DE1255492B - Kontaktraster fuer Reproduktionszwecke und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents

Description

DEUTSCHES WTTWl- PATENTAMT

AUSLEGESCHRIFT

DeutscheKl.: 57 d-8/02

Nummer: 1 255 492

Aktenzeichen: M 57522IX a/57 d

J 255492 Anmeldetag: 17.Juli 1963

Auslegetag: 30. November 1967

Die Erfindung betrifft einen Kontaktraster für Reproduktionszwecke und ein bevorzugtes Verfahren zu seiner Herstellung.

Es sind Kontaktraster für Reproduktionszwecke bekannt, welche ein Linienmuster aus einzelnen Punkten aufweisen, die jeweils die Form eines zentralen Kernes mit einem Mittelpunkt maximaler Dichte haben. Bei diesen bekannten Kontaktrastern ist die Schärfe der Reproduktion von der Anzahl der Rasterpunkte pro Flächeneinheit abhängig.

Die Erfindung hat die Schaffung eines Kontaktrasters für Reproduktionszwecke zum Ziel, welcher bei gleicher Anzahl von Rasterpunkten pro Flächeneinheit eine schärfere Wiedergabe als die bekannten Kontaktraster gewährleistet.

Hierzu sieht die Erfindung vor, daß die Punkte des Rasters einen zentralen Kern hoher Dichte aufweisen, der von einem schachbrettartigen Muster umgeben ist, in welchem Flächenelemente minimaler Dichte mit Flächenelementen abwechseln, deren Dichte mit wachsendem Abstand von dem zentralen Kern abnimmt. Die Rasterpunkte des erfindungsgemäßen Kontaktrasters weisen also eine Feinstruktur auf, die bei der Reproduktion von Linienelementen insofern von Vorteil ist, als die im gerasterten Bild erzeugten Rasterpunkte in Richtung des Linienelementes deformiert sind und dieses somit schärfer wiedergeben als die mit einem herkömmlichen Kontaktraster erzeugten, in ihrer Form durch ein wiederzugebendes Linienelement nicht merklich beeinflußten Rasterpunkte. Bevorzugt ist die Ausbildung des erfindungsgemäßen Kontaktrasters so, daß in der Mitte jedes von vier benachbarten Rasterpunkten gebildeten Quadrats eine zusammenhängende Fläche minimaler Dichte liegt, die eine Mehrzahl von Flächenelementen umfaßt. Vorzugsweise umfaßt auch der zentrale Kern eine Mehrzahl von Flächenelementen.

Die Erfindung hat auch ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Kontaktrasters mit Hilfe einer beleuchteten Lochblende und eines im Abstand von einer lichtempfindlichen Schicht angeordneten Kreuzlinienrasters zum Gegenstand. Dieses Verfahren verläuft erfindungsgemäß derart, daß in einem Belichtungsschritt eine Lochblende verwendet wird, die wenigstens eine zentrale, größere öffnung und eine Vielzahl kleiner Öffnungen aufweist, und daß in einem zweiten Belichtungsschritt eine Blende verwendet wird, die eine Anzahl von Öffnungen in Form von konzentrischen Banden aufweist, deren Breite von der Mitte zu den Rändern der Blende abnimmt.

Kontaktraster für Reproduktionszwecke
und Verfahren zu seiner Herstellung

Anmelder:

Herbert Middlemiss,

Nottingham, Nottinghamshire;

W. H. Howson Limited,

Leeds, Yorkshire (Großbritannien)

Vertreter:

Dr. W. Müller-Bore und Dipl.-Ing. H. Gralfs,
Patentanwälte, München 22, Robert-Koch-Str. 1

Als Erfinder benannt:
Herbert Middlemiss,

Nottingham, Nottinghamshire (Großbritannien)

Beanspruchte Priorität:

Großbritannien vom 17. Juli 1962 (27 340)

Die Erfindung wird im folgenden beispielsweise an Hand der Zeichnung beschrieben; in dieser zeigt

Fig. 1 eine schematische Darstellung eines Ausschnittes eines Kontaktrasters gemäß der Erfindung,

F i g. 2 einen etwas vergrößerten Ausschnitt des in F i g. 1 dargestellten Rasters,

F i g. 3 ein Diagramm der Dichteverteilung jedes Rasterpunktes in Abhängigkeit von seiner Breite,

F i g. 4 eine schematische perspektivische Wiedergabe der Anordnung zur Erzeugung eines erfindungsgemäßen Rasters beim ersten Belichtungsschritt,

F i g. 5 eine der F i g. 4 entsprechende Darstellung zur Veranschaulichung der Bildung mehrerer Rasterpunkte und

Fig. 6 eine schematische perspektivische Darstellung der beim zweiten Belichtungsschritt verwendeten Anordnung.

Fig. 1 zeigt einen Ausschnitt eines erfindungsgemäßen Kontaktrasters. Jeder Rasterpunkt weist einen zentralen KernE auf, der von einer Anzahl rechteckiger Flächenelemente F umgeben ist. Die Dichte des zentralen Kernes und der Flächenelemente F nimmt mit wachsender Entfernung von dem Mittelpunkt des zentralen Kernes ab. Diese Abnahme ist in der Schwarzweißzeichnung nicht erkennbar; in Wirklichkeit hat jedoch das Flächenelement an jeder Ecke eines Rasterpunktes eine derart geringe

709 690/306

Claims (2)

Dichte, daß er nicht reproduziert wird, so daß Bereiche minimaler Dichte mit gleicher Gestalt wie die zentralen Kerne zwischen benachbarten Rasterpunkten vorliegen. Die Dichteverteilung eines Punktes El gemäß dem Schnitt 3-3 in F i g. 2 ist in F i g. 3 gezeigt. Jedes der Flächenelemente ist durch ein Bezugszeichen B 3 bis B 9 angedeutet. Der zentrale Kern setzt sich aus den drei FlächenelementenB3, B4 und 55 zusammen. Er ist auf dem Raster praktisch undurchsichtig. Das Flächenelement B 4 bildet den Mittelpunkt maximaler Dichte. Die Flächenelemente B 6 und B1 liegen zu beiden Seiten des zentralen Kernes. Ihre Dichte ist erheblich geringer als die des zentralen Kernes selbst. Die Flächenelemente B 8 und B 9 haben wiederum eine geringere Dichte. Man erkennt, daß die Dichteverteilung zwischen jedem dieser Flächenelemente ein Minimum aufweist. Diese Dichteverteilung ist wesentlich für die Wirksamkeit des Rasters. Fig. 2 veranschaulicht, wie das Muster durch ao Zuordnung zweier Grundmuster von Punkten und Flächenelementen erzielt wird, von denen das eine mehr Linien pro Längeneinheit und Flächenelemente von geringerer Fläche hat als das andere, dessen Punkte den Kernen der Rasterpunkte entsprechen. Bei dem Raster nach F i g. 2 sind mit A und A1 bzw. C und Cl zwei der weiter entfernten Linien bezeichnet, von denen 133 pro Zoll (54 Linien/cm) vorliegen. Die bei A, Al angedeuteten Linien werden im rechten Winkel von den gleichen Abstand aufweisenden Linien C, Cl geschnitten. Die Linien C, Cl, A, Al schneiden sich in PunktenE, El, El, £3. Die den Orten maximaler Dichte entsprechenden Zentren der Punkte der einen größeren Abstand aufweisenden Linien liegen also bei E, El, E2, E3. Diesem durch die Linien C, Cl, A, Al angedeuteten Grundraster ist die zweite Rasteranordnung überlagert, weiche aus einen engeren Abstand aufweisenden Linien und Flächenelementen von wesentlich geringerer Fläche als die Rasterpunkte aufgebaut ist. Die zweite Rasteranordnung weist 931 Linien pro Zoll (375 Linien/cm) auf. Acht dieser Linien sind mit F bis F 7 bezeichnet. Acht der senkrecht zu den Linien F bis Fl angeordneten Linien sind mit H bis H 7 bezeichnet. Die Linien des größeren Rasters (z. B. A, Al, C, Cl) fallen jeweils mit Linien des kleineren Rasters (z. B. F, F7, H, H7) zusammen. Die Flächenelemente der einen engen Abstand aufweisenden Linien ergeben zusammen die Dichte-Schattierung, die normalerweise einen vignettierten Rasterpunkt auf einem Raster mit 133 Linien pro Zoll umgibt, wobei, obwohl im großen eine allmähliche Schattierung von einem Punkt zum nächsten vorliegt, ein Dichteminimum zwischen zwei benachbarten Flächenelementen vorhanden ist. Der in den Fig. 1, 2 und 3 dargestellte Raster kann durch Anwendung der in den Fig. 4 bis 6 gezeigten Anordnungen hergestellt werden. Nach F i g. 4 fällt das Licht einer Lichtquelle K durch eine Blende L, die aus einer undurchsichtigen, mit einem Muster von Öffnungen versehenen Platte besteht. Diese Löcher entsprechen den umgebenden Flächenelementen und dem Kern eines einzigen Rasterpunktes auf dem Kontaktraster. In Fig. 4 sind mit B3' bis B 9' diejenigen öffnungen der Blende bezeichnet, welche die Flächenelemente B 3 bis B 9 nach F i g. 2 erzeugen. Ein Teil eines Kreuzlinienrasters, z. B. eines photographischen Rasters, ist bei M wiedergegeben. Das Muster, das auf das lichtempfindliche Material projiziert wird, ist mit N bezeichnet. In dieser Figur ist zwischen den Linien des photographischen Rasters M eine der Öffnungen angedeutet. Es ist zu erkennen, daß das Muster von der BlendeL durch die dargestellte Öffnung in dem RasterM auf das lichtempfindliche Material übertragen wird. Da in dem photographischen Raster M tatsächlich eine Mehrzahl von Öffnungen gemäß F i g. 5 vorgesehen ist, werden entsprechend viele Muster bei N projiziert. Zur Vereinfachung ist in Fig. 5 nur die zentrale Öffnung der Blende L, die B 4 entspricht, gezeigt. Wenn also genügend viele Öffnungen in dem RasterM vorgesehen sind, kann ein Kontaktraster der gewünschten Größe erzeugt werden. Das auf diese Weise in dem lichtempfindlichen Material erzeugte latente Bild zeigt jedoch noch nicht die erforderliche Dichteverteilung der Flächenelemente von dem Kern zum Rand jedes Rasterpunktes. Es wird daher zunächst mit geringer Dichte hergestellt und anschließend durch den im folgenden beschriebenen zweiten Belichtungsschritt abermals belichtet, wobei die Dichteverteilung der Flächenelemente gemäß Fig. 3 hergestellt wird. Um die Dichte der Flächenelemente gemäß F i g. 3 zu erhalten, wird der Film im Anschluß an den ersten Belichtungsschritt an seiner Stelle belassen, und die BlendeL nach Fig. 4 wird durch eine BlendeO gemäß F i g. 6 ersetzt. Diese Blende O ist mit einer Reihe von Öffnungen in Form von konzentrischen Banden P versehen, deren Breite von der Mitte zu den Rändern der Blende abnimmt. Außerdem ist diese Blende um die optische Achse um einen Winkel von 45° gegenüber der Lage der Blende L verdreht, so daß, wenn Licht durch die zweite Blende auf den Raster M fällt, sich der Grundstruktur auf dem lichtempfindlichen Material ein Bild geringer Dichte von einem Punkt überlagert, welcher einem normalen Rasterpunkt eines 133-Linien-Rasters mit normaler Vignettierung entspricht. Auf diese Weise wird die Dichteverteilung der Flächenelemente gemäß F i g. 3 erzielt, und die Dichteminima zwischen den Punkten B3, B4 und B5 nach Fig. 3 werden beträchtlich angehoben, um den zentralen Kern zu bilden, welcher ein Zentrum maximaler Dichte und Seiten abnehmender Dichte aufweist. In Fig. 6 sind die Punkte eines 133-Linien-Rasters von normaler Vignettierung bei Q angedeutet. Selbstverständlich kann der erfindungsgemäße Raster auch auf andere Weise hergestellt werden; insbesondere ist es möglich, die Blende L so auszubilden, daß sie mehr als einen Grundpunkt umfaßt. Auch kann der Kontaktraster in jeder gewünschten Farbe erzeugt werden. Patentansprüche:

1. Kontaktraster für Reproduktionszwecke, dadurch gekennzeichnet, daß die Punkte des Rasters einen zentralen Kern hoher Dichte aufweisen, der von einem schachbrettartigen Muster umgeben ist, in welchem Flächenelemente minimaler Dichte mit Flächenelementen abwechseln, deren Dichte mit wachsendem Abstand von dem zentralen Kern abnimmt.

2. Kontaktraster nach Anspruch 1 mit quadratisch angeordneten Rasterpunkten, dadurch gekennzeichnet, daß in der Mitte jedes von vier