DE102007036815A1

DE102007036815A1 - Koordinaten-Messmaschine und Verfahren zur Bestimmung der lateralen Korrektur in Abhängigkeit von der Substrattopologie

Info

Publication number: DE102007036815A1
Application number: DE102007036815A
Authority: DE
Inventors: Slawomir Dr. Czerkas
Original assignee: Vistec Semiconductor Systems GmbH
Current assignee: KLA Tencor MIE GmbH
Priority date: 2007-08-03
Filing date: 2007-08-03
Publication date: 2009-02-12
Anticipated expiration: 2027-08-04
Also published as: US20090033894A1; JP2009036766A; DE102007036815B4; US8149383B2

Abstract

Es ist eine Koordinaten-Messmaschine (1) und ein Verfahren zur Bestimmung der lateralen Korrektur in Abhängigkeit von der Substrattopologie und/oder von der Geometrie des Substrathalters offenbart. Das Substrat (2) ist auf einem in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung beweglichen Messtisch (20) gelegt, der das zu messende Substrat (2) trägt. Das Substrat (2) wird von mindestens drei Haltepunkten (30), die eine Ebene (20a) festlegen, gehalten. Eine Einrichtung (9) ist vorgesehen, die die Position von einer Vielzahl von Positionen auf der Oberfläche (2a) des Substrats (2) in X-, Y- und Z-Koordinatenrichtung bestimmt. Das Substrat (2) ist um eine zur X/Y-Ebene (20a) parallele Achse (70) drehbar, so dass das Substrat (2) in einer gedrehten Position messbar ist.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Koordinaten-Messmaschine zur Bestimmung der lateralen Korrektur in Abhängigkeit von einer gemessenen Substrattopologie. Im Besonderen betrifft die Erfindung eine Koordinaten-Messmaschine, bei der ein Substrat auf einem in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung beweglichen Messtisch gelegt ist. Der Messtisch trägt dabei das zu messende Substrat. Das Substrat ist auf mindestens drei Haltepunkten aufgelegt, die eine Ebene festlegen. Ferner ist eine Einrichtung vorgesehen, die die Position von einer Vielzahl von Positionen auf der Oberfläche des Substrats in X-, Y- und Z-Koordinatenrichtung bestimmt.
Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Bestimmung des durch Substrattopologie und/oder von der Geometrie des Substrathalters und Koordinaten-Messmaschine bedingten systematischen Fehlers. Im Besonderen betrifft das Verfahren die Bestimmung des systematischen Fehlers bei der Vermessung von Strukturen auf einem Substrat. Das Substrat wird beliebig gehalten, vorzugsweise ist das Substrat in einen Messtisch gelegt, und im Wesentlichen mittels mindestens drei Haltepunkten in einer Ebene positioniert.
Eine Vorrichtung der gattungsbildenden Art ist z. B. in der DE 199 49 005 , der DE 198 58 428 , der DE 101 06 699 oder der DE 10 2004 023 739 offenbart. In allen hier genannten Dokumenten des Standes der Technik wird eine Koordinaten-Messmaschine offenbart, mit der Strukturen auf einem Substrat vermessen werden können. Dabei ist das Substrat auf einem in X-Koordinatenrichtung und einen in Y-Koordinatenrichtung verfahrbaren Messtisch gelegt. Die Koordinaten-Messmaschine ist dabei derart ausgestaltet, dass die Positionen der Strukturen, bzw. der Kanten der Strukturen mittels eines Messobjektivs bestimmt werden. Dabei wird die Position des Messtisches mittels eines Interferometers bestimmt. Es ist aber denkbar, dass die Po sition des Tisches auf eine andere Weise bestimmt wird, wobei letztendlich die Position der Kante in Bezug auf ein Koordinatensystem der Messmaschine ermittelt wird.
Eine Koordinaten-Messmaschine zum Vermessen von Strukturen auf Wafern und zu deren Herstellung eingesetzten Masken ist aus dem Vortragsmanuskript „Pattern Placement Metrology for Mask Making" von Frau Dr. Carola Bläsing bekannt. Dieser Vortrag wurde anlässlich der Tagung Semicon Edjucation Program in Genf am 31. 03. 1998 gehalten. Die dortige Beschreibung bildet die Grundlage einer Koordinaten-Messmaschine, wie diese vielfach am Markt erhältlich ist.
Aufgabe der gegenwärtigen Erfindung ist es, eine Koordinaten-Messmaschine zu schaffen, mit der es möglich ist, Korrekturwerte zu ermitteln, die eine höhere Genauigkeit bei der Accuracy ermöglichen.
Die obige Aufgabe wird gelöst durch eine Koordinaten-Messmaschine, die die Merkmale des Anspruchs 1 umfasst.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zu schaffen, mit dem es möglich ist, eine höhere Genauigkeit bei der Accuracy zu ermitteln, wobei eine Korrektur der Messdaten mittels Korrekturwerte durchgeführt wird.
Die obige Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren, das die Merkmale des Anspruchs 9 umfasst.
Mit der Erfindung ist es möglich, eine Koordinaten-Messmaschine zur Bestimmung der lateralen Korrektur in Abhängigkeit von der Substrattopologie einzusetzen. Dabei ist ein Substrat auf einen in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung beweglichen Messtisch gelegt. Der Messtisch trägt das zu messende Substrat. Das Substrat selbst liegt dabei auf mindestens drei Haltepunkte auf, die eine Ebene festlegen, bzw. aufspannen. Ferner ist eine Einrichtung vorgesehen, die die Position von einer Vielzahl von Positionen auf der Oberfläche des Substrats in Z-Koordinatenrichtung bestimmt. Das Substrat ist dabei um eine zur X-/Y-Ebene parallele Achse drehbar, so dass das Substrat ebenfalls in der gedrehten Position messbar ist.
Die mindestens drei Haltepunkte sind an einem Substrathalter angebracht, der auf dem in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung beweglichen Messtisch aufgelegt ist. Es ist für einen Fachmann selbstverständlich, dass auch andere Anordnungen der Haltepunkte möglich sind. Ebenso soll die Anzahl der Haltepunkte nicht ausschließlich auf drei Haltepunkte beschränkt sein.
Am Substrathalter sind mindestens drei Haltepunkte angebracht, wobei mindestens ein Haltepunkt mit einem Abstandselement versehen werden kann, so dass die durch die drei Haltepunkte und dem mindestens einem Abstandselement definierte Ebene gegenüber der horizontalen Ebene geneigt ist und somit die Drehung um die X-/Y-Ebene parallele Achse einstellbar ist. Die Drehung des Substrats kann auf beliebige Weise erfolgen, z. B. es kann ein anderer Substrathalter benutzt werden, der z. B. durch unterschiedliche Höhen der drei Haltepunkte die erforderliche Neigung des Substrats einstellt. Eine weitere Möglichkeit ist, dass man einen der Haltepunkte mit einem Abstandselement versieht, um dadurch die Neigung des Substrats einzustellen.
Die durch die Haltepunkte, bzw. den Haltepunkt und mit dem mindestens einen Abstandselement aufgespannte Ebene kann bestimmt werden, woraus sich die Oberfläche des durch die Haltepunkte gehalterten Substrats bestimmen lässt. Die ortsabhängige Dicke des Substrats lässt sich aus dem ortsabhängigen Abstand der Ebene und der Oberfläche des Substrats berechnen.
Die Einrichtung zur Bestimmung der Position von einer Vielzahl von Positionen auf der Oberfläche des Substrats in Z-Koordinatenrichtung kann ein Messobjektiv, ein Objektiv mit großer Schärfentiefe, ein mechanischer Antaster, oder eine andere beliebige geeignete (auch heute noch unbekannte) Messsonde oder Messsensor sein.
Das Verfahren zur Bestimmung des durch Substrattopologie und Koordinaten-Messmaschine bedingten systematischen Fehlers ist besonders vorteilhaft, wenn das Substrat in einem Messtisch eingelegt ist, wobei das Substrat mit mindestens drei Haltepunkten gehalten wird, welche eine Ebene definieren. Zunächst wird an einer Vielzahl von Positionen auf einer Oberfläche des Substrats jeweils eine Position in Z-Koordinatenrichtung gemessen. Das Substrat wird um eine zur X-/Y-Ebene parallele Achse gedreht, so dass eine gedrehte Position des Substrats eingestellt werden kann. Danach wird die Position in Z-Koordinatenrichtung abermals an einer Vielzahl der Positionen auf der Oberfläche des Substrats an der gleichen Position des Substrats gemessen, die mit der Position des nicht gedrehten Substrats übereinstimmt. Eine Abweichung der lateralen Position der jeweils gemessenen Struktur wird aus den beiden Messungen an der jeweils gleichen Position auf dem Substrat ermittelt. Anhand der Abweichung wird eine Korrektur ermittelt, die die Abweichung der lateralen Position aus den beiden Messungen der jeweils gleichen Positionen auf dem Substrat minimal werden lässt. Aufgrund der Drehung kommt es zu einer geometrischen Verschiebung der Strukturen (Cosinus-Fehler). Diese muss bei Bedarf bei der Ermittlung der Korrektur berücksichtigt werden. Der Cosinus-Fehler kann durch gezielte Schwenkung des Substrats um eine definierte Achse ermittelt werden.
Die zu messende Substrattopologie hängt von der Keiligkeit des Substrats und/oder der Unebenheit des Substrats und/oder der Geometrie des Substrathalters und/oder dem von der Koordinaten-Messmaschine bedingten systematischen Fehler ab.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung können den Unteransprüchen entnommen werden.
Im Folgenden sollen Ausführungsbeispiele die Erfindung und ihre Vorteile anhand der beigefügten Figuren näher erläutern.
1 zeigt schematisch eine Koordinaten-Messmaschine gemäß dem Stand der Technik.
2 zeigt eine schematische Darstellung der Einstellung einer definierten Verschwenkung des Substrats mit einem entsprechend dafür ausgebildeten Substrathalter.
3a zeigt schematisch einen Substrathalter, in dem ein Substrat zur Vermessung mit der Koordinaten-Messmaschine eingelegt ist.
3b zeigt schematisch ebenfalls den Substrathalter, bei dem das Substrat eingelegt ist, wobei ein Auflagepunkt mit einem zusätzlichen Abstandselement versehen ist, so dass das Substrat um eine Achse gegenüber der X-/Y-Ebene gedreht ist.
4a zeigt eine Seitenansicht, wobei einmal das Substrat in nicht gedrehter Position und einmal in gedrehter Position dargestellt ist.
4b zeigt eine Detailansicht der 4a, wobei die laterale Verschiebung dargestellt ist, die aufgrund der Drehung des Substrats ermittelt werden kann.
1 zeigt eine Koordinaten-Messmaschine 1, wie sie seit längerem im Stand der Technik Verwendung findet. Die Koordinaten-Messmaschine dient im Besonderen zur Bestimmung von Positionen von Strukturen 3 auf einem Substrat 2. In der hier dargestellten Ausführungsform ist das Substrat 2 in einen Substrathalter 27 eingelegt. Es ist ebenso vorstellbar, dass das Substrat direkt auf einen Messtisch 20 gelegt ist. In der hier dargestellten Ausführungsform ist der Substrathalter 27 auf den Messtisch 20 gehegt. Der Messtisch 20 ist mit Luftlagern 21 in einer Ebene 25a in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung verfahrbar. Die Ebene 25a wird dabei durch ein Strukturelement 25 definiert. In einer Ausführungsform kann das Strukturelement ein Granit sein. Die Position des Messtisches 20 wird interferometrisch bestimmt. Zur Positionsbestimmung ist mindestens ein Interferometer 24 vorgesehen, dass auf dem Messtisch 20 einen Lichtstrahl 23 richtet. Zur Beleuchtung des Substrats 2 kann eine Auflichtbeleuchtungseinrichtung 14 vorgesehen sein, die über ein Messobjektiv 9 das Beleuchtungslicht entlang eines Auflichtbeleuchtungsstrahlengangs 5 auf das Substrat 2 richtet. Ebenso ist es möglich, das Substrat 2 mit Durchlicht zu beleuchten. Hierzu ist eine Durchlichtbeleuchtungseinrichtung 6 vorgesehen, die das Licht über einen Umlenkspiegel 7 in den Durchlichtbeleuchtungsstrahlengang 4 einkoppelt. Das Licht wird über einen Kondensor 8 auf das Substrat 2 gerichtet.
Der Granit 25 ist dabei auf schwingungsgedämpft gelagerten Füßen 26 positioniert. Das von dem Substrat 2 ausgehende Licht wird über einen Teilerspiegel 12 auf eine Kamera 20 gerichtet, die einen Detektor 11 umfasst. Der Detektor 11 ist mit einem Rechner 16 verbunden, mit dem die aufgenommenen Daten des Detektors 11 digitalisiert werden können. Das Messobjektiv 9 kann mittels einer Verschiebeeinrichtung 15 in Z-Koordinatenrichtung positioniert werden. Somit kann mit der Verschiebeeinrichtung 15 der Fokus auf die Oberfläche 2a des Substrats 2 eingestellt werden.
2 zeigt eine schematische Darstellung der Einstellung einer definierten Verschwenkung des Substrats 2 mit einem entsprechend dafür ausgebildeten Substrathalter 3. Zur Einstellung der definierten Neigung des Substrats 2 ist in dieser Ausführungsform der Substrathalter 3 in entsprechender Weise ausgebildet. Hierzu weisen die Haltepunkte 30 eine jeweils andere Höhe auf. Aufgrund der Drehung kommt es zu einer geometrischen Verschiebung der Strukturen (Cosinus-Fehler). Diese muss bei Bedarf bei der Ermittlung der Korrektur berücksichtigt werden. Der Cosinus-Fehler kann, wie bereits erwähnt, durch gezielte Schenkung des Substrats um eine definierte Achse ermittelt werden.
3a zeigt eine schematische Darstellung eines Substrats 2, das in einen Substrathalter 27 eingelegt ist. In der hier dargestellten Ausführungsform liegt das Substrat 2 auf drei Haltepunkte 30 auf. Die drei Haltepunkte 30 spannen eine Ebene auf, in der letztendlich das Substrat zu liegen kommt. Die Haltepunkte 30 berühren das Substrat 2 nur in einzelnen Punkten und sind in einem vorbestimmten Muster am Rand 34 des Substrathalters 27 verteilt. Da die Verteilung der Haltepunkte 30 am Rand 34 des Substrathalters 27 bekannt ist, kann man daraus die Durchbiegung des Substrats 2 errechnen. Auf dem Substrathalter 27 können zusätzlich noch mehrere Referenzmarken 32 vorgesehen sein, die zur Bestimmung der Position des Substrathalters 27 relativ zu einem Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine 1 dient.
3b zeigt das Substrat 2, welches um eine Achse 70 gedreht ist. Die Achse 70 ist dabei parallel zu der X-/Y-Ebene des Koordinatensystems der Koordinaten-Messmaschine 1. Die Drehung um die Achse 70 wird dadurch erreicht, in dem man auf einen Haltepunkt 30 ein Abstandselement 35 legt. Somit ist letztendlich das Substrat 2 unter einem Winkel zu der X-/Y-Ebene geneigt. Während der Messung wird zum einen die Position mehrerer Strukturen in Z-Koordinatenrichtung gemessen. Dabei wird jede Position einmal in der nicht gedrehten Stellung des Substrats 2 und einmal in der gedrehten Stellung des Substrats 2 vermessen. Aus den beiden Messungen lässt sich dann die laterale Verschiebung der verschiedenen Strukturen 3 auf dem Substrat 2 bestimmen. Ebenso kann man aus der Messung die Dickenabweichung des Substrats 2 ermitteln.
4a zeigt eine schematische Seitenansicht des Substrats 2. In einer Stellung, welche durch durchgezogene Linien dargestellt ist, ist das Substrat 2 nicht gedreht. In der zweiten Stellung, welche durch gestrichelte Linien dargestellt ist, ist das Substrat 2 um die Achse 70 gedreht. 4a zeigt deutlich, dass die Struktur 3 auf dem Substrat 2 an der Messposition 80 an einer anderen Stelle in Bezug auf die Messposition 80 zu liegen kommt.
4a zeigt schematisch die vergrößerte Darstellung des Bereichs aus 4a, der durch den gestrichelten Kreis gekennzeichnet ist. 4b zeigt die vergrößerte Darstellung des Substrats 2 in der nicht gedrehten Darstellung und in der gedrehten Darstellung. Wie bereits in der 4a beschrieben, ist die gedrehte Darstellung durch gestrichelte Linien dargestellt. Für die Antastung, bzw. Bestimmung der Position einer Kante 3a einer Struktur 3 wird, wie in den 1 und 2 beschrieben, ein Laser-Interferometer verwendet. Wie in 4b dargestellt ist, ist die Position der Kante 3a bei der nicht gedrehten Lage des Substrats 2 mit dem Pfeil 50 gekennzeichnet. Die Lage der Kanten 3a des gedrehten Substrats 2 ist mit dem Pfeil 51 gekennzeichnet. Aus beiden Messungen ergibt sich somit eine Differenz zwischen der Lage der Kante 3a des nicht gedrehten Substrats 2 und der Lage der Kante 3a des gedrehten Substrats 2. Diese Differenz ist in 4b durch den Doppelpfeil 52 visualisiert Diese Differenz (Cosinus-Fehler) muss bei Bedarf bei der Ermittlung der Korrektur berücksichtigt werden. Die Korrektur kann als einzelner Korrekturwert und/oder als eine Korrekturfunktion realisiert sein.
Die Erfindung wurde unter Bezugnahme auf eine bevorzugte Ausführungsform beschrieben. Es ist jedoch denkbar, dass Änderungen und Abwandlungen gemacht werden können, ohne dabei den Schutzbereich der nachstehenden Ansprüche zu verlassen.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

- DE 19949005 [0003]
- DE 19858428 [0003]
- DE 10106699 [0003]
- DE 102004023739 [0003]

Zitierte Nicht-Patentliteratur

- „Pattern Placement Metrology for Mask Making" von Frau Dr. Carola Bläsing [0004]

Claims

Koordinaten-Messmaschine (1) zur Bestimmung der lateralen Korrektur in Abhängigkeit von einer gemessenen Substrattopologie, wobei ein Substrat (2) von einem in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung beweglichen Messtisch (20) gehaltert ist, der das zu messende Substrat (2) trägt, wobei hierzu mindestens drei Haltepunkte (30) vorgesehen sind, die eine Ebene (20a) festlegen und das zu vermessende Substrat (2) halten, und dass mindestens eine Einrichtung (9) vorgesehen ist, die die Position von einer Vielzahl von Positionen auf der Oberfläche (2a) des Substrats (2) in X-, Y- und Z-Koordinatenrichtung bestimmt, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (2) eine zur X/Y Ebene (20a) parallel drehbare Achse (70) aufweist, so dass das Substrat (2) in einer gedrehten Position messbar ist.
Koordinaten-Messmaschine (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zu messende Substrattopologie von der Keiligkeit des Substrats und/oder der Unebenheit des Substrats und/oder der Geometrie des Substrathalters und/oder dem von der Koordinaten-Messmaschine bedingten systematischen Fehlers abhängt.
Koordinaten-Messmaschine nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens drei Haltepunkte (30) an einem Substrathalter (27) angebracht sind, der auf dem in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung beweglichen Messtisch (20) aufgelegt ist und dass durch die Geometrie des Substrathalters (27) durch die mindestens drei Haltepunkte einer Ebene definiert ist, in der das Substrat liegt.
Koordinaten-Messmaschine nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens drei Haltepunkte (30) am Substrathalter (27) angebracht sind, wobei mindestens ein Haltepunkt (30) mit einem Abstandselement (35) versehen ist, so dass die durch die Haltepunkte und dem mindestens einem Abstandselement definierte Ebene (20b) gegenüber der horizontalen Ebene (20a) geneigt ist und somit die Drehung um die zur X/Y Ebene parallele Achse (70) einstellbar ist.
Koordinaten-Messmaschine nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die durch die Haltepunkte (30) bzw. den Haltepunkt (30) mit dem mindestens einem Abstandselement (35) aufgespannte Ebene bestimmbar ist und die Oberfläche (2a) des durch die Haltepunkte (30) gehalterten Substrats (2) bestimmbar ist, wobei sich die ortsabhängige Dicke der Substrats (2) aus dem ortsabhängigen Abstand der Ebene (20a) und der Oberfläche (2a) berechnet.
Koordinaten-Messmaschine nach einem der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Drehung des Substrats (2) mit verschiedenen Substrathaltern (27) realisierbar ist, wobei die unterschiedlichen Winkel des Substrats (2) bezüglich der X/Y-Ebene einstellbar sind.
Koordinaten-Messmaschine nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Koordinaten-Messmaschine (1) mit einer Recheneinheit (16) versehen ist.
Koordinaten-Messmaschine nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Einrichtung (9) zur Bestimmung der Position von einer Vielzahl von Positionen auf der Oberfläche (2a) des Substrats (2) in Z-Koordinatenrichtung ein Messobjektiv, ein Objektiv mit großer Schärfentiefe, ein mechanischer Antaster, oder eine andere beliebige geeignete Messsonde oder Messsensor ist.
Verfahren zur Bestimmung des durch die Substrattopologie und einer Koordinaten-Messmaschine bedingten systematischen Fehlers bei der Vermessung von Strukturen (3) eines Substrats (2), wobei das Substrat (2) in einen Messtisch (20) im Wesentlichen mittels mindestens drei Haltepunkten (30) in einer Ebene liegt, gekennzeichnet durch die folgenden Schritte: – dass an einer Vielzahl von Positionen auf einer Oberfläche (2a) des Substrats (2) jeweils eine Position in X-, Y- und Z-Koordinatenrichtung gemessen wird; – dass Substrat (2) um eine zur Ebene, in der das Substrat liegt, parallele Achse (70) gedreht wird, so dass eine gedrehte Position eingestellt wird; – dass die Position in X-, Y- und Z-Koordinatenrichtung an der Vielzahl der Positionen auf der Oberfläche (2a) des Substrats (2) an den gleichen Positionen des Substrats (2) gemessen wird, die mit der Positionen des nicht gedrehten Substrats (2) übereinstimmen; – dass eine Abweichung der lateralen Position aus den beiden Messungen an der jeweils gleichen Positionen auf dem Substrat (2) ermittelt wird; und – dass an Hand der Abweichung eine Korrektur ermittelt wird, die die Abweichung der lateralen Position aus den beiden Messungen der jeweils gleichen Positionen auf dem Substrat (2) minimal werden lässt.
Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die zu messende Substrattopologie von der Keiligkeit des Substrats und/oder der Unebenheit des Substrats und/oder von der Geometrie des Substrathalters und/oder dem von der Koordinaten-Messmaschine bedingten systematischen Fehler abhängt.
Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Korrektur durch eine Korrekturfunktion oder Korrekturwerte gebildet wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Ebene im Wesentlichen der durch dem Messtisch bestimmten X/Y-Ebene entspricht.
Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die geometrische Verschiebung der Strukturen aufgrund der Drehung bei der Ermittlung der Korrektur berücksichtigt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Lage des Substrats relativ zu der Lage eines Koordinatensystems der Haltepunkte bestimmt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass zur Bestimmung der Position von einer Vielzahl von Positionen auf der Oberfläche des Substrats in Z-Koordinatenrichtung eine Einrichtung vorgesehen wird, die ein Messobjektiv, ein Objektiv mit großer Schärfentiefe, ein mechanischer Antaster, oder eine andere beliebige geeignete Messsonde oder Messsensor ist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestimmung der Position in Z-Koordinatenrichtung mittels eines Messobjektivs durch Fokuseinstellung gemessen wird.