DE1249630B

DE1249630B - Process for the galvanic deposition of thin ferromagnetic! · Coatings made of nickel-iron alloys

Info

Publication number: DE1249630B
Application number: DET32595A
Authority: DE
Inventors: Ulm/Donau Dipl.-Chem. Dr. Josef Jostan
Original assignee: Telefunken Patentverwertungs GmbH
Current assignee: Telefunken Patentverwertungs GmbH
Priority date: 1966-11-26
Publication date: 1967-09-07
Also published as: GB1199421A; US3594290A

Description

INDESREPUBLIK DEUTSCHLANDINDESREPUBLIC OF GERMANY

DEUTSCHESGERMAN

PATENTAMTPATENT OFFICE

AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL

Int. Cl.: Int. Cl .:

C23bC23b

Deutsche Kl.: 48 a-5/32 German class: 48 a -5/32

Nummer: 1 249 630Number: 1 249 630

Aktenzeichen: T 32595 VI b/48 aFile number: T 32595 VI b / 48 a

Anmeldetag: 26. November 1966Filing date: November 26, 1966

Auslegetag: 7. September 1967Opened on: September 7, 1967

C250 3-58C250 3-58

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung dünner ferromagnetischer Speicherschichten auf galvanischem Weg.The invention relates to a method for producing thin ferromagnetic storage layers on galvanic Path.

Dünne magnetische Schichten eignen sich wegen ihrer hohen Schaltgeschwindigkeit zur Informationsspeicherung in elektronischen Datenverarbeitungsanlagen oder zu den verschiedensten Schaltzwecken. Um solche Filme praktisch verwenden zu können, werden von ihnen eine Vorzugsrichtung der Magnetisierung, eine möglichst quadratische Hysteresisschleife in der leicht magnetisierbaren, kurz auch leicht genannten Richtung und eine möglichst geschlossene Hysteresischarakteristik in der schwer magnetisierbaren oder kurz schwer genannten Richtung und eine niedrige Koerzitivkraft verlangt. Außerdem spielt die wirtschaftliche Herstellung solcher Schichten für ihren Einsatz eine große Rolle.Thin magnetic layers are suitable for storing information because of their high switching speed in electronic data processing systems or for a wide variety of switching purposes. In order to be able to use such films in practice, a preferred direction of magnetization is determined from them, a hysteresis loop that is as square as possible in the easily magnetizable, in short also easy mentioned direction and a hysteresis characteristic that is as closed as possible in the difficult to magnetize or, for short, difficult direction and a low coercive force. Also plays the economic production of such layers plays a major role in their use.

Von den bisher bekanntgewordenen Verfahren zur Herstellung dünner Legierungsschichten aus Nickel— Eisen der bevorzugten Zusammensetzung von 81°/o Nickel und 19°/₀ Eisen liefern nur das Vakuumaufdampfverfahren und die galvanische Abscheidung brauchbare Schichten. Da die Aufdampfmethode jedoch einen großen apparativen Aufwand erfordert und größere Flächen oder zylindrische Substrate nur unter zusätzlichen technischen Schwierigkeiten gleichmäßiger Schichtdicke und homogener Zusammensetzung bedampft werden können, ist dieses Verfahren unwirtschaftlich und für eine serienmäßige Fertigung von Speichermatrizen ungeeignet. Demgegenüber hat die galvanische Abscheidung dünner Permalloyschichten in technologischer Sicht nur Vorteile aufzuweisen. Das Problem eines metallisch leitenden, extrem glatten Substrats, wie es für die elektrolytische Herstellung von Speicherschichten erforderlich ist, kann auf einfache Weise dadurch gelöst werden, daß man Glasträger chemisch metallisiert oder das Glas nur als Muttermatrize verwendet und nach einem galvanoplastischen Verfahren die Glasoberfläche reproduziert. Of the previously known process for producing thin layers of nickel-iron alloy of the preferred composition of 81 ° / o nickel and 19 ° / ₀ iron only the vacuum deposition, and electroplating layers provide useful. However, since the vapor deposition method requires a large amount of equipment and larger areas or cylindrical substrates can only be vaporized with additional technical difficulties of uniform layer thickness and homogeneous composition, this process is uneconomical and unsuitable for the serial production of memory matrices. In contrast, the electrodeposition of thin permalloy layers has only advantages from a technological point of view. The problem of a metallically conductive, extremely smooth substrate, as is necessary for the electrolytic production of storage layers, can be solved in a simple manner by chemically metallizing the glass carrier or by using the glass only as a master matrix and reproducing the glass surface using a galvanoplastic process.

Dünne Permalloyschichten, die auf solch glatten Substraten auf galvanischem Wege niedergeschlagen wurden, besitzen jedoch meist nicht die gewünschten magnetischen Eigenschaften. Denn die verwendeten galvanischen Bäder, die Nickel und Eisen als Kationen in einem bestimmten Mengenverhältnis enthalten, liefern Permalloyfilme, deren Zusammensetzung mit der Schichtdicke variiert. Jede Inhomogenität der Schicht bewirkt jedoch eine Veränderung — meist eine Verschlechterung — ihres magnetischen Verhaltens. Man hat daher versucht, durch Verbesserung des Elektrolyten und durch genaue Kontrolle der Verfahren zum galvanischen Abscheiden dünner ferromagnetischer Überzüge aus Nickel-Eisen-Legierungen Thin permalloy layers that are deposited galvanically on such smooth substrates but usually do not have the desired magnetic properties. Because they used galvanic baths that contain nickel and iron as cations in a certain proportion, provide permalloy films, the composition of which varies with the thickness of the layer. Any inhomogeneity of the However, the layer causes a change - usually a deterioration - in its magnetic behavior. Attempts have therefore been made by improving the electrolyte and by precisely controlling the Process for the galvanic deposition of thin ferromagnetic coatings made of nickel-iron alloys

Anmelder:
TelefunkenApplicant:
Telefunken

Patentverwertungsgesellschaft m. b. H.,
Ulm/Donau, Elisabethenstr. 3Patentverwertungsgesellschaft mb H.,
Ulm / Danube, Elisabethenstr. 3

Als Erfinder benannt:Named as inventor:

Dipl.-Chem. Dr. Josef Jostan, Ulm/DonauDipl.-Chem. Dr. Josef Jostan, Ulm / Danube

Abscheidungsbedingungen dünne Nickel-Eisen-Filme mit reproduzierbaren magnetischen EigenschaftenDeposition conditions for thin nickel-iron films with reproducible magnetic properties

ao herzustellen. Durch bestimmte Elektrolytzusätze, wie Thioharnstoff, Alkalihypophosphit und Alkaliarsenit, die als Komplexbildner oder Reduktionsmittel den Abscheidungsmechanismus von Nickel und Eisen beeinflussen, konnten weitgehend homogene Schichten mit verbesserten magnetischen Eigenschaften erzeugt werden. Ähnliche Ergebnisse wurden durch gleichzeitige Abscheidung geringer Mengen Kupfer, Kobalt oder Molybdän aus einem neben Nickel- und Eisenauch Kupfer-, Kobaltsalze oder Molybdate enthaltenden galvanischen Bad erzielt. Die Ergebnisse dieser Versuche sind jedoch noch nicht völlig befriedigend, da diese Bäder nicht stabil sind, sondern an der Luft der Oxydation einzelner Bestandteile unterliegen, so daß eine laufende Badkontrolle unumgänglich ist.ao to manufacture. Due to certain electrolyte additives, such as thiourea, alkali hypophosphite and alkali arsenite, acting as complexing agents or reducing agents, the deposition mechanism of nickel and iron influence, were able to produce largely homogeneous layers with improved magnetic properties will. Similar results were obtained by the simultaneous deposition of small amounts of copper and cobalt or molybdenum from one containing not only nickel and iron but also copper, cobalt salts or molybdates galvanic bath achieved. However, the results of these experiments are not yet completely satisfactory, since these baths are not stable, but are subject to the oxidation of individual components in air, so that an ongoing bath control is essential.

Außerdem sind die bisher bekanntgewordenen Permalloyschichten, in die zu geringen Prozentsätzen Schwefel, Phosphor oder andere Elemente eingebaut sind, sehr korrosionsanfällig und unterliegen demzufolge starken Alterungseffekten.In addition, the previously known permalloy layers are in the low percentages Sulfur, phosphorus or other elements are built in, are very susceptible to corrosion and are therefore subject to them strong aging effects.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein auf galvanischem Wege arbeitendes Herstellungsverfahren für dünne ferromagnetische Schichten aus Nickel-Eisen-Legierungen anzugeben, das zu Schichten mit guten magnetischen Eigenschaften und befriedigendem Schaltverhalten führt, die gegen Korrosion weitgehend beständig sind und deshalb eine höhere Lebensdauer aufweisen, und das keinen zusätzlichen Arbeitsaufwand verlangt.The invention is therefore based on the object of a production method that works by electroplating for thin ferromagnetic layers made of nickel-iron alloys to specify the layers with good magnetic properties and satisfactory switching behavior that leads against corrosion are largely stable and therefore have a longer service life, and no additional ones Workload required.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß ein galvanisches Bad verwendet wird, das neben Nickel- und Eisensalzen Selenverbindungen enthält.According to the invention this object is achieved in that an electroplating bath is used which contains selenium compounds in addition to nickel and iron salts.

709 640/457709 640/457

3 43 4

Das erfindungsgemäße Verfahren bietet außer der Salpetersäure — im Gegensatz zu reinen Nickel-Vermeidung der obenerwähnten Nachteile der bekann- Eisen-Filmen — kaum angegriffen. Die Ätzmöglichten Verfahren den Vorteil, daß man schon mit sehr keit der erfindungsgemäß hergestellten Schichten geringen Mengen an selenhaltigen Zusätzen zum Elek- wird dadurch jedoch nicht eingeschränkt. Sie können trolyten auskommt und das Elektrolysebad sehr stabil 5 z. B. mit einer 5°/_oigen Eisen(III)-chloridlösung ohne ist. Schwierigkeit geätzt werden.Apart from nitric acid, the process according to the invention offers hardly any attack - in contrast to pure nickel avoidance of the above-mentioned disadvantages of the known iron films. The etching methods have the advantage that, with the layers produced according to the invention, small amounts of selenium-containing additives to the electrolyte are not restricted. You can get by trolyte and the electrolytic bath is very stable 5 z. B. is a 5 ° / _o by weight of iron (III) chloride without. Difficulty being etched.

Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren her- Dünne magnetische Schichten hängen in ihren Eigengestellten dünnen Schichten zeichnen sich durch eine schäften relativ stark von ihrer Dicke ab. Das Schaltnahezu quadratische Hysteresisschleife in der leichten verhalten ist bei sehr dünnen Schichten unter UmRichtung, eine nahezu geschlossene Hysteresischarak- io ständen besser, als bei dickeren. Erfindungsgemäß teristik in der schweren Richtung, durch Schaltzeiten wurden über einen weiten Schichtdickenbereich von im Nanosekundenbereich sowie durch eine geringere etwa 500 bis zu 2000 Ä gute Resultate erhalten. Koerzitivkraft H₀ und eine geringere Anisotropiefeld- Während reine Nickel-Eisen-Schichten, die auf galvastärke Hk gegenüber gleich dicken Filmen ohne Selen- nischem Weg erzeugt wurden, erst oberhalb einer gehalt aus. Außerdem sind die nach dem erfindungs- 15 Dicke von etwa 1200 Ä vergleichbare Eigenschaften gemäßen Verfahren erzeugten Filme wesentlich be- besitzen,
ständiger gegen Korrosion. Das Verhältnis von Nickel zu Eisen in der SchichtThe thin magnetic layers produced by the method according to the invention depend in their own thin layers are characterized by a shaft relatively strongly from their thickness. The switching almost square hysteresis loop in the light behavior is with very thin layers under reversal, an almost closed hysteresis character would be better than with thicker layers. According to the invention, teristics in the difficult direction, through switching times, good results were obtained over a wide layer thickness range of in the nanosecond range and through a lower one, approximately 500 to 2000 Å. Coercive force H ₀ and a lower anisotropy field, while pure nickel-iron layers, which were produced with galva thickness Hk compared to films of the same thickness without a selenium path, only have a content above one. In addition, the films produced according to the method according to the invention, having a thickness of about 1200 Å, have properties that are substantially comparable,
more resistant to corrosion. The ratio of nickel to iron in the layer

Entsprechend einer bevorzugten Ausführungsform variiert entsprechend der Konzentrationen der beidenAccording to a preferred embodiment, the concentrations of the two will vary accordingly

der Erfindung wird das Selen in seiner vierwertigen Kationen im Elektrolysebad. Die besten magnetischenAccording to the invention, the selenium is in its tetravalent cations in the electrolysis bath. The best magnetic

Form dem Bad zugesetzt. Der für die Durchführung 20 Eigenschaften der abgeschiedenen dünnen SchichtForm added to the bath. The one for carrying out 20 properties of the deposited thin layer

des erfindungsgemäßen Verfahrens einzuhaltende pH- wurden bei dem erfindungsgemäßen Verfahren beithe pH to be observed in the process according to the invention were in the process according to the invention

Wert liegt unter 3, vorzugsweise zwischen 2,0 und einem Verhältnis Ni²⁺: Fe²⁺ zwischen 98:2 undThe value is below 3, preferably between 2.0 and a ratio Ni ²⁺ : Fe ²⁺ between 98: 2 and

2,8 pH-Einheiten. Eine bevorzugte Form, in der das 97: 3 erzielt. Dies ergibt einen Eisengehalt in den2.8 pH units. A preferred form in which that scores 97: 3. This gives an iron content in the

Selen in dem Bad vorliegen kann, ist das Selenition abgeschiedenen dünnen Schichten zwischen 16 undSelenium may be present in the bath, the selenite ion is deposited in thin layers between 16 and

SeO₃ ^2-. Es kann dem Elektrolyten als Selendioxid 25 23%·SeO ₃ ^2- . It can be added to the electrolyte as selenium dioxide 25 23%

SeO₂, Selenige Säure H₂SeO₃ oder deren Salze, z. B. Bei einem speziellen Ausführungsbeispiel der Er-SeO ₂ , selenious acid H ₂ SeO ₃ or salts thereof, e.g. B. In a special embodiment of the

als Natriumselenit Na₂SeO₃-XH₂O, zugegeben werden. findung wurden Bäder verwendet, die
Es lassen sich jedoch auch andere Verbindungen desas sodium selenite Na ₂ SeO ₃ -XH ₂ O, are added. baths were used to find the
However, other connections of the

Selens verwenden. Nickelsulfat (NiSO₄ · 6H₂O) .. 218 g/lUse selenium. Nickel sulfate (NiSO ₄ · 6H ₂ O) .. 218 g / l

Bei Durchführung des erfindungsgemäßen Verfah- 30 Ammoniumeisen(II)-sulfatWhen carrying out the process according to the invention, ammonium iron (II) sulfate

rens kann entweder die Elektrolysestromstärke oder das [(NH₄)₂Fe(SO₄)₂ · 6H₂O] .... 6,8 bis 10,5 g/lrens can either be the electrolysis current or the [(NH ₄ ) ₂ Fe (SO ₄ ) ₂ · 6H ₂ O] .... 6.8 to 10.5 g / l

Abscheidungspotential konstant gehalten werden, d. h. Borsäure (H₃BO₃) 10 bis 30 g/lDeposition potential must be kept constant, ie boric acid (H ₃ BO ₃ ) 10 to 30 g / l

also, daß man sowohl galvanostatisch als auch poten- Natriumchlorid (NaCl) 10 bis 30 g/lSo that you can both galvanostatically and poten- sodium chloride (NaCl) 10 to 30 g / l

tiostatisch arbeiten kann. Dies schließt jedoch eine . 1, 'can work tiostatically. However, this includes one. 1, '

gewollte Änderung der kathodischen Stromdichte oder 35 ^Sacchann (C₆H₄SO₂NHCO) ... 0,8 g/l ^Deliberate change in the cathodic current density or 35 Sacchann (C ₆ H ₄ SO ₂ NHCO) ... 0.8 g / l

des Kathodenpotentials während der Elektrolyse nicht Natriumlaurylsulfatof the cathode potential during electrolysis is not sodium lauryl sulfate

aus. Von Vorteil ist es weiter, die Kathode während [CH₃(CH₂)_nOSO₃]Na 0,4 g/lthe end. It is also advantageous to use the cathode during [CH ₃ (CH ₂ ) _n OSO ₃ ] Na 0.4 g / l

der galvanischen Abscheidung einem starken homo- Natriumselenit (31 °/₀ Se)the galvanic deposition of a strong homo-sodium selenite (31 ° / ₀ Se)

genen Magnetfeld auszusetzen, dessen Kraftlinien (Na₂SeO₃ ■ 4H₂O) 0,08 bis 1,5 g/lexposure to a magnetic field whose lines of force (Na ₂ SeO ₃ ■ 4H ₂ O) 0.08 to 1.5 g / l

parallel zur Kathodenoberfläche verlaufen. Es kommt 40run parallel to the cathode surface. It's coming 40

dann in besonders hohem Maße zur Ausbildung einer enthielten. Es wurde bei einem pH-Wert zwischenthen contained to a particularly high degree for the training of a. It was at a pH between

uniaxialen Anisotropie der Magnetisierbarkeit der 2,0 und 2,8, vorzugsweise bei 2,5, gearbeitet. Dieuniaxial anisotropy of magnetizability of 2.0 and 2.8, preferably 2.5, worked. the

abgeschiedenen dünnen Schicht. Badtemperatur betrug konstant 20⁰C. Auf eine Be-deposited thin layer. Bath temperature was constant 20 ⁰ C. On a loading

Zur weiteren Erläuterung der Erfindung sei nach- wegung des Elektrolyten oder der Kathode wurdeTo further explain the invention, the electrolyte or the cathode is moved

stehend auf ein praktisches Ausführungsbeispiel des 45 verzichtet. Als Anode wurden Bleche aus Platin,standing on a practical embodiment of the 45 is dispensed with. Sheets of platinum were used as the anode,

erfindungsgemäßen Verfahrens näher eingegangen. Nickel oder Nickel und Eisen verwendet. Als KathodeMethod according to the invention discussed in more detail. Nickel or nickel and iron used. As a cathode

Als Elektrolysebad wurde eine Lösung verwendet, und Substrat für die ferromagnetische Schicht dienteA solution was used as the electrolytic bath, and the substrate for the ferromagnetic layer was used

die 0,02 bis 2,00 g Natriumselenit enthielt. Optimale ein im Vakuum zuerst mit Chrom und dann mitwhich contained 0.02 to 2.00 g of sodium selenite. Optimal one in a vacuum first with chrome and then with

Ergebnisse wurden bei Gehalten von 0,08 bis 1,5 g Gold bedampftes Glasplättchen mit einer FlächeThe results were from 0.08 to 1.5 g gold evaporated glass flakes with a surface

Natriumselenit pro Liter Lösung erzielt. Dies ent- 50 von etwa 4 cm². Gute Ergebnisse wurden auch mitSodium selenite achieved per liter of solution. This corresponds to about 4 cm ² . Good results have also been obtained with

spricht einem Selengehalt des Bades zwischen 0,04 sehr glatten Substraten erzielt, die nach folgendemspeaks a selenium content of the bath between 0.04 achieved very smooth substrates, which according to the following

und 0,8 g Selen pro Liter Lösung. Verfahren hergestellt wurden. Eine in einer Zinn(II)-and 0.8 g selenium per liter of solution. Procedures were established. One in a tin (II) -

Erfindungsgemäß wird der pH-Wert des Bades chloridlösung sensibilisierte und in einer Palladium(II> während der Abscheidung unter dem Wert 3 und chloridlösung aktivierte Glasplatte wurde stromlos vorzugsweise zwischen 2,0 und 2,8 g gehalten. Die 55 verkupfert, galvanisch mit Kupfer verstärkt und mit Badtemperatur ist konstant und liegt bei Raumtempe- einer glasfaserlaminierten Epoxidharzfolie beschichtet, ratur. Ferromagnetische dünne Schichten mit guten Diese Kupfer-Kunststoff-Folie wurde von der Glas-Werten für die Feldstärke H und die Induktion B platte abgehoben und die spiegelnde, ursprünglich wurden potentiostatisch bei einem Kathodenpotential dem Glas zugewandte Oberfläche zum Schutz gegen gegenüber der Normalwasserstoffelektrode zwischen 60 Korrosion galvanisch oder stromlos vergoldet. Die 850 und 900 mV und galvanostatisch bei kathodischen extrem glatte Oberfläche dieser Folie diente dann als Stromdichten zwischen 5 und 7 mA/cm² erhalten. Schichtträger für den dünnen Permalloyfilm. Statt Unter diesen Abscheidungsbedingungen werden inner- dieser Substrate lassen sich aber auch polierte Metalle, halb von 110 Sekunden Filme mit einer Dicke von chemisch oder galvanisch metallisierte Gläser oder etwa 800 bis 1000 Ä niedergeschlagen. Diese selen- 65 Kunststoffe einsetzen.According to the invention, the pH of the bath is sensitized to chloride solution and in a palladium (II> during the deposition below the value 3 and chloride solution activated glass plate was electrolessly kept between 2.0 and 2.8 g. The 55 copper-plated, galvanically reinforced with copper and with bath temperature is constant and is at room temperature. A glass fiber-laminated epoxy resin film coated, temperature. Ferromagnetic thin layers with good This copper-plastic film was lifted from the glass values for the field strength H and the induction B plate and the reflective, originally Potentially or electrolessly gold-plated surface facing the glass at a cathode potential for protection against corrosion against the normal hydrogen electrode between 60. The 850 and 900 mV and galvanostatically at cathodic extremely smooth surface of this film then served as current densities between 5 and 7 mA / cm ² . Layer carrier for the thin permallo yfilm. Instead of under these deposition conditions, however, polished metals, half of 110 seconds films with a thickness of chemically or galvanically metallized glasses or about 800 to 1000 Å can also be deposited inside these substrates. Use these selenium plastics.

haltigen Nickel-Eisen-Schichten sind gegenüber korro- Die Abscheidung wurde bei einem Kathoden-containing nickel-iron layers are corrosive to the deposition of a cathode

siven Einflüssen sehr widerstandsfähig. Beispielsweise potential von 1125 mV, bezogen auf eine gesättigtevery resistant to strong influences. For example a potential of 1125 mV, based on a saturated one

werden sie bei Raumtemperatur von einer 5%igen Kalomelelektrode, bzw. bei einer Kathodenstrom-they are removed from a 5% calomel electrode at room temperature or from a cathode current

dichte bei etwa 6 mA/cm² vorgenommen. Die Expositionszeit betrug 60 bis 200 Sekunden und führte zu Schichten mit Dicken zwischen 500 und 2000 Ä. Während der Abscheidung herrschte an der Kathode ein Magnetfeld von etwa 150 Oe, dessen Kraftlinien parallel zur Oberfläche der Trägerunterlage gerichtet waren.density made at about 6 mA / cm ² . The exposure time was 60 to 200 seconds and resulted in layers between 500 and 2000 Å thick. During the deposition, a magnetic field of about 150 Oe prevailed at the cathode, the lines of force of which were directed parallel to the surface of the support base.

Den Zusammenhang zwischen dem Selengehalt des Bades und der gemessenen Koerzitivkraft H_c und der Anisotropiefeldstärke Hk der fertigen Permalloy- \o schicht mit einer Dicke von 1000 Ä ist in nachstehender Tabelle zusammengefaßt.The relationship between the selenium content of the bath and the measured coercivity H _c and the anisotropy field Hk of the finished permalloy \ o layer having a thickness of 1000 Å is summarized in the table below.

Se-Gehalt des Bades
g/lSe content of the bath
g / l

Hc (Oersted) Hc (Oersted)

4,0 2,4 2,6 3,0 3,1 2,8 2,84.0 2.4 2.6 3.0 3.1 2.8 2.8

(Oersted)(Oersted)

1515th

5,05.0

3,2 3,0 2,63.2 3.0 2.6

2,5 2,3 2,32.5 2.3 2.3

Man ersieht, daß H]₀ mit steigendem Selengehalt kleiner wird als H_c, d. h., die Schichten werden invers. Die Schaltzeiten in den erfindungsgemäß hergestellten selenhaltigen Schichten, gemessen bei einem Schaltfeld von 10 Oe unter einem Winkel von 45° zur Vorzugsachse, liegen im Bereich weniger Nanosekunden und sind damit etwas kürzer als bei reinen Nickel-Eisen-Schichten. It can be seen that H] ₀ becomes smaller than H _c with increasing selenium content , ie the layers become inverse. The switching times in the selenium-containing layers produced according to the invention, measured with a switching field of 10 Oe at an angle of 45 ° to the preferred axis, are in the range of a few nanoseconds and are thus somewhat shorter than with pure nickel-iron layers.

Charakteristisch für die erfindungsgemäß hergestellten dünnen Schichten ist, daß der Nickel- und Eisengehalt des Films in einem beträchtlichen Bereich variieren kann, ohne daß die Eigenschaften der Schicht wesentlich verschlechtert werden. Eine extrem genaue Einstellung der Badzusammensetzung, der Badtemperatur, der kathodischen Stromdichte oder des Kathodenpotentials ist bei dem erfindungsgemäßen Verfahren überflüssig.It is characteristic of the thin layers produced according to the invention that the nickel and The iron content of the film can vary within a considerable range without affecting the properties of the Layer can be significantly deteriorated. An extremely precise setting of the bath composition, the Bath temperature, the cathodic current density or the cathode potential is in the case of the invention Process unnecessary.

F i g. 1 und 2 zeigen Hysteresisschleifen der beschriebenen dünnen Schichten. Es ist ersichtlich, daß in F i g. 2 die Hysteresisschleife rechteckiger verläuft und in der harten Richtung der Magnetisierung geschlossen ist. Diese Filme wurden nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt. Die Koerzitivkraft solcher Filme ist außerdem geringer als bei normalen reinen Nickel-Eisen-Schichten, deren Hysteresisschleifen in F i g. 1 dargestellt sind.F i g. 1 and 2 show hysteresis loops of the described thin layers. It can be seen that in FIG. 2 the hysteresis loop is more rectangular and is closed in the hard direction of magnetization. These films were made according to the invention Process made. The coercive force of such films is also lower than that of normal pure nickel-iron layers, the hysteresis loops of which are shown in FIG. 1 are shown.

Claims

Patent claims:

1. Process for the galvanic deposition of thin ferromagnetic coatings made of nickel-iron alloys, characterized, that a bath is used which contains selenium compounds in addition to nickel and iron salts, and the pH of the bath is below 3, especially between 2.0 and 2.8.

2. The method according to claim 1, characterized in that the selenium in its tetravalent form, particularly as selenium dioxide or sodium selenite.

3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that the cathode potential or the cathodic current strength is kept constant at least in sections.

4. The method according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the cathode is a is exposed to a strong homogeneous magnetic field, whose lines of force are parallel to the cathode surface get lost.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings