DE102017002154A1 - Schneidelement für ein Spanbearbeitungswerkzeug sowie Verfahren zur Herstellung eines solchen Schneidelementes - Google Patents
Schneidelement für ein Spanbearbeitungswerkzeug sowie Verfahren zur Herstellung eines solchen Schneidelementes Download PDFInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Schneidelement für ein Spanbearbeitungswerkzeug, insbesondere ein Fräswerkzeug (1), das zumindest eine spanabhebende Schneidkante (13) aufweist, wobei das Schneidelement (5) einen gesinterten Grundkörper (15) aufweist, bei dem Diamantkörner (17) in einem metallischen Binder (19), insbesondere aus Kobalt oder einer Kobaltlegierung, eingebettet sind. Erfindungsgemäß weist der gesinterte Grundkörper (15) einen Schichtaufbau (20) mit zumindest einer kobaltfreien oder binderfreien äußeren Diamantschicht (21) aus Diamantkörnern (25) auf, die zumindest im Bereich der Schneidkante (13) den Grundkörper (15) geschlossenflächig überdeckt.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Schneidelement für ein Spanbearbeitungswerkzeug nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1 sowie ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Schneidelementes nach dem Patentanspruch 6.
- Aus PKD (polykristalliner Diamant) hergestellte Schneidplatten oder Schneidelemente werden bei der Fräsbearbeitung von Nichteisen-Werkstücken, insbesondere aus Aluminiumlegierungen, verwendet. Derartige PKD-Schneidelemente weisen einen gesinterten Grundkörper auf, bei dem eine synthetisch hergestellte, extrem harte Masse von Diamantpartikeln mit Zufallsorientierung in einer Metallmatrix (nachfolgend auch metallischer Binder genannt) eingebettet ist. Als metallischer Binder wird beispielhaft Kobalt oder eine Kobaltlegierung verwendet. Die Korngröße der in der Metallmatrix eingebetteten Diamantkörner kann exemplarisch im µm-Bereich, etwa zwischen 2 µm bis 100 µm, liegen. Im Sinterprozess wird ein Metall-Graphit-Gemisch einem sehr hohen Prozessdruck sowie einer hohen Prozesstemperatur ausgesetzt, wodurch sich ein poröses Diamantnetzwerk bildet, bei dem die Diamantkörner durch relativ zu ihrer Korngröße kleinflächige Sinterhälse chemisch gebunden sind. Die verbliebenen Poren sind mit dem metallischen Binder gefüllt. Die Diamantkörner bewirken eine gesteigerte Härte des Schneidelementes, während die kobalthaltige Bindermatrix dem Schneidelement die erforderliche Zähigkeit verleiht.
- Die Standzeit eines PKD-Schneidelements hängt von der Material-Festigkeit der zu bearbeitenden Werkstücke ab. Bei hoher Material-Festigkeit ist die Standzeit entsprechend stark reduziert.
- Aus der
DE 10 2014 210 371 A1 ist ein spanabhebendes Werkzeug bekannt, das eine Substratoberfläche nicht aus PKD-Diamanten, sondern aus Hartstoffpartikeln auf Carbid-Basis aufweist, die in einer kobalthaltigen Bindermatrix eingebettet sind. Unmittelbar auf der Substratoberfläche ist eine Diamantschicht aufgetragen. Es hat sich gezeigt, dass zwischen der Diamantschicht und den Hartstoffpartikeln auf Carbid-Basis eine Graphitschicht entstehen kann. Diese wirkt im Zerspanungsprozess als Sollbruchstelle, an der die Diamantschicht abplatzen kann, was zu einer reduzierten Standzeit führt. - Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Schneidelement für ein Spanbearbeitungswerkzeug bereitzustellen, das aus einem polykristallinen Diamant (PKD) aufgebaut ist und dessen Standzeiten speziell bei der Bearbeitung von NE-Metallen, insbesondere Aluminiumwerkstoffen, in einfacher Weise erhöht ist.
- Die Aufgabe ist durch die Merkmale des Patentanspruches 1 oder 6 gelöst. Bevorzugte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen offenbart.
- Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, dass bei der Fräsbearbeitung eines Aluminium-Werkstückes mittels PKD-Schneidelementen eine chemische Affinität von Kobalt, das in der Metallmatrix enthalten ist, zum Aluminium vorliegt. Das heißt dass bei entsprechend hoher Zerspanungstemperatur Kobalt aus dem PKD-Schneidelement in den Aluminiumwerkstoff diffundiert. Die chemische Affinität steigt bei zunehmender Zerspanungstemperatur. Diese Reaktion erhöht die Reibung zwischen Span und Schneidkante. Die Schneidkante ist daher einer erhöhten mechanischen Belastung ausgesetzt, was eine erhöhte Schneidkanten-Festigkeit erforderlich macht. Der Abtrag der metallischen Binderphase führt jedoch zusätzlich zu einer Festigkeitsminderung der Schneidkante, und zwar aufgrund der Freilegung der Porosität der PKD-Struktur. Bei steigender Festigkeit des zu bearbeitenden Werkstoffs steigt also die Neigung zu Kantenbrüchen am Werkzeug.
- Vor diesem Hintergrund weist gemäß dem kennzeichnenden Teil des Anspruches 1 der gesinterte Grundkörper zur Erhöhung der Schneidelement-Verschleißfestigkeit einen Schichtaufbau mit zumindest einer kobaltfreien oder binderfreien Diamantschicht aus Diamantkörnern auf, die zumindest im Bereich der Schneidkante den gesinterten Grundkörper geschlossenflächig überdeckt. Mit Hilfe der Diamantschicht wird somit im Zerspanungsprozess ein direkter Kontakt des metallischen Binders mit einem zu bearbeitenden Werkstoff vermieden. Ein Diffundieren des metallischen Binders aus dem Schneidelement in den zu bearbeitenden Werkstoff (aufgrund chemischer Affinität) wird daher verhindert, wodurch die Standzeit des Werkzeugs im Vergleich zum Stand der Technik wesentlich erhöht ist.
- Erfindungsgemäß wird somit in völliger Abkehr zur bisherigen Lehrmeinung ein völlig neuer Lösungsweg beschritten, bei dem unmittelbar „Diamant auf Diamant“ aufgetragen wird, das heißt die Diamant-Porenstruktur des gesinterten Schneidelement-Grundkörpers in einem zusätzlichen Applikationsschritt nochmals mit Diamantkörner beaufschlagt wird.
- Ein solcher Materialauftrag „Diamant auf Diamant“ hat im Vergleich zum obigen Stand der Technik (das heißt Materialauftrag Diamant auf Hartstoffpartikel-Substrat auf Carbid-Basis) entscheidende Vorteile:
- So kann erfindungsgemäß eine Graphitschicht-Bildung zwischen der Diamantschicht und dem Substrat verhindert werden. Vielmehr verhält sich der Materialauftrag „Diamant auf Diamant“ wie ein durchgängig materialeinheitlicher Werkstoff, wodurch eine äußerst hohe Haftfestigkeit der Diamantschicht, ohne Gefahr von Abplatzern, erzielt wird.
- Zudem zeigen die im Applikationsschritt aufgetragenen Diamantkörner eine hohe Neigung, noch freie Zwischenräume der Diamant-Porenstruktur komplett auszufüllen, was die Schichthaftfestigkeit weiter erhöht. Ferner wird eine im Wesentlichen komplett gleichmäßige Schichtdicke der Diamantschicht erzielt, wodurch sich das Ausmaß der Nachbearbeitung reduziert.
- Darüber hinaus resultiert der Materialauftrag „Diamant auf Diamant“ in einer - im Vergleich zum Stand der Technik - äußerst geringen Druckeigenspannung der Diamantschicht, was sich ebenfalls positiv auf die Schichthaftfestigkeit auswirkt. Die geringe Druckeigenspannung ermöglicht eine im Vergleich zum Stand der Technik deutlich erhöhte Schichtdicke der Diamantschicht, und zwar ohne die Gefahr von Abplatzern. Zudem führt das Eindringen der Diamantschicht in die Poren zwischen den PKD-Diamantkörnern zu einer Vervielfachung der Diamant-Korngrenzen, was zu einer deutlichen Festigkeitssteigerung führt.
- Nachfolgend sind weitere Aspekte der Erfindung beschrieben: So ist in einer technischen Umsetzung das Diamantmaterial der Diamantschicht materialidentisch mit dem Diamantmaterial des gesinterten Grundkörpers. Auf diese Weise wird Schichthaftung der Diamantschicht auf dem gesinterten Grundkörper verbessert.
- Zur weiteren Steigerung der Schichthaftung sowie zur Ausbildung einer möglichst geschlossenflächigen Beschichtung ist es bevorzugt, wenn die durchschnittliche Korngröße der Diamantkörper im gesinterten Grundkörper beträchtlich größer ist als die Korngröße der Diamantkörner in der Diamantschicht. Die Diamant-Porenstruktur des gesinterten Körpers ist in diesem Fall aus Diamant-Grobkörnern aufgebaut, während im Applikationsschritt Diamant-Feinkörner aufgetragen werden. Entsprechend ist die Diamantschicht aus Diamant-Feinkörnern aufgebaut, deren durchschnittliche Korngröße im unteren µm-Bereich oder insbesondere sogar im nm-Bereich liegen kann. Demgegenüber kann die durchschnittliche Korngröße der Diamant-Grobkörner im µm-Bereich liegen.
- Zur weiteren Steigerung der Haftfestigkeit ist es bevorzugt, wenn der Schichtaufbau des gesinterten Grundkörpers zusätzlich eine binderfreie (das heißt kobaltfreie) Zwischenschicht aufweist, die zwischen dem Grundkörper und der äußeren Diamantschicht angeordnet ist.
- Die Diamantkörper des gesinterten Grundkörpers bilden die bereits erwähnte Diamant-Porenstruktur, deren Zwischenräume mit dem metallischen Binder ausgefüllt sind. Im Hinblick auf eine einfache Ausbildung der oben erwähnten Zwischenschicht ist es bevorzugt, wenn im oberflächennahen Bereich der Diamant-Porenstruktur der metallische Binder durch ein Füllmaterial ersetzt ist, um eine weitere zusätzliche Trennung zwischen dem metallischen Binder und dem zu bearbeitenden Werkstoff zu erzielen. Im Hinblick auf eine einfache Herstellung der Zwischenschicht ist es bevorzugt, wenn das Füllmaterial unmittelbar durch die Diamantkörner der Diamantschicht gebildet wird.
- In diesem Fall kann das Verfahren zur Herstellung eines Schneidelementes wie folgt durchgeführt werden: So kann zunächst in einem aus dem Stand der Technik bekannten Sinterprozessschritt ein gesinterter Grundkörper hergestellt werden, bei dem Diamantkörner im metallischen Binder eingebettet sind. Hierbei ist wichtig, dass eine ausreichende Anzahl von Diamant-Diamant-Korngrenzen im Sinterprozess entstehen, damit nach dem Wegätzen des metallischen Binders (das heißt der Binder-/Füllerphase) noch eine gewisse Festigkeit des verbleibenden PKD-Verbundes vorhanden ist.
- Nachfolgend kann ein Ätzschritt erfolgen, bei dem unter Bildung einer oberflächennahen offenen Porenstruktur im gesinterten Grundkörper der metallische Binder aus dem oberflächennahen Bereich des Grundkörpers entfernt wird.
- Anschließend kann ein Applikationsschritt erfolgen, bei dem die Diamantschicht insbesondere durch eine chemische Phasenabscheidung (CVD) auf den gesinterten Grundkörper aufgetragen wird. In diesem Fall werden die aufgetragenen Diamantkörner zunächst als Füllmaterial in die oberflächennahe offene Porenstruktur des gesinterten Grundkörpers infiltriert, wodurch sich die Zwischenschicht bildet. Im weiteren Verlauf der CVD-Applikation bauen die aufgetragenen Diamantkörner die äußere Diamantschicht auf.
- Nach erfolgter Applikation der Zwischenschicht sowie der Diamantschicht kann gegebenenfalls ein Nachbearbeitungsschritt durchgeführt werden, bei dem zum Beispiel durch einen Schleifprozess Material bis auf ein Endmaß des Schneidelementes abgetragen wird. Die Schichtdicke der Diamantschicht ist bevorzugt derart bemessen, dass der im Nachbearbeitungsschritt erfolgende Materialabtrag kleiner als die Schichtdicke der äußeren Diamantschicht ist.
- Nachfolgend ist ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der beigefügten Figuren beschrieben:
- Es zeigen:
-
1 in einer Seitenansicht ein Fräswerkzeug; -
2 eine stark vergrößerte Schnittdarstellung durch ein Schneidelement entlang der Schnittebene A-A aus der1 ; -
3 bis6 jeweils Ansichten entsprechend der2 , die Prozessschritte zur Herstellung eines in der2 gezeigten Schneidelementes veranschaulichen. - In der
1 ist exemplarisch ein Fräswerkzeug1 gezeigt, dessen Werkzeugachse W senkrecht zu einer zu bearbeitenden Werkstückoberfläche3 ausgerichtet ist. Das Fräswerkzeug1 weist umfangsseitig gleichmäßig verteilte Schneidelemente5 auf. Diese sind am Außenumfang mit Umfangsschneiden7 (2 ) sowie stirnseitig am Fräswerkzeug1 mit Stirnschneiden ausgebildet, die der Werkstückoberfläche 3 zugewandt sind. Im dargestellten Fräsbetrieb wird das Fräswerkzeug1 mit einer Rotationsbewegung R um die Werkzeugachse W angetrieben. Zudem wird das Fräswerkzeug1 mit einer Vorschubbewegung V (1 ) quer zur Werkzeugachse W sowie entlang der Werkstückoberfläche3 angetrieben. Auf diese Weise zerspant das Fräswerkzeug1 den Werkstoff hauptsächlich mit den Umfangsschneiden7 , während die Stirnschneiden lediglich die bearbeitete Werkstückoberfläche9 glattschaben. - In der
2 ist der Materialaufbau eines der Schneidelemente5 dargestellt, und zwar entlang der Schnittebene A-A aus der1 . Demzufolge weist das Schneidelement5 eine in Drehrichtung R des Fräswerkzeugs1 vorauseilende Spanfläche9 sowie eine in der Werkzeug-Drehrichtung R nacheilende Freifläche11 auf, die an einer Schneidkante13 der Umfangsschneide7 zusammenlaufen. In der2 ist das Schneidelement 5 aus einem gesinterten Grundkörper15 ausgebildet, bei dem Diamant-Grobkörner17 in einem metallischen, kobalthaltigen Binder19 eingebettet sind. Die Diamant-Grobkörner17 sind zueinander in Punktkontakt, wodurch sich ein poröses Diamantnetzwerk (nachfolgend auch Diamant-Porenstruktur) bildet, bei dem die Diamantkörner durch relativ zu ihrer Korngröße kleinflächige Sinterhälse chemisch gebunden sind. Die verbliebenen Poren (oder Zwischenräume) sind mit dem metallischen Binder 19 gefüllt. - Auf dem gesinterten Grundkörper
15 ist ein Doppelschichtaufbau20 (2 ) aufgebracht, der aus einer kobaltfreien bzw. binderfreien äußeren Diamantschicht21 sowie einer Zwischenschicht23 besteht, die zwischen der äußeren Diamantschicht21 und dem gesinterten Grundkörper15 angeordnet ist. Die Diamantschicht21 weist in der2 eine Schichtdicke s3 auf, die den gesinterten Grundkörper15 sowie die Zwischenschicht23 geschlossenflächig überdeckt. Auf diese Weise wird im Zerspanungsprozess ein direkter Kontakt des im metallischen Binder19 enthaltenen Kobalts mit dem zu bearbeitenden Aluminium-Werkstoff des Werkstückes3 vermieden. - Die Diamantschicht
21 ist aus Diamant-Feinkörnern25 gebildet, deren durchschnittliche Korngröße wesentlich geringer ist als die durchschnittliche Korngröße der Diamant-Grobkörner17 im gesinterten Grundkörper15 . - Die binderfreie (das heißt kobaltfreie) Zwischenschicht
23 ist im Hinblick auf eine gesteigerte Haftfestigkeit der Diamantschicht21 sowie für eine Steigerung der Festigkeit des PKD-Verbundes (das heißt des Grundkörpers 15) vorgesehen. In der Zwischenschicht23 ist die Diamant-Porenstruktur im oberflächennahen Bereich des gesinterten Grundkörpers15 nicht mehr mit dem metallischen Binder19 aufgefüllt, sondern ist dieser vielmehr durch die Diamant-Feinkörner25 der Diamantschicht21 ersetzt. Die Diamant-Feinkörrter 25 der Diamantschicht21 sind daher als Füllmaterial in die oberflächennahe Diamant-Porenstruktur des gesinterten Körpers15 infiltriert. - Nachfolgend sind anhand der
3 bis6 die Prozessschritte zur Herstellung des in der2 gezeigten Schneidelement-Materialaufbaus erläutert: Zunächst wird in der3 der gesinterte Grundkörper15 in einem Sinterprozess bereitgestellt. Die Ausgangskomponente für den Sinterprozess bildet ein Metall-Graphit-Gemisch, das einem sehr hohen Prozessdruck sowie einer sehr hohen Prozesstemperatur ausgesetzt wird. Auf diese Weise bildet sich die Diamant-Porenstruktur mit den Diamant-Grobkörnern17 , die in dem metallischen Binder19 vollständig eingebettet sind. - Anschließend erfolgt in der
4 ein Ätzschritt. Im Ätzschritt wird eine oberflächennahe offene Diamant-Porenstruktur27 im gesinterten Grundkörper15 gebildet, indem der metallische Binder19 aus einem oberflächennahen Bereich des gesinterten Grundkörpers15 weggeätzt wird. Die offene Diamant-Porenstruktur27 weist in der4 eine Schichtdicke s1 auf. - Beispielhaft ist aus der
ein derartiger Ätzschritt bekannt (um eine ausreichende Schichthaftung der Diamantschicht auf Hartmetall herzustellen). Aus derWO 2004/031437 A1 DE 195 22 371 A1 ist ebenfalls bekannt, vor dem Aufbringen einer Diamantschicht einen kobaltselektiven Ätzschritt mit anschließender Reinigung der geätzten Substratoberfläche bereitzustellen. In gleicher Weise ist auch aus derUS 6 096 377 A1 ein Verfahren zur Diamant-Beschichtung eines Hartmetallsubstrates bekannt, bei dem ein kobaltselektiver Ätzschritt eingesetzt wird. Aus der ist zudem ein chemischer Ätzschritt bekannt, bei dem der metallische Binder, insbesondere das darin enthaltene Kobalt, entfernt wird.WO 2004/031437 A1 - Danach folgt ein Applikationsschritt (
5 ), bei dem der gesinterte Grundkörper15 mit der binderfreien, das heißt kobaltfreien Diamantschicht 21 beschichtet wird. Der Applikationsschritt wird durch Aufbringen eines polykristallinen Diamantfilmes mittels chemischer Dampfphasenabscheidung (CVD) durchgeführt. Ein derartiges Verfahren ist beispielhaft aus derUS 5 082 359 A bekannt. Aus der ist ebenfalls ein Abscheiden eines polykristallinen Diamantfilms auf einem Hartmetallsubstrat aus einer in eine Kobaltmatrix eingebetteten Wolframcarbid bekannt (WO 98/35071 A1 ).WO 2004/031437 A1 - Der Applikationsschritt gemäß der
5 wird zweistufig durchgeführt: Zunächst werden die Diamant-Feinkörner25 als Füllmaterial in die offene Porenstruktur27 des gesinterten Grundkörpers15 infiltriert, wodurch sich die Zwischenschicht23 bildet. Im weiteren Verlauf der CVD-Applikation wird anschließend durch die Diamant-Feinkörner25 die Diamantschicht21 mit einer Schichtdicke s2 aufgebaut. - Gegebenenfalls kann nachfolgend ein in der
6 gezeigter Nachbearbeitungsschritt erfolgen, bei dem in einem Schleifprozess ein Materialabtrag Δx erfolgt, um das Schneidelement5 auf ein Endmaß zu fertigen. Der Materialabtrag Δx ist in der6 kleiner als die Schichtdicke s3 der Diamantschicht21 bemessen. Auf diese Weise ist gewährleistet, dass auch nach der Endbearbeitung eine Restschichtdicke s3 der Diamantschicht 21 verbleibt, um ein Diffundieren von Kobalt in das Aluminium-Material des Werkstückes3 zuverlässig zu verhindern. - Zusammenfassend wird erfindungsgemäß eine haftfähige, bevorzugt sub-µm-kristalline Diamantschicht
21 auf das PKD-Schneidelement abgeschieden, um die Festigkeit des Schneidelements an den Schneidkanten zu erhöhen. Die Schichtdicke der Diamantschicht21 kann beispielhaft 7 µm betragen, wobei eine einwandfreie Schichtanbindung ohne die Gefahr von Abplatzen erzielt wird. Aufgrund der Materialidentität zwischen der Diamantschicht21 und der Diamant-Porenstruktur in der Zwischenschicht23 sowie im gesinterten Grundkörper15 ergibt sich in der Diamantschicht21 eine äußerst geringe Druckeigenspannung, wodurch die Diamantschicht21 deutlich dicker aufgetragen werden kann als bei einem vergleichbaren gesinterten Grundkörper aus Hartmetall, ohne dass dies für die Stabilität der Schneidkante kritisch ist. - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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- Zitierte Patentliteratur
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- DE 102014210371 A1 [0004]
- WO 2004/031437 A1 [0031, 0032]
- DE 19522371 A1 [0031]
- US 6096377 A1 [0031]
- US 5082359 A [0032]
- WO 9835071 A1 [0032]
Claims (11)
- Schneidelement für ein Spanbearbeitungswerkzeug, insbesondere ein Fräswerkzeug (1), das zumindest eine spanabhebende Schneidkante (13) aufweist, wobei das Schneidelement (5) einen gesinterten Grundkörper (15) aufweist, bei dem Diamantkörner (17) in einem metallischen Binder (19), insbesondere aus Kobalt oder einer Kobaltlegierung, eingebettet sind, dadurch gekennzeichnet, dass zur Erhöhung der Verschleißfestigkeit der gesinterte Grundkörper (15) einen Schichtaufbau (20) mit zumindest einer kobaltfreien oder binderfreien äußeren Diamantschicht (21) aus Diamantkörnern (25) aufweist, die zumindest im Bereich der Schneidkante (13) den Grundkörper (15) geschlossenflächig überdeckt, und dass insbesondere mittels der Diamantschicht (21) bei der Spanbearbeitung ein direkter Kontakt des metallischen Binders (19) mit einem zu bearbeitenden Werkstoff vermieden wird.
- Schneidelement nach
Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass das Diamantmaterial der Diamantschicht (21) materialidentisch mit dem Diamantmaterial des gesinterten Grundkörpers (15) ist, und dass insbesondere das Diamantmaterial PKD ist. - Schneidelement nach
Anspruch 1 oder2 , dadurch gekennzeichnet, dass die durchschnittliche Korngröße der Diamantkörner (17) im gesinterten Grundkörper (15) größer ist als die durchschnittliche Korngröße der Diamantkörner (25) in der Diamantschicht (21). - Schneidelement nach
Anspruch 1 ,2 oder3 , dadurch gekennzeichnet, dass der Schichtaufbau (20) des Grundkörpers (15) eine binderfreie oder kobaltfreie Zwischenschicht (23) aufweist, die zwischen dem Grundkörper (15) und der Diamantschicht (21) angeordnet ist, und dass insbesondere die binderfreie oder kobaltfreie Zwischenschicht (23) sowohl aus den Diamantkörnern (17, 25) der Diamantschicht (21) als auch des gesinterten Grundkörpers (15) besteht. - Schneidelement nach
Anspruch 4 , dadurch gekennzeichnet, dass die Diamantkörner (17) des gesinterten Grundkörpers (15) eine Diamant-Porenstruktur bilden, deren Zwischenräume mit dem metallischen Binder (19) ausgefüllt sind, und dass insbesondere zur Bildung der Zwischenschicht (23) im oberflächennahen Bereich der Diamant-Porenstruktur der metallische Binder (19) durch ein Füllmaterial ersetzt ist, und dass insbesondere das Füllmaterial die Diamantkörner (25) der Diamantschicht (21) sind. - Verfahren zur Herstellung eines Schneidelements (5) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, mit einem Sinterprozessschritt, bei dem ein Grundkörper (15) gesintert wird, in dem Diamantkörner, insbesondere Diamant-Grobkörper (17), in einem metallischen Binder (19), insbesondere aus Kobalt bzw. Kobaltlegierung, eingebettet sind, und mit einem nachfolgenden Applikationsschritt, bei dem der gesinterte Grundkörper (15) mit einer kobaltfreien oder binderfreien Diamantschicht (21) aus Diamantkörnern (25) beschichtet wird.
- Verfahren nach
Anspruch 6 , dadurch gekennzeichnet, dass im Applikationsschritt Diamantkörner, insbesondere Diamant-Feinkörner (25), unter Bildung der Diamantschicht (21) durch eine chemische Gasphasenabscheidung (CVD) auf den gesinterten Grundkörper (15) aufgetragen wird. - Verfahren nach
Anspruch 6 oder7 , dadurch gekennzeichnet, dass vor Durchführung des Applikationsschritts ein Vorbehandlungsschritt, insbesondere Ätzschritt, erfolgt, bei dem unter Bildung einer oberflächennahen offenen Porenstruktur (27) der metallische Binder (19) aus einem oberflächennahen Bereich des Grundkörpers (15) entfernt wird. - Verfahren nach
Anspruch 8 , dadurch gekennzeichnet, dass in einem Füllschritt die offene Porenstruktur (27) des Grundkörpers (15) mit einem Füllmaterial aufgefüllt wird, und zwar unter Bildung einer Zwischenschicht (23). - Verfahren nach
Anspruch 9 , dadurch gekennzeichnet, dass der Füllschritt und der Applikationsschritt gemeinsam durchgeführt werden, wobei die Diamantkörner (25) der Diamantschicht (21) zunächst als Füllmaterial in die offene Porenstruktur (27) des Grundkörpers (15) infiltriert werden, und zwar unter Bildung der Zwischenschicht (23), und anschließend im weiteren Verlauf der Applikation der Diamantkörner (25) die äußere Diamantschicht (21) aufbauen. - Verfahren nach einem der
Ansprüche 6 bis10 , dadurch gekennzeichnet, dass in einem Nachbearbeitungsschritt eine Nachbearbeitung des Schneidelements (5), insbesondere ein Schleifen, mit einem Materialabtrag (Δx) bis auf ein Endmaß des Schneidelements (5) erfolgt, und dass insbesondere der Materialabtrag (Δx) kleiner als die Schichtdicke (s3) der Diamantschicht (21) ist.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114929008A (zh) * | 2019-11-25 | 2022-08-19 | 森拉天时卢森堡有限公司 | 切割元件、其用途及具有其的移动切割设备 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0619382A1 (de) | 1993-04-09 | 1994-10-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Hartgesintertes Werkzeug, und Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE19629456C1 (de) | 1996-07-23 | 1997-11-20 | Fraunhofer Ges Forschung | Werkzeug, insbesondere für die spanende Materialbearbeitung |
| DE19731018C2 (de) | 1997-07-18 | 1999-05-12 | Fraunhofer Ges Forschung | Dentalwerkzeug |
| DE102013218446A1 (de) | 2013-09-13 | 2015-03-19 | Cemecon Ag | Werkzeug sowie Verfahren zum Zerspanen von faserverstärktenMaterialien |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5082359A (en) | 1989-11-28 | 1992-01-21 | Epion Corporation | Diamond films and method of growing diamond films on nondiamond substrates |
| KR0131421B1 (ko) | 1994-10-17 | 1998-04-18 | 김광호 | 하드디스크 드라이브의 액츄에이터 고정장치 |
| ATE365815T1 (de) | 1997-02-05 | 2007-07-15 | Cemecon Ag | Beschichtungsvorrichtung |
| US6096377A (en) | 1997-11-07 | 2000-08-01 | Balzers Hochvakuum Ag | Process for coating sintered metal carbide substrates with a diamond film |
| US6344149B1 (en) * | 1998-11-10 | 2002-02-05 | Kennametal Pc Inc. | Polycrystalline diamond member and method of making the same |
| WO2004031437A1 (de) | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Cemecon Ag | Beschichtungsverfahren und beschichteter körper |
| CN101476445A (zh) * | 2008-12-24 | 2009-07-08 | 陈继锋 | 覆盖cvd金刚石层的钻探用金刚石复合片及制作方法 |
| US20140060937A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Diamond Innovations, Inc. | Polycrystalline diamond compact coated with high abrasion resistance diamond layers |
| DE102014210371A1 (de) | 2014-06-02 | 2015-12-03 | Gühring KG | Diamantbeschichtetes spanabhebendes Werkzeug und Verfahren zu seiner Herstellung |
| CN105349965B (zh) * | 2015-11-03 | 2018-05-29 | 富耐克超硬材料股份有限公司 | 一种聚晶金刚石复合片及其制备方法 |
-
2017
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-
2018
- 2018-03-01 WO PCT/EP2018/055057 patent/WO2018162321A1/de not_active Ceased
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0619382A1 (de) | 1993-04-09 | 1994-10-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Hartgesintertes Werkzeug, und Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE19629456C1 (de) | 1996-07-23 | 1997-11-20 | Fraunhofer Ges Forschung | Werkzeug, insbesondere für die spanende Materialbearbeitung |
| DE19731018C2 (de) | 1997-07-18 | 1999-05-12 | Fraunhofer Ges Forschung | Dentalwerkzeug |
| DE102013218446A1 (de) | 2013-09-13 | 2015-03-19 | Cemecon Ag | Werkzeug sowie Verfahren zum Zerspanen von faserverstärktenMaterialien |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114929008A (zh) * | 2019-11-25 | 2022-08-19 | 森拉天时卢森堡有限公司 | 切割元件、其用途及具有其的移动切割设备 |
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