DE1113988B - Electrolytic capacitor - Google Patents
Electrolytic capacitorInfo
- Publication number
- DE1113988B DE1113988B DEI15590A DEI0015590A DE1113988B DE 1113988 B DE1113988 B DE 1113988B DE I15590 A DEI15590 A DE I15590A DE I0015590 A DEI0015590 A DE I0015590A DE 1113988 B DE1113988 B DE 1113988B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrolytic capacitor
- anode
- manganese dioxide
- oxide
- thallium oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims description 24
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- WKMKTIVRRLOHAJ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);thallium(1+) Chemical compound [O-2].[Tl+].[Tl+] WKMKTIVRRLOHAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910003438 thallium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 17
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trinitrate Chemical compound [Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000011244 liquid electrolyte Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000011872 intimate mixture Substances 0.000 description 1
- MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);dinitrate Chemical compound [Mn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/0029—Processes of manufacture
- H01G9/0036—Formation of the solid electrolyte layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
DEUTSCHESGERMAN
PATENTAMTPATENT OFFICE
115590 Vmc/21g115590 Vmc / 21g
BEKANNTMACHUNG
DER ANMELDUNG
UNDAUSGABE DER
AUSLEGESCHRIFT: 21. SEPTEMBER 1961 NOTICE
THE REGISTRATION
AND ISSUE OF
EDITORIAL: SEPTEMBER 21, 1961
Die Erfindung bezieht sich auf Elektrolytkondensatoren, bei welchen sich zwischen den Elektroden ein festes, elektrisch halbleitendes Material befindet und eine dielektrische Schicht zwischen mindestens einer Elektrode und dem halbleitenden Material angeordnet ist.The invention relates to electrolytic capacitors in which there is between the electrodes a solid, electrically semiconducting material is located and a dielectric layer between at least an electrode and the semiconducting material is arranged.
Kondensatoren dieses Typs werden als »Kondensatoren mit festem Elektrolyten« bezeichnet, zum Unterschied von den Kondensatoren, die als leitendes Material einen flüssigen Elektrolyten haben.Capacitors of this type are referred to as "solid electrolyte capacitors" for Difference from the capacitors, which have a liquid electrolyte as a conductive material.
Diese Kondensatoren, die eine poröse Elektrode aus Ventilmetall enthalten, auf deren Oberfläche durch eine Formierungsbehandlung ein dielektrischer Film erzeugt wurde, auf dem sich ein halbleitendes Oxyd befindet, das seinerseits von einer Metallschicht als zweite Elektrode bedeckt ist, sind bekannt. Als Material für das halbleitende Oxyd wird Mangandioxyd verwendet.These capacitors, which contain a porous electrode made of valve metal, on their surface a dielectric film on which a semiconducting film was formed was produced by a forming treatment Oxide, which in turn is covered by a metal layer as a second electrode, are known. as The material used for the semiconducting oxide is manganese dioxide.
Das leitende Oxyd, das in Kontakt mit dem dielektrischen Film steht, hat die Aufgabe, dem letzteren Sauerstoff zuzuführen, so daß die dielektrische Schicht ihre isolierenden Eigenschaften beibehält und nirgends unterbrochen wird. Sie kann deshalb den flüssigen Elektrolyten ersetzen, welcher bei den üblichen »nassen« Elektrolytkondensatoren der Schicht infolge elektrolytischer Vorgänge Sauerstoff zuführt. The function of the conductive oxide that is in contact with the dielectric film is to to supply oxygen to the latter so that the dielectric layer retains its insulating properties and is not interrupted anywhere. It can therefore replace the liquid electrolyte, which With the usual "wet" electrolytic capacitors, oxygen is added to the layer as a result of electrolytic processes.
Das Mangandioxyd hat andererseits den Nachteil, daß seine elektrische Leitfähigkeit nur mäßig ist. Die damit hergestellten Kondensatoren haben daher noch einen verhältnismäßig großen Verlustfaktor, der von den Wärmeverlusten, insbesondere bei höheren Frequenzen herrührt. Besser leitende Oxyde können zwar verwendet werden, jedoch haben diese den Nachteil, daß sie nur schwer Sauerstoff abgeben, so daß ihre selbstheilenden Eigenschaften nur gering sind.Manganese dioxide, on the other hand, has the disadvantage that its electrical conductivity is only moderate. The capacitors made with it therefore still have a relatively large loss factor, which comes from the heat losses, especially at higher frequencies. Better conductive oxides can be used, but these have the disadvantage that they give off oxygen only with difficulty, so that their self-healing properties are only slight.
Gemäß der Erfindung ist es möglich, die gute Leitfähigkeit mit guten selbstheilenden Eigenschaften dadurch zu verbinden, daß die halbleitende Schicht aus Mangandioxyd einen Zusatz von 0,3 bis 1,5 Gewichtsprozent Thalliumoxyd hat.According to the invention it is possible to have good conductivity with good self-healing properties to connect by adding 0.3 to 1.5 percent by weight to the semiconducting layer of manganese dioxide Has thallium oxide.
Die weiter unten genannten Mengen der einzelnen Oxyde sind Gewichtsprozente der Mischung.The amounts of the individual oxides mentioned below are percentages by weight of the mixture.
Ein Oxyd, das hohe Leitfähigkeit aufweist, jedoch keine selbstheilenden Eigenschaften hat, ist das Thalliumoxyd. Die Leitfähigkeit einer Mischung von 5% Thalliumoxyd und 95% natürlichem Mangandioxyd ist zehnmal größer als die des reinen natürlichen Mangandioxydes. Die Leitfähigkeit einer Mischung von 15% Thalliumoxyd und 85% natürlichem Mangandioxyd ist mehr als hundertmal Elektrolytischer KondensatorThis is an oxide that has high conductivity but no self-healing properties Thallium oxide. The conductivity of a mixture of 5% thallium oxide and 95% natural manganese dioxide is ten times larger than that of pure natural manganese dioxide. The conductivity of a Mixture of 15% thallium oxide and 85% natural manganese dioxide is more than a hundred times Electrolytic capacitor
Anmelder:Applicant:
International Standard Electric Corporation, New York, N. Y. (V. St. A.)International Standard Electric Corporation, New York, N.Y. (V. St. A.)
Vertreter: Dipl.-Ing. H. Ciaessen, Patentanwalt,
Stuttgart-Zuffenhausen, Hellmuth-Hirth-Str. 42Representative: Dipl.-Ing. H. Ciaessen, patent attorney,
Stuttgart-Zuffenhausen, Hellmuth-Hirth-Str. 42
Ronald Alfred Hill, Aldwych, LondonRonald Alfred Hill, Aldwych, London
(Großbritannien),
ist als Erfinder genannt worden(Great Britain),
has been named as the inventor
größer als die des natürlichen Mangandioxyds. Gleichzeitig sind die selbstheilenden Eigenschaften dieser Mischung ungefähr die gleichen wie die reinen natürlichen Mangandioxyds.greater than that of natural manganese dioxide. At the same time are the self-healing properties this mixture is about the same as the pure natural manganese dioxide.
Als Ausfuhrungsform der Erfindung wird im folgenden ein Kondensator beschrieben, der einen gesinterten porösen Tantalkörper als Anode hat. Die Vorteile der Anordnung solllen im Hinblick auf die Zeichnungen näher erläutert werden, in denenAs an embodiment of the invention, a capacitor is described below, which is a sintered porous tantalum body as an anode. The advantages of the arrangement should be in terms of Drawings are explained in more detail in which
Fig. 1 den Verlauf des Verlustfaktors mit der Frequenz undFig. 1 shows the course of the loss factor with the frequency and
Fig. 2 die prozentuale Kapazitätsänderung mit der Frequenz darstellt. .Fig. 2 shows the percentage change in capacitance with frequency. .
Die innere Oberfläche eines gesinterten porösen Tantalkörpers wird zunächst mit einem dielektrischen Film von Tantaloxyd durch anodische Behandlung in einer 60%igen Schwefelsäurelösung bei 140° C erzeugt, wobei eine Kathode aus Platin und eine Spannung von 18VoIt verwendet wird. Auf diese Weise erhält man einen Kondensator für eine Betriebsspannung von 8 Volt. Die anodische Behänd-? lung wird so lange fortgesetzt, bis der Strom ungefähr auf 200 Mikroampere abgefallen ist. Dieser Stromwert ist charakteristisch für eine zylindrische Anode von 7 mm Länge und 3 mm Durchmesser. Die Anode wird dann aus der Lösung herausgenommen und gründlich gewaschen. Danach wird sie in eine Lösung von Mangannitrat vom spezifischen Gewicht 1,5 eingetaucht, dieThaUiumnitrat in einer Konzentration von 4,76 g pro Liter enthält. Wenn die Anode vollständig mit der Lösung durchtränkt ist, wird sie 15 Minuten lang in Luft auf 4500C erhitzt, wodurch sich die Salze zersetzen und in den Poren derThe inner surface of a sintered porous tantalum body is first created with a dielectric film of tantalum oxide by anodic treatment in a 60% sulfuric acid solution at 140 ° C., using a cathode made of platinum and a voltage of 18 Volts. In this way a capacitor for an operating voltage of 8 volts is obtained. The anodic hand-? Treatment continues until the current has dropped to approximately 200 microamps. This current value is characteristic of a cylindrical anode 7 mm long and 3 mm in diameter. The anode is then removed from the solution and washed thoroughly. It is then immersed in a solution of manganese nitrate with a specific gravity of 1.5, which contains thaUium nitrate at a concentration of 4.76 g per liter. When the anode is completely soaked with the solution, it is heated for 15 minutes in air to 450 0 C, whereby the salts decompose and in the pores of the
109 689/187109 689/187
Anode eine innige Mischung von Mangandioxyd und Thalliumoxyd entsteht. Man erhält so einen Überzug von Mangandioxyd, der 1,2 Gewichtsprozent Thalliumoxyd enthält. Gute Ergebnisse werden erzielt, wenn die Konzentration des Thalliumoxyds zwischen 0,3% und 1,5 Gewichtsprozent liegt. Bei dieser Konzentration sind die fUmbildenden Eigenschaften des Mangandioxyds unverändert vorhanden, jedoch die Leitfähigkeit ist wesentlich erhöht. Danach wird der Prozeß der Imprägnierung und Zer-Setzung wiederholt, und die Anode wird anschließend in einer 5°/oigen Borsäurelösung in üblicher Weise nachformiert.At the anode an intimate mixture of manganese dioxide and thallium oxide is formed. This gives a coating of manganese dioxide that is 1.2 percent by weight Contains thallium oxide. Good results are obtained if the concentration of thallium oxide is between 0.3% and 1.5% by weight. At this concentration are the forming properties of manganese dioxide is present unchanged, but the conductivity is significantly increased. Thereafter the process of impregnation and decomposition is repeated and the anode is subsequently reformed in a 5% boric acid solution in the usual way.
Der vollständige Verfahrensschritt der ersten Imprägnierung und Zersetzung, der zweiten Imprägnierung und Zersetzung und der Nachformierung wird dann, wenn nötig, noch ein zweites Mal wiederholt. Schließlich wird leitendes Material, z. B. Graphit, in üblicher Weise aufgebracht, um einen Kathodenanschluß mit niedrigem Wiederstand zu erhalten. Die Anode wird hierzu beispielsweise in eine kolloidale Graphitlösung eingetauscht. Auf dem Graphitüberzug wird die Kathode in Form eines metallischen Überzuges durchSpritzen oder Schmelzen aufgebracht, wobei zu beachten ist, daß die Anodenführung von der Kathode isoliert bleibt. Die Anordnung wird dann in ein Gehäuse eingebaut und in bekannter Weise mit Anoden- und Kathodenanschlüssen versehen.The complete process step of the first impregnation and decomposition, the second impregnation and decomposition and reforming are then repeated a second time if necessary. Finally, conductive material, e.g. B. graphite, applied in the usual way to a To get cathode connection with low resistance. The anode is for this purpose, for example in exchanged for a colloidal graphite solution. On the graphite coating, the cathode is in the form of a metallic coating applied by spraying or melting, whereby it should be noted that the anode guide remains isolated from the cathode. The arrangement is then installed in a housing and in provided with anode and cathode connections in a known manner.
In Fig. 1 sind zwei Kurven für zwei 50-μΡ-Κοη-densatoren aus Tantal und mit festem Elektrolyten für 8VoIt Betriebgleichspannung dargestellt. Die Kurve 1 wurde bei einem Kondensator gemessen, bei dem das halbleitende Oxyd ausschließlich aus Mangandioxyd bestand, und Kurve 2 bei einem Kondensator, bei welchem das feste, leitende Material aus einer Mischung von Mangandioxyd mit 1,2 Gewichtsprozent Thalliumoxyd bestand.In Fig. 1 there are two curves for two 50 μΡ Κοη capacitors made of tantalum and shown with solid electrolyte for 8VoIt operating voltage. the Curve 1 was measured for a capacitor in which the semiconducting oxide consists exclusively of manganese dioxide and curve 2 for a capacitor in which the solid, conductive material consists of consisted of a mixture of manganese dioxide with 1.2 percent by weight of thallium oxide.
Aus den Kurven kann man entnehmen, daß der Verlustfaktor durch den Zusatz von Thalliumoxyd von 55 auf 28% bei 1 kHz und von 90 auf 84% bei 10 kHz fällt.From the curves it can be seen that the loss factor due to the addition of thallium oxide drops from 55 to 28% at 1 kHz and from 90 to 84% at 10 kHz.
Der Zusatz von Thalliumoxyd hat jedoch noch einen zweiten Vorteil. Die Kapazität von gesinterten Tantalkörpern hängt bekanntlich von der Teilchengröße des verwendeten Tantalpulvers ab. Je geringer die Teilchengröße ist, desto größer ist die Kapazität des Sinterkörpers pro Volumeneinheit. Bei Versuchen wurde jedoch gefunden, daß die auf diese Weise vergrößerte Kapazität bei höheren Frequenzen geringer wird. Dieser Kapazitätsabfall wird durch den Zusatz von Thalliumoxyd in den genannten Mengen vermindert, wie dies aus Fig. 2 hervorgeht.The addition of thallium oxide, however, has a second advantage. The capacity of sintered As is known, tantalum bodies depend on the particle size of the tantalum powder used. The lower the particle size, the larger the capacity of the sintered body per unit volume. When trying however, it was found that the capacitance thus increased at higher frequencies becomes less. This drop in capacity is due to the addition of thallium oxide in the mentioned Quantities decreased, as can be seen from FIG.
In Fig. 2 sind zwei Kurven für Tantalkondensatoren mit festem Elektrolyten von 50 μΡ und 8 Volt Betriebsspannung dargestellt. Die Kurve 3 'wurde von einem Kondensator erhalten, dessen halbleitendes Oxyd nur aus Mangandioxyd bestand und die Kurve 4 von einem Kondensator, bei welchem das feste leitende Material aus Mangandioxyd mit einem Zusatz von 1,2 Gewichtsprozent Thalliumoxyd bestand.In Fig. 2, two curves for tantalum capacitors with solid electrolytes of 50 μΡ and 8 volts operating voltage are shown. Curve 3 'was obtained from a capacitor whose semiconducting oxide consisted only of manganese dioxide and curve 4 from a capacitor in which the solid conductive material consisted of manganese dioxide with an addition of 1.2 percent by weight of thallium oxide.
Aus den Kurven kann entnommen werden, daß der Kapazitätsabfall durch den Zusatz von Thalliumoxyd von 9 auf 2;1% bei 1 kHz und von 65,3 auf 27,3% bei 1OkHz vermindert wurde.It can be seen from the curves that the drop in capacity due to the addition of thallium oxide from 9 to 2; 1% at 1 kHz and from 65.3 to 27.3% at 10 kHz.
Es ist daher möglich, durch Zusatz eines bestimmten Prozentsatzes an Thalliumoxyd Kondensatoren mit höherer Kapazität pro Volumeneinheit herzustellen, deren Kapazitätsabfall bei höheren Frequenzen geringer ist.It is therefore possible to add a certain percentage of thallium oxide capacitors produce with higher capacity per unit volume, their capacity drop at higher frequencies is less.
Das Thalliumoxyd kann auch ganz oder teilweise durch Ceroxyd ersetzt sein. Bei der Herstellung des Oxydgemisches wird hierzu Cernitrat verwendet. Durch den Zusatz von Ceroxyd läßt sich die Betriebsspannung des Kondensators erhöhen.The thallium oxide can also be completely or partially replaced by cerium oxide. When making the Oxide mixture is used for this purpose, cerium nitrate. The operating voltage can be reduced by adding cerium oxide of the capacitor.
Obwohl als Ausführungsbeispiel ein poröser Tantalkörper als Anode beschrieben wurde, kann auch ein anderes filmbildendes Metall verwendet werden, wie z. B. Wolfram, Hafnium, Niob, Titan oder Zirkon.Although a porous tantalum body has been described as an anode as an exemplary embodiment, it is also possible another film-forming metal can be used, e.g. B. tungsten, hafnium, niobium, titanium or Zircon.
Die Anwendung der Erfindung ist nicht auf Kondensatoren mit Anoden aus porösem gesintertem Metall beschränkt, sondern es können auch Folien oder Drähte als Anode verwendet werden.The application of the invention is not to capacitors with anodes made of porous sintered Metal is limited, but foils or wires can also be used as the anode.
Für die Anode kann auch Aluminium in Form einer Folie oder eines Drahtes an Stelle der obengenannten filmbildenden Metalle verwendet werden.For the anode, aluminum in the form of a foil or a wire can also be used instead of the above film-forming metals are used.
Die Erfindung ist nicht allein auf die dargestellten und beschriebenen Ausführungsbeispiele beschränkt.The invention is not limited solely to the illustrated and described exemplary embodiments.
Claims (4)
Französische Patentschrift Nr. 1091097;
USA.-Patentschriften Nr. 1845067, 2005 279,
575, 2075 351, 2076905.Considered publications:
French Patent No. 1091097;
U.S. Patents No. 1845067, 2005 279,
575, 2075 351, 2076905.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEI15590A DE1113988B (en) | 1957-08-09 | 1958-10-31 | Electrolytic capacitor |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB2526757A GB835076A (en) | 1957-08-09 | 1957-08-09 | Electrolytic capacitors |
| DEI15590A DE1113988B (en) | 1957-08-09 | 1958-10-31 | Electrolytic capacitor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1113988B true DE1113988B (en) | 1961-09-21 |
Family
ID=25981222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEI15590A Pending DE1113988B (en) | 1957-08-09 | 1958-10-31 | Electrolytic capacitor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE1113988B (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1167304B (en) | 1964-04-09 | Karl Heinz Pluemer | Lack trough | |
| DE1240992B (en) | 1963-09-27 | 1967-05-24 | Fujitsu Ltd | Process for the production of a firmly adhering, semiconducting layer on the anode of a dry capacitor |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1845067A (en) * | 1927-03-10 | 1932-02-16 | Raytheon Inc | Solid rectifier |
| US2005279A (en) * | 1930-07-24 | 1935-06-18 | Philips Nv | Electrical condenser |
| US2052575A (en) * | 1934-02-14 | 1936-09-01 | Magnavox Co | Method of forming electrodes for electrolytic condensers |
| US2075351A (en) * | 1934-11-27 | 1937-03-30 | Magnavox Co | Electrolytic condenser |
| US2076905A (en) * | 1931-09-24 | 1937-04-13 | Magnavox Co | Electrical condenser |
| FR1091097A (en) * | 1953-04-02 | 1955-04-06 | Western Electric Co | Improvements to electric capacitors |
-
1958
- 1958-10-31 DE DEI15590A patent/DE1113988B/en active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1845067A (en) * | 1927-03-10 | 1932-02-16 | Raytheon Inc | Solid rectifier |
| US2005279A (en) * | 1930-07-24 | 1935-06-18 | Philips Nv | Electrical condenser |
| US2076905A (en) * | 1931-09-24 | 1937-04-13 | Magnavox Co | Electrical condenser |
| US2052575A (en) * | 1934-02-14 | 1936-09-01 | Magnavox Co | Method of forming electrodes for electrolytic condensers |
| US2075351A (en) * | 1934-11-27 | 1937-03-30 | Magnavox Co | Electrolytic condenser |
| FR1091097A (en) * | 1953-04-02 | 1955-04-06 | Western Electric Co | Improvements to electric capacitors |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1167304B (en) | 1964-04-09 | Karl Heinz Pluemer | Lack trough | |
| DE1240992B (en) | 1963-09-27 | 1967-05-24 | Fujitsu Ltd | Process for the production of a firmly adhering, semiconducting layer on the anode of a dry capacitor |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0753868B1 (en) | Electrolytic capacitor, especially tantalum electrolytic capacitor | |
| DE2558240A1 (en) | ELECTROLYTE CAPACITOR AND METHOD FOR MANUFACTURING IT | |
| DE2623592A1 (en) | SOLID VALVE METAL CONDENSER WITH GRAPHITE IN ELECTROLYTE AND METHOD OF ITS MANUFACTURING | |
| DE1214786B (en) | Electrical capacitor and process for its manufacture | |
| DE2806395A1 (en) | SOLID ELECTROLYTE CAPACITOR | |
| DE2743842C2 (en) | Solid electrolytic capacitor and process for its manufacture | |
| DE1955396A1 (en) | Electrolytic capacitor and process for its manufacture | |
| DE2624068A1 (en) | SOLID ELECTROLYTE CAPACITOR AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME | |
| DE3135390A1 (en) | ELECTRICAL COMPONENT, ESPECIALLY ELECTRIC CAPACITOR, AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF | |
| EP1314175B2 (en) | Niobium based capacitor anode | |
| DE1113988B (en) | Electrolytic capacitor | |
| DE1489037B2 (en) | METHOD OF MANUFACTURING ELECTRIC CAPACITORS | |
| DE2534997A1 (en) | ELECTRODE ARRANGEMENT, IN PARTICULAR FOR CAPACITORS, AND THE PROCESS FOR THEIR PRODUCTION | |
| DE2509613B2 (en) | DRY ELECTROLYTE CAPACITOR | |
| DE1101619B (en) | Method of manufacturing a large surface area electrode for an electrolytic capacitor | |
| DE2218186C3 (en) | Method of manufacturing an electrolytic capacitor | |
| DE1133469B (en) | Electrical capacitor with metal oxide dielectric and process for its manufacture | |
| DE1114936B (en) | Process for the production of an electrolytic capacitor with a semiconducting superoxide layer | |
| DE1179642A (en) | (V St A) I Method for the produc- tion of an electrolytic capacitor with a sintered body and a solid electrolyte | |
| DE1141720B (en) | Process for the production of electrical capacitors with a dielectric oxide layer | |
| DE1614736C (en) | Process for forming electrodes from tantalum or niobium for electrical capacitors | |
| DE2524868A1 (en) | ELECTRODE FOR ELECTROLYTIC CAPACITORS | |
| DE1913133C3 (en) | Method of manufacturing an electrolytic capacitor with a manganese dioxide layer | |
| DE1147696B (en) | Method of manufacturing an electrolytic capacitor | |
| DE1489037C (en) | Process for the production of electrical capacitors see |