DE102009032939A1

DE102009032939A1 - Honeycomb condenser, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Info

Publication number: DE102009032939A1
Application number: DE200910032939
Authority: DE
Inventors: Michael Patra; Markus Schwab
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2009-07-14
Filing date: 2009-07-14
Publication date: 2011-01-20
Also published as: WO2011006710A3; WO2011006710A2

Abstract

Die Erfindung betrifft einen Wabenkondensor (5, 12, 15, 100, 200, 300, 400, 500, 550), insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens drei in Lichtausbreitungsrichtung aufeinander folgenden Anordnungen (110-130, 310-340, 410-440) aus strahlablenkenden optischen Elementen (111, 112, ...; 121, 122, ...; 131, 132, ...; 311, 312, ...; 411, 412, ...) zur Erzeugung einer Vielzahl optischer Kanäle, wobei in wenigstens einer dieser Anordnungen wenigstens zwei dieser optischen Kanäle einen unterschiedlichen Querschnitt aufweisen.The invention relates to a honeycomb condenser (5, 12, 15, 100, 200, 300, 400, 500, 550), in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, having at least three successive arrangements in the light propagation direction (110-130, 310-340, 410- 440) of beam-deflecting optical elements (111, 112, ...; 121, 122, ...; 131, 132, ...; 311, 312, ..., 411, 412, ...) for generating a A plurality of optical channels, wherein in at least one of these arrangements at least two of these optical channels have a different cross-section.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

Gebiet der ErfindungField of the invention

Die Erfindung betrifft einen Wabenkondensor, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage.The The invention relates to a honeycomb condenser, in particular for a microlithographic projection exposure machine.

Stand der TechnikState of the art

Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlagen werden zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD's, angewendet. Eine solche Projektionsbelichtungsanlage weist eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv auf. Im Mikrolithographieprozess wird das Bild einer mit Hilfe der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z. B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Schicht zu übertragen.microlithographic Projection exposure equipment is becoming more microstructured for fabrication Components, such as integrated circuits or LCDs, applied. Such a projection exposure apparatus has a Lighting device and a projection lens on. In the microlithography process is the image of one illuminated by means of the illumination device Mask (= reticle) by means of the projection lens on a with a photosensitive layer (photoresist) coated and in the Image plane of the projection lens arranged substrate (eg. a silicon wafer) projected to the mask structure on the photosensitive Shift layer.

In der Beleuchtungseinrichtung ist zur Erzielung einer Lichtdurchmischung der Einsatz sogenannter Wabenkondensoren gebräuchlich, welche Rasteranordnungen aus einer Vielzahl strahlablenkender Elemente (z. B. Linsen mit Abmessungen im Millimeterbereich) umfassen. Der Wabenkondensor kann sowohl zur Feldhomogenisierung als auch zur Pupillenhomogenisierung eingesetzt werden. Über die Homogenisierung des Laserlichtes hinaus besteht dabei eine weitere wichtige Aufgabe des Wabenkondensors in der Stabilisierung, was bedeutet, dass die Lage der Ausleuchtung in einer bestimmten Ebene der Beleuchtungseinrichtung gegenüber Variationen von Ort und insbesondere Richtung der von der Laserlichtquelle ausgehenden Strahlenbündel unverändert bleibt.In the lighting device is to achieve a light mixing the use of so-called honeycomb condensers in use, which raster arrangements of a plurality of beam deflecting elements (z. B. lenses with dimensions in the millimeter range) include. The honeycomb condenser can be used both for field homogenization and for pupil homogenization be used. About the homogenization of the laser light In addition, there is another important task of the honeycomb condenser in stabilization, which means that the location of the illumination in a certain level of the illumination device opposite Variations of location and especially direction of the laser light source outgoing radiation beam remains unchanged.

Hierbei tritt nun bei herkömmlichen Wabenkondensoren, welche aus zwei Rasteranordnungen von strahlablenkenden Linsen aufgebaut sind, das Problem auf, dass zur Erzielung der vorstehend beschriebenen Stabilisierung die in Lichtausbreitungsrichtung erste Rasteranordnung notwendigerweise in einem Abstand von der in Lichtausbreitungsrichtung zweiten Rasteranordnung angeordnet sein muss, welcher der Brennweite der strahlablenkenden Elemente bzw. Linsen der zweiten Rasteranordnung entspricht.in this connection occurs now in conventional honeycomb condensers, which two raster arrangements of beam-deflecting lenses are constructed, the problem that to achieve the stabilization described above the first raster arrangement in the light propagation direction necessarily at a distance from the second grid arrangement in the light propagation direction must be arranged, which is the focal length of the beam deflecting Elements or lenses of the second grid arrangement corresponds.

Diese Situation ist in 8 dargestellt, wobei jede der beiden Rasteranordnungen 810 und 820 durch nur zwei Linsen 811, 812 bzw. 821, 822 symbolisiert ist und wobei der der Baulänge des Wabenkondensors entsprechende Abstand mit 1, die Brennweite der Linsen 811, 812 der ersten Rasteranordnung 810 mit f₁ und die Brennweite der Linsen 821, 822 der zweiten Rasteranordnung 820 mit f₃ bezeichnet ist. Mit p ist der sogenannte Pitch (d. h. die Periodenlänge der periodischen bzw. matrixförmigen Rasteranordnungen 810 bzw. 820) bezeichnet, und α bezeichnet den durch den Wabenkondensor 800 im Fernfeld erzeugten Divergenzwinkel, wobei die numerische Apertur (NA) im Fernfeld des Wabenkondensors 800 durch den halben Divergenzwinkel NA = α/2 gegeben ist.This situation is in 8th shown, wherein each of the two grid arrangements 810 and 820 through only two lenses 811 . 812. respectively. 821 . 822 is symbolized and wherein the length of the honeycomb condenser corresponding distance with 1, the focal length of the lenses 811 . 812. the first grid arrangement 810 with f ₁ and the focal length of the lenses 821 . 822 the second grid arrangement 820 is denoted by f ₃ . With p is the so-called pitch (ie the period length of the periodic or matrix-shaped raster arrangements 810 respectively. 820 ), and α denotes the one through the honeycomb condenser 800 divergence angles generated in the far field, the numerical aperture (NA) in the far field of the honeycomb condenser 800 is given by the half divergence angle NA = α / 2.

Aus DE 10 2007 026 730 A1 ist eine Vorrichtung zur Erzeugung einer homogenen Winkelverteilung einer Laserstrahlung bekannt, welche zusätzlich zu einer ersten Homogenisierungsstufe mit einem ein erstes Linsenarray aufweisenden ersten Substrat und einem ein zweites Linsenarray aufweisenden zweiten Substrat ein drittes Substrat mit einem dritten Linsenarray aufweist, wobei insbesondere auch der Abstand zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten und/oder dritten Substrat veränderbar ist, um bei Bedarf die Winkelverteilung bzw. die Größe des ausgeleuchteten Bereichs in der sogenannten Arbeitsebene zu verändern.Out DE 10 2007 026 730 A1 a device for generating a homogeneous angular distribution of a laser radiation is known, which in addition to a first homogenization with a first lens array having a first substrate and a second lens array having a second substrate having a third substrate with a third lens array, in particular, the distance between the the first substrate and the second and / or third substrate is variable in order to change the angular distribution or the size of the illuminated area in the so-called working plane, if necessary.

Aus JP 2285628 A ist u. a. ebenfalls der Aufbau eines optischen Integrators aus drei aufeinander folgenden Linsenarrays bekannt.Out JP 2285628 A Among other things, the construction of an optical integrator comprising three successive lens arrays is also known.

Wie im Weiteren noch detaillierter erläutert, ermöglicht es der Einsatz von Wabenkondensoren, welche aus wenigstens drei Arrays von strahlablenkenden Elementen aufgebaut sind, die vorstehend erläuterte Einschränkung hinsichtlich der Übereinstimmung des Bauraums mit der Brennweite der Linsen der in Lichtausbreitungsrichtung letzten Rasteranordnung zu umgehen und damit die gewünschte Stabilisierungswirkung auch bei vergleichsweise geringem Bauraum des Wabenkondensors zu erzielen.As explained in more detail below, allows it is the use of honeycomb condensers, which consists of at least three Arrays of beam deflecting elements are constructed, the above explained restriction on compliance of the installation space with the focal length of the lenses in the light propagation direction to bypass last grid arrangement and thus the desired Stabilizing effect even with comparatively small installation space to achieve the honeycomb condenser.

Ein weiteres, beim Einsatz von Wabenkondensoren in der Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage auftretendes Problem besteht in unerwünschten Interferenzeffekten, die durch die periodischen Strukturen der strahlablenkenden Elemente der jeweiligen Arrays gerade bei geringen Divergenzwinkeln bzw. Lichtleitwerten hervorgerufen werden. Von besonderer Bedeutung ist hierbei der Umstand, dass in der Eintrittsebene des in der Beleuchtungseinrichtung eingesetzten Wabenkondensors üblicherweise geringe Divergenzwinkel von nur wenigen Millirad (mrad) vorliegen, was dazu führt, dass eine nur geringe Anzahl diskreter, gut unterscheidbarer Beugungsordnungen erzeugt wird (z. B. können bei einem Divergenzwinkel von 1.5 mrad fünf Beugungsordnungen um jeweils 0.3 mrad voneinander entfernt sein). Während das Problem des Auftretens diskreter Beugungsordnungen bei höheren Divergenzwinkeln (z. B. 50 mrad) infolge der größeren Anzahl von Beugungsordnungen wegen der dann praktisch vorliegenden Homogenität nicht mehr störend ist, ergeben sich somit signifikante störende Effekte gerade in Systemen, bei denen durch den Wabenkondensor nur ein geringer Lichtleitwert eingeführt werden darf.Another, when using honeycomb condensers in the lighting device of a mikrolitho graphical exposure exposure system is caused by undesirable interference effects, which are caused by the periodic structures of the beam deflecting elements of the respective arrays, especially at low divergence angles or light conductance. Of particular importance here is the fact that in the entrance level of the honeycomb condenser used in the illumination device usually low divergence angles of only a few millirad (mrad) are present, resulting in that only a small number of discrete, well distinguishable diffraction orders is generated (eg At a divergence angle of 1.5 mrad, five diffraction orders can be separated by 0.3 mrad each). While the problem of the occurrence of discrete orders of diffraction at higher divergence angles (eg 50 mrad) is no longer disturbing due to the greater number of orders of diffraction because of the homogeneity that is then practically present, significant disturbing effects result, especially in systems in which the honeycomb condenser only a low optical conductivity may be introduced.

Ein in der Praxis relevantes Beispiel hierfür bilden Systeme, die mit sogenannten MMA's (kurz: „micro mirror array” = Mikrospiegelarray) ausgestattet sind und eine Vielzahl unabhängig voneinander einstellbarer Mikrospiegel aufweisen. Ein weiteres relevantes Anwendungsbeispiel sind Systeme zur LCD-Herstellung, bei denen zur Verbesserung der optischen Eigenschaften des erzeugten LCD's eine kurzzeitige Glasaufschmelzung erfolgt, bei welcher sich wiederum die vorstehend erläuterten Beugungseffekte durch Auftreten unerwünschter diskreter Linien bemerkbar machen.One in practice relevant example of this form systems, with the so-called MMA's (short: "micro mirror array" = Micromirror array) and a variety are independent have mutually adjustable micromirror. Another relevant Application example are systems for LCD production, in which the Improvement of the optical properties of the LCD produced short glass melting takes place, which in turn the above-explained diffraction effects by occurrence make undesirable discrete lines noticeable.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNGSUMMARY OF THE INVENTION

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Wabenkondensor, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, bereitzustellen, welcher die vorstehend erläuterten Nachteile zumindest weitgehend vermeidet und insbesondere eine verbesserte Homogenisierung und Stabilisierung des Laserlichtes auch beim Einsatz in Bereichen geringer Divergenzwinkel ermöglicht.It It is an object of the present invention to provide a honeycomb condenser, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, to provide, which at least the above-described disadvantages largely avoids and in particular improved homogenization and stabilization of the laser light even when used in areas low divergence angle allows.

Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des unabhängigen Patentanspruchs 1 gelöst.These The object is achieved by the features of the independent claim 1 solved.

Ein Wabenkondensor weist gemäß einem Aspekt der Erfindung wenigstens drei in Lichtausbreitungsrichtung aufeinander folgende Anordnungen aus strahlablenkenden optischen Elementen zur Erzeugung einer Vielzahl optischer Kanäle auf, wobei in wenigstens einer dieser Anordnungen wenigstens zwei dieser optischen Kanäle einen unterschiedlichen Querschnitt aufweisen.One Honeycomb condenser according to one aspect of the invention at least three consecutive in the light propagation direction Arrangements of beam deflecting optical elements for the production a plurality of optical channels, wherein in at least one these arrangements at least two of these optical channels have a different cross-section.

Infolge des unterschiedlichen Querschnitts von wenigstens zwei optischen Kanälen im Bereich wenigstens einer der Anordnungen wird für diese Anordnung insbesondere keine regelmäßige Rasteranordnung mit konstantem Rastermaß („Pitch”) bzw. konstanter Periodenlänge geschaffen, so dass der vorstehend beschriebene unerwünschte Effekt einer an der betreffenden Anordnung stattfindenden Gitterbeugung, also die Erzeugung von diskreten, das Abbildungsergebnis störenden Beugungsordnungen zumindest reduziert wird.As a result the different cross section of at least two optical Channels in the range of at least one of the arrangements For this arrangement in particular no regular Raster arrangement with constant pitch ("pitch") or constant period length created so that the above described undesirable effect of one of the concerned Arrangement occurring grid diffraction, so the generation of discrete, the imaging result disturbing diffraction orders at least is reduced.

Als einen unterschiedlichen Querschnitt aufweisend werden hier und im Folgenden optische Kanäle angesehen, sofern diese eine unterschiedliche Fläche, eine unterschiedliche Form und/oder eine unterschiedliche Orientierung aufweisen. Hierbei sind die Begriffe Querschnitt, Form, Fläche und Orientierung jeweils auf die Hauptebene der betreffenden strahlablenkenden Elemente in der Anordnung bezogen. Bei Vorhandensein von zwei Hauptebenen (als bei Ausgestaltung der strahlablenkenden optischen Elemente als „dicke Linsen”) können der Mittelwert der Flächen auf der vorderen und der hinteren Hauptebene herangezogen werden oder es können die Form bzw. Orientierung nur auf der vorderen Hauptebene oder nur auf der hinteren Hauptebene zum Vergleich herangezogen werden.When have a different cross section here and in the Following optical channels considered, if this one different area, a different shape and / or have a different orientation. Here are the terms Cross section, shape, area and orientation respectively on the Main plane of the relevant beam deflecting elements in the arrangement based. In the presence of two main planes (as in embodiment the beam deflecting optical elements as "thick lenses") the mean of the areas on the front and the back Main level or it can be the shape or orientation only on the front main level or only on the rear main plane are used for comparison.

Der unterschiedliche Querschnitt kann beispielsweise dadurch bewirkt werden, dass die optisch wirksamen Flächen von wenigstens zwei strahlablenkenden optischen Elementen unterschiedlich groß sind oder dass diese – bei gleicher Fläche – eine unterschiedliche Geometrie (z. B. Rechteckformen mit unterschiedlichem Aspektverhältnis) aufweisen. Des Weiteren können auch wenigstens zwei strahlablenkende optische Elemente mit übereinstimmender Fläche und Form unterschiedlich orientiert sein (durch unterschiedliche Ausrichtung von z. B. quadratischen oder hexagonalen strahlablenkenden optischen Elementen).Of the different cross section can for example be effected be that the optically effective areas of at least two beam deflecting optical elements are different sizes or that these - with the same area - a different geometry (eg rectangular shapes with different Aspect ratio). Furthermore you can also at least two beam deflecting optical elements with matching Surface and shape are oriented differently (by different orientation of z. Square or hexagonal beam deflecting optical elements).

Die Kombination des nicht streng rasterförmigen Aufbaus aus den strahlablenkenden optischen Elementen mit dem weiteren Merkmal, wonach wenigstens drei Anordnungen aus solchen strahlablenkenden Elementen vorgesehen sind, hat hierbei weiter zur Folge, dass auch bei nicht konstantem Querschnitt der durch einander zugeordnete strahlablenkende Elemente dieser Anordnungen gebildeten optischen Kanäle für hindurchtretendes Licht die Baubarkeit des durch die Anordnungen gebildeten Wabenkondensors weiter gewährleistet bleibt. Hierbei wird ausgenutzt, dass ein dreistufiger Wabenkondensor im Gegensatz zu einem zweistufigen Wabenkondensor nicht der Einschränkung einer periodischen Auslegung sämtlicher Anordnungen aus strahlablenkenden Elementen mit konstantem Pitch unterliegt.The combination of the not strictly grid-like construction of the beam-deflecting optical elements with the further feature that at least three arrangements are provided by such beam deflecting elements, this further has the consequence that even with non-constant cross-section of the mutually associated beam deflecting elements of these arrangements formed optical Channels for passing light further ensure the buildability of the honeycomb condenser formed by the assemblies will last. Hereby, it is exploited that a three-stage honeycomb condenser, in contrast to a two-stage honeycomb condenser, is not subject to the limitation of a periodic design of all arrangements of constant-pitch beam-deflecting elements.

Ein solcher „dreistufiger Wabenkondensor” 600 ist schematisch in 6 dargestellt, wobei in der (in z-Richtung im eingezeichneten Koordinatensystem) verlaufenden Lichtausbreitungsrichtung drei Anordnungen 610, 620 und 630 aus strahlablenkenden Elementen 611, 612, ... vorgesehen sind. Wenngleich in der schematischen Darstellung lediglich zwei Elemente (refraktive Linsen) für jede der Anordnungen in der Seitenansicht dargestellt sind, ist deren Anzahl typischerweise wesentlich größer. Mit „d” ist der Abstand zwischen der ersten Anordnung 610 und der zweiten Anordnung 620, und mit „a” ist der Abstand zwischen der zweiten Anordnung 620 und der dritten Anordnung 630 bezeichnet.Such a "three-stage honeycomb condenser" 600 is schematic in 6 represented, wherein in the (in the z-direction in the drawn coordinate system) extending light propagation direction three arrangements 610 . 620 and 630 from beam deflecting elements 611 . 612 , ... are provided. Although only two elements (refractive lenses) for each of the assemblies are shown in side view in the schematic illustration, their number is typically significantly larger. With "d" is the distance between the first arrangement 610 and the second arrangement 620 , and with "a" is the distance between the second array 620 and the third arrangement 630 designated.

Die zweite Anordnung 620 und die dritte Anordnung 630 bilden ein optisches System, in dessen vorderer Brennebene die erste Anordnung 610 liegt und das eine effektive Brennweite F besitzt. Für die Wirkung zweier Linsen bezüglich Gesamtbrennweite F und Abstand d der vorderen Brennebene gilt:

The second arrangement 620 and the third arrangement 630 form an optical system, in its front focal plane, the first arrangement 610 and that has an effective focal length F. For the effect of two lenses with respect to total focal length F and distance d of the front focal plane:

Für eine vorgegebene Lage der Anordnungen 610–630, also für konstante Werte von „a” und „d” sowie für einen vorgegebenen Wert von F (da dieser zusammen mit dem Pitch „p” die Fernfeldverteilung α bestimmt), ergeben sich eindeutig die notwendigen Brennweiten f₂ und f₃ der zweiten und der dritten Anordnung 620, 630:

For a given position of the arrangements 610 - 630 , ie for constant values of "a" and "d" and for a given value of F (since this determines the far field distribution α together with the pitch "p"), the necessary focal lengths f ₂ and f _{3 of} the second and the third arrangement 620 . 630 :

Beide Abstände „a” und „d”, und damit auch die Gesamtbaulänge 1 = a + d können hierbei frei gewählt werden. Damit ist es insbesondere möglich, die Baulänge des Wabenkondensors 600 bei gegebener Winkelverteilung und gegebenem Pitch (letzterer ist für Beugungsverluste relevant und kann daher nicht beliebig gewählt werden) zu verkleinern.Both distances "a" and "d", and thus also the total construction length 1 = a + d can be chosen freely. This makes it possible, in particular, the length of the honeycomb condenser 600 given angle distribution and given pitch (the latter is relevant for diffraction losses and therefore can not be chosen arbitrarily).

7 zeigt ein Diagramm zur Erläuterung des Einflusses des Pitch auf die im Fernfeld erzielte Intensitätsverteilung. Es zeigt sich, dass eine für einen vergleichsweise kleinen Pitch von im Beispiel 0.1 mm bis 0.25 mm gaussförmige Intensitätsverteilung in eine in ihrem Maximum abgeflachte Verteilung durch Einstellung eines größeren Pitch von im Beispiel 1 mm bis 5 mm umgewandelt werden kann. Des Weiteren kann dies, wie im Weiteren noch detaillierter erläutert, ohne Erfordernis einer Vergrößerung des Wabenkondensors, d. h. bei gegebenem Bauraum, erfolgen. 7 shows a diagram for explaining the influence of the pitch on the far-field intensity distribution. It turns out that for a comparatively small pitch of 0.1 mm to 0.25 mm in the example gaussian intensity distribution can be converted into a maximum flattened distribution by setting a larger pitch of 1 mm to 5 mm in the example. Furthermore, as explained in more detail below, this can take place without the need for an enlargement of the honeycomb condenser, ie for a given installation space.

Gemäß einer Ausgestaltung der Erfindung sind in wenigstens einer der Anordnungen aus strahlablenkenden optischen Elementen, insbesondere in sämtlichen dieser Anordnungen, die optisch wirksamen Flächen der strahlablenkenden optischen Elemente unterschiedlich groß.According to one Embodiment of the invention are in at least one of the arrangements from beam deflecting optical elements, in particular in all of these arrangements, the optically effective surfaces of the beam deflecting optical elements of different sizes.

Gemäß einer Ausführungsform variiert die Größe der optisch wirksamen Fläche in wenigstens einer Anordnung um wenigstens 10%, insbesondere um wenigstens 20%, weiter insbesondere um wenigstens 30%.According to one Embodiment varies the size of the optically effective surface in at least one arrangement by at least 10%, in particular by at least 20%, more particularly at least 30%.

Gemäß einer Ausführungsform ist wenigstens eine der Anordnungen in ihrem Aufbau aus den strahlablenkenden optischen Elementen wenigstens bereichsweise aperiodisch. Hierdurch kann eine weitere Reduzierung der vorstehend beschriebenen unerwünschten Interferenzeffekte bis hin zu deren vollständiger Eliminierung erreicht werden. Insbesondere kann die jeweilige Anordnung auch über ihre gesamte optisch wirksame Fläche aperiodisch sein.According to one Embodiment is at least one of the arrangements in their structure from the beam deflecting optical elements at least partially aperiodic. This can be a further reduction the unwanted interference effects described above through to their complete elimination. In particular, the respective arrangement can also via their entire optically effective surface be aperiodic.

Die Erfindung ist jedoch nicht auf eine nicht-periodische Auslegung einer oder mehrerer der Anordnungen aus strahlablenkenden optischen Elementen beschränkt, da der erfindungsgemäße Aufbau mit optischen Kanälen von innerhalb der gleichen Anordnung unterschiedlichem Querschnitt auch noch bei Einhaltung einer gewissen Periodizität des Gesamtaufbaus (z. B. in einer Abfolge „A-B-A-B-...”) realisierbar ist.However, the invention is not limited to a non-periodic design of one or more of the arrangements of beam deflecting optical elements, since the inventive structure with optical Channels of within the same arrangement of different cross-section even while maintaining a certain periodicity of the overall structure (eg., In a sequence "ABAB -...") is feasible.

Gemäß einer Ausführungsform bildet wenigstens eine der Anordnungen eine nicht-ebene Anordnung aus strahlablenkenden optischen Elementen. Insbesondere kann die betreffende Anordnung über die gesamte optisch wirksame Fläche eine konkave Krümmung oder über die gesamte optisch wirksame Fläche eine konvexe Krümmung aufweisen. Auf diese Weise kann erreicht werden, dass die optischen Kanäle über die strahlablenkenden Elemente in eine Anordnung hinweg in gleichmäßiger Weise breiter bzw. schmaler werden.According to one Embodiment forms at least one of the arrangements a non-planar arrangement of beam deflecting optical elements. In particular, the particular arrangement can be optical throughout effective area a concave curvature or over the entire optically effective area a convex curvature exhibit. In this way it can be achieved that the optical Channels beyond the beam deflecting elements in uniformly wider an array or narrower.

Gemäß einer Ausführungsform weist wenigstens einer der optischen Kanäle einen entlang der Lichtausbreitungsrichtung variierenden Querschnitt (bzw. eine variierende Ausdehnung senkrecht zur Lichtausbreitungsrichtung) auf.According to one Embodiment comprises at least one of the optical channels a varying along the light propagation direction cross-section (or a varying extent perpendicular to the light propagation direction) on.

Gemäß einer Ausführungsform sind wenigstens zwei optische Kanäle, welche bei Lichteintritt in den Wabenkondensor zueinander benachbart sind, bei Lichtaustritt aus dem Wabenkondensor nicht mehr zueinander benachbart. Durch diese Maßnahme werden zwar für die Mischung der Lichtintensität keine wesentlichen Vorteile erzielt, da das Fernfeld aus der Überlagerung der Vielzahl einzelner Kanäle erzeugt und die Durchmischung im Fernfeld weder verbessert noch verschlechtert wird. Gleichwohl wird aber ein Vorteil durch die vorstehende Ausgestaltung insoweit erreicht, als aufgrund der in der Feldebene unter größeren Strahlwinkeln aufeinandertreffenden elektromagnetischen Wellen eine feinere bzw. höherfrequente Struktur bei der Abbildung erzeugt wird, die wiederum eine bessere Unterdrückung von unerwünschten Streueffekten im System aufgrund von Abberationen oder z. B. Streuscheiben ermöglicht, da diese Effekte durch eine feinere Struktur einfacher ausgeglichen („weggemittelt”) werden können.According to one Embodiment are at least two optical channels, which adjacent to each other when light enters the honeycomb condenser are no longer in light emission from the honeycomb condenser to each other adjacent. This measure will indeed for the mixture of light intensity has no significant advantages scored because the far field from the overlay of the multiplicity generated individual channels and the mixing in the far field neither improved nor worsened. Nevertheless, but will achieved an advantage by the above embodiment insofar as due to the larger in the field level Beam angles impinging electromagnetic waves one finer or higher frequency structure in the picture is generated, which in turn provides better suppression of unwanted spill effects in the system due to aberrations or z. B. diffusing discs, since these effects by a finer structure more easily balanced ("averaged out") can be.

Gemäß einer Ausführungsform ist ein Positionsmanipulator zur Variation der Relativposition von wenigstens zwei der Anordnungen aus strahlablenkenden optischen Elementen zueinander vorgesehen.According to one Embodiment is a position manipulator for variation the relative position of at least two of the beam deflecting assemblies provided optical elements to each other.

Die strahlablenkenden Elemente können als refraktive oder diffraktive optische Elemente ausgestaltet und z. B. aus Quarzglas (SiO₂) oder Kalziumfluorid (CaF₂) hergestellt sein, wobei die Herstellung aus Kalziumfluorid insbesondere im Hinblick auf die verbesserte Lichtbeständigkeit (Vermeidung von Kompaktierungseffekten etc.) vorteilhaft ist. Entsprechende refraktive Linsen zur Ausbildung der strahlablenkenden Elemente können beispielsweise Bikonvexlinsen, Plankonvexlinsen, Zylinderlinsen etc. sein.The beam deflecting elements can be designed as refractive or diffractive optical elements and z. Example of quartz glass (SiO ₂ ) or calcium fluoride (CaF ₂ ) be prepared, the preparation of calcium fluoride, in particular with regard to the improved light resistance (avoiding Kompaktierungseffekten etc.) is advantageous. Corresponding refractive lenses for forming the beam-deflecting elements can be, for example, biconvex lenses, plano-convex lenses, cylindrical lenses, etc.

Gemäß einer weiteren Ausgestaltung können einzelne oder sämtliche der strahlablenkenden Elemente auch als reflektive Elemente (Spiegel) ausgebildet sein. Die Erfindung ist somit insbesondere auch im EUV-Bereich (d. h. bei Wellenlängen kleiner als 15 nm, insbesondere etwa 13 nm oder etwa 7 nm) geeignet.According to one Another embodiment, individual or all the beam-deflecting elements also as reflective elements (mirrors) be educated. The invention is thus in particular also in the EUV area (i.e., at wavelengths less than 15 nm, especially about 13 nm or about 7 nm).

Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die Erfindung einen Wabenkondensor, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens zwei in Lichtausbreitungsrichtung aufeinander folgenden Anordnungen aus strahlablenkenden optischen Elementen zur Erzeugung einer Vielzahl optischer Kanäle, wobei wenigstens zwei dieser optischen Kanäle, welche bei Lichteintritt in den Wabenkondensor zueinander benachbart sind, bei Lichtaustritt aus dem Wabenkondensor nicht zueinander benachbart sind.According to one In another aspect, the invention relates to a honeycomb condenser, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, with at least two successive in the light propagation direction Arrangements of beam deflecting optical elements for the production a plurality of optical channels, wherein at least two These optical channels, which at light entering the Honeycomb condenser adjacent to each other, at light exit the honeycomb condenser are not adjacent to each other.

Infolge dieser Ausgestaltung kann, wie vorstehend erläutert, aufgrund der in der Feldebene unter größeren Strahlwinkeln aufeinandertreffenden elektromagnetischen Wellen eine feinere bzw. höherfrequente Struktur bei der Abbildung erzeugt werden, die wiederum eine bessere Unterdrückung von unerwünschten Streueffekten im System aufgrund von Abberationen oder z. B. Streuscheiben ermöglicht.As a result This embodiment may, as explained above, due at the field level under larger beam angles colliding electromagnetic waves a finer or higher-frequency structure can be generated during imaging which in turn provides better suppression of unwanted spill effects in the system due to aberrations or z. B. allows spreading discs.

Gemäß einer Ausführungsform weist der Wabenkondensor wenigstens drei in Lichtausbreitungsrichtung aufeinander folgende Anordnungen aus strahlablenkenden optischen Elementen auf.According to one Embodiment, the honeycomb condenser has at least three in the light propagation direction successive arrangements beam deflecting optical elements.

Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die Erfindung auch eine Beleuchtungseinrichtung mit einem erfindungsgemäßen Wabenkondensor.According to one In another aspect, the invention also relates to a lighting device with a honeycomb condenser according to the invention.

Die Beleuchtungseinrichtung kann insbesondere eine Mikrospiegelanordnung (MMA) mit einer Vielzahl unabhängig voneinander einstellbarer Mikrospiegel aufweisen.The Lighting device may in particular a micromirror arrangement (MMA) with a variety of independently adjustable Have micromirror.

Gemäß einer Ausführungsform ist der wenigstens eine Wabenkondensor in einem Bereich angeordnet, wo der Divergenzwinkel des die Beleuchtungseinrichtung im Betrieb durchlaufenden Lichtes maximal 10 mrad, insbesondere maximal 5 mrad, weiter insbesondere maximal 3 mrad, beträgt.According to one Embodiment is the at least one honeycomb condenser arranged in an area where the divergence angle of the lighting device in operation continuous light maximum 10 mrad, in particular maximum 5 mrad, in particular more than 3 mrad, is.

Gemäß einer Ausführungsform ist der wenigstens eine Wabenkondensor in Lichtausbreitungsrichtung eines der drei ersten optischen Elemente in der Beleuchtungseinrichtung.According to one Embodiment is the at least one honeycomb condenser in the light propagation direction of one of the three first optical elements in the lighting device.

Die Positionierung des Wabenkondensors im Bereich kleiner Divergenzwinkel bzw. nahe am Eintritt in die Beleuchtungseinrichtung ist im Hinblick auf die gerade bei geringen Divergenzwinkeln relevanten, erfindungsgemäß zumindest teilweise unterdrückten Interferenzeffekte vorteilhaft.The Positioning of the honeycomb condenser in the range of small divergence angles or near the entrance to the lighting device is in view at least relevant to the just at low divergence angles, according to the invention partially suppressed interference effects.

Gemäß einer Ausführungsform ist der wenigstens eine Wabenkondensor zumindest in unmittelbarer Nähe einer Pupillenebene angeordnet. In einer solchen Position kann der Wabenkondensor zur Aufspannung des Feldes (d. h. als sogenanntes FDE, d. h. als „felddefinierendes Element”) verwendet werden.According to one Embodiment is the at least one honeycomb condenser arranged at least in the immediate vicinity of a pupil plane. In such a position, the honeycomb condenser for clamping the Field (i.e., as so-called FDE, that is, as "field-defining Element ") are used.

Gemäß weiteren Aspekten betrifft die Erfindung auch eine mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, ein Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente sowie ein mikrostrukturiertes Bauelement.According to others Aspects, the invention also relates to a microlithographic Projection exposure apparatus, a method for microlithographic Production of microstructured components as well as a microstructured component Component.

Das Bauelement kann insbesondere ein LCD-Display sein, da bei dessen Herstellung, wie eingangs bereits erläutert, die Vermeidung unerwünschter Beugungseffekte besonders zum Tragen kommt.The Component may be in particular an LCD display, as in its Production, as already explained, avoidance unwanted diffraction effects comes particularly to fruition.

Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.Further Embodiments of the invention are the description and the dependent claims refer to.

Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.The Invention is described below with reference to the attached Figures illustrated embodiments closer explained.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

Es zeigen:It demonstrate:

1 einen Wabenkondensor in schematischer Darstellung gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung; 1 a honeycomb condenser in a schematic representation according to a first embodiment of the invention;

2a–c Fourierspektren zur Erläuterung der Wirkungsweise des Wabenkondensors von 1 (2c) im Vergleich zu herkömmlichen Wabenkondensoren (2a und 2b); 2a -C Fourier spectra to explain the operation of the honeycomb condenser of 1 ( 2c ) compared to conventional honeycomb condensers ( 2a and 2 B );

3 und 4 Wabenkondensoren in schematischer Darstellung gemäß weiterer Ausführungsformen der Erfindung; 3 and 4 Honeycomb condensers in a schematic representation according to further embodiments of the invention;

5a–b schematische Darstellungen zur Erläuterung des Effektes einer gemäß einer Ausführungsform der Erfindung erfolgenden Variation der Lage der optischen Kanäle auf der Lichteintritts- bzw. Lichtaustrittsseite (5b) im Vergleich zu einer Ausgestaltung ohne diese Variation (5a); 5a 6 are schematic representations for explaining the effect of a variation of the position of the optical channels on the light entry or light exit side according to an embodiment of the invention (FIG. 5b ) compared to an embodiment without this variation ( 5a );

6 eine schematische Darstellung eines dreistufigen Wabenkondensors; 6 a schematic representation of a three-stage honeycomb condenser;

7 ein Diagramm zur Erläuterung des Einflusses der Pitchgröße in einem Wabenkondensor auf die im Fernfeld erzielte Intensitätsverteilung; 7 a diagram for explaining the influence of the pitch size in a honeycomb condenser on the far-field intensity distribution;

8 eine schematische Darstellung zur Erläuterung der Wirkungsweise eines herkömmlichen, zweistufigen Wabenkondensors; 8th a schematic representation for explaining the operation of a conventional, two-stage honeycomb condenser;

9 eine schematische Darstellung eines beispielhaften Aufbaus einer Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; und 9 a schematic representation of an exemplary construction of a lighting device of a microlithographic projection exposure apparatus according to an embodiment of the present invention; and

10 eine schematische Darstellung einer Beleuchtungseinrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 10 a schematic representation of a lighting device according to another embodiment of the present invention.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG BEVORZUGTER AUSFÜHRUNGSFORMENDETAILED DESCRIPTION PREFERRED EMBODIMENTS

In 1 ist ein erfindungsgemäßer Wabenkondensor 100 gemäß einer ersten Ausführungsform schematisch dargestellt. Der Wabenkondensor 100 weist drei in Lichtausbreitungsrichtung (entsprechend der z-Richtung im eingezeichneten Koordinatensystem) hintereinander befindliche Anordnungen 110, 120 und 130 auf, welche jeweils eine Vielzahl von strahlablenkenden Elementen 111–114, 121–124 und 131–134 aufweisen, die im Ausführungsbeispiel jeweils als refraktive Bikonvexlinsen aus Kalziumfluorid ausgestaltet und in jeder Anordnung jeweils lückenlos aneinander gereiht sind.In 1 is a honeycomb condenser according to the invention 100 shown schematically according to a first embodiment. The honeycomb condenser 100 has three in the light propagation direction (corresponding to the z-direction in the drawn coordinate system) successive arrangements 110 . 120 and 130 each having a plurality of beam deflecting elements 111 - 114 . 121 - 124 and 131 - 134 have, which are each configured in the embodiment as refractive biconvex lenses made of calcium fluoride and each lined up in each arrangement without gaps.

Wenngleich in der schematischen Darstellung lediglich vier Linsen für jede der Anordnungen 110, 120 und 130 in der Seitenansicht erkennbar sind, ist die Anzahl strahlablenkender optischer Elemente pro Anordnung typischerweise wesentlich größer. Eine lediglich beispielhafte, typische Anzahl kann etwa 40·40 strahlablenkende optische Elemente pro Anordnung betragen, wobei typische Abmessungen im Millimeterbereich, z. B. bei 0.5 mm bis 4 mm liegen können (ohne dass die Erfindung hierauf beschränkt wäre).Although in the schematic illustration only four lenses are for each of the assemblies 110 . 120 and 130 can be seen in the side view, the number of beam deflecting optical elements per arrangement is typically much larger. A merely exemplary typical number may be about 40 x 40 beam deflecting optical elements per array, with typical dimensions in the millimeter range, e.g. B. may be at 0.5 mm to 4 mm (without the invention would be limited thereto).

Gemäß 1 ist jede der drei Anordnungen 110, 120 und 130 hinsichtlich ihres Aufbaus aus strahlablenkenden optischen Elementen aperiodisch ausgebildet. Dies wird im Ausführungsbeispiel dadurch erreicht, dass für jede der drei Anordnungen 110–130 jeweils die Ausdehnung bzw. die optisch wirksamen Flächen der strahlablenkenden optischen Elemente 111, 112, ... unterschiedlich groß sind, so dass die durch die strahlablenkenden optischen Elemente 111, 112, ... erzeugten optischen Kanäle einen unterschied lichen Querschnitt aufweisen. Genauer folgt z. B. in der Anordnung 110 auf ein vergleichsweise mittelgroßes Element 111 ein vergleichsweise kleines Element 112, auf dieses ein vergleichsweise großes Element 113 etc., wobei die Ausdehnung der Elemente als p₁, p₂, ... bezeichnet ist. Mit „d” ist der Abstand zwischen der ersten Anordnung 110 und der zweiten Anordnung 120, und mit „a” der Abstand zwischen der zweiten Anordnung 120 und der dritten Anordnung 130 bezeichnet. Für eine gegebene Lage der Anordnungen 110–130, also für konstante Werte von a und d sowie für eine gegebene effektive Brennweite F der Gesamtanordnung ergeben sich die notwendigen Brennweiten für die zweite Anordnung 120 und die dritte Anordnung 130 aus den Beziehungen (3) und (4) wie folgt:

According to 1 is each of the three arrangements 110 . 120 and 130 formed aperiodically with respect to their construction of beam deflecting optical elements. This is achieved in the embodiment in that for each of the three arrangements 110 - 130 in each case the extent or the optically effective surfaces of the beam deflecting optical elements 111 . 112 , ... are of different sizes, so that by the beam-deflecting optical elements 111 . 112 , ... produced optical channels have a different union cross section. More precisely follows z. B. in the arrangement 110 on a comparatively medium-sized element 111 a comparatively small element 112 , on this a comparatively large element 113 etc., wherein the extent of the elements as p ₁ , p ₂ , ... is designated. With "d" is the distance between the first arrangement 110 and the second arrangement 120 , and with "a" the distance between the second arrangement 120 and the third arrangement 130 designated. For a given location of the arrangements 110 - 130 , ie for constant values of a and d as well as for a given effective focal length F of the overall arrangement, the necessary focal lengths for the second arrangement result 120 and the third arrangement 130 from relationships (3) and (4) as follows:

Aufgrund der variablen Ausdehnungen p_i (i = 1, 2, ...) der strahlablenkenden optischen Elemente der jeweils benachbarten Elemente 111, 112, ... sind nun diese Brennweiten in der zweiten bzw. dritten Anordnung 120, 130 jeweils unterschiedlich und für die zweite Anordnung mit f₁ ⁽²⁾, f₂ ⁽²⁾, ... sowie für die dritte Anordnung mit f₁ ⁽³⁾, f₂ ⁽³⁾, ... bezeichnet.Because of the variable expansions p _i (i = 1, 2,...) Of the beam deflecting optical elements of the respectively adjacent elements 111 . 112 , ... are now these focal lengths in the second and third arrangement 120 . 130 referred to differently and for the second assembly having f ₁ ^(2), f ₂ ^(2), ..., and for the third arrangement with f ₁ ^(3), f ₂ ^(3), ....

Gemäß 1 bilden die strahlablenkenden Elemente 111, 112, ... für jede der Anordnungen 110, 120 und 130 jeweils einen über die gesamte optisch wirksame Fläche nicht-periodischen Aufbau, d. h. der jeweilige Aufbau weist keinerlei Periodizität auf. Die Erfindung ist jedoch hierauf nicht beschränkt. Vielmehr sollen auch Wabenkondensoren als von der vorliegenden Anmeldung umfasst gelten, bei denen trotz Variation der optisch wirksamen Fläche, Form oder Orientierung der optischen Kanäle bzw. der diese erzeugenden strahlablenkenden optischen Elemente in wenigstens einer Anordnung noch eine gewisse Periodizität (z. B. in einer Abfolge „A-B-A-B-...”) vorhanden ist.According to 1 form the beam deflecting elements 111 . 112 , ... for each of the orders 110 . 120 and 130 each one over the entire optically effective surface non-periodic structure, ie the respective structure has no periodicity. However, the invention is not limited thereto. Rather, honeycomb condensers are also to be regarded as encompassed by the present application, in which despite a variation of the optically effective surface, shape or orientation of the optical channels or of the beam-deflecting optical elements generating them, at least one arrangement still has a certain periodicity (eg in one embodiment) Sequence "ABAB -...") is present.

Des Weiteren umfasst die Erfindung auch Wabenkondensoren, bei welchen die Variation der optisch wirksamen Fläche, der Form oder der Orientierung der strahlablenkenden Elemente oder ein wenigstens bereichsweise aperiodischer Aufbau nicht für sämtliche Anordnungen, sondern nur für eine oder zwei der insgesamt wenigstens drei Anordnungen gegeben ist.Of Furthermore, the invention also includes honeycomb condensers in which the variation of the optically effective area, the shape or the orientation of the beam deflecting elements or at least one partially aperiodic structure not for all Arrangements, but only for one or two of the total at least three arrangements is given.

Im Folgenden wird der durch die erfindungsgemäße Ausgestaltung des Wabenkondensors 100 von 1 erzielte Effekt anhand von 2 durch Vergleich mit einem traditionellen, periodischen Wabenkondensor (2a) sowie einem Wabenkondensor mit zufälliger Dickenvariation der optischen Kanäle bzw. Einführung einer zusätzlichen Phasenverschiebung von 0 bis 2π für jeden optischen Kanal (2b) dargestellt, wobei der erfindungsgemäße Wabenkondensor 100 in 2c charakterisiert ist.The following is the by the inventive design of the honeycomb condenser 100 from 1 achieved effect based on 2 by comparison with a traditional, periodic honeycomb condenser ( 2a ) and a honeycomb condenser with random thickness variation of the optical channels or introduction of an additional phase shift from 0 to 2π for each optical channel ( 2 B ), wherein the honeycomb condenser according to the invention 100 in 2c is characterized.

Gezeigt sind in 2a–c jeweils die Fourierspektren für die betreffenden Wabenkondensoren. Diese Fourierspektren wurden jeweils für einen horizontalen Schnitt durch das Fernfeld bei simulierter Bestrahlung der Systeme mit einer ebenen Welle berechnet, wobei der Kehrwert des mittleren Pitch als „Frequenz 1” zur Normierung der Ortsfrequenz verwendet wurde. Wie aus 2a ersichtlich ist, führt der traditionelle Wabenkondensor zu regelmäßigen Peaks im Fernfeld, deren Ortsfrequenz durch den inversen Wert des Pitch gegeben ist, so dass bei einem Wert Eins der normierten Ortsfrequenz ein großer Peak auftritt. Dieser Peak bleibt in 2b trotz deutlicher Verringerung noch erkennbar. In 2c zeigt sich hingegen eine deutliche Verschmierung des Peaks zu einer breiten Struktur, so dass erkennbar wird, dass die periodischen Beugungseffekte im Fernfeld durch die erfindungsgemäße Ausgestaltung wirkungsvoll unterdrückt werden können.Shown are in 2a -C in each case the Fourier spectra for the honeycomb condensers in question. These Fourier spectra were each calculated for a horizontal section through the far field with simulated irradiation of the systems with a plane wave, the inverse of the mean pitch being used as "frequency 1" for normalizing the spatial frequency. How out 2a can be seen, leads the traditional honeycomb condenser to regular peaks in the far field whose spatial frequency is given by the inverse value of the pitch, so that at a value of one of the normalized spatial frequency, a large peak occurs. This peak stays in 2 B despite significant reduction still recognizable. In 2c On the other hand, there is a marked smearing of the peak to a broad structure, so that it can be seen that the periodic diffraction effects in the far field can be effectively suppressed by the design according to the invention.

3 zeigt einen erfindungsgemäßen Wabenkondensor 300 gemäß einer weiteren Ausführungsform. Dieser umfasst als „vierstufiger” Wabenkondensor vier Anordnungen 310–340 aus strahlablenkenden optischen Elementen von denen jeweils nur vier bzw. fünf Elemente angedeutet sind. 3 shows a honeycomb condenser according to the invention 300 according to a further embodiment. This comprises four arrangements as a "four-stage" honeycomb condenser 310 - 340 from beam deflecting optical elements of which only four or five elements are indicated.

Der Wabenkondensor 300 hat mit dem Wabenkondensor 100 zunächst den wenigstens bereichsweise aperiodischen Aufbau gemeinsam, wobei wiederum in wenigstens einer (nämlich im konkreten Falle in zwei) Anordnungen der Querschnitt der optischen Kanäle bzw. die optisch wirksame Fläche der strahlablenkenden Elemente variiert. Hierbei handelt es sich um die Anordnungen 320 und 330, wohingegen die erste Anordnung 310 und die vierte Anordnung 340 jeweils als periodische Anordnungen aus strahlablenkenden optischen Elementen mit konstantem Rastermaß bzw. Pitch ausgebildet sind.The honeycomb condenser 300 has with the honeycomb condenser 100 First, the at least partially aperiodic structure together, in turn, in at least one (namely, in a concrete case in two) arrangements, the cross section of the optical channels or the optically active surface of the beam deflecting elements varies. These are the arrangements 320 and 330 whereas the first arrangement 310 and the fourth arrangement 340 are each formed as periodic arrays of beam deflecting optical elements with a constant pitch or pitch.

Der Wabenkondensor 300 unterscheidet sich jedoch vom Wabenkondensor 100 dadurch, dass die durch einander zugeordnete strahlablenkende optische Elemente in den Anordnungen 310–340 gebildeten optischen Kanäle für hindurchtretendes Licht, welche mittels gestrichelter Linien angedeutet sind, keinen konstanten Querschnitt (bzw. keinen in Lichtausbreitungsrichtung konstanten Verlauf ihrer Ausdehnung bzw. Breite) aufweisen, wobei insbesondere im Ausführungsbeispiel die optischen Kanäle von Anordnung zu Anordnung abwechselnd breiter und schmaler werden.The honeycomb condenser 300 differs, however, from the honeycomb condenser 100 in that the beam-deflecting optical elements assigned to one another in the arrangements 310 - 340 formed optical channels for passing light, which are indicated by dashed lines, no constant cross section (or not constant in the light propagation direction course of their extension or width), in particular in the embodiment, the optical channels are alternately wider and narrower from arrangement to arrangement.

Gemäß einer weiteren (nicht dargestellten) Ausführungsform können die Anordnungen auch nicht-eben ausgestaltet sein, also zumindest bereichsweise oder auch über die gesamte optisch wirksame Fläche konvex oder konkav gekrümmt sein.According to one another embodiment (not shown) can the arrangements also not-just designed, so at least partially or even over the entire optically effective Surface convex or concave curved.

Gemäß einer weiteren (nicht dargestellten) Ausführungsform kann das Merkmal des variierenden Querschnitts der optischen Kanäle auch in einem dreistufigen Wabenkondensor verwirklicht werden, sofern die strahlablenkenden optischen Elemente der in Lichtausbreitungsrichtung letzten Anordnung nicht äquidistant zueinander angeordnet sind. Wie bereits erläutert ist dies ohne weiteres möglich und führt geometrisch-optisch zum gleichen Fernfeld wie bei einem äquidistant ausgelegten Wabenkondensor. Wellenoptisch führt eine nicht-äquidistante letzte Anordnung des Wabenkondensors zwar zu geringen Unterschieden im Fernfeld der einzelnen optischen Kanäle, die jedoch zumeist vernachlässigt werden können.According to one another (not shown) embodiment, the Feature of the varying cross section of the optical channels be realized in a three-stage honeycomb condenser, provided the beam deflecting optical elements in the light propagation direction last arrangement not equidistant to each other are. As already explained, this is easily possible and leads geometrically-optically to the same far-field as in an equidistantly designed honeycomb condenser. wave Optical leads a non-equidistant last arrangement Although the honeycomb condenser to small differences in the far field of each optical channels, but mostly neglected can be.

In 4 ist eine weitere Ausführungsform eines Wabenkondensors 400 gemäß der vorliegenden Erfindung in schematischer Darstellung gezeigt. Dieser Wabenkondensor 400 umfasst zusätzlich zu einer in Lichtausbreitungsrichtung ersten Anordnung 410 aus strahlablenkenden Elementen 411, 412, ... und einer in Lichtausbreitungsrichtung letzten Anordnung 440 aus strahlablenkenden Elementen 441, 442, ... zwei zwischen diesen Anordnungen 410, 440 befindliche Anordnungen 420 und 430, welche ebenfalls strahlablenkende Elemente 421, 422, ... bzw. 431, 432, ... umfassen, die jedoch als keilförmige Prismen ausgelegt sind. Diese keilförmigen Prismen können insbesondere auch unmittelbar auf den als Bikonvexlinsen ausgelegten strahlablenkenden Elementen der jeweils benachbarten Anordnung 410 bzw. 440 angeordnet sein.In 4 is another embodiment of a honeycomb condenser 400 according to the present invention in a schematic representation. This honeycomb condenser 400 comprises in addition to a first arrangement in the light propagation direction 410 from beam deflecting elements 411 . 412 , ... and a last arrangement in the light propagation direction 440 from beam deflecting elements 441 . 442 , ... two between these arrangements 410 . 440 located arrangements 420 and 430 , which also jet deflecting elements 421 . 422 , ... respectively. 431 . 432 , ..., but which are designed as wedge-shaped prisms. In particular, these wedge-shaped prisms can also act directly on the beam-deflecting elements of the respectively adjacent arrangement designed as biconvex lenses 410 respectively. 440 be arranged.

Wie durch die gestrichelten Linien in 4 angedeutet ist, hat das Vorhandensein dieser keilförmigen Prismen zur Folge, dass die den Lichtdurchtritt durch den Wabenkondensor ermöglichenden optischen Kanäle, welche bei Lichteintritt in den Wabenkondensor 400 zueinander benachbart sind, bei Lichtaustritt aus dem Wabenkondensor 400 nicht mehr zueinander benachbart sind. Diese Wirkung kann selbstverständlich – anstatt durch keilförmige Prismen in Kombination mit refraktiven Linsen – auch durch reflektive Elemente bzw. Spiegel erzielt werden. Des Weiteren kann das besagte Konzept einer Änderung der Zuordnung der Lage der optischen Kanäle auf der lichteintrittsseitigen Anordnung 410 im Vergleich zur lichtaustrittsseitigen Anordnung 440 sowohl in Verbindung mit der erfindungsgemäßen Ausgestaltung des Wabenkondensors mit variablem Abstand zwischen den strahlablenkenden Elementen bzw. deren nicht-periodischer Anordnung, als auch unabhängig hiervon, d. h. in Verbindung mit einem herkömmlichen perodischen Aufbau aus den strahlablenkenden optischen Elementen (wie in 4 der Fall) realisiert werden.As indicated by the dashed lines in 4 is indicated, the presence of these wedge-shaped prisms has the consequence that the light passage through the honeycomb condenser enabling optical channels, which at light entering the honeycomb condenser 400 adjacent to each other, in light emission from the honeycomb condenser 400 are no longer adjacent to each other. This effect can of course - instead of wedge-shaped prisms in combination with refractive lenses - also be achieved by reflective elements or mirrors. Furthermore, the said concept may be to change the assignment of the position of the optical channels on the light entrance side array 410 in comparison to the light exit side arrangement 440 both in connection with the inventive design of the honeycomb condenser with variable spacing between the beam deflecting elements or their non-periodic arrangement, as well as independently thereof, ie in conjunction with a conventional perodic structure of the beam deflecting optical elements (as in 4 the case) can be realized.

Der durch das Konzept von 4, nämlich der Änderung der Lage der optischen Kanäle in der lichtaustrittsseitigen Anordnung relativ zur lichteintrittsseitigen Anordnung im Wabenkondensor, erzielte Effekt ist in 5a und 5b veranschaulicht.The one by the concept of 4 , namely the change in the position of the optical channels in the light exit side arrangement relative to the light entry side arrangement in the honeycomb condenser, achieved effect is in 5a and 5b illustrated.

In diesen schematischen Darstellungen ist zwecks einfacherer Darstellung jeweils von einem Wabenkondensor 500 bzw. 550 nur die lichteintrittsseitige Anordnung 510 bzw. 560 und die lichtaustrittsseitige Anordnung 520 bzw. 570 aus strahlablenkenden optischen Elementen gezeigt. Mit 530 bzw. 580 ist jeweils die zwischen dem Wabenkondensor 500 bzw. 550 befindliche und in der Zeichnung lediglich angedeutete optische Anordnung („Fourieroptik”) bezeichnet. Die vorstehend unter Bezug auf 4 erläuterte, veränderte relative Zuordnung der optischen Kanäle lichtaustrittsseitig zu lichteintrittsseitig hat gemäß 5b zur Folge, dass die in der Feldebene FE aufeinander treffenden Wellen im Vergleich zur Situation von 5a (mit gleich bleibender relativer Zuordnung der Kanäle lichteintritts- und lichtaustrittsseitig) unter größeren Winkeln aufeinander treffen, was wiederum höherfrequente bzw. feinere Strukturen in der Feldebene FE erzeugt.In these schematic representations, for ease of illustration, each of a honeycomb condenser 500 respectively. 550 only the light entry side arrangement 510 respectively. 560 and the light exit side arrangement 520 respectively. 570 shown from beam deflecting optical elements. With 530 respectively. 580 is in each case between the honeycomb condenser 500 respectively. 550 located and indicated in the drawing only indicated optical arrangement ("Fourier optics"). The above with reference to 4 explained, changed relative assignment of the optical channels light exit side to light inlet side has according to 5b As a consequence, the waves striking one another in the field level FE are compared with the situation of 5a (with a constant relative allocation of the channels light entrance and light exit side) meet at larger angles to each other, which in turn generates higher-frequency or finer structures in the field level FE.

Werden somit optische Kanäle, die auf der Lichteintrittsfläche benachbart zueinander angeordnet sind, möglichst weit über die Lichtaustrittsfläche verteilt, so treffen sich korrelierte Lichtstrahlen im Fernfeld unter höherem Winkel. Die erzeugte Interferenzstruktur wird damit hochfrequenter. Dies ist vorteilhafter als eine niederfrequente Struktur, da vorhandene Faltungskerne im System hochfrequente Strukturen viel effizienter verwaschen können.Become thus optical channels on the light entry surface are arranged adjacent to each other, as far as possible over distributes the light exit surface, so correlated meet Light rays in the far field at a higher angle. The generated Interference structure is thus high-frequency. This is more advantageous as a low-frequency structure, since existing folding cores in the System can wash out high-frequency structures much more efficiently.

Für die Bestimmung einer optimalen Zuordnung der Lage der optischen Kanäle beim Lichtaustritt aus dem Wabenkondensor relativ zur Lage beim Lichteintritt in den Wabenkondensor, welche wiederum durch „Abstoßung” der Positionen der optischen Kanäle beim Lichtaustritt aus dem Wabenkondensor beschrieben wird, lassen sich bekannte mathematische Verfahren verwenden. Ein beispielsweise geeigneter Ansatz bietet die Monte-Carlo-Simulation. Hierbei definiert z. B. die Zuordnung der Eingangs- zu den Ausgangskanälen eine Permutation σ. Die Verwendung einer Merit-Funktion der Form

mit i, j = 1, 2, ... unterdrückt Permutationen, bei denen benachbarte Eingangskanäle auf benachbarte Ausgangskanäle abgebildet werden. Eine Vielzahl anderer Merit-Funktionen ist ebenfalls anwendbar. Eine hinreichend große Zahl zufälliger Permutationen kann durch bekannte „Shuffling-Algorithmen” (= Misch- oder Umordnungsalgorithmen) erzeugt werden.For the determination of an optimal assignment of the position of the optical channels in the light exit from the honeycomb condenser relative to the position in the light entering the honeycomb condenser, which in turn is described by "repulsion" of the positions of the optical channels in the light exit from the honeycomb condenser, known mathematical methods can be used , An example of a suitable approach is the Monte Carlo simulation. This defines z. B. the assignment of the input to the output channels a permutation σ. The use of a merit function of the form

with i, j = 1, 2, ... suppresses permutations in which adjacent input channels are mapped to neighboring output channels. A variety of other merit functions are also applicable. A sufficiently large number of random permutations can be generated by known "shuffling algorithms" (= mixing or reordering algorithms).

9 zeigt in lediglich schematischer Darstellung den prinzipiellen Aufbau einer Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage gemäß einer Ausführungsform der Erfindung. 9 shows in a schematic representation of the basic structure of a lighting device of a microlithographic projection exposure apparatus according to an embodiment of the invention.

Die Beleuchtungseinrichtung 1 dient zur Beleuchtung einer Struktur tragenden Maske (Retikel) 2 mit Licht von einer Lichtquelleneinheit (nicht dargestellt), welche beispielsweise einen ArF-Laser für eine Arbeitswellenlänge von 193 nm sowie eine ein paralleles Lichtbündel erzeugende Strahlformungsoptik umfasst. Alternativ kann beispielsweise auch ein F₂-Laser für eine Arbeitswellenlänge von 157 nm vorgesehen sein. Des Weiteren können die Beleuchtungseinrichtung sowie das nachfolgende Projektionsobjektiv auch für die Verwendung einer EUV-Lichtquelle (d. h. mit einer Arbeitswellenlänge kleiner als 15 nm, z. B. etwa 13 nm oder etwa 7 nm) ausgelegt sein.The lighting device 1 serves to illuminate a structure-carrying mask (reticle) 2 with light from a light source unit (not shown), which comprises, for example, an ArF laser for a working wavelength of 193 nm and a parallel beam generating beam shaping optics. Alternatively, for example, an F ₂ laser for a working wavelength of 157 nm may be provided. Furthermore, the illumination device as well as the subsequent projection objective can also be designed for the use of an EUV light source (ie with an operating wavelength of less than 15 nm, eg approximately 13 nm or approximately 7 nm).

Das parallele Lichtbüschel der Lichtquelleneinheit trifft gemäß dem Ausführungsbeispiel zunächst auf ein diffraktives optisches Element 3 (auch als „pupil defining element” bezeichnet), welches über eine durch die jeweilige beugende Oberflächenstruktur definierte Winkelabstrahlcharakteristik in einer Pupillenebene P1 eine gewünschte Intensitätsverteilung (z. B. Dipol- oder Quadrupolverteilung) erzeugt. In Lichtausbreitungsrichtung nach dem diffraktiven optischen Element 3 befindet sich gemäß 9 eine optische Einheit 4, welche ein ein paralleles Lichtbündel mit variablem Durchmesser erzeugendes Zoom-Objektiv sowie ein Axikon aufweist. Mittels des Zoom-Objektives in Verbindung mit dem vorgeschalteten diffraktiven optischen Element 3 werden in der Pupillenebene P1 je nach Zoom-Stellung und Position der Axikon-Elemente unterschiedliche Beleuchtungskonfigurationen erzeugt. Die optische Einheit 4 umfasst ferner einen Umlenkspiegel 4a.The parallel light bundle of the light source unit first meets a diffractive optical element according to the exemplary embodiment 3 (also referred to as "pupil-defining element"), which generates a desired intensity distribution (eg dipole or quadrupole distribution) in a pupil plane P1 via an angular radiation characteristic defined by the respective diffracting surface structure. In the light propagation direction after the diffractive optical element 3 is in accordance with 9 an optical unit 4 comprising a zoom lens generating a parallel variable diameter light beam and an axicon. By means of the zoom lens in conjunction with the upstream diffractive optical element 3 Depending on the zoom position and position of the axicon elements, different illumination configurations are generated in the pupil plane P1. The optical unit 4 further comprises a deflection mirror 4a ,

In unmittelbarer Nähe der ersten Pupillenebene P1 der Beleuchtungseinrichtung 1 befindet sich ein erfindungsgemäßer Wabenkondensor 5 mit dem in 1 schematisch dargestellten Aufbau. Alternativ kann auch ein Wabenkondensor gemäß einer anderen der vorstehend beschriebenen Ausführungsformen eingesetzt sein.In the immediate vicinity of the first pupil plane P1 of the illumination device 1 is a honeycomb condenser according to the invention 5 with the in 1 schematically illustrated construction. Alternatively, a honeycomb condenser may be used according to another of the embodiments described above.

Auf den Wabenkondensor 5 folgt in Lichtausbreitungsrichtung eine Linsengruppe 7, hinter welcher sich eine Feldebene F1 mit einem Retikel-Maskierungssystem (REMA) befindet, welches durch ein in Lichtausbreitungsrichtung nachfolgendes REMA-Objektiv 8, in welcher sich eine zweite Pupillenebene P2 befindet, auf die Struktur tragende, in der Feldebene F2 angeordnete Maske (Retikel) 2 abgebildet wird und dadurch den ausgeleuchteten Bereich auf dem Retikel 2 begrenzt. Die Struktur tragende Maske 2 wird mit einem (hier nicht dargestellten) Projektionsobjektiv auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht versehenes Substrat bzw. einen Wafer abgebildet.On the honeycomb condenser 5 follows in the light propagation direction a lens group 7 behind which there is a field plane F1 with a reticle masking system (REMA), which passes through a REMA objective following in the light propagation direction 8th , in which there is a second pupil plane P2, to which Structure-bearing mask arranged in the field plane F2 (reticle) 2 and thereby the illuminated area on the reticle 2 limited. The structure wearing mask 2 is imaged with a projection lens (not shown) on a substrate or wafer provided with a photosensitive layer.

In der vorstehend unter Bezugnahme von 9 beschriebenen Beleuchtungseinrichtung 1 dient der Wabenkondensor 5 zur Feldhomogenisierung, wobei durch das diffraktive optische Element 3 zunächst die Lichtverteilung in der Pupillenebene P1 erzeugt und diese dann mittels des Wabenkondensors 5 in die Lichtverteilung in der Feldebene F1 bzw. F2 umgewandelt wird.In the above with reference to 9 described illumination device 1 serves the honeycomb condenser 5 for field homogenization, wherein by the diffractive optical element 3 first, the light distribution in the pupil plane P1 generated and then by means of the honeycomb condenser 5 is converted into the light distribution in the field plane F1 or F2.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann ein erfindungsgemäßer Wabenkondensor auch zur Pupillenhomogenisierung eingesetzt werden. Diese Situation ist in 10 dargestellt. In der dort gezeigten Beleuchtungseinrichtung 11 sind in ihrer Funktion vergleichbare Elemente mit analogen, um 10 erhöhten Bezugszeichen dargestellt. Die Beleuchtungseinrichtung 11 weist anstelle des diffraktiven optischen Elementes 3 von 9 ein variabel einstellbares Pupillenformungselement in Form einer Mikrospiegelanordnung (MMA) 13 mit einer Vielzahl unabhängig voneinander einstellbarer Mikrospiegel auf. Um diese Mikrospiegelanordnung 13 möglichst gleichmäßig auszuleuchten, ist in Lichtausbreitungsrichtung vor der Mikrospiegelanordnung 13 bzw. stromaufwärts ein weiterer Wabenkondensor 12 (zusätzlich zu dem in Nähe der Pupillenebene P1 angeordneten Wabenkondensor 15) angeordnet.According to a further embodiment, a honeycomb condenser according to the invention can also be used for pupil homogenization. This situation is in 10 shown. In the illumination device shown there 11 are comparable in their function elements with analog, 10 increased reference numerals. The lighting device 11 points instead of the diffractive optical element 3 from 9 a variably adjustable pupil-shaping element in the form of a micromirror arrangement (MMA) 13 with a multitude of independently adjustable micromirrors. To this micromirror arrangement 13 To illuminate as evenly as possible, is in front of the micromirror arrangement in the light propagation direction 13 or upstream another honeycomb condenser 12 (in addition to the honeycomb condenser located near the pupil plane P1 15 ) arranged.

Dieser im Bereich vergleichsweise niedriger Divergenzwinkel (von wenigen mrad) angeordnete Wabenkondensor 12 dient dazu, die durch die Mikrospiegelanordnung 13 in der Pupillenebene P1 erzeugte Lichtverteilung zu homogenisieren. Infolge der Positionierung dieses Wabenkondensors 12 im Bereich kleiner Divergenzwinkel ist der Einsatz eines erfindungsgemäßen Wabenkondensors im Hinblick auf die nach der Erfindung gerade für solche geringen Divergenzwinkel reduzierten bzw. vermiedenen Nachteile im Zusammenhang mit den zuvor beschriebenen Interferenzeffekten besonders vorteilhaft.This in the range comparatively low divergence angle (of a few mrad) arranged honeycomb condenser 12 serves to through the micromirror arrangement 13 to homogenize light distribution generated in the pupil plane P1. Due to the positioning of this honeycomb condenser 12 In the range of small angles of divergence, the use of a honeycomb condenser according to the invention is particularly advantageous in view of the disadvantages reduced or avoided according to the invention, especially for such low angles of divergence, in connection with the previously described interference effects.

Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alternative Ausführungsformen, z. B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungsformen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äquivalente beschränkt ist.If the invention also with reference to specific embodiments described, will be apparent to those skilled in the art numerous variations and alternative embodiments, z. B. by combination and / or exchange of features of individual Embodiments. Accordingly, it is understood the person skilled in the art that such variations and alternative embodiments are covered by the present invention, and the range the invention only in the sense of the appended claims and their equivalents are limited.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list The documents listed by the applicant have been automated generated and is solely for better information recorded by the reader. The list is not part of the German Patent or utility model application. The DPMA takes over no liability for any errors or omissions.

Zitierte PatentliteraturCited patent literature

- DE 102007026730 A1 [0006]
- JP 2285628 A [0007]

Claims

Honeycomb condenser ( 5 . 12 . 15 . 100 . 200 . 300 . 400 . 500 . 550 ), in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, having: • at least three arrangements following one another in the light propagation direction ( 110 - 130 . 310 - 340 . 410 - 440 ) of beam deflecting optical elements ( 111 . 112 , ...; 121 . 122 , ...; 131 . 132 , ...; 311 . 312 , ...; 411 . 412 , ...) for generating a plurality of optical channels, • wherein in at least one of these arrangements at least two of these optical channels have a different cross-section.

A honeycomb condenser according to claim 1, characterized in that in at least one of these arrangements ( 110 - 130 . 310 - 340 . 410 - 440 ) are the optically effective surfaces of at least two beam deflecting optical elements of different sizes.

Honeycomb condenser according to claim 2, characterized in that in at least one of these arrangements, the optically active Surface of the beam deflecting optical elements by at least 10%, in particular by at least 20%, more particularly by at least 30% varies.

A honeycomb condenser according to any one of claims 1 to 3, characterized in that at least one of these arrangements ( 110 - 130 . 310 - 340 . 410 - 440 ) is at least partially aperiodic in structure from the beam deflecting optical elements.

A honeycomb condenser according to any one of the preceding claims, characterized in that at least one of these optical channels a varying along the light propagation direction cross-section having.

A honeycomb condenser according to one of the preceding claims, characterized in that at least two optical channels which, when light enters the honeycomb condenser ( 400 ) are adjacent to each other, at light exit from the honeycomb condenser ( 400 ) are not adjacent to each other.

A honeycomb condenser according to any one of the preceding claims, characterized in that at least one of these arrangements is not even.

Honeycomb condenser ( 400 ), in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, having: • at least two successive arrangements in the direction of light propagation ( 410 . 420 . 430 . 440 ) of beam deflecting optical elements ( 411 . 412 , ...; 421 . 422 , ...; 431 . 432 , ...; 441 . 442 , ...) for generating a plurality of optical channels; At least two of these optical channels which, when light enters the honeycomb condenser ( 400 ) are adjacent to each other, at light exit from the honeycomb condenser ( 400 ) are not adjacent to each other.

A honeycomb condenser according to claim 8, characterized in that it comprises at least three successive arrangements in the light propagation direction ( 410 . 420 . 430 . 440 ) of beam deflecting optical elements ( 411 . 412 , ...; 421 . 422 , ...; 431 . 432 , ...; 441 . 442 , ...) having.

A honeycomb condenser according to any one of the preceding claims, characterized in that a position manipulator for variation the relative position of at least two of these arrangements to each other is provided.

A honeycomb condenser according to any one of the preceding claims, characterized in that at least one of the beam deflecting optical elements, in particular all of these beam deflecting optical elements, is designed as a mirror or are.

A honeycomb condenser according to any one of the preceding claims, characterized in that at least one of the beam deflecting optical elements, in particular all of these beam deflecting optical elements, is designed as a refractive lens or are.

A honeycomb condenser according to any one of the preceding claims, characterized in that this for a working wavelength less than 200 nm, more particularly less than 160 nm, and more particularly less than 15 nm.

Illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus, characterized in that the illumination device comprises at least one honeycomb condenser ( 100 . 200 . 300 . 400 . 500 . 550 ) according to one of the preceding claims.

Lighting device according to Claim 14, characterized in that it has a micromirror arrangement (MMA) ( 13 ) having a plurality of independently adjustable micromirrors.

Lighting device according to claim 14 or 15, characterized in that at least one honeycomb condenser ( 12 . 100 . 200 . 300 . 400 . 500 . 550 ) is disposed in a region where the divergence angle of the illumination device ( 1 ) in running light passes a maximum of 10 mrad, in particular a maximum of 5 mrad, more particularly a maximum of 3 mrad.

Lighting device according to one of claims 14 to 16, characterized in that at least one honeycomb condenser ( 12 . 100 . 200 . 300 . 400 . 500 . 550 ) in the light propagation direction of one of the three first optical elements in the illumination device.

Lighting device according to one of claims 14 to 17, characterized in that at least one honeycomb condenser ( 5 . 15 . 100 . 200 . 300 . 400 . 500 . 550 ) is arranged at least in the immediate vicinity of a pupil plane.

Microlithographic projection exposure apparatus comprising a lighting device and a projection lens, wherein the illumination device ( 1 ) illuminates an object plane of the projection lens during operation of the projection exposure apparatus and the projection objective images this object plane onto an image plane, characterized in that the illumination device has a honeycomb condenser according to one of claims 1 to 13.

A method for the microlithographic production of microstructured components comprising the following steps: providing a substrate on which at least partially a layer of a photosensitive material is applied; • Providing a mask ( 2 ) having structures to be imaged; Providing a microlithographic projection exposure apparatus according to claim 19; and projecting at least part of the mask ( 2 ) on an area of the layer by means of the projection exposure apparatus.

Microstructured device that works by a method prepared according to claim 20.

Microstructured component according to Claim 21, characterized in that the component is an LCD display.