[go: up one dir, main page]

DE1255850B - Kryopumpenanordnung zur Erzeugung eines hohen Vakuums - Google Patents

Kryopumpenanordnung zur Erzeugung eines hohen Vakuums

Info

Publication number
DE1255850B
DE1255850B DEB75009A DEB0075009A DE1255850B DE 1255850 B DE1255850 B DE 1255850B DE B75009 A DEB75009 A DE B75009A DE B0075009 A DEB0075009 A DE B0075009A DE 1255850 B DE1255850 B DE 1255850B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
auxiliary gas
cryopump
condensation
arrangement according
condensation surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DEB75009A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Ernst A Trendelenburg
Dr Juergen Hengevoss
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OC Oerlikon Balzers AG
Original Assignee
Balzers AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Balzers AG filed Critical Balzers AG
Publication of DE1255850B publication Critical patent/DE1255850B/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B37/00Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
    • F04B37/06Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
    • F04B37/08Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Description

  • Kryopumpenanordnung zur Erzeugung eines hohen Vakuums Die Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung zur Erzeugung eines hohen Vakuums durch Bindung der Gasmoleküle an einer tiefgekühlten Fläche. Derartige Anordnungen werden im nachfolgenden kurz als Kryopumpen, die tiefgekühlten, die abzupumpenden Gase bindende Flächen als Kryofiächen bezeichnet.
  • Bei der Temperatur von 4,2° K - dem Siedepunkt des flüssigen Heliums bei Atmosphärendruck - oder bei noch tieferen Temperaturen haben fast alle Gase Dampfdrücke unter etwa 10-15 Torr. Lediglich die Dampfdrücke von Helium und von Wasserstoff sind noch von meßbarer Größe. In Vakuumapparaturen stört das aus der atmosphärischen Luft herrührende Helium, dessen Partialdruck nach dem Evakuieren meist vernachlässigbar gering ist, im allgemeinen nicht. Anders liegen die Verhältnisse bei Wasserstoff. Da Wasserstoff bekanntlich einen wesentlichen Bestandteil der Restatmosphäre in Vakuumapparaturen unterhalb 10-s Torr darstellt und sein Sättigungsdampfdruck bei 4,2° K in der Größenordnung von 10-s Torr liegt, scheint es, daß mit Kryoflächen, die durch siedendes Helium gekühlt werden, Ultrahochvakua prinzipiell nicht erreichbar sind. An einer Kryofläche können nämlich nur solche Gase kondensieren, deren Partialdruck größer ist als ihr Sättigungsdampfdruck bei der Kondensatortemperatur.
  • Es läßt sich nun auf drei verschiedene Weisen erreichen, daß eine mit flüssigem Helium gekühlte Fläche auch unterhalb 10-7 Torr eine Pumpwirkung auf den Wasserstoff ausübt.
  • 1. Man nutzt die Adsorptionswirkung (im Gegensatz zur Kondensation) an einer tiefgekühlten Oberfläche aus. Hierzu muß diese Oberfläche zuvor durch gründliches Ausheizen von anhaftenden Fremdschichten befreit worden sein. Unmittelbar nach dem Abkühlen werden dann die auftreffenden Wasserstoffmoleküle adsorbiert. Erst wenn sich die Oberfläche mit einer Schicht von adsorbierten Wasserstoffmolekülen bedeckt hat, beginnt die Kondensation. Da im allgemeinen die Bindungsenergie bei der Adsorption größer ist als bei der Kondensation, sind auch die Gleichgewichtsdrücke für die Adsorption kleiner als für die Kondensation. Eine mit unter Atmosphärendruck siedendem Helium (4,2°K) gekühlte Oberfläche kann daher auch unterhalb 10-7 Torr eine Pumpwirkung auf Wasserstoff ausüben. Die Zeitdauer dieser Pumpwirkung ist jedoch sehr begrenzt.
  • 2. Tiefere Temperaturen als 4,2° K könnten zwar durch Verdampfung eines Heliumbades bei Unterdruck mittels Abpumpen erreicht werden, jedoch ist ein Kryopumpverfahren um so unwirtschaftlicher, je tiefer die Arbeitstemperatur ist. 3. Man kann den Effekt des sogenannten »Cryotrapping« ausnutzen.
  • Es ist bekannt, daß mit flüssigem Stickstoff gekühlte Oberflächen (77°K) in Gegenwart von Wasserdampf auch auf bei dieser Temperatur nicht kondensierbare Gase eine Pumpwirkung ausüben. Offenbar werden deren Moleküle in das kondensierende Eis des Wasserdampfes eingebaut. Andere Autoren fanden, daß Wasserstoff in Gegenwart von Stickstoff von einer Oberfläche, welche sich auf 20° K befindet, gepumpt wird. Bei diesen Versuchen war der Wasserstoff als Verunreinigung von 10 ppm dem Stickstoff beigemischt.
  • Es ist auch schon bekannt, in ein zu evakuierendes System ein Hilfsgas in dosierter Menge einzuleiten, das mit einem nur schlecht ausfrierbaren Gas eine Reaktion eingeht, deren Produkt leicht ausgefroren werden kann. Es gibt aber nur wenige Fälle, in denen eine solche chemische Reaktion zur Verfügung steht, so daß dieses Verfahren zur Beseitigung schwer kondensierbarer Gase nur selten angewendet werden kann.
  • Es ist Ziel der Erfindung, das Verfahren des »Cryotrapping« sowohl für das Pumpen von Wasserstoff als auch für das Abpumpen von beliebigen Gasen mittels Kryopumpen auch in jenen Fällen wesentlich zu verbessern, in denen an sich hinreichend kalte Kryoflächen bereitgestellt werden könnten, so daß in letztgenanntem Fall mit höheren Temperaturen der pumpenden Flächen gearbeitet werden kann, weil dies den Wirkungsgrad und die Wirtschaftlichkeit des Betriebs der Kälteanlagen außerordentlich verbessert.
  • Das »Cryotrapping«, soweit es bekannt ist, hat den wesentlichen Nachteil, daß der im Rezipienten benötigte Druck des Hilfsgases in der gleichen Größenordnung liegt wie der Druck des zu pumpenden Restgases. Man kann daher mit dieser Methode zwar den Partialdruck eines störenden Restgases stark erniedrigen, hat aber den Hilfsgasdruck in Kauf zu nehmen. Oder man kann den Hilfsgasdruck niedrig halten, erzielt damit jedoch nur eine geringfügige Verbesserung der Pumpwirkung der Kryofläche auf das Restgas. Ein entsprechend hoher Hilfsgasdruck erscheint daher unvermeidlich, dennoch gelingt es der Erfindung, den schädlichen Einfluß des Hilfsgases auf das Vakuum im Rezipienten gering zu halten.
  • Die obengenannte Aufgabe wird bei einer Kryopumpanordnung zur Erzeugung eines hohen Vakuums in einem Rezipienten durch Kondensation des zu beseitigenden Gases und gleichzeitige Kondensation eines Hilfsgases an einer tiefgekühlten Fläche erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß eine vor der Kondensationsfläche in den zu evakuierenden Raum mündende Hilfsgaszuführungsleitung vorgesehen ist, wobei der Abstand zwischen der Mündung der Hilfsgaszuführungsleitung und der Kondensationsfläche geringer ist, als der mittleren freien Weglänge der Hilfsgasmoleküle in der Restgasatmosphäre vor der Kondensationsfläche entspricht.
  • Durch die Einführung eines Hilfsgases in das zu evakuierende System unter den vorstehend genannten räumlichen Bedingungen wird die Wahrscheinlichkeit des Auftreffens der Hilfsgasmoleküle auf die Kryofläche größer als die Wahrscheinlichkeit des Ruftreffens auf die Wandung des angeschlossenen Rezipienten. Dadurch wird der größere Teil des Hilfsgases an der Kryofläche kondensiert, bevor er Gelegenheit hat, in den Rezipienten zu gelangen und dort das Vakuum zu verschlechtern.
  • Insbesondere werden bei Beschießen der Kryofläche mit einem Strahl des Hilfsgases auch Zusammenstöße zwischen den Molekülen des Hilfsgases und dem abzupumpenden Restgas im wesentlichen vermieden. Dadurch verringert sich die Streuung der Hilfsgasmoleküle in den zu evakuierenden Raum, so daß das Ziel der Erfindung noch besser erreicht wird.
  • Ein Beispiel einer erfindungsgemäßen Kryopumpanordnung wird an Hand der Zeichnung näher erläutert.
  • F i g. 1 zeigt im Schnitt eine Vakuumanlage, bestehend aus einem zu evakuierenden Rezipienten und einer mit diesem verbundenen Kryopumpanordnung; F i g. 2 zeigt in einem vergrößerten Ausschnitt aus F i g. 1 die gegenseitige Anordnung der Kryofläche und der Hilfsgaszuführungsleitung.
  • 1 bezeichnet den zu evakuierenden Rezipienten, z. B. einen Kessel mit Bodenteil 2 und Deckel 3. An den Flansch 4 ist - symbolisch dargestellt - eine Pumpeinrichtung konventioneller Art - z. B. bestehend aus einer Diffusionspumpe 5 mit Ventil 6 und einer mechanischen Vorpumpe 7 - angeschlossen, die dazu dient, den Rezipienten auf ein geeignetes Ausgangsvakuum von etwa 10-5 bis 10-s Torr zu bringen. Das Bodenteil 2 des Rezipienten ist als Anschlußflansch für die Kryopumpe ausgebildet, die in dem Gehäuse 9 untergebracht ist. Diese weist im wesentlichen ein wendelförmiges, großflächiges Metallband 10 auf, das durch ein mit ihm wärmeleitend verbundenes, von einem Kältemittel z. B. von flüssigem Helium durchströmtes Kühlrohr 11 tiefgekühlt wird und die eigentliche Kryofläche für die abzupumpenden Gase darstellt. Dieser Kryofläche steht in geringem Abstand ein wendelförmiges Rohr 12 gegenüber, welches eine größere Anzahl von der Kondensationsfläche zugewandten Bohrungen 13 aufweist. Durch dieses Rohr 12 wird beim Betrieb ein bei der Temperatur der Kryofläche leicht kondensierbares Hilfsgas unter niedrigem Druck zugeführt, so daß es durch die Bohrungen 13 ausströmt und auf die gegenüberliegende Kryofläche auftritt. Die nötigen Hilfseinrichtungen zur Bereitstellung des Hilfsgases und zur Einstellung des Hilfsgasdruckes im Rohr 12 sind konventioneller Art und werden daher nicht näher beschrieben.
  • Der wesentliche Teil der Pumpanordnung ist in F i g. 2 vergrößert dargestellt. Das als Kryofläche dienende Metallband 10 weist vorteilhafterweise ein solches Profil auf, daß auch diejenigen Moleküle bzw. Atome des Hilfsgases, welche unter dem größtmöglichen Winkel (nahezu tangential zur Wand des Rohres 12) aus den Öffnungen 13 austreten, noch auf Stellen 14 der Kryoflächen aufprallen.
  • Die beschriebene Kryopumpanordnung ist in an sich bekannter Weise nach außen hin durch tiefgekühlte Wände gegen Wärmeeinstrahlung abgeschirmt. Die Abschirmung wird durch einen metallenen Mantel 15 (oder mehrere solche Mäntel) gebildet, welcher durch das von einem Kühlmittel - z. B. flüssigem Stickstoff - durchströmte Kühlrohr 16 gekühlt wird.
  • In dem beschriebenen Ausführungsbeispiel ist auf der dem Rezipienten zugewandten Seite ferner ein aus Winkelblechen 17 aufgebautes, den zu evakuierenden Rezipienten von der Kryopumpe trennendes Strömungshindernis vorgesehen, das den Zutritt der abzupumpenden Gase aus dem Rezipienten in die Kryopumpe ermöglicht, die direkte Wärmeeinstrahlung aus dem Rezipienten in die Pumpe verhindert und auch dazu beiträgt, daß die Wahrscheinlichkeit des Ruftreffens von Hilfsgasmolekülen auf die Kryofläche größer ist als die Wahrscheinlichkeit des Ruftreffens auf Teile der Wandung des Rezipienten 1. Hilfsgasmoleküle nämlich, welche infolge mangelnder Kondensation (bei einer Haftwahrscheinlichkeit < 1) oder infolge Zusammenstoßes unter sich oder mit Molekülen des Restgases gesteuert werden und in Richtung auf den Rezipienten zufliegen, werden durch das Strömungshindernis 17 am unmittelbaren Eindringen in denselben gehindert und erhalten - in das Pumpengehäuse zurückreflektiert - die Chance, dort bei einem folgenden Stoß auf die Kryofläche zu kondensieren. Zweckmäßig ist es auch, das Strömungshindernis selbst als Kühlfalle mit einer Temperatur zu ausbilden, welche die in die Falle eintretenden Hilfsgasmoleküle kondensieren läßt.
  • Da die Abstände zwischen der Kryofläche und der Mündung der Hilfsgaszuführungsleitung bei der gezeichneten Konstruktion besonders klein sind, ist die Bedingung für die mittlere freie Weglänge der Hilfsgasmoleküle in der Restgasatmosphäre leicht zu erfüllen. Diese mittlere freie Weglänge ist bekanntlich um so größer, je geringer der Druck der Restgasatmosphäre ist. Ist der Abstand zwischen der Kryofläche und der Hilfsgasmündung vorgesehen, errechnet sich daraus das mit den Hilfspumpen 6 und 7 herzustellende Ausgangsvakuum nach bekannten Formeln bzw. kann bei vorgegebenem Ausgangsvakuum der nötige Abstand ermittelt werden.
  • Ein weiterer Faktor, der die Streuung des Hilfsgases mitbestimmt, ist die Zahl der Zusammenstöße der Hilfsgasmoleküle unter sich. Diese ist abhängig von der Stärke des Hilfsgasstrahles, d. h. von der Dichte des Hilfsgases im Strahl. Auch diese Größe kann durch Einstellen des Hilfsgasdruckes im Rohr 12 leicht passend gewählt werden: der nötige Druck liegt in der Größenordnung des im Rezipienten erforderlichen Ausgangsvakuums.
  • Die optimale Einstellung des Drucks im Rohr 12 ist empirisch zu ermitteln und daran zu erkennen, daß der mit dem Ultrahochvakuummanometer 19 gemessene Druck sich bei Änderung der Hilfsgaszufuhr nicht mehr verringern läßt. Mehr Hilfsgas als nötig soll nicht verwendet werden. Ist der Druck des Hilfsgases im Rohr 12 geringer als der optimale Druck, verschlechtert sich die Wirksamkeit der Kryofläche, ist er aber größer, dann wird sie ziemlich schnell mit einer Schicht gefrorenen Hilfsgases bedeckt, welche durch ihre wärmeisolierende Wirkung die weitere Bindung von Restgasmolekülen behindert und damit die ohne Unterbrechung mögliche Betriebszeit verkürzt.
  • Es empfiehlt sich, während der ersten Phase der Evakuierung - also während der Rezipient und das Pumpgehäuse durch die Pumpen 5 und 7 vorevakuiert werden - die Kühlmittel noch nicht anzuwenden, sondern, wenn möglich, das ganze zu evakuierende System und damit alle eingebauten Teile (durch hier nicht zu beschreibende Heizvorrichtungen) auf eine Temperatur von etwa 450°C zu erhitzen, um die an den Innenwänden und an den Einbauteilen noch anhaftenden größeren Gasmengen möglichst weitgehend zu desorbieren und abzupumpen. Erst nach dieser Vorentgasung und Wiederabkühlung des Rezipienten soll die Kryopumpeinrichtung in Betrieb gesetzt werden, worauf nach Absperren des Ventils 6 eine rasche Druckerniedrigung eintritt.
  • Wird nun das Hilfsgasregelventil etwas geöffnet und also durch das Rohr 12 und die Öffnungen 13 eine geringe Menge Hilfsgas in den Rezipienten eingeführt, dann erzielt man eine nochmalige ganz erhebliche Druckerniedrigung.
  • Das Prinzip, das am Beispiel des Abpumpens von Wasserstoff mittels Argon als Hilfsgas zur Herstellung eines Ultrahochvakuums erläutert wurde und in erster Linie eben für diesen Fall wichtig ist, weil für andere Gase genügend tiefere Temperaturen der Kryoflächen verwirklicht werden können, hat eine weitergehende Bedeutung. Grundsätzlich können zum Abpumpen irgendeines Restgases als Hilfsgase alle Stoffe verwendet werden, deren Dampfdruck bei der Temperatur der Kryofläche nicht größer ist als der im Rezipienten angestrebte Enddruck. So können zum Abpumpen von Wasserstoff an Stelle von Argon die im Betrieb billigeren Gase Kohlenmonoxyd, Wasserdampf oder auch Gemische wie Luft verwendet werden. In jedem Fall kommt es darauf an, ein Hilfsgas zu benutzen, das bei dem nötigen Hilfsgasdruck und der Temperatur der Kryofläche sicher kondensiert, während diese Forderung für das abzupumpende Gas oft nicht erfüllt ist; denn man kann - wie das ausführlich beschriebene Beispiel Wasserstoff-Argon zeigt - auch Gase binden, die bei den im Bereich der Kryofläche vorherrschenden Druck- und Temperaturverhältnissen an sich überhaupt nicht mehr zu kondensieren vermögen. Aber auch in nicht so extremen Fällen, d. h. mit Druck- und Temperaturverhältnissen, bei denen an sich eine Kondensation noch eintritt, jedoch wegen der geringen Haftwahrscheinlichkeit der auftreffenden, zu bindenden Moleküle einen schlechten Wirkungsgrad aufweist und daher nur langsam, d. h. mit geringer Pumpgeschwindigkeit vor sich geht, kann die erfindungsgemäße Anordnung nützlich sein, indem sie die Pumpgeschwindigkeit wesentlich erhöht, ohne daß die pumpende Fläche vergrößert oder deren Temperatur erniedrigt werden müßte.
  • Die erfindungsgemäße Anordnung ermöglicht es, bei richtiger Wahl der Art des Hilfsgases für die abzupumpenden Gase einen Kondensationskoeffizienten von nahezu 1 zu erreichen.
  • In weiterer Ausgestaltung der Erfindung kann so verfahren werden, daß der Einlaß des Hilfsgases - z. B. das Beschießen der Kryofläche mit den Molekülen bzw. Atomen desselben - intermittierend durchgeführt wird, wobei der intermittierende Einlaß bzw. Beschuß durch den Druck in dem zu evakuierenden Raum gesteuert werden kann.
  • Da zur Unterstützung der Pumpwirkung der Kryofläche nur eine bestimmte, je nach Größe derselben und je nach Restgasverhältnissen wechselnde Menge des Hilfsgases nützlich ist, wobei die optimale Menge, wie oben erwähnt, leicht durch Versuche im Einzelfall vorher ermittelt werden kann, empfiehlt es sich, die Stärke des Hilfsgasstrahles so einzuregeln, daß die Zahl der im Mittel pro Zeiteinheit auf die Kryofläche auftreffenden Hilfsgasmoleküle in einem festen vorgewählten Verhältnis zur Zahl der auf die Kryofläche auftreffenden Moleküle des abzupumpenden Gases steht.
  • Die Kryofläche braucht selbstverständlich nicht eine wendelförmige Fläche wie im Ausführungsbeispiel zu sein, sondern kann z. B. auch irgendeinen Teil der Rezipientenwandlung bilden. Bei großen Vakuumkesseln, die aus Gründen der mechanischen Stabilität meist Zylinderform aufweisen, kann die Kondensationsfläche als Teil der Innenfläche des Zylindermantels ausgebildet sein, wobei dann zweckmäßigerweise mehrere radial nach allen Richtungen strahlende Hilfsgaszuführungsleitungen im Innern des Kessels (etwa in der Zylinderachse) vorgesehen werden. Oft kann die erfindungsgemäße Anordnung auch mit vorhandenen Vakuumanlagen mit Kryofläche verwirklicht werden, indem an passender Stelle eine Hilfsgaszuführungsleitung angebracht wird.
  • Die zur Kühlung der Kryofläche und zur Bereitstellung der Kühlmedien nötigen Hilfseinrichtungen sind allgemein bekannt und werden an dieser Stelle nicht beschrieben.

Claims (7)

  1. Patentansprüche: 1. Kryopumpanordnung zur Erzeugung eines hohen Vakuums in einem Rezipienten durch Kondensation des zu beseitigenden Gases und gleichzeitige Kondensation eines Hilfsgases an einer tiefgekühlten Fläche, d a d u r c h g e k e n n -zeichnet, daß eine vor der Kondensationsfläche (10) in den zu evakuierenden Raum mündende Hilfsgaszuführungsleitung (12) vorgesehen ist, wobei der Abstand zwischen der Mündung (13) der Hilfsgaszuführungsleitung (12) und der Kondensationsfläche (10) geringer ist, als der mittleren freien Weglänge der Hilfsgasmoleküle in der Restgasatmosphäre vor der Kondensationsfläche entspricht.
  2. 2. Kryopumpanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hilfsgaszuführungsleitung (12) in dem zu evakuierenden Raum derart ausgebildet ist, daß der beim Betrieb aus ihr austretende Hilfsgasstrahl auf die Kondensationsfläche (10) zu gerichtet ist.
  3. 3. Kryopumpanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Mittel zur sebsttätigen Regelung der zugeführten Mlfsgasmenge in Abhängigkeit von dem in dem zu evakuierenden Raum herrschenden Druck vorgesehen sind.
  4. 4. Kryopumpanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Mittel zur intermittierenden Zuführung des Hilfsgases vorgesehen sind.
  5. 5. Kryopumpanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Raum vor der Kondensationsfläche (10), in welchen die Hilfsgaszuführungsleitung (12) mündet, vom übrigen zu evakuierenden Raum durch eine Kühlfalle (17, 18) getrennt ist.
  6. 6. Kryopumpanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kondensationsfläche als wendelförmiges Metallband (10) ausgebildet ist.
  7. 7. Kryopumpanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hilfsgaszuführungsleitung als ein der Kondensationsfläche gegenüberstehendes Rohr (12) ausgebildet ist, welches an seiner der Kondensationsfläche zugewandten Seite Bohrungen (13) für den Austritt des Hilfsgases aufweist. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschriften Nr. 1096 538, 1097 616; deutsches Gebrauchsmuster Nr. 1715 389.
DEB75009A 1963-01-24 1964-01-15 Kryopumpenanordnung zur Erzeugung eines hohen Vakuums Withdrawn DE1255850B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT1255850X 1963-01-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1255850B true DE1255850B (de) 1967-12-07

Family

ID=3687844

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEB75009A Withdrawn DE1255850B (de) 1963-01-24 1964-01-15 Kryopumpenanordnung zur Erzeugung eines hohen Vakuums

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1255850B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2821276A1 (de) * 1977-05-16 1978-11-23 Air Prod & Chem Kryopumpe

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1715389U (de) * 1953-08-21 1956-01-19 Heraeus Gmbh W C Anordnung and ausbildung von kondensationsflaechen in vakuumverbindungsleitungen, die zur verhinderung der rueckdiffusion organischer oeldaempfe in die zu evakuierenden raeume dienen.
DE1096538B (de) * 1960-03-12 1961-01-05 Heraeus Gmbh W C Verfahren zur Vakuumerzeugung
DE1097616B (de) * 1958-12-04 1961-01-19 Leybolds Nachfolger E Vorrichtung zur Erzeugung eines Hochvakuums, vorzugsweise eines Utrahochvakuums

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1715389U (de) * 1953-08-21 1956-01-19 Heraeus Gmbh W C Anordnung and ausbildung von kondensationsflaechen in vakuumverbindungsleitungen, die zur verhinderung der rueckdiffusion organischer oeldaempfe in die zu evakuierenden raeume dienen.
DE1097616B (de) * 1958-12-04 1961-01-19 Leybolds Nachfolger E Vorrichtung zur Erzeugung eines Hochvakuums, vorzugsweise eines Utrahochvakuums
DE1096538B (de) * 1960-03-12 1961-01-05 Heraeus Gmbh W C Verfahren zur Vakuumerzeugung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2821276A1 (de) * 1977-05-16 1978-11-23 Air Prod & Chem Kryopumpe

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69216277T2 (de) Evakuierungssystem und -verfahren
DE2821276C2 (de) Kryopumpe
DE2914181A1 (de) Vakuumtrockenverfahren und -vorrichtung fuer stueck- oder schuettgut
DE1934938C3 (de) Hochvakuumpumpanordnung
DE1628440A1 (de) Verfahren zur schnellen Verminderung des Druckes eines Gasgemisches innerhalb einer Kammer und Vakuumsystem zur Durchfuehrung dieses Verfahrens
EP2060662A2 (de) MBE-Einrichtung und Verfahren zu deren Betrieb
DE69510132T2 (de) Vakuumkammer für Ultrahochvakuumbehandlung bei hoher Temperatur
LU84424A1 (de) Verfahren,vorrichtung und regelanordnung zum aufarbeiten von hartmetallschrott durch legieren
DE69817775T2 (de) Verfahren zur verbesserung eines vakuums in einem hochvakuumsystem
DE20321795U1 (de) Vorrichtung zum Reinigen wenigsten einer Prozesskammer zum Beschichten wenigstens eines Substrats
DE69409555T2 (de) Turbomolekularpumpe
DE1255850B (de) Kryopumpenanordnung zur Erzeugung eines hohen Vakuums
DE1136448B (de) Hochvakuum-Pumpverfahren und Anordnung zur Ausfuehrung des Verfahrens
AT242409B (de) Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung eines hohen Vakuums
CH411211A (de) Verfahren und Einrichtung zur Erzeugung eines hohen Vakuums
DE1905058B2 (de) Vorrichtung fuer die beschichtung von werkstuecken durch hochfrequenzplasmazerstaeubung von werkstoffen im vakuum
DE3635941C2 (de)
DE19500019A1 (de) Evakuierbare und mit Sprühwasserduschen versehene Kühlkammer zum Abkühlen von metallischem Wärmebehandlungsgut
DE1019047B (de) Kuehlfalle fuer Hochvakuumpumpen
CH621366A5 (de)
DE4336035A1 (de) Verfahren zum Betrieb einer Kryopumpe sowie Vakuumpumpensystem mit Kryopumpe und Vorpumpe
US3037685A (en) Method for pumping gases at low vacuum pressures
DE1017741B (de) Hochvakuumpumpe mit Kondensator
EP0705907B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Abkühlen von Werkstücken durch Gase
EP2884824B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Kleinteilen mittels Plasma

Legal Events

Date Code Title Description
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
EHJ Ceased/non-payment of the annual fee