[go: up one dir, main page]

DE10317837A1 - Vakuumkammer - Google Patents

Vakuumkammer Download PDF

Info

Publication number
DE10317837A1
DE10317837A1 DE2003117837 DE10317837A DE10317837A1 DE 10317837 A1 DE10317837 A1 DE 10317837A1 DE 2003117837 DE2003117837 DE 2003117837 DE 10317837 A DE10317837 A DE 10317837A DE 10317837 A1 DE10317837 A1 DE 10317837A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
vacuum
heat
radiation
passage
vacuum chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE2003117837
Other languages
English (en)
Inventor
Holger Dietz
Dirk Schiller
Gerhard Wilhelm Walter
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Leybold GmbH
Original Assignee
Leybold Vakuum GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold Vakuum GmbH filed Critical Leybold Vakuum GmbH
Priority to DE2003117837 priority Critical patent/DE10317837A1/de
Priority to PCT/EP2004/003525 priority patent/WO2004092585A1/de
Priority to TW093109541A priority patent/TW200506207A/zh
Publication of DE10317837A1 publication Critical patent/DE10317837A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B37/00Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
    • F04B37/06Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
    • F04B37/08Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B37/00Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
    • F04B37/06Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
    • F04B37/08Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
    • F04B37/085Regeneration of cryo-pumps

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)

Abstract

Die Vakuumkammer weist einen Vakuumraum (11) auf mit einem Durchlass (14), an dem eine Vakuumpumpe (15) unmittelbar angeordnet ist. Der Vakuumraum (11) enthält Wärmestrahler (16). Zur Verhinderung des Eindringens von Wärmestrahlung in das Innere der Vakuumpumpe (15) ist über dem Durchlass (14) ein Strahlungsschirm (17) angeordnet, der den Durchlass abschattet, jedoch für Gase durchlässig ist. Dadurch wird eine Verschlechterung der Betriebsbedingungen der Vakuumpumpe verhindert.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vakuumkammer mit einer einen Vakuumraum begrenzenden Kammerwand, die einen zu einer Vakuumpumpe führenden Durchlass aufweist sowie Vakuumpumpen, die einer höheren Wärmelast während des Betriebes ausgesetzt sind.
  • Bei Komponenten und Aggregaten, die unter Vakuumbedingungen betrieben werden, besteht die Schwierigkeit der Wärmeabführung. Die Wärmeabführung erfolgt in der Regel ausschließlich durch Strahlung, da eine Konvektionskühlung wegen des Fehlens einer Atmosphäre nicht möglich ist. Es gibt Fälle, bei denen in einer Vakuumkammer zusätzliche Strahlungsquellen vorhanden sind. So ist es bekannt, in einer Vakuumkammer Wärmestrahler zu installieren, die die Kammerwand erwärmen, um eine Desorption von Gasen, die sich auf der Kammerwand abgelagert haben, zu bewir ken. Wenn in der Vakuumkammer Wärmestrahlung vorhanden ist, gelangt stets ein Teil dieser Wärmestrahlung in die Vakuumpumpe. Vakuumpumpen, die für ein Hochvakuum geeignet sind, sind Molekularpumpen, wie beispielsweise Turbomolekularpumpen oder Kryopumpen. Damit derartige Pumpen ein hohes Saugvermögen haben, haben sie eine große Einlassöffnung. Normalerweise ist die Vakuumpumpe direkt an die Kammerwand des Vakuumraums angeflanscht, wobei zwischen dem Vakuumraum und der Vakuumpumpe ein Durchlass von großem Durchmesser besteht. Strahlung, die auf diesen Durchlass fällt, gelangt in den Pumpenraum der Vakuumpumpe und wird dort in Wärme umgesetzt, die nicht abgeführt werden kann. Eine Wärmeabführung durch Wärmeleitung scheitert bei einer Turbomolekularpumpe, die in Magnetlagern gelagert ist, daran, dass der Rotor keinen physischen Kontakt mit Statorbauteilen hat und daher die Wärme ausschließlich durch Strahlung abgeben kann. Im Falle einer Kryopumpe, die mit extrem niedrigen Temperaturen im Pumpenraum arbeitet, wird durch einfallende Strahlung die Pumpwirkung verschlechtert. Zwar hat eine Kryopumpe eine abschirmende Leitvorrichtung für einfallende Wärmestrahlung, jedoch befindet sich diese im Innern des Pumpengehäuses, so dass die von der Pumpe aufgenommene Wärme im Innern des Pumpengehäuses verbleibt.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vakuumkammer derart auszubilden, dass die tolerierbare Strahlung erhöht werden kann, ohne den Betrieb der Vakuumpumpe zu beeinträchtigen.
  • Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt erfindungsgemäß mit den im Patentanspruch 1 angegebenen Merkmalen. Hiernach ist der Durchlass, der den Vakuumraum mit der Vakuumpumpe verbindet, mit einem für Gase durchlässigen Strahlungsschirm bedeckt, der den Durchlass gegen aus dem Vakuumraum einfallende Wärmestrahlung abschirmt.
  • Der Strahlungsschirm, der im Vakuumraum angeordnet ist, verhindert, dass Wärmestrahlung aus dem Vakuumraum in den Durchlass und von dort in das Innere der Vakuumpumpe gelangt. Dabei wird natürlich nur jeweils der direkte Strahlenweg von einem Wärmestrahler in den Durchlass versperrt. Der Strahlungsschirm steht in wärmeleitendem Kontakt mit der Kammerwand und/oder mit dem Gehäuse der Vakuumpumpe, die beide von außen entweder durch Kontakt mit der Atmosphäre oder durch zusätzliche Kühlmaßnahmen gekühlt werden. Der Strahlenschirm kann Bestandteil der Vakuumkammer oder der Vakuumpumpe sein. Die von dem Strahlungsschirm absorbierte Wärme wird also nach außen dadurch abgeführt, dass der Strahlungsschirm in wärmeleitendem Kontakt mit einer wärmeabführenden Wand steht. Die Ankopplung an diese Wand erfolgt durch ein Kontaktelement aus gut wärmeleitendem Material wie Kupfer oder Aluminium. Ein solches Kontaktelement kann beispielsweise ein massiver Kontaktring sein oder auch eine flexible Leitung, z.B. eine vieldrähtige Litze. Dieses Kontaktelement kann mit Hilfsstoffen wie z.B. Wärmeleitpaste, Indium usw. zusätzlich kontaktiert sein.
  • Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass der Strahlungsschirm eine reflektierende Platte aufweist, die auf einem gitterförmigen Träger im Abstand über dem Durchlass gehalten wird. Die reflektierende Platte bewirkt ein Zurückwerfen der aus dem Vakuumraum einfallenden Wärmestrahlung auf die Kammerwand. Somit gelangt die Strahlung, die ursprünglich auf den Durchlass gerichtet war, nach Reflektion an den Ort, für den sie bestimmt ist. Eine reflektierende Platte hat einen geringen Absorptionsfaktor, so dass sie nur relativ wenig Wärme aufnimmt und sich nur langsam erwärmt. Dennoch ist eine wärmeleitende Wärmeabfuhr durch Kontakt der reflektierenden Platte mit anderen Bauteilen erforderlich, um zu bewirken, dass die Platte gekühlt wird, wenn ihre Temperatur über diejenige der Kammerwand angestiegen ist.
  • Der gitterförmige Träger, auf dem die reflektierende Platte angeordnet ist, kann aus einem Stabgitter oder einem Lochgitter bestehen. Wichtig ist, dass dieser Träger die Platte im Abstand über dem Durchlass hält und für Gase durchlässig ist.
  • Eine alternative Ausführungsform der Erfindung sieht vor, dass der Strahlungsschirm einen wärmeabsorbierenden Wärmespeicher enthält. Ein solcher Wärmespeicher enthält ein Material, das bei zunehmender Erwärmung einen Phasenwechsel von gasförmig nach flüssig durchführt und dabei Wärme absorbiert und speichert. Die so gespeicherte Wärme wird dann mit niedrigerem Temperaturniveau über einen längeren Zeitraum abgegeben.
  • Der Strahlungsschirm kann auch eine Lamellenstruktur aufweisen, die ein geradlinigen Strahlenweg zu dem Durchlass blockiert.
  • Im Folgenden werden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen Ausführungsbeispiele der Erfindung näher erläutert.
  • Es zeigen:
  • 1 eine Gesamtdarstellung der Vakuumkammer mit Vakuumraum und Vakuumpumpe in vertikaler Schnittdarstellung,
  • 2 eine schematische Darstellung des in dem Vakuumraum oberhalb der Kryopumpe angeordneten Strahlungsschildes, und
  • 3 drei verschiedene Ausführungsbeispiele für die Gestaltung des Strahlungsschirms.
  • In 1 ist eine Vakuumkammer 10 dargestellt, die einen Vakuumraum 11 aufweist, der von einer Kammerwand 12 umgeben ist. Die Kammerwand 12 weist einen Boden 13 auf, in dem ein Durchlass 14 ausgebildet ist, der zu einer Vakuumpumpe 15 führt. Der Durchlass 14 ist eine großflächige Öffnung, wodurch ein hohes Saugvermögen der Vakuumpumpe sichergestellt wird.
  • In dem Vakuumraum 11 sind Strahler 16 montiert, die eine Wärmestrahlung aussenden. Die Wärmestrahlung dient zur Desorption von Gasen, die sich aus dem Vakuumraum 11 an der Kammerwand 12 abgelagert haben. Diese Gase können durch Aufheizung der Kammerwand desorbiert werden. Zu diesem Zweck wird die Kammerwand von den Wärmestrahlern auf etwa 100°C erwärmt.
  • Um die Wärmestrahlung von der Vakuumpumpe 15 fern zu halten, ist über dem Durchlass 14 im Innern des Vakuumraums 11 ein Strahlungsschirm 17 angeordnet. Dieser schirmt die Strahlung ab, so dass sie nicht durch den Durchlass 14 in die Vakuumpumpe 15 gelangen kann, ist aber für Gase durchlässig.
  • In 2 ist der Durchlass 14 in dem Boden 13 dargestellt. Unmittelbar unter dem Durchlass 14 ist die Vakuumpumpe 15 mit dem Hochvakuumflansch 20 befestigt. Die Vakuumpumpe 15 ist im vorliegenden Fall eine Kryopumpe, die ein an dem Hochvakuumflansch 20 befestigtes Gehäuse 21 aufweist. Das Gehäuse 21 enthält einen topfförmigen gekühlten Strahlungsschutzschild 22, der die erste Stufe eines Kaltfingers bildet. Darin sind auf einem Stab 23 die Pumpflächen 24 in dem Pumpenraum 25 angeordnet. Die Pumpflächen 24 bilden die zweite Stufe der Kryopumpe. Sie haben eine Temperatur in der Größenordnung von 10 K.
  • Der Pumpenraum 25 ist mit einer aus Lamellen bestehenden Leitvorrichtung 26 bedeckt, die in der Eintrittsöffnung der Pumpe unterhalb des Hochvakuumflansches 20 angeordnet ist.
  • Dieses "Baffle" ist thermisch mit der 1. Stufe des Kaltfingers gekoppelt und dient zur Abschirmung der 2. Stufe gegen einfallende Wärmestrahlung.
  • Die Pumpe weist ferner einen Kühler 27 mit einem Kaltkopfmotor auf, der mit Helium-Gasanschlüssen 28 versehen ist.
  • Eine Vorvakuumpumpe wird an einen Vorvakuumanschluss 29 des Gehäuses 21 angeschlossen.
  • Die dargestellte Vakuumpumpe 15 ist eine Kryopumpe. Durch den Durchlass 14 gelangt Wärmestrahlung in das Innere der Vakuumpumpe, wodurch die Pumpleistung verringert wird.
  • Eine Verschlechterung des Betriebsverhaltens durch eingestrahlte Wärme ergibt sich auch bei anderen Hochvakuumpumpen, beispielsweise Turbomolekularpumpen. Bei diesen erwärmt sich der Rotor, der zur Schwingungsentkopplung häufig in Magnetlagern berührungslos gelagert ist. Daher ist eine Wärmeabfuhr durch Wärmeleitung nicht möglich. Aus diesem Grund muss zur Vermeidung von Überhitzungen Wärme von dem Rotor ferngehalten werden.
  • Erfindungsgemäß ist im Innern des Vakuumraumes 11 der Strahlungsschirm 17 angeordnet. Dieser weist eine über dem Durchlass 14 angeordnete Platte 30 auf, die reflektierend ausgebildet ist. Die Platte 30 ist an einem Träger 31 befestigt, der hier aus mehreren Beinen besteht. Am anderen Ende des Trägers befin det sich ein Kontaktring 32. Sowohl der Käfig 31 als auch der Kontaktring 32 bestehen aus gut wärmeleitendem Material wie Kupfer oder Aluminium. Sie dienen der Wärmeableitung von dem Strahlungsschirm 17 an die Kammerwand 12 oder das Gehäuse 21 der Vakuumpumpe. Diese Wände stehen mit der umgebenden At- mosphäre in Verbindung und werden daher gekühlt.
  • Anstelle des aus Stäben bestehenden gitterförmigen Trägers 31 kann auch eine andere Gitterstruktur vorgesehen sein, die zusätzlich das Eindringen gröberer Partikel verhindert und somit die Pumpe vor Beschädigungen schützt. Wichtig ist, dass der Träger 31 die Platte 30 im Abstand von dem Durchlass 14 hält und Wärme von der Platte 30 ableitet.
  • In den 3a, 3b und 3c sind jeweils alternative Ausführungsformen des Strahlungsschirmes 17 dargestellt. Der Strahlungsschirm besteht hierbei aus einem durchlässigen oder undurchlässigen ringförmigen Träger 31, dessen Stirnseite mit einer Lamellenstruktur 35 versehen ist. Die Lamellenstruktur 35 kann unterschiedliche Ausgestaltungen haben. Sie ist jeweils so ausgebildet, dass ein direkter Strahlungsdurchgang von einer Strahlenquelle in das Innere der Vakuumpumpe vermieden wird.
  • Alternativ zu den beschriebenen Ausführungsbeispielen kann die Wärmeableitung von dem Träger 31 auch durch einen flexiblen Strang aus gut wärmeleitendem Material bestehen, der den Strahlungsschirm 17 mit einer Komponente der Kammerwand 12 oder des Pumpengehäuses wärmeleitend verbindet.
  • Der Strahlungsschirm kann anstelle der Platte 30 eine Kapsel enthalten, die mit einem phasenwechselnden Material gefüllt ist und somit einen Wärmespeicher bildet, der die aus dem Vakuumraum 11 einfallende Strahlungswärme aufnimmt und speichert. Die Platte kann auch aus einem die Wärme gut speichernden Material gefertigt sein. Ein Phasenwechsel ist nicht zwingend notwendig.

Claims (6)

  1. Vakuumkammer mit einer einen Vakuumraum (11) begrenzenden Kammerwand (12), die einen zu einer Vakuumpumpe (15) führenden Durchlass (14) aufweist, dadurch gekennzeichnet , dass der Durchlass (14) mit einem für Gase durchlässigen Strahlungsschirm (17) bedeckt ist, der den Durchlass (14) gegen aus dem Vakuumraum (11) einfallende Wärmestrahlung ganz oder teilweise abschirmt.
  2. Vakuumkammer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Strahlungsschirm (17) in wärmeleitendem Kontakt mit einer wärmeabführenden Wand steht.
  3. Vakuumkammer nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Strahlungsschirm (17) eine reflektierende Platte (30) aufweist, die auf einem gitterförmigen Träger (31) im Abstand über dem Durchlass (14) gehalten wird.
  4. Vakuumkammer nach einem der Ansprüche 1–3, dadurch gekennzeichnet, dass der Strahlungsschirm (17) einen wärmeabsorbierenden Wärmespeicher enthält.
  5. Vakuumkammer nach einem der Ansprüche 1–4, dadurch gekennzeichnet, dass der Strahlungsschirm (17) eine Lamellenstruktur (35) aufweist, die einen geradlinigen Strahlenweg durch den Durchlass (14) blockiert.
  6. Vakuumkammer nach einem der Ansprüche 1–5, dadurch gekennzeichnet, dass der Strahlungsschirm (17) einen Kontaktring (32) aufweist, der in wärmeleitendem Kontakt mit der Kammerwand (12) und/oder dem Gehäuse (21) der Vakuumpumpe (15) steht.
DE2003117837 2003-04-16 2003-04-16 Vakuumkammer Withdrawn DE10317837A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2003117837 DE10317837A1 (de) 2003-04-16 2003-04-16 Vakuumkammer
PCT/EP2004/003525 WO2004092585A1 (de) 2003-04-16 2004-04-02 Vakuumkammer
TW093109541A TW200506207A (en) 2003-04-16 2004-04-07 Vacuum chamber

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2003117837 DE10317837A1 (de) 2003-04-16 2003-04-16 Vakuumkammer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10317837A1 true DE10317837A1 (de) 2004-11-04

Family

ID=33103502

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2003117837 Withdrawn DE10317837A1 (de) 2003-04-16 2003-04-16 Vakuumkammer

Country Status (3)

Country Link
DE (1) DE10317837A1 (de)
TW (1) TW200506207A (de)
WO (1) WO2004092585A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009059824A1 (de) * 2009-12-21 2011-06-22 Inficon GmbH, 50968 Verfahren und Vorrichtung zur Leckbestimmung
DE202011100428U1 (de) 2011-04-26 2011-07-14 Vacom Vakuum Komponenten & Messtechnik Gmbh Vorrichtung zum Schutz von vakuumtechnischen Einrichtungen

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011100311A1 (de) * 2011-05-03 2012-11-08 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vorrichtung mit einer Leitstruktur
GB2600479A (en) * 2020-11-02 2022-05-04 Edwards Vacuum Llc Cryopumps and inlet flow restrictors for cryopumps

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1128123A (en) * 1966-01-17 1968-09-25 Little Inc A Improvements in or relating to cryopumps, and cryopanels therefor
WO1998006943A1 (de) * 1996-08-09 1998-02-19 Leybold Vakuum Gmbh Kryopumpe
DE69510132T2 (de) * 1994-07-20 2000-01-05 Applied Materials, Inc. Vakuumkammer für Ultrahochvakuumbehandlung bei hoher Temperatur

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1051295A (de) *
US5537833A (en) * 1995-05-02 1996-07-23 Helix Technology Corporation Shielded cryogenic trap
JP3604228B2 (ja) * 1996-02-02 2004-12-22 アネルバ株式会社 真空排気装置
JPH09280174A (ja) * 1996-04-11 1997-10-28 Sony Corp クライオポンプ再生方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1128123A (en) * 1966-01-17 1968-09-25 Little Inc A Improvements in or relating to cryopumps, and cryopanels therefor
DE69510132T2 (de) * 1994-07-20 2000-01-05 Applied Materials, Inc. Vakuumkammer für Ultrahochvakuumbehandlung bei hoher Temperatur
WO1998006943A1 (de) * 1996-08-09 1998-02-19 Leybold Vakuum Gmbh Kryopumpe

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009059824A1 (de) * 2009-12-21 2011-06-22 Inficon GmbH, 50968 Verfahren und Vorrichtung zur Leckbestimmung
DE202011100428U1 (de) 2011-04-26 2011-07-14 Vacom Vakuum Komponenten & Messtechnik Gmbh Vorrichtung zum Schutz von vakuumtechnischen Einrichtungen

Also Published As

Publication number Publication date
TW200506207A (en) 2005-02-16
WO2004092585A1 (de) 2004-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60110061T2 (de) Thermoelektrischer entfeuchter
DE2644523C2 (de) Isolierende und durchsichtige Vorrichtung zur Abschirmung eines kalten Raumes von einem warmen Raum
EP1628109B1 (de) Kryostatanordnung
DE10361653B4 (de) Kühleinrichtung zum Abführen von Wärme von einer im Innenraum eines Flugzeuges angeordneten Wärmequelle
DE102005029151B4 (de) Kryostatanordnung mit Kryokühler
DE1938035C3 (de) Kältepumpe
DE602004000581T2 (de) Satellit einschliesslich Mittel zum Wärmetransport von einem Vorrichtungsgestell zu Radiatorpaneelen
EP0162971B1 (de) Projektionsbildröhre und Bildwiedergabeanordnung mit einer derartigen Bildröhre
DE3617762A1 (de) Mit dem kapillareffekt arbeitende waermeuebertragungs-koerper und waermeuebertragungssystem
DE202016103305U1 (de) Explosionsgeschützte Vorrichtung zum Temperieren von Wärmeträgerfluiden
DE102009031613A1 (de) Fluidkonvektions-Wärmeableitungsvorrichtung
EP1892810B1 (de) Kühleinrichtung für ein elektrisches Betriebsmittel
DE102004034729A1 (de) Kryostatanordnung mit Kryokühler und Gasspaltwärmeübertrager
DE10317837A1 (de) Vakuumkammer
DE102022112411A1 (de) Wärmetauscherpaneel zur Temperierung eines Raumes
EP1574777A2 (de) Supraleitendes Magnetsystem mit Refrigerator
DE102018127928A1 (de) Wärmetransporteinheit
DE29821758U1 (de) Kühlvorrichtung für Computerfunktionseinheiten
DE2912856A1 (de) Kryopumpe
DE2739514A1 (de) Tragbarer kuehlbehaelter
EP3409181B1 (de) Waschmaschine, insbesondere haushaltsgeschirrspülmaschine
EP1491987B1 (de) Kühlung eines Computerbauteils
EP2957772B2 (de) Vakuumpumpe
CH710198A1 (de) Kühlgerät mit Vereisungs- oder Kondensationsschutz.
DE102011121779A1 (de) Solarkollektor für eine Solarthermieanlage und Verfahren zur Begrenzung einer Stagnationstemperatur eines Sollarkollektors

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8110 Request for examination paragraph 44
8130 Withdrawal
R120 Application withdrawn or ip right abandoned

Effective date: 20110211