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DE1165291B - Electromechanical converter working according to the Hall effect - Google Patents

Electromechanical converter working according to the Hall effect

Info

Publication number
DE1165291B
DE1165291B DEC15811A DEC0015811A DE1165291B DE 1165291 B DE1165291 B DE 1165291B DE C15811 A DEC15811 A DE C15811A DE C0015811 A DEC0015811 A DE C0015811A DE 1165291 B DE1165291 B DE 1165291B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
gap
layer
areas
hall effect
magnetic field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEC15811A
Other languages
German (de)
Inventor
Alberto Loro
George Victor Planer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Cosmocord Ltd
Original Assignee
Cosmocord Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cosmocord Ltd filed Critical Cosmocord Ltd
Publication of DE1165291B publication Critical patent/DE1165291B/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R23/00Transducers other than those covered by groups H04R9/00 - H04R21/00
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R21/00Variable-resistance transducers
    • H04R21/02Microphones

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Audible-Bandwidth Dynamoelectric Transducers Other Than Pickups (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND DEUTSCHES 4SiZTZW PATENTAMT Internat. KL: G Ol d FEDERAL REPUBLIC OF GERMANY GERMAN 4SiZTZW PATENT OFFICE Internat. KL: G Ol d

AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL

Deutsche KL: 42 d-1/12German KL: 42 d-1/12

Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
Number:
File number:
Registration date:
Display day:

C 15811 IXb/42 d
19. November 1957
12. März 1964
C 15811 IXb / 42 d
November 19, 1957
March 12, 1964

Die Erfindung bezieht sich auf einen nach dem Halleffekt arbeitenden elektromechanischen Wandler, dessen Halbleiterelement relativ zu einem Magnetfeld derart beweglich ist, daß ein der Bewegung entsprechendes Ausgangssignal entsteht. Dieser Wandler enthält einen Film aus Halbleitermaterial, auf dem zwei die Anschlußklemmen tragende Bereiche aus leitendem Material im Abstand voneinander mit annähernd parallel verlaufenden Kanten angeordnet sind.The invention relates to an electromechanical converter working according to the Hall effect, whose semiconductor element is movable relative to a magnetic field in such a way that a corresponding movement Output signal arises. This transducer contains a film of semiconductor material on which two the connecting terminals carrying areas of conductive material at a distance from each other with approximately parallel edges are arranged.

Solche elektromechanischen Wandler finden beispielsweise bei Tonabnehmern und Mikrophonen Verwendung.Electromechanical converters of this type can be found, for example, in pickups and microphones Use.

Das Kennzeichen der Erfindung wird gesehen in einem mit einer Halbleiterschicht überbrückten Spalt mit einer im Verhältnis zur Spaltlänge geringen Spaltbreite. The characteristic of the invention is seen in a gap bridged with a semiconductor layer with a small gap width in relation to the gap length.

Bei einem bekannten elektromechanischen Wandler weist der mit einer Halbleiterschicht überbrückte Spalt eine im Verhältnis zur Spaltlänge sehr große Spaltbreite auf. Beim Erfindungsgegenstand ist das Feld über die Spaltlänge konstant, während bei der bekannten Konstruktion über die ganze Fläche integriert wird.In a known electromechanical converter, the gap bridged with a semiconductor layer has a very large gap width in relation to the gap length. The subject of the invention is the field Constant over the gap length, while in the known construction it is integrated over the entire surface will.

Zum besseren Verständnis soll die Erfindung im folgenden an Hand eines Ausführungsbeispieles erläutert werden.For a better understanding, the invention is explained below using an exemplary embodiment will.

Die Zeichnung zeigt inThe drawing shows in

Fig. 1 einen schematischen Schnitt durch einen erfindungsgemäßen Wandler und1 shows a schematic section through a transducer according to the invention and

Fig. 2 eine Draufsicht auf einen Teil des Wandlers nach Fig. 1.FIG. 2 is a plan view of part of the transducer according to FIG. 1.

In den Zeichnungen ist ein mit Indiumantimonid arbeitender Wandler dargestellt. Ein Film 1 dieses Materials ist auf einer dünnen Glasplatte 2 befestigt, die als Träger dient. Über dem Film sitzt eine stärker als das Indiumantimonid leitende Schicht 3, beispielsweise Silber, die nach Fig. 2 einen schmalen, sich über die ganze Schichtbreite erstreckenden Spalt 4 auf der Antimonidschicht freiläßt. Die Bereiche 5, 6 der Silberschicht beiderseits dieses Spaltes bilden die Elektroden. Ein stark leitfähiges Material 7, beispielsweise Silberbronze, wird auf die Silberelektroden aufgebracht und dient zum Anschluß der Klemmen od. dgl.In the drawings, a converter operating with indium antimonide is shown. A movie 1 this Material is attached to a thin glass plate 2, which serves as a carrier. One sits stronger over the film as the indium antimonide conductive layer 3, for example silver, which according to FIG. 2 is a narrow one Leaves gap 4 on the antimonide layer extending over the entire width of the layer. The areas 5, 6 of the The electrodes are formed by a silver layer on both sides of this gap. A highly conductive material 7, for example Silver bronze, is applied to the silver electrodes and is used to connect the terminals or the like

Verwendet man ein solches Wandlerelement beispielsweise in einem Mikrophon oder einem Tonabnehmer, dann wird der Glasträger 2 mit einer geeigneten Membrane bzw. einer Abtastnadel derart verbunden, daß er in seiner Ebene bewegt wird.If such a transducer element is used, for example, in a microphone or a pickup, then the glass carrier 2 is connected to a suitable membrane or a scanning needle in such a way that that he is moved in his plane.

Ein Magnetsystem, vorzugsweise ein Permanent-Magnet, bestehend aus den Polen 8 und 9, dient zur Erzeugung eines senkrecht zur Ebene der Indiumanti-Nach dem Haneffekt arbeitender
elektromechanischer Wandler
A magnet system, preferably a permanent magnet, consisting of the poles 8 and 9, is used to generate a magnet system that works perpendicular to the plane of the indium anti-hand effect
electromechanical converter

Anmelder:Applicant:

Cosmocord Limited, Waltham Cross,Cosmocord Limited, Waltham Cross,

Hertfordshire (Großbritannien)Hertfordshire (UK)

Vertreter:Representative:

Dipl.-Ing. R. H. Bahr und Dipl.-Phys. E. Betzier,Dipl.-Ing. R. H. Bahr and Dipl.-Phys. E. Betzier,

Patentanwälte, Herne, Freiligrathstr. 19Patent attorneys, Herne, Freiligrathstr. 19th

Als Erfinder benannt:
Alberto Loro, Montreal (Kanada),
George Victor Planer, Sunbury-on-Thames,
Middlesex (Großbritannien)
Named as inventor:
Alberto Loro, Montreal (Canada),
George Victor Planner, Sunbury-on-Thames,
Middlesex (UK)

Beanspruchte Priorität:
Großbritannien vom 4. Dezember 1956
(Nr. 37 008)
Claimed priority:
Great Britain 4 December 1956
(No. 37 008)

monid-Schicht stehenden Magnetfeldes. Durch die Schicht wird elektrischer Strom geschickt. Wird die Schicht durch eine Bewegung der Membrane bzw. der Abtastnadel in Bewegung versetzt und werden dabei magnetische Feldlinien geschnitten, so ändert sich der Widerstand der Schicht, und der Strom wird infolgedessen in Übereinstimmung mit den Auslenkungen der Membrane bzw. der Abtastnadel moduliert. Bei der Herstellung eines Wandlers der oben beschriebenen Art tritt eine Reihe von Schwierigkeiten auf. In erster Linie muß ein extrem dünner Film aus dem wirksamen Material hergestellt werden, damit er einen möglichst hohen elektrischen Widerstand besitzt. Dagegen ist im Falle von Indiumantimonid, welches wegen seiner hochwirksamen Eigenschaften in dieser Hinsicht besonders zu bevorzugen ist, die Leitfähigkeit des Materials sehr hoch. In der Praxis ist es jedoch unzweckmäßig, einen Wandler mit einem sehr geringen Widerstand zu wählen, da für seinen Betrieb niedrige Spannungen und hohe Stromstärken erforderlich sind.monid-layer standing magnetic field. Electric current is sent through the layer. Will the Layer set in motion by a movement of the membrane or the scanning needle and are thereby If magnetic field lines are cut, the resistance of the layer changes, and the current is as a result modulated in accordance with the deflections of the membrane or the stylus. A number of difficulties arise in manufacturing a transducer of the type described above on. In the first place, an extremely thin film of the active material must be made so that it has the highest possible electrical resistance. In contrast, in the case of indium antimonide, which is particularly preferable in this regard because of its highly effective properties, the The conductivity of the material is very high. In practice, however, it is inconvenient to use a converter with a to choose a very low resistance, since low voltages and high currents are required for its operation required are.

Zur Herstellung der dünnen Indiumantimonidschicht wird beispielsweise durch ein Schlitzmesser von einem Block ein Streifen abgeschnitten. Der Streifen soll anfänglich bereits so dünn wie praktisch möglieh sein. Dieser Streifen wird auf einem Werkstückhalter befestigt und die eine Fläche dann so lange bearbeitet, bis sie plan ist. Der Streifen wird dann um-To produce the thin indium antimonide layer, a slitting knife is used, for example cut a strip from a block. The strip should initially be as thin as practically possible be. This strip is attached to a workpiece holder and one surface is then machined for so long until it is plan. The strip is then

409 538/231409 538/231

gedreht und die bearbeitete Fläche auf der den Träger bildenden Glasplatte befestigt. Nunmehr wird die andere Fläche des Materials in der gleichen Weise bearbeitet. Durch dieses Verfahren ist es möglich, eine Schicht zu erzeugen, die eine Dicke in der Größenordnung von nur wenigen μ aufweist.rotated and the machined surface attached to the glass plate forming the carrier. Now the other surface of the material is processed in the same way. This process makes it possible to produce a layer that is only a few μ thick.

Selbstverständlich lassen sich auch andere Verfahren zur Herstellung sehr dünner Schichten anwenden, beispielsweise das Niederschlagen im Vakuum, das Aufstreichen, die Verdampfung aus einem Lösungsmittel od. dgl. So kann man beispielsweise im Glasträger eine Ausnehmung sehr geringer Tiefe ausätzen. In diese Ausnehmung wird dann das Antimonid unter Verwendung einer Abdeckplatte unter Druck eingegossen und anschließend die wieder freigelegte Oberfläche bearbeitet.Of course, other processes for the production of very thin layers can also be used, For example, vacuum deposition, brushing, evaporation from a solvent od. The like. For example, a recess of very shallow depth can be etched out in the glass carrier. The antimonide is then poured into this recess under pressure using a cover plate and then processed the exposed surface.

Außerdem soll zur Erzielung eines maximalen Halleffekts die Indiumantimonidschicht relativ kurz in Richtung des Stromflusses und vergleichsweise groß senkrecht zum Stromfluß und zum Magnetfeld sein. Ferner kann es wünschenswert sein, die Abmessungen in Richtung des Stromflusses klein zu machen, insbesondere, wenn das Element kleinen Verschiebungen bezüglich des Magnetfeldes unterworfen werden soll. Diese Forderung wird dadurch erfüllt, daß man die Silber- oder ähnliche Deckschicht mit einem dünnen Spalt versieht, zu dessen Herstellung verschiedene Verfahren möglich sind. Das zur Zeit bequemste Verfahren besteht darin, das Silber durch Niederschlagen unter Vakuum aufzubringen und dabei einen feinen Draht als Maske zu verwenden, um den Niederschlag dort zu verhindern, wo der Spalt entstehen soll. Dieses Verfahren ist einfach und wirksam und gibt genau definiert Spalte genau bestimmbarer Breite.In addition, the indium antimonide layer should be relatively short in order to achieve a maximum Hall effect Direction of the current flow and be comparatively large perpendicular to the current flow and the magnetic field. Furthermore, it may be desirable to make the dimensions small in the direction of the current flow, in particular, when the element is subjected to small displacements with respect to the magnetic field target. This requirement is met that the silver or similar cover layer with a Provides a thin gap, for the production of which various methods are possible. The most comfortable at the moment The process consists in applying the silver by depositing it under vacuum and thereby creating a Use fine wire as a mask to prevent precipitation where the gap will arise target. This method is simple and effective and gives a well-defined column of precisely determinable width.

Man kann gute Resultate auch dadurch erzielen, daß man zuerst die ganze Oberfläche der Schicht mit Silber überzieht, einen fotoempfindlichen Ätzgrund auf die Silberschicht niederschlägt, den Ätzgrund zu einem geeigneten Bild entwickelt und dann mit Hilfe eines Ätzmittels für Silber, jedoch nicht für das Antimonid das Silber an den für den Spalt vorgesehenen Stellen entfernt.Good results can also be achieved by first using the entire surface of the layer Silver coats, deposits a photosensitive etching base on the silver layer, closing the etching base developed a suitable image and then with the help of an etchant for silver, but not for the antimonide removed the silver at the places intended for the gap.

Nach einem anderen Verfahren zur Herstellung eines engen Spaltes stellt man zuerst eine Antimonidschicht her und bringt dann eine dünne Linie aus bituminöser Farbe dort auf die Schicht auf, wo der Spalt entstehen soll. Die Oberfläche wird dann durch Elektroplattieren mit Kupfer überzogen. Die Farbe verhindert den Niederschlag des Kupfers auf dem darunterliegenden Indiumantimonid, so daß nach dem Entfernen der Farbe ein unplattierter Spalt verbleibt. Another method of making a narrow gap is to first place an antimonide layer and then apply a thin line of bituminous paint to the layer where the Gap should arise. The surface is then plated with copper by electroplating. The color prevents the precipitation of copper on the underlying indium antimonide, so that after an unplated gap remains after the paint is removed.

Es hat sich herausgestellt, daß mit diesem Verfahren genaue Spalte mit 0,3 mm Breite in Stromrichtung gemessen und von wenigen Millimeter Breite hergestellt werden können.It has been found that with this method, precise gaps 0.3 mm wide in the direction of flow can be measured and manufactured from a few millimeters wide.

Bei einer abgeänderten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Wandlers wird der Widerstand durch Aufsplittern des Indiumantimonids im Spalt in eine Anzahl getrennter Teile erhöht, so daß mehrere Spalte geringerer Länge entstehen. Der Strom wird gezwungen, über die Länge der Spalte im Wechsel zu fließen. Man erhält diese Abänderung in äußerst einfacher Weise dadurch, daß man die Antimonidschicht durch eine Reihe von Schlitzen, wie bei 10,11 und 12 in F i g. 2 angedeutet, entfernt, wobei sich die Schlitze wechselseitig von entgegengesetzten Enden des Wandlerelementes parallel zur Stromrichtung im Spalt und jeweils quer zum Spalt erstrecken. Auf diese Weise werden die beiden Elektroden durch die Schlitze zu einer Strombahn aufgeschnitten, die jeweils durch eine Anzahl von aneinander anschließenden Spalten führt. Ein einzeln auf diese Weise hergestellter Schlitz führt zu einer wesentlichen Steigerung des Widerstandes, beispielsweise zu einer vierfachen Steigerung, da der Spaltwiderstand verdoppelt ist und die beiden Spalte in Reihe liegen.In a modified embodiment of the converter according to the invention, the resistance is increased by splitting the indium antimonide in the gap into a number of separate parts, so that several Gaps of smaller length arise. The current is forced to alternate over the length of the column flow. This modification is obtained in an extremely simple manner by adding the antimonide layer through a series of slots, as at 10, 11 and 12 in Fig. 2 indicated, removed, the slots alternating from opposite ends of the transducer element extend parallel to the direction of flow in the gap and in each case transversely to the gap. In this way the two electrodes are cut through the slots to form a current path, each through leads to a number of contiguous columns. One made individually in this way Slot leads to a substantial increase in resistance, for example a four-fold increase, because the gap resistance is doubled and the two gaps are in series.

ίο Ein Spalt der angegebenen Abmessungen bei der ebenfalls angegebenen Schichtdicke gibt einen Widerstand in der Größenordnung von 10 bis 100 Ohm bei einer Magnetfeldänderung von 0 bis 10 000 Gauß.ίο A gap of the specified dimensions at the The layer thickness also specified gives a resistance in the order of magnitude of 10 to 100 ohms a change in the magnetic field from 0 to 10,000 Gauss.

Diese Zahlen lassen sich durch Aufspalten des Spaltes, wie oben beschrieben, wesentlich vergrößern. Die Schlitze im Antimonid lassen sich mechanisch herstellen, beispielsweise durch eine Schlitzfeder, durch Schneid- oder Schleifwerkzeuge, welche die Antimonidschicht und die Silberschicht sowie die Silberbronzeschicht entfernen, oder man verwendet ein chemisches Verfahren ähnlich dem oben beschriebenen Verfahren. Dabei wird jedoch ein Ätzmittel verwendet, das sowohl auf Antimonide als auch auf die Silberschicht anspricht. Bringt man die oben beschriebenen Plattierungsverfahren zur Anwendung, dann läßt sich das Plattieren an den Stellen verhindern, wo die Schlitze entstehen sollen, indem man in ähnlicher Weise Farbe aufbringt. Aus Gründen der Festigkeit wird vorzugsweise der Träger nicht angeschnitten. Selbstverständlich kann man statt einer einzigen Indiumantimonidschicht auch etwas kompliziertere Systeme mit einer Vielzahl von Schichten verwenden. Das Magnetsystem zur Herstellung des Magnetfeldes, in dem sich das Wandlerelement bewegt, kann aus einem einfachen, mit geeigneten Polstücken ausgerüsteten Permanentmagneten hoher Permeabilität bestehen, die einen Luftspalt freilassen. Da jedoch die Wirksamkeit des Wandlers auf die Änderung der Feldstärke, der das Halbleitermaterial unterworfen wird, abgestimmt ist, ist es wünschenswert, daß das Magnetsystem eine Feldstruktur liefert, welche eine möglichst große Änderung der Feldstärke bei bereits kleinen Bewegungen aufweist. Daher ist es in vielen Fällen vorteilhaft, eine Vielzahl von Polstücken an dem oder den Magneten zu verwenden und derart die Feldstruktur zu verändern. Das Feld, in dem sich das Material bewegt, soll so stark wie möglich sein, da bei zunehmender Stärke des Magnetfeldes der Widerstand des Materials höher wird.These numbers can be obtained by splitting the gap, as described above, increase significantly. The slots in the antimonide can be made mechanically, for example by means of a slot spring Cutting or grinding tools, which the antimonide layer and the silver layer as well as the silver bronze layer remove, or use a chemical process similar to that described above Procedure. In this case, however, an etchant is used that acts on both antimonides and the silver layer appeals to. Applying the plating methods described above, then plating can be prevented at the points where the slots are to be created by working in a similar manner Wisely applies color. For reasons of strength, the carrier is preferably not cut. Of course, instead of a single indium antimonide layer, something more complicated can also be used Use systems with multiple layers. The magnet system for the production of the magnetic field, in which the transducer element moves, can be from a simple one equipped with suitable pole pieces Permanent magnets of high permeability exist that leave an air gap free. However, since the Effectiveness of the transducer on the change in the field strength to which the semiconductor material is subjected is tuned, it is desirable that the magnet system provides a field structure which has a has the greatest possible change in the field strength with even small movements. Hence it is in many Cases advantageous to use a plurality of pole pieces on the magnet or magnets and such the To change the field structure. The field in which the material moves should be as strong as possible, because at As the strength of the magnetic field increases, the resistance of the material becomes higher.

Bei dem beschriebenen Wandler wird das den Strom führende Element im Magnetfeld bewegt. Dies ist jedoch nicht der einzig mögliche Weg. So ist es beispielsweise möglich, das das Magnetfeld erzeugende Glied in bezug auf das stromführende Element zu bewegen oder in anderer Weise die Feldstärke zu ändern. Die Feldstärke läßt sich durch Änderung eines elektromagnetischen Stromes ändern, jedoch ist eine solche Anordnung in ihrer Anwendungsmögiiehkeit beschränkt. Da der Halleffekt eine Funktion des Magnetfeldes ist, läßt sich der Wandler allgemein auch als Meßanzeiger oder Steuervorrichtung verwenden, die auf Feldänderungen anspricht. Der Wandler kann also auch für magnetische und ähnliche Versuche Verwendung finden.In the converter described, the element carrying the current is moved in the magnetic field. this however, it is not the only possible way. For example, it is possible for the element generating the magnetic field to move in relation to the current-carrying element move or otherwise change the field strength. The field strength can be changed by changing a electromagnetic current change, but such an arrangement is in their application limited. Since the Hall effect is a function of the magnetic field, the converter can also be used in general Use as a gauge or control device that responds to field changes. The converter can so it can also be used for magnetic and similar experiments.

Claims (3)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Nach dem Halleffekt arbeitender elektromechanischer Wandler, dessen Halbleiterelement1. Electromechanical transducer working according to the Hall effect, its semiconductor element relativ zu einem Magnetfeld derart beweglich ist, daß ein der Bewegung entsprechendes Ausgangssignal entsteht, mit einem Film aus Halbleitermaterial, auf dem zwei die Anschlußklemmen tragende Bereiche aus leitendem Material in Abstand voneinander mit annähernd parallel verlaufenden Kanten angeordnet sind, gekennzeichnet durch einen mit einer Halbleiterschicht überbrückten Spalt mit einer im Verhältnis zur Spaltlänge geringen Spaltbreite.is movable relative to a magnetic field in such a way that an output signal corresponding to the movement arises, with a film of semiconductor material on which two the connecting terminals load-bearing areas made of conductive material at a distance from one another with approximately parallel ones Edges are arranged, marked by a gap bridged with a semiconductor layer with a ratio to the gap length small gap width. 2. Wandler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich etwa senkrecht zum Spalt über wenigstens einen der Bereiche ein diesen Bereich in Teilbereiche unterteilender Schlitz erstreckt. 2. Converter according to claim 1, characterized in that it extends approximately perpendicular to the gap at least one of the areas has a slot which divides this area into partial areas. 3. Wandler nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Spalt durch Abdecken der Halbleiterschicht mit einer strichförmigen Maske vor dem Aufbringen des die leitenden Bereiche bildenden Materials hergestellt ist.3. Converter according to claim 1 and 2, characterized in that the gap by covering the semiconductor layer with a line-shaped mask before the application of the conductive areas forming material is made. In Betracht gezogene Druckschriften:
ίο Deutsche Patentschrift Nr. 590 678;
Considered publications:
ίο German Patent No. 590 678;
deutsche Patentanmeldung S 38725 Villa/21a2 (bekanntgemacht am 6. 9.1956);
USA.-Patentschrift Nr. 2 562120.
German patent application S 38725 Villa / 21a 2 (published on September 6, 1956);
U.S. Patent No. 2,562,120.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings 409 538/231 3.64 © Bundesdruckerei Berlin409 538/231 3.64 © Bundesdruckerei Berlin
DEC15811A 1956-12-04 1957-11-19 Electromechanical converter working according to the Hall effect Pending DE1165291B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB345483X 1956-12-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1165291B true DE1165291B (en) 1964-03-12

Family

ID=10366980

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Application Number Title Priority Date Filing Date
DEC15811A Pending DE1165291B (en) 1956-12-04 1957-11-19 Electromechanical converter working according to the Hall effect

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CH (1) CH345483A (en)
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GB (1) GB872886A (en)
NL (2) NL222633A (en)

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Also Published As

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