[go: up one dir, main page]

DE1261608B - Hochfrequenz-Plasmagenerator - Google Patents

Hochfrequenz-Plasmagenerator

Info

Publication number
DE1261608B
DE1261608B DEJ29683A DEJ0029683A DE1261608B DE 1261608 B DE1261608 B DE 1261608B DE J29683 A DEJ29683 A DE J29683A DE J0029683 A DEJ0029683 A DE J0029683A DE 1261608 B DE1261608 B DE 1261608B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
hollow body
frequency
plasma generator
generator according
slot
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEJ29683A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Giuseppe Lisitano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Institut fuer Plasmaphysik GmbH
Original Assignee
Institut fuer Plasmaphysik GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Institut fuer Plasmaphysik GmbH filed Critical Institut fuer Plasmaphysik GmbH
Priority to DEJ29683A priority Critical patent/DE1261608B/de
Priority to LU52055A priority patent/LU52055A1/xx
Priority to BE688340D priority patent/BE688340A/xx
Priority to FR81761A priority patent/FR1499554A/fr
Priority to NL6615531A priority patent/NL6615531A/xx
Publication of DE1261608B publication Critical patent/DE1261608B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Description

  • Hochfrequenz-Plasmagenerator Die Erfindung betrifft einen Hochfrequenz-Plasmagenerator mit einer einen etwa rohrförinigen Hohlkörper bildenden Hochfrequenzleitung, deren eines Ende an einen Hochfrequenzgenerator angeschlossen ist.
  • Es ist bereits ein Mikrowellen-Plasmabrenner bekannt, der einen ein Magnetron enthaltenden Hochfrequenzgenerator enthält, welcher mit einer Koaxialleitung verbunden ist, die in eine Düse ausläuft, durch die ein Arbeitsgas ausströmt. Die Koaxialleitung ist ferner mit einem Abstimmglied (Kurzschlußschieber) versehen, um den Fußpunktleitwert der sich an der Düse ausbildenden Flammenzone an die Ausgangsimpedanz des Hochfrequenzgenerators anpassen zu können. Um mit einer solchen Anordnung eine Plasmaffamme erzeugen zu können, sind Mikrowellenleistungen von mindestens einigen hundert Watt erforderlich.
  • Es ist ferner bekannt, zur Erzeugung von Plasmen einen mit Hochfrequenz gespeisten und ein ionisierbares Medium enthaltenden Hohlraumresonator hoher Güte zu verwenden, der durch Hochfrequenz in einem Grundschwingungsmode erregt wird. Besonders günstige Anregungsbedingungen erhält man, wenn man im Hohlraumresonator zusätzlich noch ein magnetisches Gleichfeld erzeugt, das senkrecht auf der Richtung des elektrischen Feldes im Hohlraumresonator steht und bezüglich der Frequenz der dem Hohlraumresonator zugeführten Hochfrequenzenergie so bemessen ist, daß die Hochfrequenz mit der Elektronencyclotronfrequenz übereinstimmt, wobei e die Ladung und m. die Masse des Elektrons bedeuten.
  • Dieses bekannte Verfahren ist jedoch mit einer Reihe schwerwiegender Nachteile behaftet: Bei hohen Magnetfeldem werden die Abmessungen des Hohlraumresonators, die in der Größenordnung der der Elektronencyclotronfrequenz entsprechenden Wellenlänge liegen, für praktische Zwecke zu klein. Außerdem verstimmt das Plasma den Hohlraumresonator sehr stark, so daß zur Aufrechterhaltung einer das Plasma liefernden Gasentladung relativ hohe Hochfrequenzleistungen erforderlich werden, wenn die Resonanzfrequenz des Hohlraumresonators von der Elektronencyclotronfrequenz etwas abweicht.
  • Durch die Erfindung sollen diese Nachteile vermieden werden. Gleichzeitig soll der von einem hochfrequenten elektrischen Feld auf ein Plasma ausgeübte Druck nutzbar gemacht werden. Ein elektrisches Wechselfeld übt bekanntlich auf ein Plasma einen Radialdruck F, aus, der bei Vernachlässigung von Stoßeinflüssen durch die folgende Gleichung ausgedrückt werden kann: dabei bedeutet: w die anregende Frequenz, a)p die Plasmafrequenz, s. die Dielektrizitätskonstante des Plasmas, E die elektrische Feldstärke.
  • Diese Radialkraft kann bei -einer Plasmaquelle gemäß der Erfindung nutzbar gemacht werden, um das Plasma zu begrenzen und von den Bauelementen der Plasmaquelle fernzuhalten.
  • Ein Hochfrequenz-Plasmagenerator mit einer einen etwa rohrfönnigen Hohlkörper bildenden Hochfrequenzleitung, deren eines Ende an einen Hochfrequenzgenerator angeschlossen ist, ist gemäß der Erfindung dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlkörpers verbundene, mindestens einen mäanabwechselnd beim -einen und anderen Ende des Hohlkörpers verbundenen, mindestens einen mäanderförmigen Schlitzzug bildende Schlitze aufweist deren Länge wenigstens annähernd ein ganzes Vielfaches der halben Wellenlänge der in den Schlitzzug eingespeisten Hochfrequenzschwingungen ist.
  • Die hochfrequenzgespeiste Plasmaquelle gemäß der Erfindung hat gegenüber dem Stand der Technik eine Reihe von wesentlichen Vorzügen: Zur Erzeugung und Aufrechterhaltung eines Plasmas werden nur überraschend kleine Hochfrequenzenergien benötigt. Die Anordnung ist außerordentlich breitbandig, so daß das Plasma auch bei stark schwankender Frequenz der Hochfrequenzenergie und/oder Stärke des Magnetfeldes aufrechterhalten bleibt. Die Radialkräfte, die, von dem an der Wellenleiteranordnung entstehenden elektrischen Feld auf das Plasma ausa -s "eübt werden, gestatten das Plasma im Inneren de Hohlkörpers oder Zylinders zu konzentrieren, so daß die Erhitzung des Hohlkörpers durch das Plasma und Energieverluste durch Wandstöße gering gehalten werden. Bei geeigneter Wahl des Verlaufes des Magnetfeldes kann ein Plasmastrahl erzeugt oder eine zusätzliche axiale Einschließung des Plasmas erreicht werden.
  • Die Erfindung wird iin folgenden an Hand von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit der Zeichnung näher erläutert, es zeigt Fig. 1 eine perspektivische Ansicht der Wellenleiteranordnung eines ersten Ausführungsbeispiels der Erfindung, F i g. 2 eine abgewickelte Ansicht des zylindrischen Teile* der in F i g. 1 dargestellten Wellenleiteranordnung, F i g. 3 eine Darstellung der Feldverteilung in einer Ebene, die senkrecht auf der Achse Z der in F i g. 1 dargestellten zylindrischen Wellenleiteranordnung steht F i g. 4 eine F i g. 3 entsprechende Ansicht einer abgewandelten Ausführungsform der Erfindung, F i u. 5 eine Schnittansicht einer abgewandelten Anordnung zur Ankopplung der Wellenteiteranordnung an eine zu einer Hochfrequenzquelle führende Koaxialleitung, F i g. 6, 7 und 8 vereinfachte Axialschnittansichten weiterer Ausführungsformen der Erfindung, F i g. 9 eine etwa _F i g. 3 entsprechende Schnittansicht einer Ausführungsforin der Erfindung, die zwei konzentrische Wellenleiteranordnungen enthält, F i g. 10 eine schematische Darstellung eines O-Carcinotrons und F i g. 11 eine F i g. 9 entsprechende Schnittansicht eines Ausführungsbeispiels der Erfindung, bei der vom Prinzip der in F i g. 10 dargestellten Rückwärtswellenröhre (0-Carcinotrons) Gebrauch gemacht wird.
  • Die in Fig. 1 dargestellte Wellenleiteranordnung für eine hochfrequenzgespeiste Plasmaquelle enthält als wesentlichstes Bauteil einen zylindrischen Hohlkörper 1 aus einem. wenigstens oberflächlich leitenden Werkstoff. Der zylindrische Hohlkörper 1 ist in F i g. 2 längs einer in F i g. 1 gestrichelt gezeichneten Linie 3 geschnitten und in die Zeichenebene abgewickelt dargestellt. - Der Hohlkörper 1 weist eine Anzahl von Durchbrechungen in Form-von Schlitzen5a, 5b, 5c ... auf, die wenigstens -annähernd parallel zueinander und zur Achse7 des Zylindersl verlaufen und-jeweils etwa eine halbe Wellenlänge der erregenden Hochfrequenz lang sind. Der erste Schlitz-5 a ist etwas länger als die übrigen Schlitze und reicht bis zum unteren Rand 9 des zylindrischen Hohlkörpers :t, während die anderen Schlitze im Abstand vom unteren Rand 9 und oberen Rand 11 enden. Benachbarte Schlitze sind abwechselnd am oberen und unteren Ende durch längs des Umfangs des Hohlkörpers 1 verlaufende Verbindungsschlitze 13 a, 13 b, 13 c ... yerbunden, so daß sich ein mäanderförmiger Schlitzzug ergibt, der, wie i e> C usbesondere aus F i -. 2 ersichtlich ist, mit dem Schlitz Sa beginnt und mit dem letzten Schlitz 5 n endet.
  • Der beschriebenen Wellenleiteranordnung wird die zur Erzeugung des Plasmas dienende Hochfrequenzenergie an dem Ende des Schlitzes 5a zugeführt, das an den Rand 9 angrenzt. Hierzu dient eine Einkopplungsanordnung, die aus einer wenigstens oberflächlich leitenden Platte 15 (F i g. 1) besteht, die einen Radialschlitz 17 hat, der die Fortsetzung des Schlitzes 5a bildet. Der in F i g. 1 linke Rand 19 des Schlitzes 17 ist mit der einen Seite eines Hohlleiters 21 verbunden. Die Platte 15 ist hierzu mit einem Ansatz 23 versehen, dessen Breite anfänglich konstant ist und dann in Richtung auf einen Anschlußflansch 25 gegen Null abnimmt. Der Hohlleiter 21 ist derart schräg abgeschnitten, daß er an der Seite des Randes 19 des Schlitzes 17 am längsten und auf der gegenüberliegenden Seite am kürzesten ist. Am anderen Rand 29 beginnt sich der Schlitz 17 von dem in Achsrichtung des Hohlleiters 21 gerechneten Punkt, an dem die Schnittfläche 27 den Rand 19 erreicht, zu erweitern, bis die Mittelachse des Hohlleiters 21 -erreicht ist. Von da an verläuft der Rand 29 längs der Mittelachse ein Stück in den Hohlleiter hinein.
  • Auf der Seite des Randes 29 des Schlitzes 17 ist die Platte 15 mit einem Ansatz 31 versehen, dessen Breite, wie dargestellt, allmählich bis zu einer Spitze 33 auf Null abnimmt. Durch die dargestellte Anordnung wird ein praktisch reflexionsfreier übergang zwischen dem im Querschnitt kreisförmigen Hohlleiter 21 und dem durch den Schlitz 5 a gebildeten Eingang der aus dem Hohlkörper 1 bestehenden Wellenleiteranordnung gewährleistet. Selbstverständlich kann eine entsprechende Ankopplungsanordnung auch bei Verwendung eines Hohlleiters mit rechteckigem Querschnitt verwirklicht werden.
  • Die durch d#n geschlitzten Hohlkörper 1 gebildete Wellenleiteranordnung kann als eine Art Lecher-oder Parallel-»Draht«-Leitung angesehen werden, die nach jeweils A/2 um 1801 umgebogen worden ist. Bei einer -ewöhnlichen Paralleldrahtleitung wechselt die Richtung des elektrischen Feldes einer stehenden Welle auf der Leitung im Abstand von einer halben Wellenlänge um jeweils 1800. Im Gegensatz dazu sind bei einer Wellenleiteranordnung der in F i g. 1 und 2 dargestellten Art die elektrischen Feldvektoren an allen Schlitzen gleichgerichtet, wie durch die Pfeile in F i g. 3 dargestellt ist, die die elektrische Feldverteilung in einer zur Zylinderachse 7 senkrechten Ebene in einem bestimmten Augenblick zeigt. Die elektrischen Feldkomponenten, die von den einzelnen Schlitzen 5 ausgehen, wirken also auf die im Inneren des Hohlkörpers 1 befindlichen Elektronen alle gleichsinnig, so daß eine sehr wirkungsvolle Anregung der Elektronencyclotronfrequenz möglich ist, wenn ein parallel zur Achse 7 des Zylinders gerichtetes Magnetfeld H geeigneter Größe vorhanden ist, das durch irgendeine bekannte Anordnung erzeugt werden kann, z. B. einen zylindrischen, axial magnetisierten Permaneutmagneten oder eine Magnetspulenanordnung, wie sie in den F i g. 6 bis 8 dargestellt ist. Die in F i g. 1 dargestellte Anordnung kann für sich allein in einer Umgebung verminderten Drukkes, z. B. in einer in F i g. 1 nicht dargestellten Vakuumkammer oder im Weltraum, betrieben werden. Es ist jedoch auch möglich, koaxial zum Hohlkörper 1 einen entsprechend geformten, nicht durchbrochenen Hohlkörper 35 (F i g. 4) vorzusehen. Der C zylindrische Hohlkörper 35 endet unten im Abstand von der Platte 15 und kann dort mit einer entsprechenden Platte versehen sein, die im Abstand von der Platte 15 verläuft und am Ort der Kopplungsanordnung 17 bis 33 mit einer Aussparung versehen ist.
  • Die Feldverteilung in der durch den Hohlkörper 1 gebildeten Wellenleiteranordnung ähnelt der, die bei Anregung eines Resonanzhohlraumes mit der Grundschwingung im TE.i-Mode auftritt.
  • Die beschriebene Wellenleiteranordnung ist sehr breitbandig und erlaubt schon mit sehr geringen Hochfrequenzenergien, Plasmen zu erzeugen und aufrechtzuerhalten.
  • Bei einer praktischen Ausführungsform der Erfindung bestand der zylindrische Hohlkörper 1 aus einem Messingrohr mit einer Wandstärke von etwa 1 mm und einem Durchmesser von etwa 40 mm. Die Länge der Schlitze 5 betrug 120 mm, ihre Breite war 2 mm. Mit 10 Watt Hochfrequenzleistung einer Frequenz von 10 GIlz wurde in Wasserstoff, dessen Druck zwischen 1,5 -10-5 und 2.10-2 Torr geändert werden konnte, eine gut begrenzte Plasmasäule erhalten ', die sich länRs der Zylinderachse 7 üb--r die ganze Länge (1,8 m) des Vakuumgefäßes erstreckte. Die Plasmadichte wurde bei 4.10-4 Torr mit ungefähr 1011 em-3 gemessen.
  • Mit einem zylindrischen Wellenleiter der in F i g. 1. dargestellten Art und einem Durchmesser von 15 mm konnte in Wasserstoff im Druckbereich zwischen 8. 10-4 und 1,5 -10-3 Torr eine Plasmasäule erzeugt werden. Die Wellenleiteranordnung war für eine Wellenlänge von 24 cm entsprechend 1,25 GIlz ausgelegt, dabei konnte ein Plasma mit Hochfrequenzleistung -einer Frequenz zwischen 0,9 und 10 GHz erzeugt werden, wenn die Stärke des axialen Magnetfeldes auf einen Wert eingestellt wurde, der der Resonanz bei der Elektronencyclotronfrequenz entsprach.
  • Bei geeigneter Wahl der Frequenz und des Drukkes und Einstellung auf Resonanz konnte längs der Schlitze 5 deutlich eine Entladungsverteilung b,eobachtet werden, die einer stehenden Welle längs der Schlitze entsprach. Mit abnehmendem Neutralgasdruck und/oder zunehmender Eingangsleistung wird das Plasma mehr und mehr in das Innere des Hohlkörpers verdrängt, so daß sich schließlich die eingangs erwähnte scharf begrenzte Plasmasäule in der Zylinderachse ergibt. Versuchsweise wurde der ge- schlitzte Zylinder in einen magnetischen Spiegel (Spiegelverhältnis 2,5) eingesetzt. Das Plasma blieb scharf begrenzt und verläuft weitgehend längs der magnetischen Kraftlinien. Der magnetische Spiegel erweitert den Druckbereich, indem -ein Plasma bei gegebener Eingangsleistung erzielbar ist, er betrug dann 3 - 10-5 bis 2.10-2 Torr bei 60 Watt Dauerstrichleistung von 3 GIlz.
  • F i g. 5 zeigt, wie der Eingangsschlitz 5 a einer Wellenleiteranordnung der in F i g. 1 dargestellten Art an eine Koaxialleitung angekoppelt werden kann. Die Wellenleiteranordnung enthält wieder einen geschlitzten Hohlzylinder 1, wie er in F i g. 1 dargestellt ist, dessen unteres Ende mit einer leitenden Platte 15' verbunden ist. Die in erster Näherung kreisringförTnige Platte 15' ist in Fortsetzung des Eingangsschlitzes 5 a durch einen radialen Schlitz 17' aufgetrennt, und ihre radialen Abmessungen nehmen in der aus F i g. 5 ersichtlichen Weise von dem dem Schlitz 17" diametral gegenüberliegenden Teil 15 a zum Schlitz 17' hin in der in F i g. 5 dargestellten Weise ab. Der eine Rand 19' des Schlitzes 17' ist mit dem Innenleiter 41 und der andere Rand 29' mit einem schräg abgeschnittenen Außenleiter 43 verbunden. Der abgesehrägte Teil des Außenleiters verjüngt sich außerdem kegelstumpfartig in Richtung auf die Ansatzstelle des Schlitzes 5a. Die Koaxialleitung 41,. 43 kann in einer Anschlußkupplung 25' enden und vakuumdicht durch die Wand eines nur teilweise dargestellten Vakuumgefäßes 45 durchgeführt sein. Der Zwischenraum zwischen Innenleiter und Außenleiter kann durch einen oder mehrere Isolatoren 47 abgedichtet sein. Mit 49 ist eine Stütze angedeutet, die. die Platte 15' an der der Anschlußkupplung 25' gegenüberliegenden Seite des Vakuumgefäßes 45 abstützt.
  • F i g. 6 zeigt stark vereinfacht einen anderen Plasmagenerator. Er enthält eine Wellenleiteranordnung 1, die über eine Hochfrequenzleitung 51 mit einem Hochfrequenzgenerator 53 gekoppelt ist. Die Wellenleiteranordnung 1 ist in einem Vakuumgefäß 45 angeordnet, das mit einem Gaseinlaß 55 versehen ist und über eine Leitung 57 mit einer Vakuumanlage 59 verbunden ist. Das zylindrische Vakuumgefäß wird von einer Magnetspulenanordnung 61 umgeben, die aus einer Reihe von koaxialen, ringförmigen und gegebenenfalls wassergekühlten Magnetspulen besteht, die so bemessen und angeordnet sind, daß im Inneren 63 des Vakuumgefäßes 45 ein achsparalleles homogenes magnetisches Gleichfeld H herrscht. Im Betrieb entsteht eine Plasmasäule 65, die sich längs der Achse der Wellenleiteranordnung 1 über die ganze Länge des Vakuumgefäßes 45 erstreckt, die im vorliegenden Fall beispielsweise 180 cm betragen kann. Der Durchmesser des Vakuumgefäßes 45 betrug 21 cm.
  • Bei der in F i g. 7 dargestellten Ausführungsform ist die Magnetspulenanordnung 61' unsymmetrisch bezüglich der Wellenleiteranordnung 1 angeordnet. Das Magnetfeld ist daher am Ort der Wellenleiteranordnung 1 inhomogen, es divergiert in F i g. 7 nach links, wie durch die gestrichelten Linien angedeutet ist. Bei einer solchen Anordnung wird der Plasmastrahl aus der Wellenleiteranordnung 1 bevorzugt in Richtung abnehmender magnetischer Feldstärke ausgestoßen, wie durch einen Pfeil 65' angedeutet ist. Die Richtung des Plasmastrahles kann der des durch die Leitung 55 zugeführten Gasstromes gleichgerichtet oder entgegengesetzt gerichtet sein.
  • F i g. 8 zeigt eine Ausführungsforin, die zwei einander koaxial gegenüberliegende Anordnungen der in F i g. 7 dargestellten Art enthält. Die von den Wellenleiteranordnungen la, lb ausgestoßenen Plasmastrahlen65a, 65b sind wegen des durch die gestrichelten Linien angedeuteten Verlaufes des Magnetfeldes H, das in der Mitte zwischen den Plasmaquellen am schwächsten ist, aufeinander zu gerichtet, so daß in der Mitte der Anordnung ein gut begrenztes eingeschlossenes Plasma 65 c entsteht. Die Plasmaquellen la, 1 b können mit Hochfrequenzleistung gleicher oder verschiedener Frequenz ge-_ speist werden.
  • F i g. 9 zeigt eine Schnittansicht einer Wellenleiteranordnung, die zwei koaxial ineinander angeordnete geschlitzte Hohlkörper l', V' enthält. Die durch die zylindrischen Hohlkörper l', l" gebildeten Wellenleiteranordnungen werden über zwei Hochfrequenzleitungen 21', 21" mit Hochfrequenzleistung gespeist,- wie beispielsweise an. Hand von F i g. 1 und 4 erläutert wurde. Die Speisung kann mit Hochfrequenzleistung gleicher oder verschiedener Frequenz erfolgen. Bei ausreichend niedrigem Druck und genügend hoher Hochfrequenzleistung entsteht praktisch nur innerhalb der inneren Wellenleiteranordnung ein Plasma 65. Selbstverständlich können auch mehr als zwei koaxiale Wellenleiteranordnungen der in F i g. 1 dargestellten Art verwendet werden.
  • Durch die in F i g. 9 dargestellte, Verwendung mehrerer koaxialer Wellenleiteranordnungen läßt sich eine sehr hohe Leistungsdichte im Plasma 65 erzielen. Das an Hand von F i g. 9 erläuterte Prinzip kann selbstverständlich auch bei den anderen oben beschriebenen Ausführungsbeispielen angewendet werden.
  • F i g. 10 zeigt schematisch eine unter dem Namen O-Careinotron bekannte Rückwärtswellenröhre, die Ihnlich wie ein Magnetron zur Erzeugung elektronagnetischer Schwingungen dienen kann. Die Röhre 71 enthält ein Vakuumgefäß 73, in dem eine Art Jerzögerungsleitung angeordnet ist, die ein nicht Jurchbrochenes, inneres Element 75 und ein dieses konzentrisch umgebendes äußeres geschlitztes Element 77 enthält. Zwischen den Elementen 75, 77 der Verzögerungsleitung befinden sich eine Kathode 79 und eine Anode 81, die einen Elektronenstrahl 83 aussenden bzw. aufnehmen. Der Elektronenstrahl wird durch ein axiales Magnetfeld H auf eine Kreisbahn zwischen den Elementen 75, 77 gezwungen und erzeugt in der Wellenleiteranordnung elektromagnetische Schwingungen, die auf nicht dargestellte, bekannte Weise ausgekoppelt werden können.
  • Bei der in Fig. 11 dargestellten Ausführungsforrn wird die Hochfrequenzleistung zur Speisung der Plasmaquelle, bei dieser selbst durch einen Hochfrequenzgenerator erzeugt, der auf dem Prinzip eines Q-Carcinotrons arbeitet. Bei Fig. 11 ist die Anordnung jedoch gerade umgekehrt wie bei dem in F i g. 10 dargestellten bekannten Carcinotron, d. h., das nicht durchbrochene Element 75' der Wellenleitung liegt außen und umschließt das geschlitzte Element 77' konzentrisch. Zwischen den Elementen 75', 77 sind wieder eine Kathode 79' und eine Anode 81' angeordnet, die einen Elektronenstrahl 83' aussenden bzw. aufnehmen, der durch ein axiales Magnetfeld H auf eine Kreisbahn zwischen den Elementen 75', 77' gezwungen wird. KoaxW innerhalb des Elements 77' befindet sich nun noch eine Wellenleiteranordnung 1 der in F i g. 1 dargestellten Art, die durch die von der O-Carcinotron-Anordnung 75', 77', 79', 81' erzeugte Hochfrequenzleistung erregt wird, so daß im Inneren der Anordnung --in Plasma 65 entsteht.
  • Bei der in F i g. 11 dargestellten Ausführungsform ist keine Kopplungsleitung zwischen der O-Careinotron-Anordnung und der Wellenleiteranordnung 1 erforderlich, da sich das elektrische Feld, das sich in den Schlitzen des Verzögerungselementes 77' ausbildet, nach innen ausbreitet und die Wellenleitera-nordnung 1 erregt. Bei der Wellenleiteranordnung 1 in F i g. 11 hören daher beide Enden des Schlitzzuges im Abstand vor den Rändern des zylindrischen Hohlkörpers auf, wie es für den Schlitz 5 n in F i g. 2 dargestellt ist. Der erste Schlitz 5a geht also nicht bis zum Rand 9 durch, wie es in F i g. 2 gezeigt ist.
  • Bei allen oben beschriebenen Ausführungsbeispielen läßt sich das Plasma mit der geringsten Hochfrequenzenergie dann zünden, wenn die halbe Wellenlänge der erregenden Hochfrequenz gleich der Länge der Schlitze 5 (F i g. 1, 2) ist und das axiale Magnetfeld H so eingestellt ist, daß die Elektronencyclotronfrequenz gleich der erregenden Frequenz ist. Nach der Zündung kann die Stärke des Magrietfeldes gewünschtenfalls verringert werden, insbesondere bei höheren Hochfrequenzleistungen, was bei Verwendung von Elektromagneten aus Gründen des Leistungsverbrauchcs vorteilhaft ist.
  • Da die beschriebenen Wellenleiteranordnungen sehr breitbandig sind, kann die Schlitzlänge beträchtlich von der halben Wellenlänge der anregenden Hochfrequenz abweichen, wie oben bereits erwähnt wurde. Es ist merkwürdigerweise auch möglich, mit Hochfrequenzleistung zu arbeiten, deren Frequenz dem Doppelten der Elektronencyclotronfrequenz entspricht. Vermutlich läßt sich eine Anregung auch noch mit höheren Vielfachen der Elektronencyclo tronfrequenz und gegebenenfalls sogar mit Untervielfachen dieser Frequenz bewirken.
  • Der Abstand zwischen zwei benachbarten Schlitzen 5 (F i g. 1) kann in weiten Grenzen schwanken. An Stelle eines zylindrischen Hohlkörpers kann auch ein Hohlkörper anderer Form verwendet werden z. B. in Form einer Kegelstumpfmiantelfläche, eines Exponentialtrichters, eines Teiles einer Rotations-Ellipsoid-, Paraboloid- oder Hyperboloidfläche, Es können auch mehrere axial hintereinandergeschaltete Systeme verwendet werden, z. B. Systeme, wie sie in F i g. 1, 7, 9 und 11 dargestellt sind. Auch die in F i g. 8 dargestellte Anordnung kann durch weitere koaxiale Wellenleiteranordnungen ergänzt werden, die die Wellenleiteranordnungen. la, 1 b umfassen und/oder in axialem Abstand von diesen angeordnet sind.
  • Die Wellenleiteranordnung und die anderen leitenden Teile können aus irgendeinem geeigneten Werkstoff bestehen, der mindestens an der Oberfläche gut leiten soll. Beispiele sind Kupfer, Silber oder oberflächlich mit einem gut leitenden, z. B. aus Silber bestehenden Belag versehene Bauteile aus anderen Materialien, z. B. Keramik. Diese Materialien sollen vorzugsweise nicht feriomagnetisch sein, damit das axiale Magnetfeld nicht verzerrt wird. Es ist unter Umständen jedoch auch denkbar, den zylindrischen Hohlkörper aus einem Permamentmagnetmaterial herzustellen, so daß er sowohl als Wellenleiteranordnung wirkt als auch das in seinem Inneren benötigte axiale Magnetfeld liefert.
  • Wie aus der Hochfrequenztechnik bekannt, kann die Wellenleiteranordnung auch komplementär ausgebildet sein, d. h., an die Stelle eines Schlitzes kann leitender Werkstoff und umgekehrt treten.

Claims (1)

  1. Patentansprüche: 1. Hochfrequenz-Plasmagenerator mit einer einen etwa rohrförmigen Hohlkörper bildenden Hochfrequenzleitung, deren eines Ende an einen Hochfrequenzgenerator angeschlossen ist, d a - durch gekennzeichnet, daß der Hohlkörper(1) in Richtung der Rohrachse(7) verlaufende, abwechselnd beim einen und anderen Ende des Hohlkörpers verbundene, mindestens einen mäanderförmigen Schlitzzug bildende Schlitze (5) aufweist, deren Länge wenigstens annähernd ein ganzes Vielfaches der halben Wellenlänge der in den Schlitzzug eingespeisten Hochfrequenzschwingungen ist. 2. Plasmagenerator nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlkörper zylindrisch ist. 3. Plasmagenerator nach Ansprach 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlkörper kegelstumpfförmig ist. 4. Plasmagenerator nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlkörper die Form eines Exponentialtrichers hat. 5. Plasmagenerator nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Schlitz (5 a) eines der mäanderförmigen Schlitzzüge bis zum einen Rand (9) des Hohlkörpers (1) reicht und daß der letzte Schlitz (5n) im Abstand vor demselben Rand des Hohlkörpers neben dem ersten Schlitz (5a) endet. 6. Plasmaaenerator nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlkörper (1) an dem Rand (9), bis zu dem der erste Schlitz (5a) reicht, mit einer leitenden Platte (15) verbunden ist, die einen wenigstens annähernd radial verlaufenden Schlitz (17) in Fortsetzung des ersten Schlitzes (5 a) des Hohlkörpers (1) hat, der mit einer Hochfrequenzleitung (19) gekoppelt ist. 7. Plasmagenerator nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine Anordnung (61') zum Erzeugen eines Magnetfeldes mit axialer Komponente ein am Ort des Hohlkörpers inhomogenes Magnetfeld liefert. 8. Plasmagenerator nach Anspruch 7, gekennzeichnet durch zwei in Achsrichtung im Abstand voneinander koaxial angeordnete Hohlkörper (la, 1 b), die jeweils mit einer Anordnung (61 a, 61 b) zum Erzeugen von axial gerichteten Magnetfeldem versehen sind, deren Intensität in Richtung aufeinander abnimmt. 9. Plasmagenerator nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, gekennzeichnet durch mindestens zwei konzentrisch zueinander angeordnete Hohlkörper (Y, r'). 10. Plasmagenerator nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die geschlitzten Hohlkörper konzentrisch von einem nicht durchbrochenen, elektrisch leitenden Zylinder (35) umgeben sind. 11. Plasmagenerator nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der nicht durchbrochene Zylinder (35) zusammen mit dem angrenzenden Hohlkörper Teile eines Hochfrequenzgenerators nach Art einer Rückwärtswellenröhre bildet. 12. Plasmagenerator nach Ansprach 8, 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß alle Hohlkörper mit Hochfrequenzleistung gleicher Frequenz gespeist sind. 13. Plasmagenerator nach Anspruch 8, 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens zwei der Hohlkörper mit Hochfrequenzleistung verschiedener Frequenz gespeist sind. 14. Plasmagenerator nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Länge der Schlitze (5) gleich der halben Wellenlänge der anregenden Hochfrequenzschwingungen ist. In Betracht gezogene Druckschriften: Elektronische Rundschau, Nr. 11, 1959, S. 404 bis 406.
DEJ29683A 1965-12-22 1965-12-22 Hochfrequenz-Plasmagenerator Pending DE1261608B (de)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEJ29683A DE1261608B (de) 1965-12-22 1965-12-22 Hochfrequenz-Plasmagenerator
LU52055A LU52055A1 (de) 1965-12-22 1966-09-28
BE688340D BE688340A (de) 1965-12-22 1966-10-17
FR81761A FR1499554A (fr) 1965-12-22 1966-10-27 Source de plasma alimentée en haute fréquence
NL6615531A NL6615531A (de) 1965-12-22 1966-11-03

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEJ29683A DE1261608B (de) 1965-12-22 1965-12-22 Hochfrequenz-Plasmagenerator

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1261608B true DE1261608B (de) 1968-02-22

Family

ID=7203674

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEJ29683A Pending DE1261608B (de) 1965-12-22 1965-12-22 Hochfrequenz-Plasmagenerator

Country Status (5)

Country Link
BE (1) BE688340A (de)
DE (1) DE1261608B (de)
FR (1) FR1499554A (de)
LU (1) LU52055A1 (de)
NL (1) NL6615531A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3663858A (en) * 1969-11-06 1972-05-16 Giuseppe Lisitano Radio-frequency plasma generator

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1256686A (de) * 1969-08-22 1971-12-15
CA1159012A (en) * 1980-05-02 1983-12-20 Seitaro Matsuo Plasma deposition apparatus
FR2715019B1 (fr) * 1994-01-13 1996-04-05 Plasmion Dispositif pour former un plasma par application de micro-ondes afin de produire un faisceau d'ions.

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
None *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3663858A (en) * 1969-11-06 1972-05-16 Giuseppe Lisitano Radio-frequency plasma generator

Also Published As

Publication number Publication date
BE688340A (de) 1967-03-31
LU52055A1 (de) 1966-11-28
NL6615531A (de) 1967-06-23
FR1499554A (fr) 1967-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3421530C2 (de)
DE2439961C2 (de) Plasmalichtquelle
DE69518050T2 (de) Radiofrequenzplasmaquelle
DE2711278A1 (de) Einrichtung zum wirksamen ankoppeln von mikrowellenenergie an eine last
DE1807720B2 (de) Stehwellen-linearbeschleuniger
WO2019141337A1 (de) Mikrowellenplasmavorrichtung
DE68907048T2 (de) Verbesserte plasmawellen-röhre.
DE69024330T2 (de) Mikrowellenofenmagnetron mit einer Filterstruktur
DE909706C (de) Roehrenanordnung fuer ultrakurze Wellen
EP1203395B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur ionenstrahlbeschleunigung und zur elektronenstrahlimpulsformung und -verstärkung
DE1261608B (de) Hochfrequenz-Plasmagenerator
DE1491446A1 (de) Magnetron mit internem Magnet
DE1232659B (de) Mit einer Stroemung elektrisch geladener Teilchen in Wechselwirkung stehender Leitungsresonanzkreis und Laufzeitroehren mit Geschwindigkeitsmodulation sowie Protonenbeschleuniger mit solchen Leitungsresonanzkreisen
DE1179309B (de) Hochfrequenz-Ionenquelle
DE1765104A1 (de) Verfahren zur raschen Erhitzung elektrisch leitender Werkstoffe
DE69318137T2 (de) Erzeugung von geladenen teilchen
DE2645346C3 (de) Ionenquelle
DE1491350A1 (de) Mehrstrahl-Hochfrequenzgeraet
DE862786C (de) Verfahren zur Verbesserung der Wirkungsweise und zur Erweiterung der Anwendungsmoeglichkeiten von Magnetronroehren mit Resonanzhohlraeumen
DE3401087A1 (de) Elektronenentladungs-oszillator mit gekreuzten feldern
DE2454458C3 (de) Hochfrequenz-Plasmatriebwerk
DE3605735A1 (de) Vorrichtung zur erzeugung kurzer elektronen- ionen- oder roentgenimpulse mit hohem richtstrahlwert
DE2450131C3 (de) Stehwellen-Linear-Beschleuniger
WO2008151335A1 (de) Vorrichtung zur erzeugung von plasma oder radikalen mittels mikrowellen
DE3923277C2 (de)