[go: up one dir, main page]

DE102008048879A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement und Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement und Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung Download PDF

Info

Publication number
DE102008048879A1
DE102008048879A1 DE200810048879 DE102008048879A DE102008048879A1 DE 102008048879 A1 DE102008048879 A1 DE 102008048879A1 DE 200810048879 DE200810048879 DE 200810048879 DE 102008048879 A DE102008048879 A DE 102008048879A DE 102008048879 A1 DE102008048879 A1 DE 102008048879A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
voltage
high voltage
semiconductor device
low voltage
test
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE200810048879
Other languages
English (en)
Other versions
DE102008048879B4 (de
Inventor
Rainer Dr. Holmer
Gerhard Poeppel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Infineon Technologies AG
Original Assignee
Infineon Technologies AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies AG filed Critical Infineon Technologies AG
Priority to DE102008048879.8A priority Critical patent/DE102008048879B4/de
Publication of DE102008048879A1 publication Critical patent/DE102008048879A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102008048879B4 publication Critical patent/DE102008048879B4/de
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2601Apparatus or methods therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2642Testing semiconductor operation lifetime or reliability, e.g. by accelerated life tests

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

Ein Verfahren zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement beinhaltet Erzeugen einer Niederspannung an einer von einem Halbleiterbauelement, an das eine Hochspannung anzulegen ist, räumlich entfernten Position, Zuleiten der Niederspannung zu einer dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position, Erzeugen einer Hochspannung aus der zugeleiteten Niederspannung an der dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position und Anlegen der Hochspannung an das Halbleiterbauelement. Eine Vorrichtung zur Ausführung dieses Verfahrens und eine Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung werden bereitgestellt.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement, eine Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement und eine Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung.
  • Halbleiterbauelemente werden nach ihrer Produktion üblicherweise auf Funktionsfähigkeit geprüft. In manchen Fällen ist dabei eine Prüfung mit höheren Spannungen, beispielsweise mit 2000 Volt oder mehr, erforderlich. Beim Testen von Halbleiterbauelementen mit einer derartigen Hochspannung kann es unter Normalbedingungen, das heißt Atmosphärenluft bei ca. 1000 hPa Luftdruck, in der Testanordnung zu Spannungsüberschlägen kommen. Dadurch können auch weiterreichende Folgeschäden, zum Beispiel eine Schädigung der verwendeten Messgeräte oder eine Schädigung der Kontaktelemente, auftreten. Zur Vermeidung von Schäden durch Spannungsüberschläge wird das Prüfen von Halbleiterbauelementen mit Hochspannung unter Schutzgasatmosphäre, beispielsweise Schwefelhexafluorid, durchgeführt.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Prüfen von Halbleiterbauelementen mit Hochspannung in normaler Atmosphärenluft ohne Schutzgas zu ermöglichen.
  • Die Aufgabe wird durch das Verfahren und die Vorrichtungen gemäß den jeweiligen unabhängigen Patentansprüchen gelöst.
  • Bei einem Verfahren zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement wird eine Niederspannung an einer von einem Halbleiterbauelement, an das eine Hochspannung anzulegen ist, räumlich entfernten Position erzeugt. Die Niederspannung wird zu einer dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position zugeleitet. Aus der zugeleiteten Niederspannung wird an der dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position eine Hochspannung erzeugt. Die Hochspannung wird an das Halbleiterbauelement angelegt.
  • Eine Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement weist eine Niederspannungseinheit auf, die eingerichtet ist zum Erzeugen einer Niederspannung an einer von einem Halbleiterbauelement, an das eine Hochspannung anzulegen ist, räumlich entfernten Position. Sie weist eine Leitung auf, die eingerichtet ist zum Zuleiten der Niederspannung zu einer dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position. Sie weist ferner eine Hochspannungseinheit auf, die eingerichtet ist zum Erzeugen einer Hochspannung aus der zugeleiteten Niederspannung an der dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position. Sie weist außerdem eine Kontaktiereinheit auf, die eingerichtet ist zum Anlegen der Hochspannung an das Halbleiterbauelement.
  • Eine Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung weist eine Prüfelektronik auf, die eingerichtet ist zum Prüfen eines Halbleiterbauelements und eingerichtet ist zum Erzeugen einer Niederspannung. Sie weist weiterhin einen von der Prüfelektronik räumlich beabstandet angeordneten Prüfkopf auf, der eingerichtet ist zum Erzeugen, aus der Niederspannung, einer Hochspannung zum Prüfen des Halbleiterbauelements und der eingerichtet ist zum unmittelbaren Anlegen der Hochspannung an das Halbleiterbauelement. Sie weist weiterhin eine die Prüfelektronik und den Prüfkopf verbindende Leitung auf, die eingerichtet ist zum Zuleiten der Niederspannung von der Prüfelektronik zu dem Prüfkopf.
  • Anschaulich ausgedrückt, besteht ein Aspekt der Erfindung darin, die gewünschte Hochspannung erst direkt am zu prüfenden Halbleiterbauelement zu erzeugen. Dadurch muss nur noch ein kleiner Teil der Testapparatur hochspannungsfest ausgerüstet werden. Ein weiterer Vorteil ist, dass die Testapparatur nicht mit speziellen Spannungsquellen zur Erzeugung von höheren Spannungen ausgerüstet werden muss. Ein Prüfkopf mit lokaler Hochspannungserzeugung kann mit standardmäßiger Prüfausrüstung, beispielsweise beliebigem „automated test equipment” (automatisierte Testausrüstung, ATE), kombiniert werden. Der Prüfkopf ist eingerichtet, die Hochspannung aus der ihm zugeleiteten Niederspannung zu erzeugen. Dadurch wird die flexible Verwendbarkeit von Testausrüstungen erhöht und es werden Investitions- und Fertigungskosten gesenkt.
  • Weitere Ausführungsbeispiele der Erfindung sind den abhängigen Patentansprüchen und der nachfolgenden Beschreibung zu entnehmen. Dabei gelten, wo anwendbar, die Erläuterungen zu den Verfahren auch sinngemäß für die Vorrichtungen und umgekehrt.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel weist das Verfahren weiterhin auf, dass das Halbleiterbauelement mit der angelegten Hochspannung geprüft wird.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel weist das Verfahren weiterhin auf, dass die angelegte Hochspannung von dem Halbleiterbauelement entfernt bzw. wieder entfernt wird.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel beinhaltet das Erzeugen der Niederspannung ein Erzeugen mit einer Prüfelektronik.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel beinhaltet die Prüfelektronik eine automatisierte Testeinrichtung („automated test equipment”, ATE).
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel weist das Verfahren weiterhin auf, dass das Halbleiterbauelement mittels der Prüfelektronik geprüft wird.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel beinhaltet das Zuleiten ein Zuleiten mit einer flexibel beweglichen Leitung.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Hochspannung größer als die Niederspannung.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Hochspannung größer als 300 Volt.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Hochspannung größer als 1000 Volt.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Hochspannung größer als 2000 Volt.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Niederspannung kleiner als 1000 Volt.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Niederspannung kleiner als 300 Volt oder gleich 300 Volt.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel beinhaltet das Erzeugen der Hochspannung ein Erzeugen mit einer Spannungsvervielfachungsschaltung.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel hat die Spannungsvervielfachungsschaltung einen Spannungsvervielfachungsfaktor von mindestens 2 oder von größer als 2.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel beinhaltet die Spannungsvervielfachungsschaltung mindestens ein kapazitives Bauelement zum Speichern von Hochspannungsenergie. Ein kapazitives Bauelement wird häufig kurz mit dem Wort Kapazität bezeichnet.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel beinhaltet das mindestens eine kapazitive Bauelement zum Speichern von Hochspannungsenergie einen Kondensator.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel beinhaltet das mindestens eine kapazitive Bauelement zum Speichern von Hochspannungsenergie eine Diode.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel beinhaltet das Erzeugen mit einer Spannungsvervielfachungsschaltung ein Aufladen eines oder mehrerer kapazitiver Bauelemente mit einer Eingangsspannung und ein Abgreifen einer gegenüber der Eingangsspannung erhöhten Ausgangsspannung an dem einen oder den mehreren kapazitiven Bauelementen.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Spannungsvervielfachungsschaltung eine Greinacher-Schaltung.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Spannungsvervielfachungsschaltung eine Villard-Schaltung.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Spannungsvervielfachungsschaltung eine Transformator-basierte Schaltung.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die räumlich entfernte Position um einen Faktor von mindestens fünf weiter von dem Halbleiterbauelement entfernt als die räumlich benachbarte Position von dem Halbleiterbauelement entfernt ist.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die räumlich entfernte Position um einen Faktor von mindestens zehn weiter von dem Halbleiterbauelement entfernt als die räumlich benachbarte Position von dem Halbleiterbauelement entfernt ist.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist das Halbleiterbauelement auf einem Halbleiterwafer angeordnet.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel beinhaltet die Leitung eine flexibel bewegliche Leitung.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel beinhaltet die Niederspannungseinheit eine Prüfelektronik.
  • Gemäß einem Ausführungsbeispiel beinhaltet die Hochspannungseinheit eine Spannungsvervielfachungsschaltung.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.
  • Es zeigen
  • 1 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 2 ein Blockdiagramm einer Vorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel;
  • 3 ein Schaltbild einer Spannungsvervielfachungsschaltung gemäß einem Ausführungsbeispiel; und
  • 4 ein Schaltbild einer anderen Spannungsvervielfachungsschaltung gemäß einem anderen Ausführungsbeispiel.
  • Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe „verbunden”, „angeschlossen” sowie „gekoppelt” verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren sind identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.
  • 1 zeigt ein Ablaufdiagramm 100 eines Verfahrens gemäß einem Ausführungsbeispiel.
  • In 101 wird eine Niederspannung an einer von einem Halbleiterbauelement, an das eine Hochspannung anzulegen ist, räumlich entfernten Position erzeugt.
  • In 102 wird die Niederspannung zu einer dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position zugeleitet.
  • In 103 wird eine Hochspannung aus der zugeleiteten Niederspannung an der dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position erzeugt.
  • In 104 wird die Hochspannung an das Halbleiterbauelement angelegt.
  • 2 zeigt ein Blockdiagramm einer Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement gemäß einem Ausführungsbeispiel. Ein in 2 ebenfalls dargestelltes Halbleiterbauelement 205, an das die Hochspannung angelegt werden soll, gehört selbst nicht zu der Vorrichtung.
  • Eine Niederspannungseinheit 201 ist eingerichtet zum Erzeugen einer Niederspannung an einer von einem Halbleiterbauelement 205, an das eine Hochspannung anzulegen ist, räumlich entfernten Position.
  • Eine Leitung 202 ist eingerichtet zum Zuleiten der Niederspannung zu einer dem Halbleiterbauelement 205 räumlich benachbarten Position.
  • Eine Hochspannungseinheit 203 ist eingerichtet zum Erzeugen einer Hochspannung aus der zugeleiteten Niederspannung an der dem Halbleiterbauelement 205 räumlich benachbarten Position.
  • Eine Kontaktiereinheit 204 ist eingerichtet zum Anlegen der Hochspannung an das Halbleiterbauelement 205. Die Kontaktiereinheit 204 verfügt über einen oder mehrere Prüfkontakte 206 zum Anlegen der Hochspannung an das Halbleiterbauelement 205. Die Kontaktiereinheit 204 kann beispielsweise zwei Prüfkontakte 206 haben. Die Kontaktiereinheit 204 kann beispielsweise einen Prüfkontakt 206 für den einen Pol der anzulegenden Hochspannung haben und für den anderen Pol der anzulegenden Hochspannung kann ein gemeinsamer Anschluß (Erde, Masse) auf einem anderen Weg vorhanden sein. Die Kontaktiereinheit 204 kann beispielsweise eine Vielzahl von Prüfkontakten 206 haben. Die genannten Varianten bezüglich der Prüfkontakte 206 können beispielsweise beliebig miteinander kombiniert sein.
  • Die Kontaktiereinheit 204 ist mit der Hochspannungseinheit 203 durch eine Hochspannungsleitung 207 verbunden. Die Hochspannungsleitung 207 kann auch entfallen, wenn die Kontaktiereinheit 204 unmittelbar an der Hochspannungseinheit 203 angeordnet ist. Die Kontaktiereinheit 204 und die Hochspannungseinheit 203 können auch in einer Einheit integriert sein, beispielsweise in einem Prüfkopf, der eingerichtet ist zum Erzeugen, aus der Niederspannung, einer Hochspannung zum Prüfen des Halbleiterbauelements 205 und eingerichtet ist zum unmittelbaren Anlegen der Hochspannung an das Halbleiterbauelement 205.
  • Die Niederspannungseinheit 201 kann eine Prüfelektronik beinhalten. Eine Prüfelektronik, eingerichtet zum Prüfen eines Halbleiterbauelements und eingerichtet zum Erzeugen einer Niederspannung, kann an die Stelle der Niederspannungseinheit 201 treten. Die Leitung 202 kann eine Prüfelektronik und einen Prüfkopf verbinden und eingerichtet sein zum Zuleiten der Niederspannung von der Prüfelektronik zu dem Prüfkopf.
  • Anschaulich ausgedrückt, beruht ein Aspekt der Erfindung darauf, die gewünschte Hochspannung erst nahe bei dem Messkopf beziehungsweise direkt am Messkopf zu erzeugen. Das heißt, die Hochspannung wird nahe beziehungsweise direkt am „device under test” (zu prüfende Vorrichtung, DUT, gemeint ist das zu prüfende Halbleiterbauelement 205) erzeugt.
  • Das geschieht beispielsweise durch eine Spannungsvervielfachungsschaltung in der Hochspannungseinheit 203. Die Hochspannung wird dabei aus einer Niederspannung erzeugt, wobei man die Niederspannung auch als Basisspannung für die Vervielfachung bezeichnen könnte. Die Basisspannung vor der Vervielfachung wird so gewählt, dass in den mit ihr beaufschlagten Vorrichtungsteilen unter Normalbedingungen keine Spannungsüberschläge zu erwarten sind. Es erfolgt eine lokale Spannungsvervielfachung nahe am oder im Messkopf oder Prüfkopf. Dadurch werden in großen Teilen der Testanordnung die benötigten Spannungen auf ein niedriges Niveau beschränkt und so Spannungsüberschläge vermieden.
  • Beispielsweise erhält man mit einer Niederspannung von 500 bis 1000 Volt und einer Spannungsvervielfachung um einen Faktor 2 oder einen Faktor 4 eine Hochspannung im Bereich von 1000 bis 2000 Volt oder im Bereich von 2000 bis 4000 Volt.
  • 3 zeigt ein Schaltbild einer Spannungsvervielfachungsschaltung gemäß einem Ausführungsbeispiel.
  • An den Anschlüssen 301 und 302 wird eine Eingangsspannung 303 (Niederspannung) angelegt. An den Anschlüssen 304 und 305 kann eine Ausgangsspannung 306 (Hochspannung) abgegriffen werden. Für die Eingangsspannung 303 wird eine Wechselspannung benötigt, die jedoch nicht sinusförmig sein muss. Die Ausgangsspannung 306 ist eine Gleichspannung.
  • Während einer Halbwelle der Eingangsspannung 303 mit einer Polarität, bei welcher die Diode D1 307 leitet, wird der Kondensator C1 308 aufgeladen. Dies wird durch die Pfeile 309 symbolisiert. Bei einer nachfolgenden Halbwelle der Eingangsspannung 303 mit entgegengesetzter Polarität addiert sich die Spannung über den aufgeladenen Kondensator C1 308 mit der Eingangsspannung 303, so dass über die Diode D2 310 der Kondensator C2 311 mit einer Spannung vom doppelten Betrag der Eingangsspannung 303 aufgeladen wird. Dieser Vorgang wird durch die Pfeile 312 symbolisiert.
  • Am Kondensator C2 311 kann nun eine gegenüber der Eingangsspannung 303 verdoppelte Ausgangsspannung 306 abgegriffen werden. Eine derartige Schaltung wird auch als Greinacher-Schaltung bezeichnet.
  • 4 zeigt eine andere Spannungsvervielfachungsschaltung gemäß einem anderen Ausführungsbeispiel.
  • Dargestellt ist eine „4-stage cascade” (4-Stufen-Kaskade) von vier Spannungsverdopplerschaltungen, die gemäss dem anhand von 3 erklärten Schaltungsprinzip arbeiten.
  • An den Anschlüssen 401 und 402 wird die Eingangsspannung „ac input” (Wechselspannungseingang) angelegt. Jeweils eine Diode D1 307, ein Kondensator C1 308, eine Diode D2 310 und ein Kondensator C2 311 bilden eine Spannungsverdopplungsstufe der Kaskade. An der jeweiligen Diode D2 310 der vorhergehenden Stufe liegt die Spannung an, die zur Speisung der nachgeschalteten Stufe verwendet wird. Diese ist bei entsprechender Polarität der Eingangsspannung gleich der Spannung, auf welche der Kondensator C2 311 der jeweiligen vorhergehenden Stufe aufgeladen ist. Im Leerlaufbetrieb der Schaltung werden alle Kondensatoren C2 311 auf die doppelte Eingangsspannung der Schaltung aufgeladen.
  • Zwischen den Anschlüssen „hv Output” (Hochspannungsausgang) 403 und „earth” (Erde, Masse) 404 kann die Ausgangsgleichspannung der Schaltung abgegriffen werden. Jede Stufe der Kaskade addiert die an ihrem jeweiligen Kondensator C2 311 anliegende Spannung, das heißt etwa das Doppelte der Eingangswechselspannung, zur Ausgangsgleichspannung. Mit der gezeigten 4-fach-Kaskade wird also etwa eine Verachtfachung der Eingangsspannung erreicht.
  • Die in 3 und 4 gezeigten Spannungsvervielfachungsschaltungen halten die Hochspannungsenergie in erster Linie in den Kondensatoren C2 311 bereit. Bei einer Stromentnahme am Ausgang wird Energie vom Eingang über die Kondensatoren C1 308 und die Kondensatoren C2 311 nachgeliefert.
  • Da das Nachladen der Kondensatoren bei Stromentnahme eine gewisse Zeit benötigt, ist bei einem Kurzschluss am Ausgang beziehungsweise einem Hochspannungsüberschlag die instantan freiwerdende Energie auf die in den Kondensatoren bereits vorhandene Energie begrenzt. Durch die Verwendung von Kondensatoren als Energiespeicher werden die bei der Hochspannung verfügbaren Energiemengen beschränkt und damit ist selbst bei einem Hochspannungsüberschlag ein gewisser Schutz der Schaltung und des zu prüfenden Halbleiterbauelements gegeben.

Claims (27)

  1. Verfahren zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement, aufweisend: – Erzeugen einer Niederspannung an einer von einem Halbleiterbauelement, an das eine Hochspannung anzulegen ist, räumlich entfernten Position; – Zuleiten der Niederspannung zu einer dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position; – Erzeugen einer Hochspannung aus der zugeleiteten Niederspannung an der dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position; und – Anlegen der Hochspannung an das Halbleiterbauelement.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, weiterhin aufweisend: – Prüfen des Halbleiterbauelements mit der angelegten Hochspannung.
  3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 2, weiterhin aufweisend: – Entfernen der angelegten Hochspannung von dem Halbleiterbauelement.
  4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei das Erzeugen der Niederspannung ein Erzeugen mit einer Prüfelektronik beinhaltet.
  5. Verfahren nach Anspruch 4, wobei die Prüfelektronik eine automatisierte Testeinrichtung beinhaltet.
  6. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 5, weiterhin aufweisend: – Prüfen des Halbleiterbauelements mittels der Prüfelektronik.
  7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das Zuleiten ein Zuleiten mit einer flexibel beweglichen Leitung beinhaltet.
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei die Hochspannung größer als die Niederspannung ist.
  9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die Hochspannung größer als 300 Volt ist.
  10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die Hochspannung größer als 1000 Volt ist.
  11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei die Hochspannung größer als 2000 Volt ist.
  12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei die Niederspannung kleiner als 1000 Volt ist.
  13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, wobei die Niederspannung kleiner als 300 Volt oder gleich 300 Volt ist.
  14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, wobei das Erzeugen der Hochspannung ein Erzeugen mit einer Spannungsvervielfachungsschaltung beinhaltet.
  15. Verfahren nach Anspruch 14, wobei die Spannungsvervielfachungsschaltung einen Spannungsvervielfachungsfaktor von mindestens zwei oder von größer als zwei hat.
  16. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 15, wobei die Spannungsvervielfachungsschaltung mindestens ein kapazitives Bauelement zum Speichern von Hochspannungsenergie beinhaltet.
  17. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 16, wobei das Erzeugen mit einer Spannungsvervielfachungsschaltung ein Aufladen eines oder mehrerer kapazitiver Bauelemente mit einer Eingangsspannung und ein Abgreifen einer gegenüber der Eingangsspannung erhöhten Ausgangsspannung an dem einen oder den mehreren kapazitiven Bauelementen beinhaltet.
  18. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 17, wobei die Spannungsvervielfachungsschaltung eine Greinacher-Schaltung oder eine Villard-Schaltung ist.
  19. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 18, wobei die räumlich entfernte Position um einen Faktor von mindestens fünf weiter von dem Halbleiterbauelement entfernt ist als die räumlich benachbarte Position von dem Halbleiterbauelement entfernt ist.
  20. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 19, wobei die räumlich entfernte Position um einen Faktor von mindestens zehn weiter von dem Halbleiterbauelement entfernt ist als die räumlich benachbarte Position von dem Halbleiterbauelement entfernt ist.
  21. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 20, wobei das Halbleiterbauelement auf einem Halbleiterwafer angeordnet ist.
  22. Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement, aufweisend: – eine Niederspannungseinheit eingerichtet zum Erzeugen einer Niederspannung an einer von einem Halbleiterbauelement, an das eine Hochspannung anzulegen ist, räumlich entfernten Position; – eine Leitung eingerichtet zum Zuleiten der Niederspannung zu einer dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position; – eine Hochspannungseinheit eingerichtet zum Erzeugen einer Hochspannung aus der zugeleiteten Niederspannung an der dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position; und – eine Kontaktiereinheit eingerichtet zum Anlegen der Hochspannung an das Halbleiterbauelement.
  23. Vorrichtung nach Anspruch 22, wobei die Leitung eine flexibel bewegliche Leitung beinhaltet.
  24. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 22 bis 23, wobei die Niederspannungseinheit eine Prüfelektronik beinhaltet.
  25. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 22 bis 24, wobei die Hochspannungseinheit eine Spannungsvervielfachungsschaltung beinhaltet.
  26. Vorrichtung nach Anspruch 25, wobei die Spannungsvervielfachungsschaltung mindestens ein kapazitives Bauelement zum Speichern von Hochspannungsenergie beinhaltet.
  27. Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung, aufweisend: – eine Prüfelektronik, eingerichtet zum Prüfen eines Halbleiterbauelements und eingerichtet zum Erzeugen einer Niederspannung; – einen von der Prüfelektronik räumlich beabstandet angeordneten Prüfkopf, eingerichtet zum Erzeugen, aus der Niederspannung, einer Hochspannung zum Prüfen des Halbleiterbauelements und eingerichtet zum unmittelbaren Anlegen der Hochspannung an das Halbleiterbauelement; und – eine die Prüfelektronik und den Prüfkopf verbindende Leitung, eingerichtet zum Zuleiten der Niederspannung von der Prüfelektronik zu dem Prüfkopf.
DE102008048879.8A 2008-09-25 2008-09-25 Verfahren und Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement und Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung Expired - Fee Related DE102008048879B4 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008048879.8A DE102008048879B4 (de) 2008-09-25 2008-09-25 Verfahren und Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement und Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008048879.8A DE102008048879B4 (de) 2008-09-25 2008-09-25 Verfahren und Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement und Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102008048879A1 true DE102008048879A1 (de) 2010-04-08
DE102008048879B4 DE102008048879B4 (de) 2017-04-06

Family

ID=41794881

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102008048879.8A Expired - Fee Related DE102008048879B4 (de) 2008-09-25 2008-09-25 Verfahren und Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement und Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102008048879B4 (de)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2208079C3 (de) * 1972-02-21 1976-03-04 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Schaltungsanordnung zur Regelung der Ausgangsspannung eines Hochspannungsnetzgerätes
US4851769A (en) * 1988-04-11 1989-07-25 Virginia Tech Intellectual Properties, Inc. Non-destructive tester for transistors
US5132612A (en) * 1991-03-14 1992-07-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Apparatus for electrostatic discharge (ESD) stress/testing
DE4201022C1 (en) * 1992-01-16 1993-09-16 Elcom Gesellschaft Fuer Elektronik Und Nachrichtentechnik Mbh, 8000 Muenchen, De IC testing device for evaluating sensitivity to electrostatic discharge - uses X=Y coordinate plotter system to connect contact pin to IC adaptor terminal contact points for supplying HV test pulses
DE19630316A1 (de) * 1996-07-26 1998-01-29 Siemens Ag Vorrichtung zur elektrischen Kontaktierung eines Bauelements

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2208079C3 (de) * 1972-02-21 1976-03-04 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Schaltungsanordnung zur Regelung der Ausgangsspannung eines Hochspannungsnetzgerätes
US4851769A (en) * 1988-04-11 1989-07-25 Virginia Tech Intellectual Properties, Inc. Non-destructive tester for transistors
US5132612A (en) * 1991-03-14 1992-07-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Apparatus for electrostatic discharge (ESD) stress/testing
DE4201022C1 (en) * 1992-01-16 1993-09-16 Elcom Gesellschaft Fuer Elektronik Und Nachrichtentechnik Mbh, 8000 Muenchen, De IC testing device for evaluating sensitivity to electrostatic discharge - uses X=Y coordinate plotter system to connect contact pin to IC adaptor terminal contact points for supplying HV test pulses
DE19630316A1 (de) * 1996-07-26 1998-01-29 Siemens Ag Vorrichtung zur elektrischen Kontaktierung eines Bauelements

Also Published As

Publication number Publication date
DE102008048879B4 (de) 2017-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102012024560B3 (de) Schaltungsanordnung und Verfahren zur Erzeugung einer Prüfspannung und Prüfgerät zur Ermittlung eines Verlustfaktors, welches die Schaltungsanordnung enthält
DE102018126235B4 (de) Verfahren zur Isolationswiderstandsmessung in Wechselrichtern mit Mehrpunkttopologie und Wechselrichter mit Mehrpunkttopologie
DE10151775A1 (de) Verfahren zur Berechnung einer Distanz eines Fehlerorts eines einpoligen Erdfehlers von einem Messort in einem elektrischen Energieversorgungsnetz
DE102010036514A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung einer Photovoltaikanlage
DE102012204960A1 (de) Interlockdetektor mit Selbstdiagnosefunktion für einen Interlockkreis und ein Verfahren zur Selbstdiagnose des Interlockdetektors
DE102010045983A1 (de) Prüfverfahren und Vorrichtung zur Bestimmung einer Koppeldämpfung von elektrischen Komponenten
DE102013112584B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Kondensatordurchführungen für ein dreiphasiges Wechselstromnetz
DE102014226218A1 (de) Hochspannungsprüfanlage für Stoßspannungsprüfungen
EP3204782B1 (de) Verfahren zum ermitteln von kenngroessen eines teilentladungsvorgangs
DE102015200902A1 (de) Schaltungsanordnung für Hochspannungsprüfungen und Hochspannungsprüfanlage
DE102017115513B3 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Überprüfen des elektro-dynamischen Verhaltens eines Antriebsstrangs einer Stromerzeugungseinrichtung am Netz
AT517714A4 (de) Schaltungsanordnung zur Signaleinprägung eines elektrischen Signals in eine elektrochemische Energieliefervorrichtung
DE102009013098B4 (de) Verfahren zum Durchführen eines Feldtests unter erhöhter Spannung an einem Halbleiterbauelement und eine Halbleiteranordnung
DE102008048879A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement und Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung
DE102013001422A1 (de) Kraftstromkreis einer WS-Stromversorgung
DE102015120225A1 (de) Ionisator
DE112022006268T5 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Hochspannungsvorrichtungen unter Verwendung eines Korrekturfaktors
WO2018158146A1 (de) Vorrichtung zur simulation einer modularen gleichspannungsquelle
DE491109C (de) Verfahren zur Schlagpruefung von lsolatoren und anderen elektrischen Vorrichtungen
DE102022130358B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Ableitstromkompensation
DE102009050279A1 (de) Verfahren zur Überprüfung des Widerstandes elektrischer Verbindungen
DE102016204974B4 (de) Schaltung und Verfahren zum Reduzieren einer Empfindlichkeit einer analogen Abwärts-Stromsteuerschleife zum Liefern eines Pfadwiderstands
DE102010049265B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Leistungsrückgewinnung
DE857289C (de) Elektrisches Rechen- oder Messgeraet
Nyberg Lightning Impulse Breakdown Tests: Triggered Spark Gap Analysis

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final
R082 Change of representative
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee