (32, 42) beider Werkstücke in Berührung bringt.
  2. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch Mittel (46) zur Herstellung einer festen Verbindung zwischen den Werkstücken (30, 40) nach dem Ausrichten.
  3. 3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß zur Verbindung der Werkstücke (30, 40) ein Ultraschall-Schweißkopf vorgesehen ist.
    Hierzu 2 Blatt Zeichnungen 909530/216
DEH59979A 1965-07-21 1966-07-19 Vorrichtung zum gegenseitigen Ausrichten zweier Werkstuecke, insbesondere Teilen der Mikroschaltungstechnik Pending DE1299980B (de)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
US473610A US3357091A (en) 1965-07-21 1965-07-21 Device for aligning two objects and for mounting one to the other

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DE1299980B true DE1299980B (de) 1969-07-24

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ID=23880270

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DEH59979A Pending DE1299980B (de) 1965-07-21 1966-07-19 Vorrichtung zum gegenseitigen Ausrichten zweier Werkstuecke, insbesondere Teilen der Mikroschaltungstechnik

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DE (1) DE1299980B (de)
GB (1) GB1125084A (de)
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