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DE102008056315A1 - Device for homogenization of laser radiation, has substrates with lens arrays, where substrates are partly made from lutetium aluminum garnet, germanium garnet or ceramic spinel - Google Patents

Device for homogenization of laser radiation, has substrates with lens arrays, where substrates are partly made from lutetium aluminum garnet, germanium garnet or ceramic spinel Download PDF

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DE102008056315A1
DE102008056315A1 DE200810056315 DE102008056315A DE102008056315A1 DE 102008056315 A1 DE102008056315 A1 DE 102008056315A1 DE 200810056315 DE200810056315 DE 200810056315 DE 102008056315 A DE102008056315 A DE 102008056315A DE 102008056315 A1 DE102008056315 A1 DE 102008056315A1
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laser radiation
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substrate
garnet
lenses
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DE200810056315
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German (de)
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Lutz Dr. Aschke
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Focuslight Germany GmbH
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Limo Patentverwaltung GmbH and Co KG
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Abstract

The device has a substrates (1,2) with lens arrays (3,4), where the substrates are partly made from lutetium aluminum garnet, a germanium garnet or a ceramic spinel. The lenses (5,6) of the lens arrays are formed as cylindrical lens. An independent claim is included for a device for forming laser radiation, particularly a gauss-shaped intensity distribution.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie eine Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 6.The The present invention relates to a device for homogenization of laser radiation according to the preamble of claim 1 and an apparatus for shaping laser radiation according to the generic term of claim 6.

Definitionen: In Ausbreitungsrichtung der Laserstrahlung meint mittlere Ausbreitungsrichtung der Laserstrahlung, insbesondere wenn diese keine ebene Welle ist oder zumindest teilweise divergent ist. Mit Laserstrahl, Lichtstrahl, Teilstrahl oder Strahl ist, wenn nicht ausdrücklich anderes angegeben ist, kein idealisierter Strahl der geometrischen Optik gemeint, sondern ein realer Lichtstrahl, wie beispielsweise ein Laserstrahl mit einem Gauß-Profil oder einem modifizierten Gauß-Profil, der keinen infinitesimal kleinen, sondern einen ausgedehnten Strahlquerschnitt aufweist. Mit Top-Hat-Verteilung oder Top-Hat-Intensitätsverteilung oder Top-Hat-Profil ist eine Intensitätsverteilung gemeint, die sich zumindest hinsichtlich einer Richtung im Wesentlichen durch eine Rechteckfunktion (rect (x)) beschreiben lässt. Dabei sollen reale Intensitätsverteilungen, die Abweichungen von einer Rechteckfunktion im Prozentbereich beziehungsweise geneigte Flanken aufweisen, ebenfalls als Top-Hat-Verteilung oder Top-Hat-Profil oder als Top-Hat ähnliche Verteilungen bezeichnet werden. Insbesondere sollen auch sogenannte Multi-Gauß-Verteilungen als Top-Hat ähnliche Verteilungen bezeichnet werden.definitions: In the propagation direction of the laser radiation means mean propagation direction the laser radiation, especially if this is not a plane wave or at least partially divergent. With laser beam, light beam, Partial beam or beam is, unless otherwise specified, no idealized ray of geometric optics meant, but a real light beam, such as a laser beam with a Gaussian profile or a modified Gaussian profile, not an infinitesimal small, but an extended beam cross-section having. With top hat distribution or top hat intensity distribution or top hat profile is meant to be an intensity distribution at least in one direction essentially by one Rectangular function (rect (x)) can be described. Here, real intensity distributions, the deviations from a rectangular function in the percentage range or have inclined flanks, also as a top hat distribution or top hat profile or similar to a top hat Distributions are called. In particular, so-called Multi-Gaussian distributions similar to a top hat Distributions are called.

Eine Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung der eingangs genannten Art sowie eine Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung der eingangs genannten Art sind bekannt. Wenn derartige Vorrichtungen für Lithographieverfahren verwendet werden, wird in der Regel ein Excimer-Laser mit einer Wellenlänge von 193 nm benutzt. Um für UV-Strahlung dieser Wellenlänge transparent zu sein, sind die Substrate der Vorrichtungen in der Regel aus Quarzglas oder Kalziumfluorid gefertigt.A Device for the homogenization of laser radiation of the beginning mentioned type and a device for shaping laser radiation of The aforementioned type are known. If such devices for lithographic processes usually used is an excimer laser with a wavelength used by 193 nm. Um for UV radiation this wavelength Being transparent, the substrates of the devices are in the Usually made of quartz glass or calcium fluoride.

Als nachteilig bei der Verwendung derartiger Materialien erweist sich, dass Quarzglas oder Kalziumfluorid bei großen Laserleistungen vergleichsweise geringe Standzeiten aufweisen, weil die Substrate aufgrund von Absorptionen und Materialabtrag zerstört werden.When disadvantageous in the use of such materials proves that quartz glass or calcium fluoride comparatively at high laser powers have low lifetimes, because the substrates due to absorptions and material removal destroyed become.

Das der vorliegenden Erfindung zugrunde liegende Problem ist die Schaffung von Vorrichtung der eingangs genannten Arten, die bei hohen Laserleistungen robuster sind.The The problem underlying the present invention is the creation of device of the aforementioned types, which at high laser powers are more robust.

Dies wird erfindungsgemäß hinsichtlich der Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung durch eine Vorrichtung der eingangs genannten Art mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 1 sowie hinsichtlich der Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung durch eine Vorrichtung der eingangs genannten Art mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 6 gelöst. Die Unteransprüche betreffen bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung.This is according to the invention in terms the device for homogenizing laser radiation by a Device of the type mentioned above with the characterizing features of claim 1 and with regard to the device for forming Laser radiation by a device of the type mentioned solved with the characterizing features of claim 6. The under claims relate to preferred embodiments of the invention.

Gemäß Anspruch 1 und Anspruch 6 ist vorgesehen, dass das mindestens eine Substrat zumindest teilweise aus Lutetium-Aluminium-Granat oder aus einem Germanium-Granat oder aus einem keramischen Spinell besteht. Derartige Materialien sind einerseits stabiler und neigen nicht so stark zur Zerstörung bei Absorption großer Laserleistungen wie beispielsweise Kalziumfluorid. Andererseits weisen diese Materialien einen größeren Brechungsindex auf als Quarzglas oder Kalziumfluorid, so dass flachere Strukturen die gleichen Wirkungen erzielen können. Dies führt dazu, dass das mindestens eine Substrat dünner und weniger stark gekrümmt sein kann, als die aus Quarzglas oder Kalziumfluorid bestehenden Substrate. Dies führt wiederum zu einer geringeren absoluten Absorption und damit zu einem geringeren Materialabtrag.According to claim 1 and claim 6 it is provided that the at least one substrate at least partially made of lutetium-aluminum garnet or a germanium garnet or a ceramic spinel consists. On the one hand, such materials are more stable and tend not so much for destruction when absorbing large Laser powers such as calcium fluoride. on the other hand these materials have a higher refractive index than Quartz glass or calcium fluoride, so that flatter structures the same Can achieve effects. this leads to in that the at least one substrate may be thinner and less curved, as the substrates made of quartz glass or calcium fluoride. this leads to again to a lower absolute absorption and thus to a lower one Material removal.

Damit eignen sich diese Materialien sehr gut für Vorrichtungen zur Homogenisierung und zur Formung von Laserlicht in Beleuchtungssystemen von Steppern für die Lithographie. Der Lithographieprozess kann durch die erfindungsgemäßen Vorrichtungen mit größeren Laserleistungen erfolgen, so dass er insgesamt schneller werden kann.In order to These materials are very well suited for homogenization devices and for shaping laser light in illumination systems of steppers for the Lithograph. The lithographic process can be performed by the devices according to the invention with larger laser powers done so that it can be faster overall.

Weitere Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden deutlich anhand der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die beiliegenden Abbildungen. Darin zeigenFurther Features and advantages of the present invention will become apparent with reference to the following description of preferred embodiments with reference to the attached figures. Show in it

1 eine Seitenansicht einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung; 1 a side view of an apparatus according to the invention for the homogenization of laser radiation;

2 eine Seitenansicht einer ersten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung; 2 a side view of a first embodiment of an apparatus according to the invention for shaping laser radiation;

3 eine Seitenansicht einer zweiten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung; 3 a side view of a second embodiment of an apparatus according to the invention for shaping laser radiation;

In den Figuren sind zur besseren Orientierung kartesische Koordinatensysteme eingezeichnet. Von links in den Figuren, beziehungsweise in positiver Z-Richtung kann Laserstrahlung 10, beispielsweise von einem Excimer-Laser auf die erfindungsgemäßen Vorrichtungen auftreffen.In the figures, Cartesian coordinate systems are shown for better orientation. From the left in the figures, or in the positive Z-direction can laser radiation 10 For example, impinge on the inventive devices by an excimer laser.

Die aus 1 ersichtliche Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Homogenisierung umfasst ein erstes Substrat 1 und ein zweites Substrat 2. Die Substrate 1, 2 sind aus Lutetium-Aluminium-Granat oder aus einem Germanium-Granat oder aus einem keramischen Spinell gefertigt.From 1 apparent embodiment of a device according to the invention for homogenous nisierung comprises a first substrate 1 and a second substrate 2 , The substrates 1 . 2 are made of lutetium-aluminum garnet or a germanium garnet or a ceramic spinel.

Jedes der Substrate 1, 2 weist eine, in 1 jeweils links angeordnete, Eintrittsfläche und eine, in 1 jeweils rechts angeordnete, Austrittsfläche für das zu homogenisierende Licht auf.Each of the substrates 1 . 2 has one, in 1 each on the left arranged, entrance surface and one, in 1 each arranged on the right, exit surface for the light to be homogenized.

Auf einem jeden der Substrate 1, 2 ist ein Linsenarray 3, 4 angeordnet. Dabei ist das erste Linsenarray 3 als Array von konvexen Linsen 5 auf der Austrittsseite des Substrates 1 ausgebildet. Die Eintrittsseite ist nicht mit konkaven oder konvexen Strukturen versehen, so dass sich insgesamt ein Array von plankonvexen Linsen ergibt. In 1 sind zur Vereinfachung nur drei Linsen 5 eingezeichnet, es besteht jedoch durchaus die Möglichkeit, deutlich mehr Linsen 5 als drei vorzusehen.On each of the substrates 1 . 2 is a lens array 3 . 4 arranged. Here is the first lens array 3 as an array of convex lenses 5 on the exit side of the substrate 1 educated. The entrance side is not provided with concave or convex structures, resulting in an overall array of plano-convex lenses. In 1 are for simplicity only three lenses 5 However, there is certainly the possibility of significantly more lenses 5 to provide as three.

Das zweite Linsenarray 4 ist als Array von konvexen Linsen 6 auf der Eintrittsseite des Substrates 2 ausgebildet. Die Austrittsseite ist nicht mit konkaven oder konvexen Strukturen versehen, so dass sich insgesamt ein Array von plankonvexen Linsen ergibt. Auch hier besteht durchaus die Möglichkeit, deutlich mehr Linsen 6 als drei vorzusehen.The second lens array 4 is as an array of convex lenses 6 on the entrance side of the substrate 2 educated. The exit side is not provided with concave or convex structures, resulting in an overall array of plano-convex lenses. Again, there is quite a possibility, significantly more lenses 6 to provide as three.

Das erste Substrat 1 mit dem ersten Linsenarray 3 bildet eine erste Homogenisiererstufe. Das zweite Substrat 2 mit dem zweiten Linsenarray 4 bildet eine zweite Homogenisiererstufe.The first substrate 1 with the first lens array 3 forms a first Homogenisiererstufe. The second substrate 2 with the second lens array 4 forms a second Homogenisiererstufe.

Die Linsen 5, 6 sind jeweils als Zylinderlinsen ausgebildet, deren Zylinderachsen sich in Y-Richtung erstrecken. Somit homogenisiert die Vorrichtung die in Z-Richtung propagierende Laserstrahlung nur hinsichtlich der X-Richtung. Um eine Homogenisierung auch hinsichtlich der Y-Richtung zu erzielen, könnte eine ähnlich aufgebaute Vorrichtung mit Zylinderlinsen, deren Zylinderachsen sich in X-Richtung erstrecken, hinter der abgebildeten Vorrichtung angeordnet werden. Weiterhin besteht beispielsweise auch die Möglichkeit, die Substrate der auf die X-Richtung und die Y-Richtung wirkenden Vorrichtungen abwechselnd anzuordnen. Weiterhin könnte vorgesehen sein, Zylinderlinsen mit sich in X-Richtung erstreckenden Zylinderachsen auf der Eintrittsfläche und Zylinderlinsen mit sich in Y- Richtung erstreckenden Zylinderachsen auf der Austrittsfläche der einzelnen Substrate vorzusehen. Auch auf diese Weise könnte eine Homogenisierung hinsichtlich beider Richtungen X, Y erreicht werden.The lenses 5 . 6 are each formed as cylindrical lenses whose cylinder axes extend in the Y direction. Thus, the device homogenizes the propagating in the Z direction laser radiation only in the X direction. In order to achieve homogenization also with respect to the Y direction, a similarly constructed device with cylindrical lenses whose cylinder axes extend in the X direction could be arranged behind the imaged device. Furthermore, for example, it is also possible to alternately arrange the substrates of the devices acting in the X direction and the Y direction. Furthermore, it could be provided to provide cylindrical lenses with cylinder axes extending in the X direction on the entrance surface and cylindrical lenses with cylinder axes extending in the Y direction on the exit surface of the individual substrates. Also in this way a homogenization in both directions X, Y could be achieved.

Es besteht alternativ durchaus die Möglichkeit sphärische Linsen anstelle der Zylinderlinsen vorzusehen.It Alternatively, there is the possibility of spherical lenses provide in place of the cylindrical lenses.

Die Linsen 5, 6 können Brennweiten zwischen 0,01 mm bis 1000,00 mm, insbesondere zwischen 0,1 mm und 100,0 mm aufweisen.The lenses 5 . 6 may have focal lengths between 0.01 mm to 1000.00 mm, in particular between 0.1 mm and 100.0 mm.

Die Substrate 1, 2 können in Ausbreitungsrichtung Z der zu homogenisierenden Laserstrahlung 10 eine Dicke zwischen 0,1 mm und 20,0 mm, insbesondere eine Dicke zwischen 0,5 mm und 5,0 mm aufweisen.The substrates 1 . 2 can in the propagation direction Z of the laser radiation to be homogenized 10 have a thickness between 0.1 mm and 20.0 mm, in particular a thickness between 0.5 mm and 5.0 mm.

Die Strukturen, die zur Ausbildung der Linsen 5, 6 der Linsenarrays 3, 4 führen, können eine Tiefe d1 zwischen 0,1 μm und 5000,0 μm, insbesondere zwischen 50,0 μm und 1000,0 μm aufweisen.The structures used to form the lenses 5 . 6 the lens arrays 3 . 4 lead, may have a depth d 1 between 0.1 microns and 5000.0 microns, in particular between 50.0 microns and 1000.0 microns.

Weiterhin umfasst die in 1 abgebildete Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung als bikonvexe Feldlinse ausgebildete Linsenmittel 7. Diese Linsenmittel 7 können beispielsweise so angeordnet sein, dass sich die Austrittsfläche des zweiten Substrats 2 in der eingangsseitigen Brennebene der Linsenmittel 7 befindet. In einer Arbeitsebene 8, die beispielsweise in der ausgangsseitigen Brennebene der Linsenmittel 8 angeordnet ist, ergibt sich dann ein homogen ausgeleuchteter Bereich 9, der beispielsweise linienförmig ist.Furthermore, the in 1 illustrated embodiment of a device according to the invention designed as a biconvex field lens lens means 7 , These lens agents 7 For example, they may be arranged such that the exit surface of the second substrate 2 in the input-side focal plane of the lens means 7 located. In a work plane 8th For example, in the output side focal plane of the lens means 8th is arranged, then results in a homogeneously illuminated area 9 which is, for example, linear.

2 zeigt eine erste Ausführungsform einer Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung. Auf diese Vorrichtung trifft von links beziehungsweise negativer Z-Richtung eine Laserstrahlung mit einem Gauß-Profil 11. Die Vorrichtung umfasst ein Substrat 12, auf dem von einer oder zwei refraktiven Flächen eine Powelllinse ausgebildet wird, und eine Fourierlinse 13. Die Powelllinse erzeugt eine Feldverteilung, die im Fernfeld eine Intensitätsverteilung bilden kann, die einer Top-Hat-Verteilung entspricht. Die Fourierlinse 13 transformiert die Fernfeldverteilung in eine konkrete Intensitätsverteilung 14 in einer Arbeitsebene. Die Arbeitsebene ist dabei in der ausgangsseitigen Brennebene (siehe Brennweite F) der Fourierlinse 14 angeordnet. Die Intensitätsverteilung 14 in der Arbeitsebene entspricht einer Top-Hat-Verteilung. 2 shows a first embodiment of an apparatus for shaping laser radiation. On this device, a laser radiation with a Gaussian profile hits from the left or negative Z direction 11 , The device comprises a substrate 12 on which one Powell lens is formed by one or two refractive surfaces, and a Fourier lens 13 , The Powell lens generates a field distribution that can form an intensity distribution in the far field that corresponds to a top hat distribution. The Fourier lens 13 transforms the far field distribution into a concrete intensity distribution 14 in a work plane. The working plane is in the output side focal plane (see focal length F) of the Fourier lens 14 arranged. The intensity distribution 14 in the working level corresponds to a top hat distribution.

Das die Powelllinse bildende Substrat 12 ist aus Lutetium-Aluminium-Granat oder aus einem Germanium-Granat oder aus einem keramischen Spinell gefertigt. Das Substrat 12 kann in Ausbreitungsrichtung Z der zu homogenisierenden Laserstrahlung eine Dicke zwischen 0,1 mm und 20,0 mm, insbesondere eine Dicke zwischen 0,5 mm und 5,0 mm aufweisen.The substrate forming the Powell lens 12 is made of lutetium-aluminum garnet or a germanium garnet or a ceramic spinel. The substrate 12 may have a thickness between 0.1 mm and 20.0 mm, in particular a thickness between 0.5 mm and 5.0 mm in the propagation direction Z of the laser radiation to be homogenized.

Die Strukturen, die zur Ausbildung der Powelllinse führen, können eine Tiefe zwischen 0,1 μm und 5000,0 μm, insbesondere zwischen 50,0 μm und 1000,0 μm aufweisen.The Structures that lead to the formation of the Powell lens, a depth between 0.1 microns and 5000.0 microns, in particular between 50.0 μm and 1000.0 μm exhibit.

Auf die zweite Ausführungsform einer Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung (siehe 3) trifft von links beziehungsweise negativer Z-Richtung eine Laserstrahlung mit einem Gauß-Profil 11. Die Vorrichtung umfasst ein erstes Substrat 15 mit einer ersten refraktiven Fläche 16 auf der Austrittsseite und ein zweites Substrat 17 mit einer zweiten refraktiven Fläche 18 auf der Austrittsseite. Die Eintrittsseiten der Substrate 15, 17 können plan oder gekrümmt ausgebildet sein. Im abgebildeten Ausführungsbeispiel sind sie leicht konvex gekrümmt, so dass sie ebenfalls als refraktive Flächen dienen und zu der Formung der Laserstrahlung beitragen. Auf die Eintrittsseiten der Substrate 15, 17 wird jedoch im Nachfolgenden nicht näher eingegangen.On the second embodiment of an apparatus for shaping laser radiation (see 3 ), laser radiation with a Gaussian profile hits from the left or negative Z direction 11 , The device comprises a first substrate 15 with a first refractive surface 16 on the exit side and a second substrate 17 with a second refractive surface 18 on the exit side. The entry sides of the substrates 15 . 17 can be designed plan or curved. In the illustrated embodiment, they are slightly curved convex, so that they also serve as refractive surfaces and contribute to the formation of the laser radiation. On the entry sides of the substrates 15 . 17 but will not be discussed further below.

Die erste refraktive Fläche 16 erzeugt im Bereich des zweiten Substrats 17 eine Intensitätsverteilung 19, die im wesentlichen eine so genannte Multi-Gauß-Verteilung ist. Eine Multi-Gauß-Verteilung entspricht einer Aufintegration einer Vielzahl von in X-Richtung nebeneinander angeordneten Gauß-Verteilungen. Eine derartige Multi-Gauß-Verteilung weist ein Plateau auf, das dem einer Top-Hat-Verteilung entspricht. Allerdings fallen die Flanken nicht unendlich steil von 1 auf 0 ab, sondern weisen eine endliche Steilheit auf.The first refractive surface 16 generated in the region of the second substrate 17 an intensity distribution 19 which is essentially a so-called multi-Gaussian distribution. A multi-Gaussian distribution corresponds to an integration of a multiplicity of X-directional Gaussian distributions. Such a multi-Gaussian distribution has a plateau corresponding to that of a top-hat distribution. However, the flanks do not drop infinitely steeply from 1 to 0, but have a finite steepness.

Die zweite refraktive Fläche 18 korrigiert die Wellenfront des Laserstrahls derart, dass in der Arbeitsebene eine Intensitätsverteilung 20 mit einer flachen Wellenfront entsteht. Die Intensitätsverteilung 20 in der Arbeitsebene entspricht einer Multi-Gauß-Verteilung.The second refractive surface 18 corrects the wavefront of the laser beam such that in the working plane an intensity distribution 20 created with a flat wavefront. The intensity distribution 20 in the work plane corresponds to a multi-Gaussian distribution.

Die Substrate 15, 17 sind aus Lutetium-Aluminium-Granat oder aus einem Germanium-Granat oder aus einem keramischen Spinell gefertigt.The substrates 15 . 17 are made of lutetium-aluminum garnet or a germanium garnet or a ceramic spinel.

Es besteht die Möglichkeit, dass die beiden refraktiven Flächen 16, 18 auf einem gemeinsamen Substrat angeordnet sind, wobei die erste refraktive Fläche 16 die Eintrittsfläche und die zweite refraktive Fläche 18 die Austrittsfläche ist.There is a possibility that the two refractive surfaces 16 . 18 are arranged on a common substrate, wherein the first refractive surface 16 the entrance surface and the second refractive surface 18 the exit surface is.

Die Substrate 15, 17 können in Ausbreitungsrichtung Z der zu homogenisierenden Laserstrahlung eine Dicke zwischen 0,1 mm und 20,0 mm, insbesondere eine Dicke zwischen 0,5 mm und 5,0 mm aufweisen.The substrates 15 . 17 can in the propagation direction Z of the laser radiation to be homogenized have a thickness between 0.1 mm and 20.0 mm, in particular a thickness between 0.5 mm and 5.0 mm.

Die Strukturen, die zur Ausbildung der refraktiven Flächen 16, 18 führen, können eine Tiefe d2 zwischen 0,1 μm und 5000,0 μm, insbesondere zwischen 50,0 μm und 1000,0 μm aufweisen.The structures used to form the refractive surfaces 16 . 18 lead, may have a depth d 2 between 0.1 microns and 5000.0 microns, in particular between 50.0 microns and 1000.0 microns.

Claims (8)

Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung (10), umfassend mindestens ein Substrat (1, 2) mit mindestens einem Linsenarray (3, 4), dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine Substrat (1, 2) zumindest teilweise aus Lutetium-Aluminium-Granat oder aus einem Germanium-Granat oder aus einem keramischen Spinell besteht.Device for homogenizing laser radiation ( 10 ) comprising at least one substrate ( 1 . 2 ) with at least one lens array ( 3 . 4 ), characterized in that the at least one substrate ( 1 . 2 ) consists at least partially of lutetium-aluminum garnet or a germanium garnet or a ceramic spinel. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Linsen (5, 6) des mindestens einen Linsenarrays (3, 4) Brennweiten zwischen 0,01 mm bis 1000,00 mm, insbesondere zwischen 0,1 mm und 100,0 mm aufweisen.Device according to claim 1, characterized in that the lenses ( 5 . 6 ) of the at least one lens array ( 3 . 4 ) Focal lengths between 0.01 mm to 1000.00 mm, in particular between 0.1 mm and 100.0 mm. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Linsen (5, 6) des mindestens einen Linsenarrays (3, 4) als Zylinderlinsen ausgebildet sind.Device according to one of claims 1 or 2, characterized in that the lenses ( 5 . 6 ) of the at least one lens array ( 3 . 4 ) are formed as cylindrical lenses. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine Substrat (1, 2) in Ausbreitungsrichtung (Z) der zu homogenisierenden Laserstrahlung (10) eine Dicke zwischen 0,1 mm und 20,0 mm, insbesondere eine Dicke zwischen 0,5 mm und 5,0 mm aufweist.Device according to one of claims 1 to 3, characterized in that the at least one substrate ( 1 . 2 ) in the propagation direction (Z) of the laser radiation to be homogenized ( 10 ) has a thickness between 0.1 mm and 20.0 mm, in particular a thickness between 0.5 mm and 5.0 mm. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine Substrat (1, 2) Strukturen zur Ausbildung der Linsen (5, 6) des Linsenarrays (3, 4) umfasst, wobei diese Strukturen eine Tiefe (d1) zwischen 0,1 μm und 5000,0 μm, insbesondere zwischen 50,0 μm und 1000,0 μm aufweisen.Device according to one of claims 1 to 4, characterized in that the at least one substrate ( 1 . 2 ) Structures for forming the lenses ( 5 . 6 ) of the lens array ( 3 . 4 ), said structures having a depth (d 1 ) between 0.1 μm and 5000.0 μm, in particular between 50.0 μm and 1000.0 μm. Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung, die insbesondere eine gaußförmige Intensitätsverteilung (11) aufweist, umfassend mindestens ein Substrat (12, 15, 17) mit mindestens einer refraktiven Fläche (16, 18), durch die zumindest ein Teilstrahl der Laserstrahlung derart hindurch treten kann, dass die Laserstrahlung zumindest teilweise in einer Ebene hinter der mindestens einen refraktiven Fläche (16, 18) eine Intensitätsverteilung aufweist, die zumindest hinsichtlich einer Richtung einer Top-Hat-Verteilung oder einer Top-Hat ähnlichen Verteilungen entspricht, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine Substrat (12, 15, 17) zumindest teilweise aus Lutetium-Aluminium-Granat oder aus einem Germanium-Granat oder aus einem keramischen Spinell besteht.Device for shaping laser radiation, in particular a Gaussian intensity distribution ( 11 ) comprising at least one substrate ( 12 . 15 . 17 ) with at least one refractive surface ( 16 . 18 ), by which at least a partial beam of the laser radiation can pass through such that the laser radiation at least partially in a plane behind the at least one refractive surface ( 16 . 18 ) has an intensity distribution that corresponds at least to a direction of a top-hat distribution or a top hat-like distribution, characterized in that the at least one substrate ( 12 . 15 . 17 ) consists at least partially of lutetium-aluminum garnet or a germanium garnet or a ceramic spinel. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine Substrat (12, 15, 17) in Ausbreitungsrichtung (Z) der zu formenden Laserstrahlung eine Dicke zwischen 0,1 mm und 20,0 mm, insbesondere eine Dicke zwischen 0,5 mm und 5,0 mm aufweist.Device according to one of claims 1 to 4, characterized in that the at least one substrate ( 12 . 15 . 17 ) in the propagation direction (Z) of the laser radiation to be formed has a thickness between 0.1 mm and 20.0 mm, in particular a thickness between 0.5 mm and 5.0 mm. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine Substrat (12, 15, 17) Strukturen zur Ausbildung der refraktiven Fläche (16, 18) umfasst, wobei diese Strukturen eine Tiefe (d2) zwischen 0,1 μm und 5000,0 μm, insbesondere zwischen 50,0 μm und 1000,0 μm aufweisen.Device according to one of claims 1 to 5, characterized in that the at least one substrate ( 12 . 15 . 17 ) Structures for Forming the Refractive Surface ( 16 . 18 ), wherein these structures have a depth (d 2 ) between 0.1 μm and 5000.0 μm, in particular between 50.0 μm and 1000.0 microns have.
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